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Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101124179B1 (ko) 2003-04-09 2012-03-27 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
SG2013077797A (en) 2003-04-11 2017-02-27 Nippon Kogaku Kk Cleanup method for optics in immersion lithography
TWI503865B (zh) 2003-05-23 2015-10-11 尼康股份有限公司 A method of manufacturing an exposure apparatus and an element
TWI245163B (en) 2003-08-29 2005-12-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG188876A1 (en) * 2003-08-29 2013-04-30 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
KR20060126949A (ko) 2003-10-08 2006-12-11 가부시키가이샤 니콘 기판 반송 장치와 기판 반송 방법, 노광 장치와 노광 방법,및 디바이스 제조 방법
KR20130061770A (ko) 2003-10-22 2013-06-11 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법, 디바이스의 제조 방법
TWI628698B (zh) 2003-10-28 2018-07-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
US7411653B2 (en) * 2003-10-28 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
TWI519819B (zh) 2003-11-20 2016-02-01 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
US7394521B2 (en) * 2003-12-23 2008-07-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI389174B (zh) 2004-02-06 2013-03-11 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
US7898642B2 (en) 2004-04-14 2011-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101440746B1 (ko) 2004-06-09 2014-09-17 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP4543767B2 (ja) * 2004-06-10 2010-09-15 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
JP3977364B2 (ja) 2004-09-03 2007-09-19 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US7180571B2 (en) * 2004-12-08 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and actuator
JP4752473B2 (ja) 2004-12-09 2011-08-17 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP4569291B2 (ja) * 2004-12-24 2010-10-27 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
JP2006222165A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Canon Inc 露光装置
US7324185B2 (en) 2005-03-04 2008-01-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5040646B2 (ja) * 2005-03-23 2012-10-03 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2006278795A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Nikon Corp 検出装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
CN100555568C (zh) 2005-04-28 2009-10-28 株式会社尼康 曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法
US8248577B2 (en) 2005-05-03 2012-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20170089028A (ko) 2005-05-12 2017-08-02 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2006319242A (ja) * 2005-05-16 2006-11-24 Nikon Corp 露光装置
JP2007005525A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007054371A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-18 Mydata Automation Ab A jetting apparatus and method of improving the performance of a jetting apparatus by using a flow sensor for measuring the air flow
US8125610B2 (en) * 2005-12-02 2012-02-28 ASML Metherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus
US20070182943A1 (en) * 2006-02-06 2007-08-09 Francis Goodwin Debris apparatus, system, and method
US7532309B2 (en) * 2006-06-06 2009-05-12 Nikon Corporation Immersion lithography system and method having an immersion fluid containment plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid
JP2007335476A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
KR100787996B1 (ko) * 2006-06-16 2007-12-21 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 상기 장치로부터 처리액을 회수하는방법
US7826030B2 (en) * 2006-09-07 2010-11-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8634053B2 (en) 2006-12-07 2014-01-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8578953B2 (en) 2006-12-20 2013-11-12 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and computer-readable storage medium
US20080198348A1 (en) * 2007-02-20 2008-08-21 Nikon Corporation Apparatus and methods for minimizing force variation from immersion liquid in lithography systems
