TWI704963B - 泵裝置、處理液供給裝置、基板處理裝置、排液方法及液置換方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之裝置係於腔室形成有連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係藉由自第1開口向貯存部內導入氣體，第3開口係使用於藉由自其他2個開口中之至少任一個開口向貯存部內導入氣體，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中最低之位置，故可容易地排放收納於貯存部之液體。

Description

泵裝置、處理液供給裝置、基板處理裝置、排液方法及液置換方法
本發明係關於用以對半導體基板、液晶顯示器用玻璃基板、光罩用玻璃基板、光碟用基板等基板供給處理液之泵裝置、處理液供給裝置及基板處理裝置、以及該等裝置之排液方法及液置換方法。
基板處理裝置具備：保持旋轉部，其以水平姿勢保持基板，使所保持之基板旋轉；噴嘴，其用以對以保持旋轉部保持之基板上噴出處理液；及泵裝置，其對噴嘴輸送處理液。
泵裝置具備：腔室，其具有收納處理液之貯存部；及驅動機構，其為了使貯存部之容積變化而使可動構件位移(例如參照日本專利特開2009-049228號公報)。於腔室之下部，設有入口，於腔室之上部，設有出口。即，使處理液自腔室下部之入口流入，並自腔室上部之出口流出。此係為了將混入於處理液中之氣泡(空氣)聚集於腔室上部，於輸送處理液時確實脫除氣泡之故。
又，於日本專利特開2013-100825號公報中，揭示有具備第1階段泵、過濾器、及第2階段泵之多段式泵。第1階段泵係以通過過濾器，對第2階段泵輸送液體之方式構成。又，第2階段泵具備用以排出液體之沖洗閥，通過沖洗閥排出之液體係回至第1階段泵。
[發明所欲解決之問題]
然而，先前裝置有如下問題。有欲自泵裝置之腔室內排放處理液等液體之情形。例如，於泵裝置、處理液供給裝置及基板處理裝置出貨之情形時，洗淨腔室內後，排出腔室內之液體。自該腔室內排放液體之作業不易排放液體，而花費時間。例如，使氣體自上述腔室下部之入口流入，並使液體自腔室上部之出口流出。該情形時，由於液體較氣體更快到達腔室上部之出口，導致於腔室上部形成空間，故無法自腔室內順利地排放液體。另，若液體(例如光阻液)殘留於腔室內則導致成為污染物質。
本發明係鑑於此種情況而完成者，其目的在於提供一種可容易排放腔室內之液體之泵裝置、處理液供給裝置、基板處理裝置、排液方法及液置換方法。 [解決問題之技術手段]
本發明為達成此等目的，而採取如下之構成。即，本發明之輸送液體之泵裝置包含以下構件：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；上述腔室形成有連通於上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、第2開口、第3開口，上述第2開口位於較上述第1開口更高之位置，上述第3開口位於上述3個開口中最低之位置，上述3個開口中之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而向上述貯存部內吸引液體及自上述貯存部送出液體的通常之送液，上述第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中之至少任一個開口導入至上述貯存部內，而排出上述貯存部內之液體。
根據本發明之泵裝置，於腔室形成連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中之至少任一個開口導入於貯存部內，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中最低之位置，故可容易地排放收納於貯存部之液體。
又，上述泵裝置中，較佳為上述第3開口設置於上述貯存部之底部。由於第3開口設置於貯存部之底部，故可更容易排放收納於貯存部之液體。
又，上述泵裝置之一例為上述第1開口及上述第3開口設置於相同高度之位置。藉此，例如可將連接於第1開口及第3開口之各者之配管相反連接。即，亦可自第3開口對貯存部內導入氣體，將貯存部內之處理液自第1開口排出。藉此，可簡化配管之連接。
又，上述泵裝置中，較佳為上述第1開口及上述第2開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而經由上述第1開口將液體吸引至上述貯存部內，且經由上述第2開口送出上述貯存部內之液體的通常之送液，上述第3開口係使用於藉由經由上述第1開口向上述貯存部內導入氣體，而經由上述第3開口排出上述貯存部內之液體。藉此，送出液體之第2開口位於較吸引液體之第1開口更高之位置。因此，通常之送液時，可通過第2開口自貯存部去除氣泡。
又，上述泵裝置中，較佳為上述第1開口及上述第3開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制流體之流通，而經由上述第1開口將液體吸引至上述貯存部內，且經由上述第3開口送出上述貯存部內之液體的通常之送液，進而，上述第3開口係使用於藉由經由上述第1開口向上述貯存部內導入氣體，而經由上述第3開口排出上述貯存部內之液體。藉此，吸引液體之第1開口位於較第2開口55B更低之位置，送出液體之第3開口位於3個開口(第1開口、第2開口、第3開口)中之最低位置。因此，由於通常之送液時，氣泡聚集於第2開口附近，故可防止通過第3開口自貯存部送出氣泡。
又，上述泵裝置中，較佳為上述第2開口使用於將聚集於上述貯存部內上部之氣泡經由上述第2開口排出。通常之送液時，自位於較第2開口55B更低位置之第1開口吸引液體，自位於3個開口中最低位置之第3開口送出液體。該情形時，可將聚集於第2開口附近之氣泡自第2開口排出。
又，上述泵裝置中，較佳為上述可動構件係以與上述貯存部相接之方式設置之隔膜，上述驅動部係使上述隔膜位移之驅動部。可動構件為隔膜之情形時，可更容易排放收納於貯存部之液體。
又，上述泵裝置中，較佳為上述可動構件為以包圍上述貯存部之方式設置之具有彈性之管構件，上述驅動部為藉由使上述管構件之主體部位移，而使上述貯存部之容積變化之驅動部。可動構件為管構件之情形時，可更容易排放收納於貯存部之液體。
又，本發明之供給處理液之處理液供給裝置包含以下構件：上述泵裝置；及過濾器，其設置於連接於上述泵裝置之上述第1開口之流路，將液體即處理液過濾；上述3個開口中包含上述第1開口之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而向上述貯存部內吸引液體及自上述貯存部送出液體的通常之送液。
