TW202000291A - 光阻劑分配系統及光阻劑的回收方法 - Google Patents

Abstract

本揭示描述了一種當光阻劑清洗流過新光阻劑過濾器時，可以用來移除光阻劑中空氣微氣泡的方法。例如，該方法包括使光阻劑流過光阻劑過濾器以移除捕集在光阻劑通過光阻劑過濾器中產生的空氣微氣泡；在緩衝槽中收集具有空氣微氣泡的光阻劑；在緩衝槽中移除光阻劑中的空氣微氣泡；以及將沒有空氣微氣泡的光阻劑從緩衝槽轉移到光刻設備。

Description

光阻劑回收設備

光阻劑分配系統的光阻劑過濾器替換過程中，使光阻劑流過光阻劑過濾器循環以預潤濕過濾器並移除捕集在過濾器中的空氣。而循環流過過濾器的光阻劑因具有氣泡且無法使用，因此必須被丟棄。廢棄的光阻劑增加了半導體製程的製造成本。

100‧‧‧方法

110‧‧‧操作

120‧‧‧操作

130‧‧‧操作

140‧‧‧操作

200‧‧‧光阻劑貯存器

210‧‧‧二級槽

215‧‧‧四通閥

220‧‧‧兩級泵

220A‧‧‧進料隔室

220B‧‧‧分配隔室

225‧‧‧兩級泵入口

230‧‧‧過濾器

235‧‧‧兩級泵出口

240‧‧‧排氣口

245‧‧‧緩衝槽

250‧‧‧緩衝槽收集口

255‧‧‧緩衝槽入口

260‧‧‧緩衝槽排放口

265‧‧‧緩衝槽出口

270‧‧‧設施排放管

275‧‧‧光阻劑回收設備

280‧‧‧用過的光阻劑

285‧‧‧入口止回閥

290‧‧‧排放止回閥

300‧‧‧光阻劑

310‧‧‧環境空間

400‧‧‧光刻設備

當結合附圖閱讀時，從以下詳細描述可以最好地理解本揭露的各方面。應注意，根據行業中的常規實踐，各種特徵未按比例繪製。實際上，為了論述的清楚性，可以任意地增大或縮小各種特徵的尺寸。

圖1是根據本揭示的一些實施例在過濾器替換操作的示例性光阻劑回收過程流程圖。

圖2是根據本揭示的一些實施例具有光阻劑回收設備的示例性光阻劑分配系統。

圖3是根據本揭示的一些實施例的緩衝槽的剖視圖。

圖4是根據本揭示的一些實施例具有光阻劑回收設備的示例性光阻劑分配系統。

圖5是根據本揭示的一些實施例的緩衝槽的剖視圖。

圖6是根據本揭示的一些實施例的不具有光阻劑回收設備的示例性光阻劑分配系統。

以下揭露內容提供了用於實施所提供標的的不同特徵的許多不同實施例或實例。以下描述了部件和佈置的特定實例以簡化本揭露內容。當然，該等僅僅是實例，而並且旨在為限制性的。例如，在以下描述中在第二特徵上方形成第一特徵可以包括第一特徵和第二特徵形成為直接接觸的實施例，並且亦可以包括可以在第一特徵與第二特徵之間形成額外特徵，使得第一特徵和第二特徵不直接接觸的實施例。

此外，在此可以使用空間相對術語，諸如「下方」、「以下」、「下部」、「上方」、「上部」等來簡化描述，以描述如圖中所示的一個元件或特徵與另一元件或特徵的關係。除了圖中所示的取向之外，空間相對術語旨在包括使用或操作中的裝置/元件的不同取向。設備可以以其他方式取向(旋轉90度或在其他方向上)，並且可以類似地相應解釋在此使用的空間相對描述詞。

如本文所用的術語「標稱」是指在產品或過程的設計階段期間設定的部件或過程操作的特徵或參數的所需值或目標值，以及高於和/或低於所需值的值範圍。值的範圍通常是由於製造製程或公差的微小變化。

