JP2010118680A5 - - Google Patents
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Claims (37)
- 投影光学系と、前記投影光学系と基板との間の液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、
液体供給流路を介して供給口から前記液体を供給する液体供給機構と、
前記液体供給流路が閉じられている状態で、前記液体供給流路の液体を排出する液体排出機構と、を備える露光装置。 - 前記液体排出機構は、前記液体供給流路に接続された配管を使って前記液体供給流路から液体を排出する請求項1記載の露光装置。
- 投影光学系と、前記投影光学系と基板との間の液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、
液体供給流路を介して供給口から前記液体を供給する液体供給機構と、
前記液体供給流路に接続される配管を使って、前記液体供給流路の液体を排出する液体排出機構と、を備える露光装置。 - 前記配管は、前記液体供給流路を閉じるバルブと前記供給口との間の前記液体供給流路に接続される請求項2又は3記載の露光装置。
- 前記配管は、前記液体供給流路の前記液体を吸引する吸引路を含む請求項2〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記吸引路には逆止弁が設けられている請求項5記載の露光装置。
- 前記液体供給路は、前記吸引路を介して負圧源に接続される請求項5又は6記載の露光装置。
- 前記液体排出機構は、前記配管を介して前記液体供給路に気体を流して前記液体供給路から液体を排出する請求項2〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体排出機構は、加圧ポンプを使って、前記液体供給路に気体を流す請求項8記載の露光装置。
- 前記液体供給流路に前記液体が存在しているかどうかを検出する検出器を備えた請求項1〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体排出機構は、異常時に、前記液体供給流路の液体を排出する請求項1〜10のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記異常は、停電による電力供給の停止を含む請求項11記載の露光装置。
- 前記異常は、地震の発生を含む請求項11又は12記載の露光装置。
- 前記基板は、前記投影光学系に対して移動可能なステージに保持され、
前記異常は、前記投影光学系と前記ステージとの位置関係の異常を含む請求項11〜13のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記基板の周囲の隙間に流入した液体を前記ステージに設けられた流路を介して回収する第2液体回収機構を備えた請求項14記載の露光装置。
- 前記基板を露光しているときに、前記基板上の前記液体を回収口から回収する第1液体回収機構を備え、
前記異常は、前記第1液体回収機構の液体回収動作の異常を含む請求項11〜13のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記基板を露光しているときに、前記基板上の前記液体を回収口から回収する第1液体回収機構を備え、
前記液体供給機構による液体供給の停止後、前記第1液体回収機構の前記回収口からの液体回収動作が継続される請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記回収口から回収された液体と気体とを分離する気液分離器を備えた請求項16又は17記載の露光装置。
- 前記回収口から回収された液体は、気体と分離されてタンクに収容される請求項16〜18のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記回収口から回収された液体が流れる液体回収流路に液体が存在しているかどうかを検出する検出器を備えた請求項16〜19のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記基板は、前記投影光学系に対して移動可能なステージに保持され、
前記基板の周囲の隙間に流入した液体を前記ステージに設けられた流路を介して回収する第2液体回収機構を備えた請求項16〜20のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記基板は、前記投影光学系に対して移動可能なステージに保持され、
前記基板の周囲の隙間に流入した液体を前記ステージに設けられた流路を介して回収する第2液体回収機構を備えた請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記液体排出機構は、液体供給不要時に、前記液体供給流路から液体を排出する請求項1〜22のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体排出機構は、前記基板の液浸露光終了後に、前記液体供給流路から液体を排出する請求項1〜23のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1〜24のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
- 投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光方法であって、
液体供給流路を介して液体を供給することと、
前記供給された液体を介して前記パターンの像を前記基板に投影することと、
前記液体供給流路を閉じることと、
前記液体供給流路が閉じられた状態で、前記液体供給流路から前記液体を排出することと、を含む露光方法。 - 前記液体の排出は、前記液体供給流路の液体を吸引することを含む請求項26記載の露光方法。
- 前記液体の排出は、前記液体供給路に気体を流すことを含む請求項26記載の露光方法。
- 前記液体供給流路に前記液体が存在しているかどうかを検出することを含む請求項26〜28のいずれか一項記載の露光方法。
- 前記液体供給流路の液体の排出は、異常時に行われる請求項26〜29のいずれか一項記載の露光方法。
- 前記異常は、停電による電力供給の停止を含む請求項30記載の露光方法。
- 前記基板は、前記投影光学系に対して移動可能なステージに保持され、
前記異常は、前記投影光学系と前記ステージとの位置関係の異常を含む請求項30又は31記載の露光方法。 - 前記基板を露光しているときに、第1液体回収機構により前記基板上の前記液体を回収することをさらに含み、
前記異常は、前記第1液体回収機構の液体回収動作の異常を含む請求項30〜32のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記回収口から回収された液体が流れる液体回収流路に液体が存在しているかどうかを検出することをさらに含む請求項33記載の露光方法。
- 前記液体供給流路の液体の排出は、液体供給不要時に行われる請求項26〜34のいずれか一項記載の露光方法。
- 前記液体供給流路の液体の排出は、前記基板の液浸露光終了後に行われる請求項26〜35のいずれか一項記載の露光方法。
- 請求項26〜36のいずれか一項記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010013498A JP4985790B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003307771 | 2003-08-29 | ||
JP2003307771 | 2003-08-29 | ||
JP2004150353 | 2004-05-20 | ||
JP2004150353 | 2004-05-20 | ||
JP2010013498A JP4985790B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513548A Division JP4492538B2 (ja) | 2003-08-29 | 2004-08-27 | 露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010118680A JP2010118680A (ja) | 2010-05-27 |
JP2010118680A5 true JP2010118680A5 (ja) | 2011-07-21 |
JP4985790B2 JP4985790B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=34277666
Family Applications (13)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513548A Active JP4492538B2 (ja) | 2003-08-29 | 2004-08-27 | 露光装置 |
JP2010013498A Expired - Fee Related JP4985790B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2010013499A Expired - Fee Related JP5152209B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、液体回収方法、及びデバイス製造方法 |
JP2010013500A Expired - Fee Related JP4985791B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2010013501A Expired - Fee Related JP5083335B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011098569A Expired - Fee Related JP5585523B2 (ja) | 2003-08-29 | 2011-04-26 | 露光装置、液体除去方法、及びデバイス製造方法 |
JP2012066146A Expired - Fee Related JP5573874B2 (ja) | 2003-08-29 | 2012-03-22 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2013253866A Expired - Fee Related JP5821936B2 (ja) | 2003-08-29 | 2013-12-09 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2014217253A Expired - Fee Related JP5924392B2 (ja) | 2003-08-29 | 2014-10-24 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2015223657A Active JP6115616B2 (ja) | 2003-08-29 | 2015-11-16 | 露光装置及びこれを用いるデバイス製造方法 |
