TWI755422B - 處理液供給裝置 - Google Patents

Abstract

[課題] 提供不管裝置內之各部之位置關係或配管、配置條件等如何，可以藉由過濾器適當地除去處理液內之微粒的處理液供給裝置。 　　[解決手段] 光阻液供給裝置(200)係對塗佈噴嘴(142)供給光阻液者，具備暫時性地貯留從貯留光阻液之光阻液供給源(201)被供給的處理液之緩衝槽(202)，和被設置在塗佈噴嘴(142)和緩衝槽(202)之間，除去光阻液中之異物的過濾器(212)，和將藉由過濾器(212)除去異物的光阻液送出至塗佈噴嘴(142)之泵浦(211)，緩衝槽(202)具有壓送貯留於該緩衝槽(202)之光阻液的壓送功能。

Description

處理液供給裝置

[0001] 本發明關於經由處理液吐出部對被處理體供給光阻液等之處理液的處理液供給裝置。

[0002] 半導體裝置等之製造過程中之光微影工程中，為了在半導體晶圓等之被處理體上形成反射防止膜或光阻膜等之塗佈膜，或顯像曝光後之光阻膜，使用光阻液或顯像液等之處理液。 　　[0003] 在該處理液中有包含異物(微粒)之情形。再者，即使在原來的處理液不存在微粒，在於供給處理液之裝置之泵浦、閥、配管這樣的系統路徑中，附著微粒之情況下，有在供給的處理液中混入微粒之情形。因此，在供給處理液之裝置之系統路徑中，配設過濾器，藉由該過濾器進行微粒之除去(專利文獻1)。 　　另外，在專利文獻1之處理液供給裝置，為了在交換貯留處理液之光阻液供給源之時不會使裝置之運轉停止，在上述光阻液供給源和過濾器之間設置暫時性地貯留處理液之緩衝槽。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0004] [專利文獻1] 日本特開2013-211525號公報

[0005] 如專利文獻1之處理液供給裝置般雖然藉由使用過濾器，可以補集/除去處理液中之微粒，但是過濾器之微粒之補集效率因應過濾器通過時之液壓而變化。 　　但是，過濾器通過時之處理液之液壓，有由於上述緩衝槽和過濾器之位置關係或兩者間之配管等而無法成為期待之液壓的情形。再者，即使例如在將處理液供給裝置設置在高地之情況下，作為過濾器通過時之處理液之液壓，也有無法取得期待之液壓的情形。 　　[0006] 本發明係鑒於如此之情形而創作出，其目的係提供不管裝置內之各部之位置關係或配管、配置條件等如何，可以藉由過濾器適當地除去處理液內之微粒的處理液供給裝置。

[0007] 為了達成上述目的，本發明係一種處理液供給裝置，其係將處理液供給至對被處理體吐出處理液的處理液吐出部，該處理液供給裝置之特徵在於，具備：暫時貯留裝置，其係暫時性地貯留從貯留處理液之處理液供給源被供給之處理液；過濾器，其係除去來自上述暫時貯留裝置之處理液中之異物；及泵浦，其係將藉由該過濾器除去異物之處理液送出至上述處理液吐出部，上述暫時貯留裝置具有壓送貯留在該暫時貯留裝置之處理液的壓送功能。

以具備壓力測量裝置和控制裝置為佳，該壓力測量裝置係被設置在較上述暫時貯留裝置更下游側，測量處理液之液壓；該控制裝置係根據在上述壓力測量裝置之測量結果，至少控制來自上述暫時貯留裝置之處理液的壓送。

上述壓力測量裝置測量上述過濾器之2次側之液壓，上述控制裝置係以以上述過濾器之2次側之液壓成為一定之方式，控制上述壓送時之液壓為佳。

上述壓力測量裝置測量上述過濾器之2次側之液壓，上述控制裝置係在上述過濾器之2次側之液壓在特定之範圍內之情況下，對上述暫時貯留裝置施加特定之壓力，壓送處理液亦可。

即使上述壓力測量裝置測量上述過濾器之1次側之液壓，上述控制裝置係以上述過濾器之1次側之液壓成為一定之方式，控制上述壓送時之液壓亦可。

具備複數上述暫時貯留裝置、上述過濾器及上述泵浦之組，上述控制裝置以具有分別對上述暫時貯留裝置設置的調整該暫時貯留裝置之貯留處理液之貯留室內之液壓的電動空氣調節器為佳。

上述暫時貯留裝置可以管式隔膜泵浦構成。

具備複數上述暫時貯留裝置、上述過濾器及上述泵浦之組，上述暫時貯留裝置分別以不同個體具有貯留處理液之貯留裝置，和壓送該貯留裝置內之處理液之另外的泵浦，設置有共同的電動空氣調節器，其係對上述暫時貯留裝置之上述另外的泵浦，調整該另外之泵浦的貯留處理液的貯留室內的液壓，壓送來自上述暫時貯留裝置之處理液之時之液壓的控制，係藉由上述電動空氣調節器進行亦可。

上述另外的泵浦可以管式隔膜泵浦構成。

上述泵浦係以將藉由上述過濾器除去異物之處理液送出至上述處理液吐出部之時，再次通過上述過濾器內之方式送出為佳。

以具備從上游側依序設置上述暫時貯留裝置、上述過濾器及上述泵浦的處理液供給管，上述泵浦具有貯留處理液之貯留室，該處理液供給管係在上述暫時貯留裝置和上述過濾器之間，具有一閥，在上述過濾器和上述泵浦之間具有其他閥，上述控制裝置係從上述暫時貯留裝置補充藉由上述過濾器除去異物之處理液至上述泵浦之貯留室之時，在開啟上述一閥，關閉上述其他的閥之狀態下，以在上述壓力測量裝置測量到的上述過濾器之2次側之壓力成為特定值之方式，控制來自上述暫時貯留裝置之處理液的壓力，之後，在關閉上述一閥，開啟上述其他閥之狀態下，以在上述壓力測量裝置測量到之上述過濾器之 2次側之壓力成為上述特定值之方式，控制上述貯留室內之壓力後，在開啟上述一閥及上述其他閥之狀態下，開始上述補充為佳。