在一些實施例中，術語「約」和「大體上」可以指示在該值的5%(例如，該值的±1%、±2%、±3%、±4%、±5)內變化的給定量的值。

超大型積體電路(VLSI)晶片製造需要大量光刻操作。每個光刻操作使用光化學材料，該光化學材料被稱為「光阻劑」。光阻劑是有機化合物，其由於先前暴露於紫外(UV)或極紫外(EUV)光而在顯影劑溶液存在下經歷溶解度的變化。晶片製造中光阻劑的目的是在晶圓的頂層上轉印光掩模或掩模版圖案，並在後續處理(例如，蝕刻處理)期間保護下面的材料。將晶片製造中使用的光阻劑作為液體分配到晶圓表面，該液體可經乾燥以形成待圖案化的固體膜。在使用之前，光阻劑可以儲存在貯存器或儲槽中，該貯存器或儲槽可定位為遠離光刻設備。分配系統可用於將儲存的光阻劑從貯存器或儲槽轉移到光刻設備。

為了確保光刻製程的一致性，在光刻操作之間光阻劑質量需要為實質上相同的。為了確保光阻劑不含雜質和粒子，使光阻劑穿過例如位於光阻劑分配系統內各個位置的過濾膜(例如，光阻劑過濾器)而經歷過濾過程。舉例而言而非限制，可以發現光阻劑過濾器靠近用於將光阻劑分配到光刻設備的泵。光阻劑過濾器可以滿足嚴格的質量要求。例如，光阻劑過濾器不應將粒子、有機材料、金屬和/或其他污染物釋放到光阻劑中。此外，光阻劑過濾器應該能夠在光阻劑可以分配到光刻設備之前從光阻劑中移除雜質。光阻劑 過濾器的孔徑可以在亞微米範圍內；例如，該孔徑可小於1微米(例如，<1μm)。

在其使用壽命結束時-例如，在約18個月之後-必須用新的光阻劑過濾器替換光阻劑過濾器。一旦更換了舊的光阻劑過濾器，就必須用光阻劑「清洗」新的光阻劑過濾器，隨後才能恢復光刻操作。術語「清洗」是指光阻劑穿過光阻劑過濾器以預潤濕該過濾器的過程。光阻劑過濾器的一個關鍵參數是「臨界潤濕表面張力」(CWST)，CWST確定液體(例如，光阻劑)可以流過過濾器並潤濕過濾器的內部表面和外部表面的難易程度。具有差的潤濕性特徵的過濾器可阻礙從過濾器進行空氣排出(例如，空氣移除)。另外，具有差的潤濕性特徵的光阻劑過濾器可能需要長的清洗時間來確保光阻劑過濾器已經充分預潤濕並且已經從光阻劑過濾器移除了任何捕集的空氣。作為清洗過程的結果，在清洗過程中使用的光阻劑可以包括以微氣泡形式被捕集的空氣(例如，空氣微氣泡)。因為具有空氣微氣泡的光阻劑由於質量控制要求而不能用於光刻製程，所以該光阻劑必須被丟棄(例如，到設施排放管中)。例如，含有空氣微氣泡的光阻劑可導致晶圓上的圖案化缺陷。在清洗過程期間，由於光阻劑中的空氣微氣泡，可消耗和丟棄高達約2.5L的光阻劑。因此，光阻劑過濾器替換過程可在半導體製造過程中引入顯著的操作成本。

本揭示的實施例涉及可從已經用於清洗光阻劑過濾器的光阻劑中移除空氣微氣泡的光阻劑回收設備、系統 和方法。因此，光阻劑可以滿足質量控制要求，並且可以隨後分配到光刻設備以在半導體製造過程期間使用。在一些實施例中，用包括「緩衝」槽的光阻劑回收設備來完成從光阻劑中移除空氣微氣泡。該緩衝槽可以儲存用過的光阻劑(帶有空氣微氣泡)。根據一些實施例，緩衝槽中的光阻劑可以在該槽的環境空間中釋放空氣微氣泡。在完成空氣微氣泡移除過程之後，可以將光阻劑分配到光刻設備以在半導體製造製程期間使用。在一些實施例中，本文揭示的設備、系統和方法回收將被丟棄的光阻劑。此外，本揭示的實施例可以將過濾器清洗過程的持續時間從約1小時減少到約10分鐘，從而顯著節省時間(例如，清洗時間改善超過80%)並且提高半導體製造製程中的總生產量。