JP2016210356A Expired - Fee Related JP6332404B2 (ja) | 2003-08-29 | 2016-10-27 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2017238608A Pending JP2018041112A (ja) | 2003-08-29 | 2017-12-13 | 露光装置 |
JP2018232712A Withdrawn JP2019040217A (ja) | 2003-08-29 | 2018-12-12 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513548A Active JP4492538B2 (ja) | 2003-08-29 | 2004-08-27 | 露光装置 |
Family Applications After (11)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010013499A Expired - Fee Related JP5152209B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、液体回収方法、及びデバイス製造方法 |
JP2010013500A Expired - Fee Related JP4985791B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2010013501A Expired - Fee Related JP5083335B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-01-25 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011098569A Expired - Fee Related JP5585523B2 (ja) | 2003-08-29 | 2011-04-26 | 露光装置、液体除去方法、及びデバイス製造方法 |
JP2012066146A Expired - Fee Related JP5573874B2 (ja) | 2003-08-29 | 2012-03-22 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2013253866A Expired - Fee Related JP5821936B2 (ja) | 2003-08-29 | 2013-12-09 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2014217253A Expired - Fee Related JP5924392B2 (ja) | 2003-08-29 | 2014-10-24 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2015223657A Active JP6115616B2 (ja) | 2003-08-29 | 2015-11-16 | 露光装置及びこれを用いるデバイス製造方法 |
JP2016210356A Expired - Fee Related JP6332404B2 (ja) | 2003-08-29 | 2016-10-27 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2017238608A Pending JP2018041112A (ja) | 2003-08-29 | 2017-12-13 | 露光装置 |
JP2018232712A Withdrawn JP2019040217A (ja) | 2003-08-29 | 2018-12-12 | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (7) | US7847916B2 (ja) |
EP (3) | EP2816410B1 (ja) |
JP (13) | JP4492538B2 (ja) |
KR (6) | KR101345020B1 (ja) |
HK (1) | HK1205281A1 (ja) |
SG (4) | SG140603A1 (ja) |
TW (7) | TWI637425B (ja) |
WO (1) | WO2005022615A1 (ja) |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150036786A (ko) | 2003-04-09 | 2015-04-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
SG10201803122UA (en) | 2003-04-11 | 2018-06-28 | Nikon Corp | Immersion lithography apparatus and device manufacturing method |
TWI474380B (zh) | 2003-05-23 | 2015-02-21 | 尼康股份有限公司 | A method of manufacturing an exposure apparatus and an element |
TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI637425B (zh) | 2003-08-29 | 2018-10-01 | 尼康股份有限公司 | Exposure apparatus, component manufacturing method, and liquid removal method |
JP4335213B2 (ja) | 2003-10-08 | 2009-09-30 | 株式会社蔵王ニコン | 基板搬送装置、露光装置、デバイス製造方法 |
DE602004030365D1 (de) | 2003-10-22 | 2011-01-13 | Nippon Kogaku Kk | Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und verfahren zur bauelementeherstellung |
TWI569308B (zh) | 2003-10-28 | 2017-02-01 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造 方法 |
US7411653B2 (en) | 2003-10-28 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
TWI519819B (zh) | 2003-11-20 | 2016-02-01 | 尼康股份有限公司 | 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法 |
US7394521B2 (en) * | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI412067B (zh) | 2004-02-06 | 2013-10-11 | 尼康股份有限公司 | 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法 |
US7898642B2 (en) | 2004-04-14 | 2011-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101421915B1 (ko) * | 2004-06-09 | 2014-07-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP4543767B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2010-09-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3977364B2 (ja) | 2004-09-03 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US7180571B2 (en) * | 2004-12-08 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and actuator |
JP4752473B2 (ja) | 2004-12-09 | 2011-08-17 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP4569291B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2010-10-27 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006222165A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Canon Inc | 露光装置 |
US7324185B2 (en) | 2005-03-04 | 2008-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5040646B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2012-10-03 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2006278795A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 検出装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
CN100555568C (zh) | 2005-04-28 | 2009-10-28 | 株式会社尼康 | 曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 |
US8248577B2 (en) | 2005-05-03 | 2012-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101524964B1 (ko) | 2005-05-12 | 2015-06-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법 |