若藉由本發明之處理液供給裝置時，不管裝置內之各部之位置關係或配管、配置條件等如何，可以藉由過濾器適當地除去處理液內之微粒。

[0020] (第1實施型態) 　　以下，針對本發明之實施形態予以說明。圖1為表示搭載作為與本發明之第1實施型態有關之處理液供給裝置之光阻液供給裝置的基板處理系統1之構成之概略的說明圖。圖2及圖3分別為示意性表示基板處理系統1之內部構成之概略的正面圖和背面圖。另外，在本說明書及圖面中，於具有實質性地相同之功能構成的要素，藉由賦予相同符號，省略重複說明。 　　[0021] 基板處理系統1如圖1所示般，具有一體性連接搬出搬入收容複數片晶圓W之卡匣C的卡匣站10，和具備對晶圓W施予特定處理之複數各種處理裝置之處理站11，和在與處理站11鄰接之曝光裝置12之間進行晶圓W之收授的介面站13之構成。 　　[0022] 在卡匣站10設置有卡匣載置站20。卡匣載置站20設置複數於對基板處理系統1之外部搬入搬出卡匣C之時，載置卡匣C之卡匣載置板21。 　　[0023] 在卡匣站10設置有如第1圖所示般在延伸於X方向之搬運路20上移動自如之晶圓搬運裝置23。晶圓搬運裝置23也在上下方向及垂直軸周圍(θ方向)移動自如，可在各卡匣載置板21上之卡匣C和後述之處理站11之第3區塊G3之收授裝置之間搬運晶圓W。 　　[0024] 在處理站11設置有具備有各種裝置之複數例如四個區塊G1、G2、G3、G4。例如，在處理站11之正面側(圖1之X方向負方向側)設置第1區塊G1，在處理站11之背面側(圖1之X方向正方向側)設置有第2區塊G2。再者，在處理站11之卡匣站10側(圖1之Y方向負方向側)設置有第3區塊G3，在處理站11之介面站13側(圖1之Y方向正方向側)設置有第4區塊G4。 　　[0025] 例如在第1區塊G1，如圖2所示般，從下依序配置複數液處理裝置，例如對晶圓W進行顯像處理之顯像裝置30、在晶圓W之光阻膜之下層形成反射防止膜(以下，稱為「下部反射防止膜」)之下部反射防止膜形成裝置31、對晶圓W塗佈光阻液而形成光阻膜的光阻塗佈裝置32、在晶圓W之光阻膜之上層形成反射防止膜(以下，稱為「上部反射防止膜」)之上部反射防止膜形成裝置33。 　　[0026] 例如，顯像處理裝置30、下部反射防止膜形成裝置31、光阻塗佈裝置32、上部反射防止膜形成裝置33分別在水平方向排列3個而配置。另外，該些顯像處理裝置30、下部反射防止膜形成裝置31、光阻塗佈裝置32、上部反射防止膜形成裝置33之數量或配置可以任意選擇。 　　[0027] 在該些顯像處理裝置30、下部反射防止膜形成裝置31、光阻塗佈裝置32、上部反射防止膜形成裝置33這樣的液處理裝置中，進行例如在晶圓W上塗佈特定處理液之旋轉塗佈。在旋轉塗佈中，從例如塗佈噴嘴對晶圓W上吐出處理液，同時使晶圓W旋轉，而使處理液擴散於晶圓W之表面。 　　[0028] 例如，在第2區塊G2，如圖3所示般，在上下方向和水平方向排列設置進行晶圓W之加熱或冷卻這樣的熱處理之熱處理裝置40，或用以提高光阻液和晶圓W之固定性之附著裝置41、曝光晶圓W之外周部之周邊曝光裝置42。即使針對該些熱處理裝置40、附著裝置41及周邊曝光裝置42之數量或配置，亦可以任意選擇。 　　[0029] 例如在第3區塊G3，從下依序設置複數收授裝置50、51、52、53、54、55、56。再者，在第4區塊G4，從下依序設置有複數收授裝置60、61、62。 　　[0030] 圖1所示般，在被第1區塊G1~第4區塊G4包含之區域，形成有晶圓搬運區域D。在晶圓搬運區域D，配置複數具有在例如Y方向、X方向、θ方向及上下方向移動自如之搬運臂70a之晶圓搬運裝置70。晶圓搬運裝置70係在晶圓搬運區域D內移動，可以將晶圓W搬運至周圍之第1區塊G1、第2區塊G2、第3區塊G3及第4區塊G4內之特定裝置。 　　[0031] 再者，在晶圓搬運區域D設置有在第3區塊G3和第4區塊G4之間直線性地搬運晶圓W之穿梭搬運裝置80。 　　[0032] 穿梭搬運裝置80成為在例如圖3之Y方向直線性地移動自如。穿梭搬運裝置80係在支撐晶圓W之狀態下於Y方向移動，可以在第3區塊G3之收授裝置52和第4區塊G4之收授裝置62之間搬運晶圓W。 　　[0033] 如圖1所示般，在第3區塊G3之X方向正方向側之旁邊設置有晶圓搬運裝置100。晶圓搬運裝置100具有在例如Y方向、θ方向及上下方向移動自如之搬運臂。晶圓搬運裝置100係在支撐晶圓W之狀態下上下移動，可以將晶圓W搬運至第3區塊G3之各收授裝置。 　　[0034] 在介面站13設置有晶圓搬運裝置110和收授裝置111。晶圓搬運裝置110具有在例如Y方向、θ方向及上下方向移動自如之搬運臂110a。晶圓搬運裝置110係可以將晶圓W支撐於例如搬運機械臂110a，而在第4區塊G4內之各收授裝置、收授裝置111及曝光裝置12之間搬運晶圓W。 　　[0035] 接著，針對上述光阻塗佈裝置32之構成予以說明。圖4為表示光阻塗佈裝置32之構成的概略之縱剖面圖，圖5為表示光阻塗佈裝置32之構成之概略的橫剖面圖。 　　[0036] 光阻塗佈裝置32係如圖4所示般，具有能夠封閉內部之處理容器120。在處理容器120之側面，如圖5所示般，形成晶圓W之搬入搬出口121，在搬入搬出口121，設置開關閘門122。 　　[0037] 在處理容器120內之中央部，如圖4所示般設置保持晶圓W而旋轉之旋轉夾具130。旋轉夾具130具有水平之上面，在該上面設置有例如吸引晶圓W之吸引口(無圖示)。藉由來自該吸引口之吸引，可以在旋轉夾具130上吸附保持晶圓W。 　　[0038] 旋轉夾具130具有具備例如馬達等之夾具驅動機構131，藉由其夾具驅動機構131可以旋轉特定速度。再者，在夾具驅動機構131設置汽缸等之升降驅動源，旋轉夾具130能夠上下移動。 　　[0039] 在旋轉夾具130之周圍，設置有接取、回收從晶圓W飛散或落下之液體的杯體132。在杯體132之下面，連接有排出回收之液體的排出管133，和將杯體132內之氛圍予以排氣之排氣管134。 　　[0040] 如圖5所示般，在杯體132之X方向負方向(圖5中之下方向)側，形成有沿著Y方向(圖5中之左右方向)而延伸之軌道140。軌道140係從例如杯體132之Y方向負方向(圖5中之左方向)側之外方形成至Y方向正方向(圖5中之右方向)側之外方。在軌道140安裝有機械臂141。 　　[0041] 在機械臂141如圖4及圖5所示般支撐吐出光阻液之塗佈噴嘴142。機械臂141係藉由圖5所示之噴嘴驅動部143，在軌道140上移動自如。依此，塗佈噴嘴142可以從被設置在杯體132之Y方向正方向側之外方的待機部144，移動至杯體132內之晶圓W之中心部上方，並且可以在該晶圓W之表面上於晶圓W之徑向移動。