圖1是根據本揭示的一些實施例的方法100的流程圖，其描述了在過濾器替換操作之後的示例性光阻劑回收過程。本揭示的實施例不限於該操作描述。相反，其他操作亦在本揭示的精神和範疇內。應了解，可執行額外操作。此外，操作中的一些操作可以同時執行，或者以與圖1中所示不同的順序執行。在一些實施例中，除了當前描述的操作之外或代替當前描述的操作，亦可以執行一個或多個其他操作。出於說明性目的，參考圖2的實施例描述方法100。

根據一些實施例，圖2是示例性光阻劑分配系統。圖2的示例性光阻劑分配系統可包括但不限於以下部件：光阻劑貯存器200、二級槽(Secondary tank)210、光阻劑回收設備275、兩級泵(Two stage pump)220、過濾 器230，以及設施排放管270。在圖2中，光阻劑輸送管線連接示例性分配系統的上述部件。

光阻劑可以儲存在光阻劑貯存器200中。生產設施可包括若干光阻劑貯存器，如光阻劑貯存器200。根據圖2，光阻劑貯存器可以將光阻劑供應到二級槽210，二級槽210是當光阻劑貯存器200經歷替換過程時確保不間斷地供應光阻劑(例如，在光阻劑分配系統內)的中間槽。二級槽210進一步流體連接到光阻劑回收設備275的所選部件。在一些實施例中，光阻劑回收設備275包括入口止回閥285、四通閥215、緩衝槽245和排放止回閥290。

光阻劑回收設備275可以流體連接到兩級泵220和設施排放管270。在一些實施例中，兩級泵220是光阻劑分配泵，該光阻劑分配泵可以將光阻劑分配到光阻劑設備(圖2中未圖示)。光阻劑分配泵可以約0.001ml的增量分配在約0.01ml與約16ml之間的光阻劑。在一些實施例中，兩級泵220可以經由進料隔室220A吸取光阻劑並經由分配隔室220B將其分配到光刻設備。被容納在兩級泵220外側的光阻劑過濾器230插置在兩級泵220的進料隔室220A與分配隔室220B之間，使得當光阻劑從進料隔室220A移動到兩級泵220的分配隔室220B時光阻劑可被過濾。

在一些實施例中，設施排放管270可以用作緩衝槽245的溢出路徑。例如，在緩衝槽245過量填充有光阻劑的情況下，可將過量的光阻劑轉移到設施排放管270。此 外，設施排放管270亦可以包括已從光阻劑設備丟棄用過的光阻劑280(圖2中未示)。

參考圖1和圖2，方法100開始於操作110，其中可將光阻劑從二級槽210轉移到兩級泵220。如上所述，光阻劑經由光阻劑輸送管線在示例性光阻劑分配系統內流動。在操作110中，光阻劑最初穿過入口止回閥285流到四通閥215，在該四通閥中光阻劑被轉移到兩級泵220的進料隔室220A的入口225。在一些實施例中，四通閥215是被配置為在三個不同方向上轉移進入光阻劑的流動閥。因此，四通閥215可以在光阻劑分配過程的不同階段將光阻劑從二級槽210轉移到不同方向(例如，到示例性光阻劑分配系統的不同部件)。

在圖1的操作120中，使光阻劑從兩級泵220流到光阻劑過濾器230(例如新的光阻劑過濾器)並返回到兩級泵220以清洗過濾器(例如，預潤濕過濾器並移除被捕集在過濾器中的空氣)。更特別地參考圖2，光阻劑從進料隔室220A穿過光阻劑過濾器230(例如，新的光阻劑過濾器)流到分配隔室220B。在操作120中，清洗光阻劑過濾器230。亦即，光阻劑過濾器230經歷預潤濕處理，並移除光阻劑過濾器230中捕集的空氣。在一些實施例中，約2.5L的光阻劑體積流過光阻劑過濾器230以從光阻劑過濾器230移除捕集的空氣。當光阻劑流過光阻劑過濾器230時，過濾器中的捕集空氣溶解/分散在光阻劑中並形成空氣微氣泡。含有空氣微氣泡的光阻劑不能在光刻製程中「原樣」使用，因為空 氣微氣泡會在晶圓上形成圖案化缺陷。因此，在光阻劑可用於下游光刻製程之前，必須移除光阻劑中的空氣微氣泡。經由排氣口240將穿過光阻劑過濾器230的光阻劑引導回兩級泵220的分配隔室220B。在一些實施例中，在清洗過程期間，兩級泵220以類似於稍後將論述的光阻劑分配操作的泵送速度操作。