EP2023207A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and device manufacturing method
US8681308B2 (en) 2007-09-13 2014-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8451427B2 (en) 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
JP2009094255A (ja) 2007-10-05 2009-04-30 Canon Inc 液浸露光装置およびデバイス製造方法
JP2009094254A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Canon Inc 液浸露光装置およびデバイス製造方法
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
SG185313A1 (en) 2007-10-16 2012-11-29 Nikon Corp Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2179330A1 (en) 2007-10-16 2010-04-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2009260264A (ja) * 2008-03-24 2009-11-05 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
EP2282188B1 (en) 2008-05-28 2015-03-11 Nikon Corporation Illumination optical system and exposure apparatus
JP2010140958A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5246174B2 (ja) * 2010-01-25 2013-07-24 株式会社ニコン 流路形成部材、露光装置及びデバイス製造方法
JP5598972B2 (ja) * 2010-07-12 2014-10-01 セイコーエプソン株式会社 表面加工装置
JP2012049437A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板およびその製造方法
JP6171293B2 (ja) * 2012-09-13 2017-08-02 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US9643217B2 (en) * 2013-10-18 2017-05-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. In situ clean apparatus and method thereof
DE102014211567B3 (de) * 2014-06-17 2015-10-29 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Blechbearbeitungsmaschine mit einer Späneabsaugeinrichtung und Verfahren zum Erfassen einer Störung in der Späneabsaugeinrichtung
JP6340277B2 (ja) * 2014-07-18 2018-06-06 株式会社ディスコ 加工装置
JP2016181643A (ja) * 2015-03-25 2016-10-13 株式会社アマダホールディングス 半導体レーザ発振器
CN105824200B (zh) * 2016-05-31 2017-08-29 京东方科技集团股份有限公司 一种基板支撑结构及曝光机
US10534271B2 (en) * 2017-01-26 2020-01-14 Asml Netherlands B.V. Lithography apparatus and a method of manufacturing a device
WO2021124282A1 (en) * 2019-12-20 2021-06-24 Fei Deutschland Gmbh Systems, methods, and apparatuses for immersion media application and lens cleaning
CN113363178B (zh) * 2020-12-11 2025-08-08 北京华卓精科科技股份有限公司 一种气液抽取分离装置
CN113189849B (zh) * 2021-04-22 2023-08-11 中国科学院光电技术研究所 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组
US12444654B2 (en) * 2021-08-13 2025-10-14 Elemental Scientific, Inc. Systems and methods for determining flow characteristics of a fluid segment for analytic determinations
CN115420751B (zh) * 2022-11-02 2023-02-10 澳诺（中国）制药有限公司 一种口服溶液剂异物自动检查装置及生产工艺

Family Cites Families (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2373642A (en) * 1943-04-28 1945-04-17 Clark Equlpment Company Pump
US4291575A (en) * 1979-06-27 1981-09-29 Allied Chemical Corporation Liquid level monitor
DD221563A1 (de) * 1983-09-14 1985-04-24 Mikroelektronik Zt Forsch Tech Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur
JPH01209371A (ja) 1988-02-17 1989-08-23 Hitachi Ltd 洗浄装置
JPH01278240A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置用無停電電源
JPH0297239A (ja) * 1988-09-30 1990-04-09 Canon Inc 露光装置用電源装置
US5298939A (en) * 1991-11-04 1994-03-29 Swanson Paul A Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JPH05176461A (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 Yuasa Corp 交流電源装置
JPH05199680A (ja) * 1992-01-17 1993-08-06 Honda Motor Co Ltd 電源装置
JPH06124873A (ja) 1992-10-09 1994-05-06 Canon Inc 液浸式投影露光装置
JP2753930B2 (ja) * 1992-11-27 1998-05-20 キヤノン株式会社 液浸式投影露光装置
JP3208000B2 (ja) * 1994-03-28 2001-09-10 キヤノン株式会社 基板保持システム
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US5528118A (en) 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US5623853A (en) 1994-10-19 1997-04-29 Nikon Precision Inc. Precision motion stage with single guide beam and follower stage
JPH0921471A (ja) 1995-07-06 1997-01-21 Toyota Motor Corp チェック弁
JP2872637B2 (ja) * 1995-07-10 1999-03-17 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド マイクロ波プラズマベースアプリケータ
JP3433403B2 (ja) 1995-10-16 2003-08-04 三星電子株式会社 ステッパのインタフェース装置