再者，機械臂141係藉由噴嘴驅動部143升降自如，可以調節塗佈噴嘴142之高度。塗佈噴嘴142如圖4所示般被連接於供給光阻液之光阻液供給裝置200。 　　[0042] 接著，針對對作為光阻塗佈裝置32內之處理液吐出部之塗佈噴嘴142，供給光阻液之光阻液供給裝置200之構成予以說明。圖6為表示光阻液供給裝置200之構成之概略的說明圖。圖7為說明緩衝槽之示意外觀圖。另外，光阻液供給裝置200被設置在例如無圖示之化學室內。化學室係用以對液處理裝置供給各種處理液者。 　　[0043] 圖6之光阻液供給裝置200具備在內部貯留光阻液之光阻液供給源(與本發明有關之「處理液供給源」之一例)201，和暫時性地貯留從該光阻液供給源201被移送之光阻液的緩衝槽(與本發明有關之「暫時貯留裝置」)202。 　　[0044] 光阻液供給源201係能夠更換，在該光阻液供給源201之上部，設置將光阻液移動至緩衝槽202之第1處理液供給管251。在第1處理液供給管251設置供給閥203。 　　[0045] 再者，在第1處理液供給管251中之供給閥203之下游側，設置連接於用以加壓緩衝槽202內且排出該槽202內之光阻液的加壓源204的供氣管252。在供氣管252設置切換閥205。 　　[0046] 緩衝槽202暫時性地貯留從可更換之光阻液供給源201被移送之光阻液，同時具有壓送貯留之處理液的壓送機能。該緩衝槽202係由例如管式隔膜泵浦所構成，如圖7所示般，包含具有可撓性之隔膜202a，藉由該隔膜202a，形成暫時性地貯留光阻液之貯留室202b。該貯留室202b內之容量藉由隔膜202a變形而可調整，因此，即使在光阻液供給源201之更換時，亦可以使貯留室202b內之光阻液和氣體之接觸最小化。 　　[0047] 在緩衝槽202之上部，設置於排出該槽202內之光阻液之時所使用之排液管253，在該排液管253設置排出閥206。 　　[0048] 而且，在緩衝槽202，經由供排氣管254連接用以使隔膜202a變形之電動空氣調節器207。在電動空氣調節器207連接有連接於加壓源208之供氣管255，且連接有連接於減壓源209之排氣管256。藉由調整加壓源208所致之壓力和減壓源209所致之壓力，可以使隔膜202a變形。在供排氣管254，設置有測量管路內之壓力(氣壓)即是用以使隔膜202a變形之壓力的壓力感測器210。 　　[0049] 圖8為緩衝槽202之構造的說明圖，圖8(A)為外觀圖，圖8(B)為僅針對後述之外周壁以剖面表示之剖面圖，圖8(C)為A-A剖面圖。 　　構成緩衝槽202之管式隔膜泵浦例如圖8所示般，具有隔膜202a和外周壁202c。在該緩衝槽202中，藉由圓筒狀之外周壁202c所形成之空間，藉由具有可撓性之隔膜202a被區隔成貯留室202b和作動室202d。藉由利用電動空氣調節器207控制作動室202d內之壓力，可以將光阻液從光阻液供給源201移送至貯留室202b，或以期待之液壓從貯留室202b壓送光阻液。 　　[0050] 再者，在隔膜202a之上端，設置連接第1處理液供給管251及排液管253的入側埠202e，在下端設置連接後述第2處理液供給管257之出側埠202f。再者，在外周壁202c之上部，設置有連接供排氣管254之連接埠202g。 　　[0051] 另外，隔膜202a和外周壁202c藉由例如氟樹脂所形成。藉由使用氟樹脂，由於為透明，故可以藉由光電感測器等檢測內部之光阻液的狀態，再者，互相熔接隔膜202a和外周壁202c而密封外周壁202c，可形成作動室202d。 　　[0052] 返回圖6之說明。 　　在緩衝槽202之下部，設置有將光阻液移送至泵浦211之第2處理液供給管257。換言之，在第2處理液供給管257中之緩衝槽202之下游側，設置泵浦211。 　　[0053] 再者，在第2處理液供給管257之緩衝槽202和泵浦211之間，設置除去光阻液中之微粒的過濾器212。在過濾器212，設置用以排出在光阻液中產生之氣泡的排液管258。在排液管258設置有排出閥213。 　　另外，在第2處理液供給管257之過濾器212之上游側，設置供給閥214，在第2處理液供給管257之過濾器212和泵浦211之間，設置切換閥215。 　　[0054] 泵浦211係例如管式隔膜泵浦，具有貯留光阻液之無圖示之貯留室，同時經由供排氣管259連接用以進行來自泵浦211之光阻液之吐出量之控制等的電動空氣調節器216。在電動空氣調節器216連接有被連接於加壓源217之供氣管260，且連接有被連接於減壓源218之排氣管261。 　　[0055] 在泵浦211，設置有將光阻液從該泵浦211經由塗佈噴嘴142供給至作為被處理體之晶圓上的第3處理液供給管262。在第3處理液供給管262設置有測量第3處理液供給管262內之光阻液之液壓的壓力感測器219。 　　[0056] 再者，在第3處理液供給管262之壓力感測器219之下游側，設置有切換閥220，在該切換閥220之下游側且塗佈噴嘴142之附近，設置有供給控制閥221。 　　[0057] 而且，光阻液供給裝置200具備用以使泵浦211內之光阻液返回至緩衝槽202之回流管263。回流管263之一端被連接於第3處理液供給管262中之壓力感測器219和切換閥220之間，另一端被連接於第2處理液供給管257中之供給閥214和過濾器212之間。再者，在回流管263設置回流控制閥222。 　　[0058] 再者，光阻液供給裝置200具備無圖示之控制部。於被設置於光阻液供給裝置200之各閥，使用藉由上述控制部能夠控制之電磁閥或空氣作動閥，各閥和上述控制部被電性地連接。再者，該控制部與壓力感測器210或壓力感測器219、電動空氣調節器207、216電性地連接。藉由該構成，在光阻液供給裝置200之一連串處理能在控制部之控制下自動進行。另外，本發明之「控制裝置」係藉由例如該控制部和電動空氣調節器207、216而被構成。 　　[0059] 接著，根據圖9~圖12，針對光阻液供給裝置200之動作予以說明。 　　[0060] (朝緩衝槽202的補充) 　　如圖9所示般，根據來自控制部之控制訊號，使被中介設置在第1處理液供給管251的供給閥203成為開啟狀態，同時藉由電動空氣調節器207及減壓源209，減壓緩衝槽202之貯留室202b內，依此將光阻液從光阻液供給源201供給至緩衝槽202之貯留室202b內。此時，貯留室202b內之壓力即是作動室202d內之壓力根據在壓力感測器210之測量結果，被反饋控制。 　　另外，在圖9及以後之圖中，將開啟狀態之閥塗白，將關閉狀態之閥塗黑，以粗線表示流通光阻液等之流體的管線，依此針對其他之閥之開關狀態省略說明。 　　