在操作130中，從過濾器230收集具有空氣微氣泡的光阻劑並分配到緩衝槽245中。如圖2所示，可以從分配隔室220B的通風口240收集具有空氣微氣泡的光阻劑，並經由緩衝槽收集口250(為返回入口，Return inlet)分配到緩衝槽245中。在一些實施例中，緩衝槽245的體積大於用於根據操作120來清洗光阻劑過濾器230的光阻劑的體積。換言之，緩衝槽245的體積可為約80cc。然而，此不是限制性的，並且大於或小於80cc的緩衝槽在本揭示的精神和範疇內。

根據一些實施例，圖3是緩衝槽245的橫截面圖。緩衝槽245包括緩衝槽收集口250、緩衝槽入口255和緩衝槽出口265。除了上述入口和出口之外，緩衝槽245亦可以配備有光阻劑液位感測器，該光阻劑液位感測器舉例而言而非限制地位於緩衝槽245的側壁上的位置H和L處。在一些實施例中，位置H朝向緩衝槽245的頂部，而位置L朝向緩衝槽245的底部並且在出口265的上方。如此，緩衝槽245中的光阻劑液位感測器可被配置為監測緩衝槽245內的光阻劑300的相應高(H)和低(L)液位。舉例而言而非限制， 位置L處的光阻劑感測器可被配置為當光阻劑300的液位較低(例如，低於位置L處的液位；朝向出口265)時提供警告，並且位置H處的光阻劑感測器可被配置為當光阻劑300的液位較高(例如，高於位置H處的液位；朝向緩衝槽245的頂部)時提供警告。在一些實施例中，來自光阻劑感測器的信號可用於控制緩衝槽245內的光阻劑的液位。例如，如果位置H處的光阻劑感測器發信號通知光阻劑的液位較高，則可將過量的光阻劑轉移到設施排放管270。另一方面，如果位置L處的光阻劑感測器發信號通知光阻劑液位較低，則光阻劑開始流入緩衝槽245。

如圖3所示的緩衝槽245上的緩衝槽收集口250、緩衝槽入口255、緩衝槽排放口260和緩衝槽出口265的位置是示例性的，而非旨在為限制性的。因此，緩衝槽245上的緩衝槽收集口250、緩衝槽入口255、緩衝槽排放口260和緩衝槽出口265的替代位置在本揭示的精神和範疇內。此外，如圖3所示，位置L和H亦是示例性的而非旨在為限制性的。例如，緩衝槽245的側壁上的位置L和H可以彼此更接近或彼此更遠離，並且可以取決於緩衝槽245的尺寸以及緩衝槽排放口260和緩衝槽出口265的位置。另外，緩衝槽的形狀不限於圖3的圖解，並且其他形狀在本揭示的精神和範疇內。

