JP6685759B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
例えば、処理液容器107から上流ポンプ115までの間の処理液配管109Aが長い場合、あるいは、処理液が高粘度の場合に、上流ポンプ115を動作させると、上流ポンプ115よりも上流の処理液配管109A内が負圧になる。負圧になった状態で、上流ポンプ115を無理に動作させようとすると、処理液配管109の処理液に溶存した気体(例えば窒素ガス)により気泡が発生する。そのため、上流ポンプ115は、処理液を速く吸引することができず、処理液をゆっくり吸引することになる。これにより、上流ポンプ115は、吸引した処理液をゆっくり送り出すことになり、処理液を送るために時間がかかる。その結果、基板処理のスループットが低下する。
すなわち、本発明に係る、基板を処理する基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、前記処理液を貯留する処理液容器と、前記処理液容器から前記ノズルに前記処理液を送る配管と、前記配管に設けられ、前記処理液をろ過するフィルタと、前記フィルタの上流および下流の少なくともいずれかの位置における前記配管に設けられ、前記処理液を送る吐出ポンプと、前記フィルタおよび前記吐出ポンプと、前記処理液容器との間の前記配管に設けられ、処理液を一時的に貯留するトラップタンクと、前記処理液容器と前記トラップタンクとの間の前記配管に設けられる送り込みポンプであって、前記処理液容器から処理液を吸引し、吸引した処理液を、前記トラップタンクを通じて前記吐出ポンプに送り込む前記送り込みポンプと、前記送り込みポンプ内、前記トラップタンク内および、前記送り込みポンプと前記吐出ポンプとの間の前記配管内のいずれかにおける処理液の圧力を計測する圧力計と、前記圧力計で計測された処理液の圧力が予め設定された、大気圧以上の圧力を保つように、前記送り込みポンプを制御する制御部と、を備えていることを特徴とするものである。
また、圧力計で計測された処理液の圧力に基づき、予め設定された、大気圧以上の圧力を保つように、送り込みポンプが制御される。そのため、吐出ポンプよりも上流の配管の圧力が管理され、その配管内に生じる負圧が解消される。
図1を参照する。基板処理装置1は、ノズル2と保持回転部3とを備えている。ノズル2は、基板Wに対して処理液を吐出するものである。処理液は、例えば、フォトレジスト液、反射防止膜形成用の薬液、現像液、溶剤や純水(DIW)などのリンス液が用いられる。保持回転部3は、基板Wを略水平姿勢で保持して回転させるものである。
次に、基板処理装置1の動作について説明する。まず、基板処理装置1による基板処理の全体の動作について説明する。
始めに、上流ポンプ15は、トラップタンク13側から処理液を吸引する。この際、開閉弁V1は開いており、開閉弁V2〜V7は閉じている。上述のように、制御部31は、圧力計35で計測された圧力値が予め設定された圧力値になるように送り込みポンプ11を制御している。そのため、上流ポンプ15よりも上流の処理液配管9A内は、大気圧以上になっており、従来のように、気泡の発生を抑えるために、ゆっくり処理液を吸引しなくてもよいので、上流ポンプ15は、処理液を速く吸引することができる。これに伴い、次のステップS02において、上流ポンプ15は、フィルタ17および下流ポンプ19に処理液を速く送ることができる。また更に、ステップS03において、下流ポンプ19はノズル2に処理液を速く送ることができる。
その後、上流ポンプ15は、フィルタ17および下流ポンプ19に処理液を送り出す。一方、下流ポンプ19は処理液を吸引する。すなわち、上流ポンプ15による処理液の送り出しと、下流ポンプ19による処理液の吸引のタイミングを一致させている。また、処理液がフィルタ17を通過することにより、処理液に含まれる気泡や不純物が取り除かれる。これらの際、開閉弁V2,V3は開いており、開閉弁V1,V4〜V7は、閉じている。なお、このステップS02において、開閉弁V2,V3と共にあるいは個別に、開閉弁V6を開けると、第2排出配管25を通じて気泡または気泡を含む処理液を排出することができる。
その後、下流ポンプ19は、ノズル2に処理液を送り出す。この際、開閉弁V4は、開いており、開閉弁V1〜V3,V5〜V7は閉じている。なお、このステップS03において、開閉弁V4と個別に、開閉弁V7を開けると、戻り配管27を通じて、下流ポンプ19から上流ポンプ15に処理液が戻される。これにより、上流ポンプ15と下流ポンプ19との間の圧力が調整されたり、フィルタ17に処理液を再度通過させたりできる。
2 … ノズル
7 … 処理液容器
7A … 吸気部
9(9A) … 処理液配管
11B … ポンプ内流路
13,50 … トラップタンク
15 … 上流ポンプ
17 … フィルタ
19 … 下流ポンプ
31 … 制御部
35 … 圧力計
41 … 吐出ポンプ
61,62 … 吐出ユニット
63 … 分岐前配管
65 … 分岐後配管
V1〜V7,V11〜V14 … 開閉弁
Claims (4)
- 基板を処理する基板処理装置において、
処理液を吐出するノズルと、
前記処理液を貯留する処理液容器と、
前記処理液容器から前記ノズルに前記処理液を送る配管と、
前記配管に設けられ、前記処理液を濾過するフィルタと、
前記フィルタの上流および下流の少なくともいずれかの位置における前記配管に設けられ、前記処理液を送る吐出ポンプと、
前記フィルタおよび前記吐出ポンプと、前記処理液容器との間の前記配管に設けられ、処理液を一時的に貯留するトラップタンクと、
前記処理液容器と前記トラップタンクとの間の前記配管に設けられる送り込みポンプであって、前記処理液容器から処理液を吸引し、吸引した処理液を、前記トラップタンクを通じて前記吐出ポンプに送り込む前記送り込みポンプと、
前記送り込みポンプ内、前記トラップタンク内および、前記送り込みポンプと前記吐出ポンプとの間の前記配管内のいずれかにおける処理液の圧力を計測する圧力計と、
前記圧力計で計測された処理液の圧力が予め設定された、大気圧以上の圧力を保つように、前記送り込みポンプを制御する制御部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記処理液容器は、外気を吸うための吸気部を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記吐出ポンプは、前記フィルタの上流の前記配管に設けられた上流ポンプと、前記フィルタの下流の前記配管に設けられた下流ポンプとを有し、
前記送り込みポンプは、前記処理液容器から吸引した処理液を、前記トラップタンクを通じて前記上流ポンプに送り込むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
複数の吐出ユニットを更に備え、
前記配管は、前記処理液容器から分岐点に前記処理液を送る分岐前配管と、前記分岐点から前記ノズルに処理液を送る分岐後配管とを有し、
前記吐出ユニットは、前記ノズル、前記分岐後配管、前記フィルタ、および前記吐出ポンプを各々有し、
前記フィルタは、前記分岐後配管に設けられ、前記処理液をろ過し、
前記吐出ポンプは、前記フィルタの上流および下流の少なくともいずれかの位置における前記分岐後配管に設けられ、前記処理液を送り、
前記トラップタンクは、前記分岐点と前記処理液容器との間の前記分岐前配管に設けられ、処理液を一時的に貯留し、
前記送り込みポンプは、前記処理液容器と前記トラップタンクとの間の前記分岐前配管に設けられる送り込みポンプであって、前記処理液容器から処理液を吸引し、吸引した処理液を、前記トラップタンクを通じて複数の前記吐出ポンプに送り込むことを特徴とする基板処理装置。
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