JP2006319242A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2007005525A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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JP2007335476A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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US7826030B2 (en) * | 2006-09-07 | 2010-11-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8634053B2 (en) | 2006-12-07 | 2014-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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JP2009094255A (ja) | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Canon Inc | 液浸露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2009094254A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Canon Inc | 液浸露光装置およびデバイス製造方法 |
JP5267029B2 (ja) | 2007-10-12 | 2013-08-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
KR101546987B1 (ko) | 2007-10-16 | 2015-08-24 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
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US8379187B2 (en) | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9116346B2 (en) | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
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2004
- 2004-08-27 TW TW106121429A patent/TWI637425B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 KR KR1020057011493A patent/KR101345020B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-27 KR KR1020117028493A patent/KR101477850B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-27 TW TW103115692A patent/TWI622083B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 KR KR1020117021162A patent/KR101321657B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-27 KR KR1020187018319A patent/KR20180077311A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-08-27 TW TW100124176A patent/TWI443711B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 TW TW101123703A patent/TWI475596B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 SG SG200801485-4A patent/SG140603A1/en unknown
- 2004-08-27 KR KR1020147017361A patent/KR101609964B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-27 EP EP14175406.9A patent/EP2816410B1/en not_active Not-in-force
- 2004-08-27 EP EP16183984.0A patent/EP3163375B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-27 TW TW107124132A patent/TW201839806A/zh unknown
- 2004-08-27 KR KR1020167008491A patent/KR101874724B1/ko active IP Right Grant
- 2004-08-27 SG SG2013017488A patent/SG188876A1/en unknown
- 2004-08-27 JP JP2005513548A patent/JP4492538B2/ja active Active
- 2004-08-27 EP EP04772736A patent/EP1659620A4/en not_active Withdrawn
- 2004-08-27 SG SG200801487-0A patent/SG140604A1/en unknown
- 2004-08-27 TW TW105104419A patent/TWI625762B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 SG SG10201607457PA patent/SG10201607457PA/en unknown
- 2004-08-27 TW TW093125799A patent/TWI424464B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 WO PCT/JP2004/012787 patent/WO2005022615A1/ja active Application Filing
-
2005
- 2005-07-01 US US11/171,243 patent/US7847916B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-01 US US11/606,935 patent/US7826031B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-31 US US12/318,574 patent/US9041901B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-25 JP JP2010013498A patent/JP4985790B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-25 JP JP2010013499A patent/JP5152209B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-25 JP JP2010013500A patent/JP4985791B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-25 JP JP2010013501A patent/JP5083335B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-28 US US12/923,568 patent/US8854599B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-26 JP JP2011098569A patent/JP5585523B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-03-22 JP JP2012066146A patent/JP5573874B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-01-28 US US13/751,469 patent/US8867017B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-12-09 JP JP2013253866A patent/JP5821936B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-10-24 JP JP2014217253A patent/JP5924392B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-05-04 US US14/703,020 patent/US10012909B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-16 HK HK15105698.7A patent/HK1205281A1/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-11-16 JP JP2015223657A patent/JP6115616B2/ja active Active
-
2016
- 2016-10-27 JP JP2016210356A patent/JP6332404B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-12-13 JP JP2017238608A patent/JP2018041112A/ja active Pending
-
2018
- 2018-06-20 US US16/013,519 patent/US20180299789A1/en not_active Abandoned
- 2018-12-12 JP JP2018232712A patent/JP2019040217A/ja not_active Withdrawn
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