在圖1的操作140中，經由脫氣或脫氣泡製程移除光阻劑中的空氣微氣泡。例如，空氣微氣泡「移除製程」可以基於空氣微氣泡朝向收集的光阻劑300的表面移動並 逸出到周圍環境中的自然趨勢。參考圖3，光阻劑300內的空氣微氣泡經由光阻劑的頂表面釋放到緩衝槽245的環境空間310內，該環境空間在光阻劑300上方。因此，經由緩衝槽出口265從緩衝槽245的底部吸出的光阻劑300是無氣泡的。在一些實施例中，緩衝槽245可以耦接到真空泵，該真空泵有助於經由上述脫氣或脫氣泡過程移除在緩衝槽245中釋放的空氣。根據一些實施例，在操作140期間，緩衝槽245內的光阻劑液位保持高於位置L並且低於位置H。舉例而言而非限制，光阻劑300的液位可以低於位置H並且略高於位置L，如圖3所示。在一些實施例中，光阻劑300上方的大環境空間310可以防止在空氣從光阻劑300釋放的過程期間產生壓力。出於此原因，緩衝槽245可以大於用於根據操作120清洗光阻劑過濾器230的光阻劑300的量。舉例而言而非限制，緩衝槽245可以大於2.5L。在一些實施例中，從光阻劑300釋放的空氣可以從緩衝槽245穿過緩衝槽排放口260和排放止回閥290逸出到設施排放管270，如圖2所示。根據一些實施例，在操作140結束時(或期間)，光阻劑300可以穿過緩衝槽出口265分配到光刻設備以用於光刻操作。

在一些實施例中，方法100可以是自動化方法，該自動化方法簡化過濾器清洗過程、降低成本並提高生產率。例如，由於在過濾器清洗過程中使用的光阻劑可以回收並隨後用於後續光刻操作中，因此可以使用較大量的光阻劑以確保光阻劑過濾器已經被充分潤濕並且已經移除了捕 集的空氣。如果不使用方法100，則過濾器潤濕過程可能涉及額外的耗時步驟，例如對二級槽210加壓並降低兩級泵220的泵送速度以緩慢地迫使光阻劑穿過光阻劑過濾器230。在一些實施例中，方法100可以將過濾器清洗過程的持續時間從約1小時減少到約10分鐘，從而顯著節省時間(例如，清洗時間改善超過80%)並且提高半導體製造製程中的總生產量。

根據一些實施例，光阻劑回收設備275的使用不限於方法100。例如，在完成方法100的操作140之後，緩衝槽245中的光阻劑沒有空氣微氣泡，可以用於光阻劑分配操作，在所述光阻劑分配操作中光阻劑被分配到光刻設備。舉例而言而非限制，圖4是光阻劑回收設備275作為將光阻劑分配到光刻設備的光阻劑分配系統的一部分的示例性連接圖。

參考圖4並且根據一些實施例，使光阻劑從二級槽210流到光阻劑回收設備275。例如，光阻劑從二級槽210經由入口止回閥285流到四通閥215，其中光阻劑被轉移到緩衝槽245的緩衝槽入口255以填充緩衝槽245，如圖5所示。如上所述，緩衝槽245中的光阻劑300沒有空氣微氣泡，因此，允許來自二級槽210的光阻劑流入緩衝槽245。參考圖4，光阻劑可隨後從緩衝槽245的緩衝槽出口265流回到四通閥215。四通閥215將光阻劑轉移到兩級泵220的進料隔室220A的兩級泵入口225。光阻劑從該入口處穿過光阻劑過濾器230，該光阻劑過濾器現被預潤濕並且不包含空氣， 並且流向兩級泵220的分配隔室220B的出口235。從出口235將光阻劑分配到光刻設備400。

出於說明的目的，圖4包括光阻劑分配系統的選定部分，並且亦可以包括其他部分(未圖示)。未圖示的圖4的光阻劑分配系統的部分可包括但不限於額外的光阻劑輸送管線、額外的閥、液位感測器、氣泡感測器、電子設備、控制器、額外泵送系統等。例如，將緩衝槽245的緩衝槽出口265連接到四通閥215的輸送管線可以配備有氣泡感測器，該氣泡感測器為簡單起見而在圖4中未圖示。氣泡感測器可以被配置為偵測在光阻劑分配操作期間穿過輸送管線的光阻劑中空氣微氣泡的存在。因此，在離開緩衝槽245的光阻劑中偵測到空氣微氣泡的情況下，可以中斷光阻劑分配操作。

圖5是在到上述光刻設備400的光阻劑分配操作期間的緩衝槽245的橫截面圖。舉例而言而非限制，在光阻劑分配操作期間，緩衝槽245可以填充有光阻劑300。例如，緩衝槽245中的光阻劑300的液位可以在位置H與位置L之間，但是更接近位置H，如圖5所示。在光阻劑300的液位下降到低於位置L的情況下，位置L處的相應感測器將被觸發，並且額外光阻劑可以從二級槽210流入緩衝槽245，如上所述。類似地，在光阻劑300的液位上升到高於位置H的情況下，將觸發位置H處的相應感測器，並且過量的光阻劑300可以經由排放止回閥290轉移到設施排放管270(在圖4中圖示)以防止緩衝槽245過滿。