JPH1095131A (ja) 1996-09-20 1998-04-14 Seiko Epson Corp 不使用ノズルの保護方法およびインクカートリッジ
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
JP4029183B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
JP4029182B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 露光方法
JPH10163009A (ja) 1996-11-29 1998-06-19 Taiyo Yuden Co Ltd 電圧依存非直線抵抗体の製造方法
DE69717975T2 (de) 1996-12-24 2003-05-28 Asml Netherlands B.V., Veldhoven In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät
JPH10211948A (ja) 1997-01-28 1998-08-11 Yoshino Kogyosho Co Ltd 液体噴出ポンプ
JP3951150B2 (ja) * 1997-04-09 2007-08-01 Ｓｍｃ株式会社 サックバックバルブ
US6355397B1 (en) * 1997-04-11 2002-03-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method and apparatus for improving resist pattern developing
JP3747566B2 (ja) 1997-04-23 2006-02-22 株式会社ニコン 液浸型露光装置
JP3817836B2 (ja) * 1997-06-10 2006-09-06 株式会社ニコン 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
JP4026943B2 (ja) * 1997-09-04 2007-12-26 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
WO1999025010A1 (en) * 1997-11-12 1999-05-20 Nikon Corporation Exposure apparatus, apparatus for manufacturing devices, and method of manufacturing exposure apparatuses
JPH11176727A (ja) * 1997-12-11 1999-07-02 Nikon Corp 投影露光装置
AU2747999A (en) * 1998-03-26 1999-10-18 Nikon Corporation Projection exposure method and system
JPH11285167A (ja) * 1998-03-27 1999-10-15 Canon Inc 半導体デバイス等の製造装置と製造方法、ならびに電力供給システム
JP2001319871A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Nikon Corp 露光方法、濃度フィルタの製造方法、及び露光装置
JP2002015978A (ja) 2000-06-29 2002-01-18 Canon Inc 露光装置
JP2002091177A (ja) * 2000-09-19 2002-03-27 Hitachi Ltd 液体現像装置、そのメンテナンス方法および液体現像装置からの補充液回収方法
JP2002141278A (ja) 2000-11-07 2002-05-17 Canon Inc デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法
US6816568B2 (en) * 2000-12-06 2004-11-09 Nikon Corporation X-ray projection exposure device, X-ray projection exposure method, and semiconductor device
US20020129838A1 (en) * 2001-03-15 2002-09-19 Larry Myland Substrate aspiration assembly
JP2002373852A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Canon Inc 露光装置
US7704728B2 (en) * 2001-07-18 2010-04-27 The University Of Michigan Microfluidic gravity pump with constant flow rate
JP2003115451A (ja) * 2001-07-30 2003-04-18 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE10141813A1 (de) 2001-08-27 2003-05-08 Siemens Ag Datenübermittlung an Gruppen von Empfängern
AU2003256095A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-16 Bon-Gil Koo Liquid composition for protecting oral cavities and teeth of pet animals and use thereof in plaything for pet animals
US7367345B1 (en) 2002-09-30 2008-05-06 Lam Research Corporation Apparatus and method for providing a confined liquid for immersion lithography
KR100585476B1 (ko) * 2002-11-12 2006-06-07 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법
SG121822A1 (en) * 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG121819A1 (en) * 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN101424883B (zh) * 2002-12-10 2013-05-15 株式会社尼康 曝光设备和器件制造法
WO2004092830A2 (en) * 2003-04-11 2004-10-28 Nikon Corporation Liquid jet and recovery system for immersion lithography
EP1498778A1 (en) * 2003-06-27 2005-01-19 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP3862678B2 (ja) * 2003-06-27 2006-12-27 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
EP1494074A1 (en) * 2003-06-30 2005-01-05 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20190002749A (ko) 2003-07-28 2019-01-08 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법, 그리고 노광 장치의 제어 방법
US7779781B2 (en) 2003-07-31 2010-08-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG188876A1 (en) * 2003-08-29 2013-04-30 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
US7411653B2 (en) 2003-10-28 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP5132374B2 (ja) 2008-03-18 2013-01-30 三洋電機株式会社 固体電解コンデンサ及びその製造方法

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