[0061] (朝泵浦211之補充) 　　當在緩衝槽202之貯留室202b內被供給/補充特定量之光阻液時，如圖10所示般，使供給閥203成為關閉狀態，使被中介設置於第2處理液供給管257的供給閥214、切換閥215成為開啟狀態。同時，藉由電動空氣調節器207將緩衝槽202之連接目的地切換成加壓源208，而加壓緩衝槽202之貯留室202b，依此將貯留室202b內之光阻液從緩衝槽202壓送至第2處理液供給管257。被壓送的光阻液通過過濾器212之後，被移送至泵浦211。此時，藉由壓力感測器219測量與第3處理液供給管262內之壓力，即是過濾器212之2次側之壓力成為相等的連通於上述供給管262之泵浦211內之壓力。而且，根據該測量結果，從緩衝槽202之貯留室202b壓送處理液之時的液壓，被反饋控制成藉由壓力感測器219測量的過濾器212之2次側之液壓成為期待之液壓。 　　[0062] (吐出) 　　當在泵浦211內被供給/補充特定量之光阻液體時，如圖11所示般，使供給閥214、切換閥215成為關閉狀態，使被中介設置於第3處理液供給管262的切換閥220、供給控制閥221成為開啟狀態。同時，藉由電動空氣調節器216，將泵浦211之連接目的地切換成加壓源217，從泵浦211壓送光阻液至第3處理液供給管262。依此，被移送至泵浦211之光阻液之一部分(例如，5分之1)經由塗佈噴嘴142被吐出至晶圓。此時，泵浦211內之壓力根據壓力感測器219進行的第3處理液供給管262內之壓力的測量結果，被反饋控制。 　　[0063] (返回) 　　當特定量之光阻液從泵浦211被排出時，如圖12所示般，使切換閥220、供給控制閥221成為關閉狀態，使回流控制閥222、供給閥214成為開啟狀態。同時，以泵浦211之壓力大於緩衝槽202之貯留室202b內之壓力大之方式，根據壓力感測器210及壓力感測器219之測量結果，控制電動空氣調節器216。依此，泵浦211內之殘留的光阻液(例如，5分之4)經由回流管263而返回至緩衝槽202。 　　[0064] 之後，重複上述動作。 　　[0065] 如上述般，光阻液供給裝置200係緩衝槽202不僅具有暫時性地貯留處理液之功能，且具有壓送該處理液之壓送功能。 　　因此，光阻液供給裝置200具有以下之效果。即是，當緩衝槽係習知者時，依據裝置設置條件或裝置內佈局不同，於從緩衝槽對泵浦211補充光阻液之時，無法使過濾器212之液壓成為期待之液壓。但是，光阻液供給裝置200因緩衝槽202具有壓送功能，故即使為同樣之裝置設置條件或裝置內佈局，在光阻液供給裝置200中，對泵浦211補充光阻液之時，可以使過濾器212之液壓成為期待之液壓。 　　[0066] 尤其，根據藉由壓力感測器219被測量出之第3處理液供給管262內之光阻液之液壓，即是過濾器212之2次側之液壓，以該2次側之液壓在特定值成為一定之方式，反饋控制從緩衝槽202壓送之時之液壓(以下，壓送液壓)。因此，從緩衝槽202對泵浦211補充光阻液之時，可以使過濾器212之液壓更確實地成為期待之液壓。 　　[0067] 另外，藉由光阻液通過過濾器212之時，流速上升，光阻液之液壓下降，此時，當下降至飽和蒸氣壓時，藉由空穴之原理，在光阻液中產生氣泡。但是，在光阻液供給裝置200中，控制過濾器212之2次側之液壓，藉由使靜壓位準較飽和蒸氣壓高，可以抑制氣泡之產生。 　　[0068] 而且，緩衝槽202係貯留光阻液之貯留室202b變形者。因此，具有以下之效果。 　　在光阻液供給源201內，無光阻液，且緩衝槽之貯留室內之光阻液減少之情況下，若為通常之緩衝槽時，貯留室內之光阻液之液面下降，貯留室內之內周面和空氣接觸而乾燥，其結果，有在處理後之晶圓產生缺陷之情形。 　　對此，光阻液供給裝置200如上述般，因緩衝槽202之貯留室202b變形，故就算貯留室202b內之光阻液之量減少，亦可以使得不會使貯留室202b之內周面與空氣接觸，使得不會乾燥。 　　[0069] 另外，緩衝槽202內之光阻液可以使用加壓源204，經由第2處理液供給管257及第3處理液供給管262而排出。再者，加壓源204亦可以於進行對回流管263或過濾器212的通液處理之時使用。於對過濾器212的通液處理之時，經由排液管258排出光阻液。 　　[0070] 而且，雖然省略圖示，但是為了光阻液朝緩衝槽202和第1處理液供給管251之通液處理，即使在光阻液供給源201設置加壓源亦可。該通液處理之時，光阻液經由排液管253被排出。 　　[0071] (壓送控制之其他例) 　　在上述例中，以過濾器212之2次側之液壓在特定值成為一定之方式，反饋控制壓送液壓。但是，即使藉由壓力感測器219測量到的過濾器212之2次側之液壓在特定之範圍內，測量結果不見異常之情況下使成為下述般，來取代此亦可。即是，即使藉由對緩衝槽202，更具體而言，對緩衝槽202之貯留室202b，使用電動空氣調節器207施加特定之一定的壓力，從緩衝槽202壓送處理液亦可。 　　[0072] (壓送控制之其他例) 　　圖13為說明從緩衝槽202壓送之時之控制之另外之例的圖示。 　　圖13之光阻液供給裝置200係在第2處理液供給管257之緩衝槽202和供給閥214之間，設置測量第2處理液供給管257內之液壓的壓力感測器223。 　　即使以在該壓力感測器223測量到的過濾器212之1次側之液壓在特定值而成為一定之方式，使用電動空氣調節器207而反饋控制壓送液壓亦可。 　　[0073] (第2實施型態) 　　圖14為表示與本發明之第2實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。圖15為表示與比較之型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的圖示。 　　較與本實施型態及比較型態有關之光阻液供給裝置之緩衝槽更下游之構成，因與圖6之光阻液供給裝置200相同，故省略圖示。 　　[0074] 圖14之光阻液供給裝置300與圖6之光阻液供給裝置200不同，相對於光阻液供給源201設置兩個緩衝槽202。而且，該光阻液供給裝置300分別對緩衝槽202設置電動空氣調節器207，可以對每個緩衝槽202之貯留室202b施加不同的壓力。 　　[0075] 另外，圖15之光阻液供給裝置300’相對於兩個緩衝槽202設置有共同的電動空氣調節器207。因此，可以施加於緩衝槽202之貯留室202b之壓力在兩個貯留室202b相同。 　　因此，光阻液供給裝置300’具有以下問題。在當無法從光阻液供給源201對緩衝槽202補充，從一方之緩衝槽202壓送光阻液之時，以該一方之緩衝槽202之貯留室202b縮小之方式，隔膜202a變形，不返回至原來的形狀。因此，若無對該一方之緩衝槽202之貯留室202b施加更大的壓力時，則無法以期待之壓力壓送光阻液。