圖2和圖4中的示例性光阻劑分配系統具有優於其他光阻劑分配系統(例如圖6所示的光阻劑分配系統)的優點。該等優點包括但不限於光阻劑成本節省和系統效率。圖6的光阻劑分配系統包括光阻劑貯存器200、二級槽210、具有光阻劑過濾器230(例如，新的光阻劑過濾器)的兩級泵220，以及設施排放管270。與圖2和圖4中描述的光阻劑分配系統不同，圖6中的光阻劑分配系統不包括光阻劑回收設備，諸如光阻劑回收設備275。因此，圖6的光阻劑分配系統-不同於圖2和圖4中所示的光阻劑分配系統-不能回收已經在新的過濾器替換過程中用過的光阻劑。

舉例而言而非限制，在新光阻劑過濾器清洗過程期間，圖6中的光阻劑分配系統的操作可以解釋如下。二級槽210填充有來自貯存器200的光阻劑。如上所述，二級槽210是中間槽，該中間槽確保在例如填充光阻劑貯存器200被填充時不間斷地供應光阻劑(例如，在光阻劑分配系統內)。光阻劑可以穿過光阻劑輸送管線從二級槽210流到兩級泵220的兩級泵入口225。在一些情況下，將二級貯存器200用氮氣加壓以迫使光阻劑穿過兩級泵220。該過程可能是耗時的，因為兩級泵220不在光阻劑分配操作下運轉，且其泵送速度被降低。如上所述，兩級泵220是可以以約0.001ml的增量向光阻劑設備(在圖2中未圖示)分配在約0.01ml與約16ml之間的光阻劑的光阻劑分配泵。在一些實施例中，兩級泵220可以經由進料隔室220A吸取光阻劑並經由分配隔室220B將該光阻劑分配到光刻設備。被容納 在兩級泵220外側的光阻劑過濾器230插置在兩級泵220的兩個隔室之間，使得光阻劑在從進料隔室220A移動到分配隔室220B時可被過濾或者可以清洗光阻劑過濾器230。

隨後，光阻劑藉由穿過在兩級泵220的兩個隔室(例如，220A和220B)之間的光阻劑過濾器230來清洗替換的光阻劑過濾器230。作為清洗過程的結果，光阻劑可以包含以空氣微氣泡形式被捕集的空氣。由於下游光刻設備無法使用具有空氣微氣泡的光阻劑，因此必須將該光阻劑丟棄在設施排放管270中。舉例而言而非限制，設施排放管270包含來自光刻設備和/或其他源(在圖6中未圖示)的廢棄光阻劑280。例如，經由兩級泵220的排氣口240將用於清洗光阻劑過濾器230的光阻劑丟棄到設施排放管270。在上述新光阻劑過濾器230的清洗過程中，所使用的光阻劑的量可達約2.5L的量。此種光阻劑的使用量可不利地影響光刻成本，因為光阻劑過濾器可能需要每18個月或者甚至更短的時間更換一次，並且半導體製造設置可具有多個光阻劑過濾器要替換。

本揭示的實施例涉及可用於從用於清洗新光阻劑過濾器(例如，在兩級泵中)的光阻劑中移除空氣微氣泡的光阻劑回收設備和方法。隨後可將回收的光阻劑分配到光刻設備中。在一些實施例中，本文使用的方法可以簡化過濾器清洗過程，並藉由節省已經在新的過濾器清洗過程中使用的光阻劑來降低光刻成本。在一些實施例中，由於在過濾器清洗過程中使用的光阻劑可以被回收並隨後用於下游光刻操 作，因此可以使用較大量的光阻劑(例如，大於2.5L)來確保光阻劑過濾器已被充分調節，並且所有被捕集的空氣都已被移除。根據一些實施例，本文所述的光阻劑回收設備和方法可將過濾器清洗過程的持續時間從約1小時減少至約10分鐘，此在清洗時間方面改善了超過80%。