但是，當提升該一方之緩衝槽202之貯留室202b內之壓力時，就連取得期待之壓力之另一方之緩衝槽202之貯留室202b內之壓力也上升，從該另一方之緩衝槽202之貯留室202b壓送之時的壓力成為較期待之壓力大。 　　[0076] 在如此之光阻液供給裝置300’中，在無法從光阻液供給源201對緩衝槽202補充之時，即是光阻液供給源201之更換時具有問題。 　　[0077] 對此，在圖14之光阻液供給裝置300中，因可以對緩衝槽202之每個貯留室202b，施加不同的壓力，故於光阻液供給源201之更換時，即使變形成緩衝槽202之貯留室202b縮小，亦可以藉由期待之壓力從緩衝槽202壓送光阻液。 　　[0078] 另外，在光阻液供給裝置300中，來自緩衝槽202之壓送液壓，例如以藉由壓力感測器219測量的過濾器212之2次側之液壓在特定值成為一定之方式，被反饋控制。再者，與第1實施型態相同，藉由壓力感測器219測量到之過濾器212之2次側之液壓在特定之範圍內之情況，即使使用電動空氣調節器207對緩衝槽202之貯留室202b，施加特定之一定的壓力，依此從緩衝槽202壓送處理液亦可。並且，即使設置測量第2處理液供給管257內之液壓的壓力感測器，以在該壓力感測器測量的過濾器212之1次側之液壓在特定值成為一定之方式，使用電動空氣調節器207，反饋控制來自緩衝槽202之壓送液壓亦可。 　　[0079] 再者，即使如圖13之光阻液供給裝置300’般，為緩衝槽202具有共同之電動空氣調節器207之構成，在就算緩衝槽202內之隔膜202a變形，反作用力亦小之情況下，亦不會產生上述光阻液供給源201之更換時的問題。 　　[0080] 另外，在光阻液供給裝置300’中，在連接緩衝槽202和電動空氣調節器207之供排氣管254設置有切換閥301。再者，在緩衝槽202設置有連接有減壓源302之排氣管351，在排氣管351設置有排氣閥303。而且，在光阻液供給裝置300’中，於對緩衝槽202之光阻液之補充時，藉由使切換閥301成為關閉狀態，使供給閥203成為開啟狀態，並且使排氣閥303成為開啟狀態，減壓緩衝槽202之貯留室202b內。依此，從光阻液供給源201對緩衝槽202之貯留室202b內供給光阻液。 　　[0081] (第3實施型態) 　　圖16為表示與本發明之第3實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。 　　圖16之光阻液供給裝置400與圖15之光阻液供給裝置300’相同，相對於兩個緩衝槽202設置有共同的電動空氣調節器207。但是，圖16之光阻液供給裝置400與圖15之光阻液供給裝置300’不同，在第1處理液供給管251之光阻液供給源201和緩衝槽202之間，設置有另外的緩衝槽401。該另外的緩衝槽401為不具有壓送功能的通常槽。 　　[0082] 在該光阻液供給裝置400中，因在光阻液供給源201成為空的狀態，從一方之緩衝槽202壓送光阻液，就算隔膜202a變形成該一方之緩衝槽202之貯留室202b縮小，亦從另外的緩衝槽401對上述一方之緩衝槽202補充光阻液，故隔膜202a返回至原來的形狀。因此，即使需要更換光阻供給源201之時，亦可以從緩衝槽202以期待之壓力壓送光阻液。 　　另外，在第1處理液供給管251中之另外的緩衝槽401和緩衝槽202之間設置切換閥402。 　　[0083] (第4實施型態) 　　圖17為表示與本發明之第4實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。 　　[0084] 在圖17之光阻液供給裝置500中，於緩衝槽202之下部，設置將光阻液朝管式隔膜泵浦亦即泵浦211移送的第2處理液供給管551。換言之，在第2處理液供給管551之一端，連接緩衝槽202，在另一端，連接有泵浦211之一方的埠口(參照圖8之符號202e、202f)。 　　在第2處理液供給管551之緩衝槽202和泵浦211之間，設置過濾器212。再者，在第2處理液供給管551，於緩衝槽202和過濾器212之間，設置供給閥214，在該供給閥214和過濾器212之間，設置切換閥215。並且，在第2處理液供給管551之過濾器212和泵浦211之間，設置切換閥501。 　　[0085] 光阻液供給裝置500具備經由塗佈噴嘴142將來自泵浦211之光阻液供給至晶圓上之第3處理液供給管552。第3處理液供給管552之一端被連接於第2處理液供給管551中之過濾器212和切換閥501之間，另一端連接塗佈噴嘴142。在第3處理液供給管552，從上游側依序設置壓力感測器219、液體流量計502、供給控制閥221、塗佈噴嘴142。 　　[0086] 再者，光阻液供給裝置500具備用以使泵浦211內之光阻液返回至緩衝槽202之時等所使用的回流管553。回流管553之一端被連接於第2處理液供給管551中之供給閥214和切換閥215之間，另一端被連接於與泵浦211之第2處理液供給管551之連接側相反側之另一方之埠口(參照圖8之符號202e、202f)。再者，在回流管553設置有切換閥503。 　　而且，在光阻液供給裝置500中，在被設置於泵浦211和電動空氣調節器216之間的供排氣管259設置有氣體流量計504。 　　[0087] 接著，根據圖18~圖27，針對光阻液供給裝置500之動作予以說明。 　　[0088] (朝泵浦211之補充) 　　首先，如圖18所示般，在維持使被中介設置在第2處理液供給管551的切換閥501、被中介設置在回流管553的切換閥505成為關閉狀態下，使供給閥214、切換閥215成為開啟狀態，並且使供給控制閥221成為開啟狀態。在該狀態下，從緩衝槽202送出光阻液。而且，以壓力感測器219測量此時之第3處理液供給管552內之液壓。測量到之液壓與於來自緩衝槽202之光阻液供給/補充時施加於泵浦211之背壓略相等。 　　[0089] 接著，如圖19所示般，使切換閥215成為關閉狀態，停止來自緩衝槽202之光阻液之送出，使切換閥501成為開啟狀態。而且，藉由電動空氣調節器216，控制泵浦211內之作動室之壓力，使在壓力感測器219測量到的壓力即是泵浦211之切換閥501側之壓力，與來自緩衝槽202之光阻液之送出時，在壓力感測器219測量到之壓力成為相等。 　　[0090] 之後，如圖20所示般，使供給控制閥221成為關閉狀態，使切換閥215成為開啟狀態，開始來自緩衝槽202之光阻液之補充。此時，因泵浦211之切換閥501側之壓力被設為與來自緩衝槽202之光阻液之送出時，在壓力感測器219測量到的壓力，即是來自緩衝槽202之光阻液補充時施加於泵浦211之背壓相等，故於補充開始時，不會有藉由背壓之變動，光阻液瞬間性地流入至泵浦211內之情形。 　　