在一些實施例中，光阻劑分配系統包括光阻劑貯存器；光阻劑過濾器；以及泵，該泵被配置為將光阻劑泵送穿過光阻劑過濾器並將過濾的光阻劑分配到光刻設備。光阻劑分配系統亦包括一種光阻劑回收設備，該光阻劑回收設備包括緩衝槽；第一光阻劑通道，該第一光阻劑通道在泵的出口與緩衝槽之間；以及第二光阻劑通道，該第二光阻劑通道在緩衝槽的出口與泵的入口之間。

在一些實施例中，一種方法包括使光阻劑流過光阻劑過濾器以移除捕集在光阻劑過濾器中的空氣，其中被捕集的空氣在光阻劑中形成空氣微氣泡；在緩衝槽中收集具有空氣微氣泡的光阻劑；在緩衝槽中從光阻劑移除空氣微氣泡；以及將沒有空氣微氣泡的光阻劑從緩衝槽轉移到光刻設備。

在一些實施例中，一種系統包括光阻劑貯存器，該光阻劑貯存器被配置為儲存光阻劑；泵，該泵被配置為將光阻劑分配到光刻設備並且包括進料隔室和分配隔室。該系統亦包括光阻劑過濾器，該光阻劑過濾器與泵的進料隔室和分配隔室流體連通；以及光阻劑回收設備，該光阻劑回收設備被配置為接收用於清洗光阻劑過濾器的光阻 劑。此外，光阻劑回收設備包括緩衝槽，該緩衝槽被配置為移除所接收的光阻劑中的捕集空氣；一個或多個光阻劑感測器；以及光阻劑出口，該光阻劑出口在緩衝槽的底面處。另外，光阻劑回收設備包括四通閥，該四通閥流體連接到緩衝槽和泵。

應當理解，具體實施方式部分而不是本揭示的摘要部分，旨在用於解釋請求項。本揭示的摘要部分可以闡述發明人所預期的本揭示的一個或多個但不是所有可能的實施例，因此並不旨在以任何方式限制所隨附的請求項。

前述揭示內容概述了若干實施例的特徵，使得本領域技藝人士可以更好地理解本揭露的各方面。本領域技藝人士應當理解，他們可以容易地使用本揭露作為設計或修改其他製程和結構的基礎，以實現與本文介紹的實施例相同的目的及/或實現與本文介紹的實施例相同的優點。本領域技藝人士亦應當認識到，此類等同構造不脫離本揭露的精神和範疇，並且在不脫離本揭露的精神和範疇的情況下，他們可以在本文中進行各種改變、替換和變更。

200‧‧‧光阻劑貯存器

210‧‧‧二級槽

215‧‧‧四通閥

220‧‧‧兩級泵

220A‧‧‧進料隔室

220B‧‧‧分配隔室

225‧‧‧兩級泵入口

230‧‧‧過濾器

235‧‧‧兩級泵出口

240‧‧‧排氣口

245‧‧‧緩衝槽

250‧‧‧緩衝槽收集口

255‧‧‧緩衝槽入口

260‧‧‧緩衝槽排放口

265‧‧‧緩衝槽出口

270‧‧‧設施排放管

275‧‧‧光阻劑回收設備

280‧‧‧用過的光阻劑

285‧‧‧入口止回閥

290‧‧‧排放止回閥

Claims (20)