[0091] (朝泵浦211之補充之其他例) 　　首先，如圖18所示般，在維持使被中介設置在第2處理液供給管551的切換閥501及被中介設置在回流管553的切換閥503成為關閉狀態下，使供給閥214、切換閥215成為開啟狀態，並且使供給控制閥221成為開啟狀態。在該狀態下，從緩衝槽202送出光阻液。而且，在壓力感測器219測量過濾器212之2次側之壓力，具體而言，係第3處理液供給管552內之液壓。與該壓力測量同時藉由電動空氣調節器207，控制緩衝槽202內之作動室之壓力，反饋控制使得在壓力感測器219測量到之壓力成為目標之壓力(例如50kPa)。 　　[0092] 接著，如圖21所示般，使供給閥214成為關閉狀態，使切換閥501成為開啟狀態。而且，藉由電動空氣調節器216，控制泵浦211內之作動室之壓力，使在壓力感測器219測量的壓力即是泵浦211之切換閥501側之壓力，和上述相同與目標之壓力成為相等。 　　[0093] 之後，如圖20所示般，使供給控制閥221成為關閉狀態，使供給閥214成為開啟狀態，開始來自緩衝槽202之光阻液之補充。在此情況下，在補充開始時，因來自緩衝槽202之壓送液壓和泵浦211之切換閥501側之壓力，在上述目標之壓力成為相等，故於補充開始時，不會有光阻液瞬間性地流入至泵浦211內之情形。 　　[0094] (吐出) 　　於光阻液之吐出之時，如圖22所示般，使被中介設置於第2處理液供給管551的切換閥501及被中介設置於第3處理液供給管552的供給控制閥221成為開啟狀態。同時，藉由電動空氣調節器216，將泵浦211之連接目的地作為加壓源217，從泵浦211之切換閥501側之埠口，將光阻液經由第2處理液供給管551而壓送至第3處理液供給管552。依此，通過過濾器212，貯留在泵浦211內之光阻液，經由塗佈噴嘴142而被吐出至晶圓。 　　[0095] (吐出之其他的例) 　　如圖23所示般，使被中介設置在第2處理液供給管551的切換閥215、被設置在第3處理液供給管552的供給控制閥221，及被中介設置在回流管553的切換閥503成為開啟狀態。同時，藉由電動空氣調節器216，將泵浦211之連接目的地作為加壓源217，從泵浦211之回流管553側之埠口，將光阻液經由回流管553及第2處理液供給管551而壓送至第3處理液供給管552。依此，通過過濾器212，貯留在泵浦211內之光阻液，可以於再次通過過濾器212之後，吐出至晶圓。藉由如此構成，可以更降低在晶圓產生缺陷之可能性。 　　[0096] (吐出之切換) 　　在以下中，將如圖23般使光阻液再次通過過濾器212後吐出至晶圓之方式，稱為雙通方式，將如圖22般使光阻液不再次通過過濾器212而吐出至晶圓之方式稱為單通方式。 　　雙通方式和單通方式能夠因應目的等而選擇為佳。例如，通常使用雙通方式，在進行沖洗之時，或需要以短時間吐出光阻之時等使用單通方式。 　　[0097] 另外，對泵浦211的光阻液之補充速度即是補充時之過濾器212之過濾率，與在雙通方式下之光阻液之吐出速度即是在該方式之吐出時之過濾器212之過濾率，係兩過濾率皆以慢為佳。原因係因為可以藉由過濾器212更確實地補集處理液中之微粒之故。但是，後者之吐出時之過濾率太慢時，由於處理液斷續性地被吐出成液滴狀，故低速化有限度。因此，以上述補充時之過濾率和吐出時之過濾率中，補充時之過濾率之一方小為佳。另外，補充時之過濾率為例如0.05ml/秒，吐出時之過濾率為例如0.5ml/秒。 　　[0098] (放泄) 　　放泄之時，例如，首先如圖24所示般，在維持使被中介設置於第2處理液供給管551的供給閥214及被中介設置於返回管553之間的切換閥503成為關閉狀態下，使切換閥215、供給控制閥221成為開啟狀態，並且使排出閥213成為開啟狀態。而且，以壓力感測器219測量此時之第3處理液供給管552內之液壓。測量到之液壓與放泄時施加於泵浦211之背壓略相等。 　　[0099] 接著，如圖25所示般，使排出閥213、供給控制閥221成為關閉狀態，使切換閥503成為開啟狀態。而且，藉由電動空氣調節器216，控制泵浦211內之作動室之壓力，使在壓力感測器219測量的壓力即是泵浦211之切換閥503側之壓力與在圖24之狀態藉由壓力感測器219測量到之壓力成為相等。 　　[0100] 之後，如圖26所示般，使排出閥213成為開啟狀態，開始經由排液管258之泵浦211內之光阻液之排出。此時，因泵浦211之切換閥503側之壓力被設為與圖24之狀態下藉由壓力感測器219測量到的壓力即是放泄時施加於泵浦211之背壓相等，故於放泄開始時，不會有藉由背壓之變動，使光阻液瞬間性地流出至泵浦211內之情形。 　　[0101] (放泄之其他例) 　　作為放泄之方式，除經由上述過濾器212進行排出的過濾器放泄之方式外，有返回至緩衝槽202之回流放泄方式。 　　在回流放泄方式中，於進行放泄之前，例如，首先，如圖18所示般，使切換閥501及切換閥503成為關閉狀態，使供給閥214、切換閥215及供給控制閥221成為開啟狀態。在該狀態下，從緩衝槽202送出光阻液。而且，在壓力感測器219測量過濾器212之2次側之壓力，具體而言，係第3處理液供給管552內之液壓。與該壓力測量同時藉由電動空氣調節器207，控制緩衝槽202內之作動室之壓力，進行反饋控制使得在壓力感測器219測量到之壓力成為特定之壓力。接著，根據在壓力感測器219測量到之壓力成為特定壓力之時之緩衝槽202之作動室之壓力，補正泵浦211之放泄開始時之壓力。例如，若成為特定壓力之時的上述作動室之壓力大時，補正成泵浦211之放泄開始時之壓力變高，若小時，補正成上述壓力變小。 　　[0102] 接著，如圖25所示般，使供給閥214、供給控制閥221成為關閉狀態，使切換閥503成為開啟狀態。而且，藉由電動空氣調節器216，控制泵浦211內之作動室之壓力，使在壓力感測器219測量的壓力即是泵浦211之切換閥503側之壓力，成為被補正之泵浦211之放泄開始時之壓力。 　　[0103] 之後，如圖27所示般，使供給閥214成為開啟狀態，使切換閥215成為關閉狀態，開始使泵浦211內之光阻液返回至緩衝槽202，即是回流放泄。 　　因緩衝槽202之貯留室內之壓力藉由該貯留室內之光阻液之量而改變，故當將回流放泄開始時之泵浦211之壓力設為一定時，無法適當地進行回流放泄。但是，在本例中，因回流放泄開始時之泵浦211之壓力，根據與緩衝槽202之貯留室內之壓力對應之緩衝槽202之作動室之壓力被補正，故可以適當地進行回流放泄。 　　[0104] (放泄量) 　　放泄量係以對泵浦211之補充量和光阻液之吐出量之差量來決定。 　　在圖之例中，因設置液體流量計502，故根據在液體流量計502之測量結果，可以算出實際之光阻液之吐出量。因此，可以正確地算出放泄量。 　　在無設置液體流量計502之情況下，藉由對泵浦211設置的氣體流量計504，測量對泵浦211送出之氣體的流量，使用該測量結果予以算出。氣體流量計504係質量流量計，藉由將所測量到之質量之積算值轉換成體積，可以算出光阻液之吐出量。因質量和體積之關係，依存於壓力和溫度，故從質量轉換成體積，即使以泵浦211內之溫度為20℃，泵浦211內之壓力為1氣壓之條件來進行亦可，即使根據泵浦211內之溫度為23℃之時測量到之泵浦211之作動室之壓力來進行亦可。 　　藉由正確決定放泄量，可以適當地設定放泄之時間。 　　[0105] (放泄之實行時序) 　　回流放泄係為了不使光阻液滯留而進行者，例如定期性進行。 　　過濾器放泄係於泵浦211內等之光阻液之洗淨度低之時進行者，例如於啟動時進行，或定期性進行，或在過濾器212之1次側檢測出氣泡時進行。 　　上述氣泡之檢測器以被設置在例如在第2處理液供給管551之回流管553之連接部，和供給閥214之間之部分為佳。該部分係在實際的光阻液供給裝置500中，位於過濾器212及泵浦211之垂直方向上方。因此，可以確實地檢測出在過濾器之1次側產生的氣泡，更具體而言，在過濾器212或泵浦211、從設置有氣泡檢測器之部分到過濾器212或泵浦211之系統路徑產生的氣泡。 　　[0106] (異常檢測) 　　在光阻液供給裝置500中，因泵浦211之構成貯留室之隔膜隨著時間延伸，故用以使隔膜變形之壓力即是藉由電動空氣調節器216被控制之泵浦211內之作動室之壓力(EV壓)，必須配合隔膜之延伸而變大。 　　於是，在光阻液供給裝置500中，測量EV壓，與在壓力感測器219測量到之壓力(液壓)進行比較。當隔膜之延伸超過容許範圍或產生其他異常，EV壓和液壓之差成為特定值以上時，以聲音資訊或視覺資訊等通知錯誤。 　　再者，錯誤通知之同時，停止藉由加壓源217進行的泵浦211之作動室的加壓，使EV壓成為大氣壓。此時，以供給閥214或切換閥215、切換閥501成為開啟狀態為佳。 　　針對緩衝槽202即使與泵浦211相同，成為根據緩衝槽內之作動室之壓力，檢測錯誤亦可。 　　[0107] 另外，在上述光阻液供給裝置500中，雖然液體流量計502被設置在第3處理液供給管522中之泵浦211，和供給控制閥221之間，但是即使設置在第2處理液供給管551中之第3處理液供給管552之連接部和過濾器212之間亦可。再者，即使不設置液體流量計502亦可。 　　[0108] 在光阻液供給裝置500中，測量過濾器212之2次側之壓力的壓力感測器219被設置在第3處理液供給管552之最上游部。但是，該壓力感測器219即使被設置在第2處理液供給管551中之第3處理液供給管552之連接部和切換閥501之間亦可。在此情況下，使光阻液從泵浦211經由過濾器212吐出之時，因不通過壓力感測器219，故可以進一步防止微粒混入至光阻液。 　　[0109] 在光阻液供給裝置500中，除測量過濾器212之2次側之壓力的壓力感測器219之外，即使設置測量過濾器212之1次側之壓力的壓力感測器亦可。 　　1次側之壓力感測器被設置在例如第2處理液供給管551中之切換閥215和過濾器212之間之部分。被設置在該部分之1次側之壓力感測器和2次側之壓力感測器219之差壓，藉由過濾器212之堵塞之狀態而變化。因此，藉由在上述部分設置1次側之壓力感測器219，可以根據差壓判別過濾器212之狀態。 　　再者，當在上述部分設置1次側之壓力感測器時，從緩衝槽202至1次側之壓力感測器的壓力損失，比從緩衝槽202至2次側之壓力感測器219的壓力損失小。因此，若將在1次側之壓力感測器之測量結果，反饋於緩衝槽202之作動室時，比起反饋在2次側之壓力感測器219的測量結果之情況，可以使在緩衝槽202之對光阻液加壓的大小更成為期待值。 　　另外，在光阻液供給裝置500中，即使在第2處理液供給管551之緩衝槽202和供給閥214之間的部分，設置1次側壓力感測器，亦可以取得與上述般在切換閥215和過濾器212之間之部分設置之時相同的效果。 　　[0110] 光阻液供給裝置500可以藉由緩衝槽202生成脫氣液。於過濾器212之啟動時或定期維修時，藉由將在緩衝槽202生成的脫氣液通液於過濾器212，可以除去在不脫氣的通常之光阻液無法除去的微小氣泡。另外，於通液於過濾器212之脫氣液，以經由排液管258排出為佳。 　　[0111] 另外，在上述中，雖然以光阻液為例，說明與本發明有關之處理液供給裝置供給之處理液，但是即使供給例如SOG(Spin On Glass)之塗佈液亦可。 (實施例) 　　[0112] 圖28為表示在實施例及比較例之光阻膜中所觀測到的微粒之量的圖示，圖28(A)~(D)依序表示比較例1、實施例1、比較例2、實施例2之微粒的量。再者，在圖中，橫軸表示第幾片之晶圓，縱軸表示微粒之量，將存在於比較例2中之第4片之晶圓的光阻膜的微粒之數量設為1之時的值。藉由電子顯微鏡觀察且確認出微粒之有無/數量。另外，圖示之柱狀圖中之斜線部表示應為氣泡的微粒之數量。 　　[0113] 在實施例1及實施例2中，使用與第4實施型態有關之光阻液供給裝置500，一面在緩衝槽202加壓使得在壓力感測器219的壓力成為50kPa，具體而言，使得在壓力感測器219之壓力成為50kPa，一面控制緩衝槽202之作動室的壓力，並且從該緩衝槽202對泵浦211補充光阻液。再者，在實施例1及實施例2中，以雙通方式，從泵浦211供給光阻液，形成光阻膜。 　　在比較例1及比較例2中，雖然使用與第4實施型態有關之光阻液供給裝置500，從緩衝槽202對泵浦211補充光阻液，以雙通方式從泵浦211供給光阻液，形成光阻膜，但是於補充時，不進行藉由緩衝槽202進行的加壓。 　　再者，在實施例1及比較例1和實施例2及比較例2中，緩衝槽和過濾器之位置關係或兩者間之配管、處理液供給裝置設置處等不同。 　　[0114] 如圖28(A)及圖28(C)所示般，雖然在比較例1中稍微少，但是在比較例1及比較例2中，存在較多的微粒，再者，也存在應為氣泡之微粒。 　　對此，在實施例1及實施例2中，如圖28(B)及圖28(D)所示般，微粒之數量少，尤其應為氣泡之微粒的數量為零。 　　[0115] 從上述實施例及比較例可知，若藉由光阻液供給裝置500時，就算在無緩衝槽202之加壓功能就會存在多數的微粒之環境下，亦可以藉由過濾器212適當地除去微粒。即是，不管環境如何，可以適當地除去微粒。再者，若藉由光阻液供給裝置500，不管環境如何，可以防止產生應為氣泡的微粒。 [產生上之利用可行性] 　　[0116] 本發明在對被處理體塗佈處理液之技術上有效。