1. 一種光阻劑分配系統，所述光阻劑分配系統包括：一光阻劑貯存器；一光阻劑過濾器；一泵，該泵被配置為泵送一光阻劑穿過該光阻劑過濾器並將該過濾的光阻劑分配到光刻設備；一光阻劑回收設備，該光阻劑回收設備包括一緩衝槽；一第一光阻劑通道，該第一光阻劑通道在該泵的一出口與該緩衝槽之間；以及一第二光阻劑通道，該第二光阻劑通道在該緩衝槽的一出口與該泵的一入口之間。
2. 根據請求項1所述之光阻劑分配系統，該光阻劑分配系統亦包括一四通閥，該四通閥被配置為將該光阻劑從該光阻劑貯存器轉移到該緩衝槽並從該緩衝槽轉移到該泵。
3. 根據請求項2所述之光阻劑分配系統，其中該四通閥流體連接到該光阻劑貯存器、該緩衝槽和該泵。
4. 根據請求項1所述之光阻劑分配系統，該光阻劑分配系統亦包括與該緩衝槽流體連接的一排放管。
5. 根據請求項1所述之光阻劑分配系統，其中該泵包括一進料隔室和一分配隔室。
6. 根據請求項5所述之光阻劑分配系統，其中該進料隔室和該分配隔室各自流體連接到該光阻劑過濾器。
7. 根據請求項1所述之光阻劑分配系統，其中該緩衝槽包括複數個感測器，該等感測器被配置為監測該緩衝槽內的該光阻劑的一液位。
8. 根據請求項1所述之光阻劑分配系統，其中該緩衝槽被配置為移除溶解在該過濾的光阻劑中的空氣微氣泡。
9. 一種方法，該方法包括：使光阻劑流過一光阻劑過濾器以移除捕集在該光阻劑過濾器中的空氣，其中該被捕集的空氣在該光阻劑中形成複數個空氣微氣泡；在一緩衝槽中收集該具有該等空氣微氣泡的該光阻劑；在該緩衝槽中從該光阻劑移除該等空氣微氣泡；以及將沒有空氣微氣泡的該光阻劑從該緩衝槽轉移到一光刻設備。
10. 根據請求項9所述的方法，其中移除該等空氣微氣泡包括：使該光阻劑脫氣以釋放該光阻劑中的該等空氣微氣泡。
11. 根據請求項9所述的方法，其中轉移沒有空氣微氣泡的該光阻劑包括：將沒有空氣微氣泡的該光阻劑從該緩衝槽轉移到一泵；使沒有空氣微氣泡的該光阻劑再流動穿過該光阻劑過濾器；以及將沒有空氣微氣泡的該光阻劑從該泵分配到該光刻設備。
12. 根據請求項9所述的方法，其中轉移沒有空氣微氣泡的該光阻劑包括：使沒有微氣泡的該光阻劑流過一微氣泡感測器。
13. 一種系統，該系統包括：一光阻劑貯存器，該光阻劑貯存器用於儲存光阻劑；一泵，該泵包括一進料隔室和一分配隔室，其中該泵被配置為將該光阻劑分配到一光刻設備；光阻劑過濾器，該光阻劑過濾器流體連接到該泵的該進料隔室和該分配隔室；以及 一光阻劑回收設備，該光阻劑回收設備被配置為接收用於清洗該光阻劑過濾器的光阻劑，其中該光阻劑回收設備包括：一緩衝槽，該緩衝槽被配置為移除接收的該光阻劑中捕集的空氣，且包括一個或多個光阻劑感測器和位於該緩衝槽的一底面處的一光阻劑出口；以及一四通閥，該四通閥流體連接到該緩衝槽和該泵。
14. 根據請求項13所述之系統，其中該光阻劑轉移到該泵並從該緩衝槽的該底面處的該光阻劑出口分配到該光刻設備。
15. 根據請求項13所述之系統，其中該光阻劑回收設備亦包括一真空泵，該真空泵耦接到該緩衝槽並且被配置為從該緩衝槽中的接收的該光阻劑中移除捕集的該空氣。
16. 根據請求項13所述之系統，其中該一個或多個光阻劑感測器被配置為確定該緩衝槽中的該光阻劑的一液位。
17. 根據請求項13所述之系統，其中該一個或多個光阻劑感測器中的一第一感測器位於該緩衝槽的一 頂部部分上，並且該一個或多個光阻劑感測器中的一第二感測器位於該緩衝槽的一底部部分上。
18. 根據請求項17所述之系統，其中該第一感測器被配置為偵測該緩衝槽的一上半部分的該光阻劑的一液位。
19. 根據請求項17所述之系統，其中該第二感測器被配置為偵測該緩衝槽的一下半部分的該光阻劑的一液位。
20. 根據請求項13所述之系統，其中該緩衝槽的容量為約80cc。

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