[0117]142‧‧‧塗佈噴嘴200、300、400、500‧‧‧光阻液供給裝置201‧‧‧光阻液供給源202‧‧‧緩衝槽202a‧‧‧隔膜202b‧‧‧貯留室207‧‧‧電動空氣調節器210‧‧‧壓力感測器211‧‧‧泵浦212‧‧‧過濾器216‧‧‧電動空氣調節器219‧‧‧壓力感測器223‧‧‧壓力感測器

圖1為表示與本實施型態有關之基板處理系統之構成概略的俯視圖。

圖2為表示與本實施型態有關之基板處理系統之構成概略的正面圖。

圖3為表示與本實施型態有關之基板處理系統之構成概略的背面圖。

圖4為表示光阻塗佈裝置之構成的概略之縱剖面圖。

圖5為表示光阻塗佈裝置之構成的概略之橫剖面圖。

圖6為表示與第1實施型態有關之光阻塗佈裝置之構成之概略的說明圖。

圖7為說明緩衝槽之示意外觀圖。

圖8為緩衝槽之構造的說明圖。

圖9為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的 配管系統，實施朝緩衝槽的補充工程之狀態的說明圖。

圖10為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，實施朝泵浦的補充工程之狀態的說明圖。

圖11為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，塗佈工程之說明圖。

圖12為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，使光阻液返回至緩衝槽之工程的說明圖。

圖13為說明從緩衝槽壓送之時之控制之另外之例的圖示。

圖14為表示與本發明之第2實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。

圖15為表示與比較之型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的圖示。

圖16為表示與本發明之第3實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。

圖17為表示與本發明之第4實施型態有關之光阻液供給裝置之構成之概略的說明圖。

圖18為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，實施朝泵浦的補充工程或放泄工程的說明圖。

圖19為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，朝泵浦的補充工程的說明圖。

圖20為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，朝泵浦的補充工程的說明圖。

圖21為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，朝泵浦的其他補充工程的說明圖。 　　圖22為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，實施塗佈工程之狀態的說明圖。 　　圖23為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，實施另外的塗佈工程之狀態的說明圖。 　　圖24為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，放泄工程之說明圖。 　　圖25為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，放泄工程之說明圖。 　　圖26為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，放泄工程之說明圖。 　　圖27為表示用以說明光阻液供給裝置之構成之概略的配管系統，另外的放泄工程之說明圖。 　　圖28為表示在實施例及比較例之光阻膜中所觀測到的微粒之量的圖示。

142‧‧‧塗佈噴嘴

200‧‧‧光阻液供給裝置

201‧‧‧光阻液供給源

202‧‧‧緩衝槽

203‧‧‧供給閥

204‧‧‧加壓源

205‧‧‧供氣管

206‧‧‧排出閥

208‧‧‧加壓源

209‧‧‧減壓源

202a‧‧‧隔膜

202b‧‧‧貯留室

207‧‧‧電動空氣調節器

210‧‧‧壓力感測器

211‧‧‧泵浦

212‧‧‧過濾器

213‧‧‧排出閥

214‧‧‧供給閥

215‧‧‧切換閥

216‧‧‧電動空氣調節器

217‧‧‧加壓源

218‧‧‧減壓源

219‧‧‧壓力感測器

220‧‧‧切換閥

221‧‧‧供給控制閥

222‧‧‧回流控制閥

251‧‧‧第1處理液供給管

252‧‧‧供氣管

253‧‧‧排液管

254‧‧‧供排氣管

255‧‧‧供氣管

256‧‧‧排氣管

257‧‧‧第2處理液供給管

258‧‧‧排液管

259‧‧‧供排氣管

260‧‧‧供氣管

261‧‧‧排氣管

262‧‧‧第3處理液供給管

263‧‧‧回流管

Claims (5)

1. 一種處理液供給裝置，其係將處理液供給至對被處理體吐出處理液的處理液吐出部，該處理液供給裝置之特徵在於，具備：暫時貯留裝置，其係暫時性地貯留從貯留處理液之處理液供給源被供給之處理液，具有壓送貯留的處理液的壓送功能；過濾器，其係除去來自上述暫時貯留裝置之處理液中之異物；泵浦，其係將藉由該過濾器除去異物之處理液送出至上述處理液吐出部；壓力測量裝置，其係被設置在較上述暫時貯留裝置更下游側，測量在上述過濾器之1次側及2次側之至少一方的處理液之液壓；控制裝置，其係根據在上述壓力測量裝置之測量結果，至少控制來自上述暫時貯留裝置之處理液的壓送；及處理液供給管，其係從上游側依序設置有上述暫時貯留裝置、上述過濾器及上述泵浦，上述泵浦具有貯留處理液之貯留室，上述處理液供給管係在上述暫時貯留裝置和上述過濾器之間，具有一閥，在上述過濾器和上述泵浦之間具有其他閥，上述控制裝置係 藉由上述暫時貯留裝置之壓送，朝上述泵浦之貯留室補充藉由上述過濾器除去異物後之處理液之時，以在開啟上述一閥，關閉上述其他的閥之狀態下，從上述暫時貯留裝置壓送處理液之時，在上述壓力測量裝置測量到的上述過濾器之2次側之壓力，和在關閉上述一閥，開啟上述其他的閥之狀態下，在上述壓力測量裝置測量到的上述過濾器之2次側之壓力成為相等之方式，控制上述貯留室內之壓力，在該狀態下，開啟上述一閥及上述其他閥，開始上述補充。
2. 如請求項1所記載之處理液供給裝置，其中上述壓力測量裝置測量上述過濾器之2次側之液壓，上述控制裝置係以上述過濾器之2次側之液壓成為一定之方式，控制上述壓送時之液壓。
3. 如請求項1所記載之處理液供給裝置，其中上述壓力測量裝置測量上述過濾器之2次側之液壓，上述控制裝置係在上述過濾器之2次側之液壓在特定之範圍內之情況下，對上述暫時貯留裝置施加特定之壓力，壓送處理液。
4. 如請求項1所記載之處理液供給裝置，其中上述壓力測量裝置測量上述過濾器之1次側之液壓， 上述控制裝置係以上述過濾器之1次側之液壓成為一定之方式，控制上述壓送時之液壓。
5. 如請求項1至4中之任一項所記載之處理液供給裝置，其中上述暫時貯留裝置為管式隔膜泵浦。

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