根據本發明之處理液供給裝置，於腔室形成連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中至少任一個開口導入貯存部內，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中之最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。
又，本發明之處理基板之基板處理裝置包含以下構件：上述泵裝置；過濾器，其設置於連接於上述泵裝置之上述第1開口之流路，將液體即處理液過濾；及噴嘴，其設置於連接於上述泵裝置之上述第2開口或上述第3開口之流路之末端，上述3個開口中包含上述第1開口之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動，控制液體之流動，而向上述貯存部內吸引液體，及自上述貯存部送出液體的通常之送液。
根據本發明之基板處理裝置，於腔室形成連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中至少任一個開口導入於貯存部內，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中最低之位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。
又，本發明之供給處理液之處理液供給裝置包含以下構件：過濾器，其過濾處理液；第1泵裝置，其設置於上述過濾器之上游側，對上述過濾器送入處理液；第2泵裝置，其設置於上述過濾器之下游側，將以上述過濾器過濾後之處理液引入並送出；及控制部，其進行上述第1泵裝置及上述第2泵裝置之驅動控制及處理液之流通控制；上述第1泵裝置及上述第2泵裝置各自具備：腔室，其具備收納包含處理液之液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；上述腔室形成有連通於上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、第2開口、第3開口，上述第2開口位於較上述第1開口更高之位置，上述第3開口位於上述3個開口中最低之位置，且，上述第1泵裝置之第1開口連接有設有第1開閉閥之第1流路，上述第1泵裝置之第2開口藉由設有第2開閉閥之第2流路而連接於上述過濾器之流入口，上述過濾器之流出口藉由設有第3開閉閥之第3流路而連接於上述第2泵裝置之第1開口，上述第2泵裝置之第2開口藉由設有第4開閉閥之第4流路而連接於上述第1泵裝置之第3開口，上述第2泵裝置之第3開口連接有設有第5開閉閥之第5流路，上述控制部於供給處理液之通常送液動作之情形時，藉由與上述第1泵裝置及上述第2泵裝置之上述可動構件之位移連動，對上述第1至上述第5開閉閥進行開閉控制，上述第1泵裝置經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口吸引處理液，進而，經由上述第1泵裝置之第2開口與上述第2流路將處理液送至上述過濾器，且，上述第2泵裝置經由上述第3流路及上述第2泵裝置之第1開口吸引經上述過濾器過濾之處理液，進而，將所吸引之處理液之一部分經由上述第2泵裝置之第2開口及上述第4流路回送至上述第1泵裝置之第3開口，並將所吸引之處理液之其餘部分經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路送出，進而，上述控制部自上述第1泵裝置及上述第2泵裝置排出液體之情形時，操作上述第1開閉閥、上述第2開閉閥、上述第3開閉閥、上述第4開閉閥、及上述第5開閉閥，經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口，將氣體送入上述第1泵裝置之貯存部，藉此將上述第1泵裝置之貯存部內之液體經由上述第1泵裝置之第3開口及上述第4流路向上述第2泵裝置排出，進而，將自上述第1泵裝置經由上述第4流路送來之氣體送入上述第2泵裝置之貯存部，且，將上述第2泵裝置之貯存部內之液體經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路排出。
根據本發明之處理液供給裝置，通常之送液中，將處理液通過第4流路，自第2泵裝置之第2開口送往第1泵裝置之第3開口。本發明之排液動作中，對於通常之送液，使液體反向流動。即，排液時，將處理液通過第4流路，自第1泵裝置之第3開口送往第2泵裝置之第2開口。由於第1泵裝置之第3開口於3個開口中位於最低位置，故可容易排放收納於第1泵裝置之貯存部之液體。同樣地，由於第2泵裝置之第3開口於3個開口中位於最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。再者，可排放第1泵裝置之第3開口與第2泵裝置之第2開口間之第4路徑內之液體。
又，上述處理液供給裝置中，較佳為上述控制部於自上述第1泵裝置及上述第2泵裝置排出液體之前，或排出液體之後，操作上述第1開閉閥、上述第2開閉閥、上述第3開閉閥、上述第4開閉閥、上述第5開閉閥，將氣體經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口送入上述第1泵裝置之貯存部，進而，自上述第1泵裝置之第2開口經由上述第2流路送往上述過濾器，自上述過濾器經由上述第3流路及上述第2泵裝置之第1開口送入上述第2泵裝置之貯存部，且，將上述第2泵裝置之貯存部內之液體經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路排出。
由於第2泵裝置之第3開口於3個開口中位於最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。再者，可排放第1泵裝置之第2開口與第2泵裝置之第1開口間之第2路徑及第3路徑內之液體。因此，可至少排放第1泵裝置之貯存部、第2泵裝置之貯存部、第2流路、第3流路、第4流路之液體。
又，本發明之處理基板之基板處理裝置包含以下構件：處理液供給裝置，其具有上述第1泵裝置及第2泵裝置；及噴嘴，其設置於連接於上述第2泵裝置之第3開口之上述第5流路之末端。
根據本發明之具備設置於第5流路之末端之噴嘴的基板處理裝置，通常之送液中，將處理液通過第4流路，自第2泵裝置之第2開口送往第1泵裝置之第3開口。本發明之排液動作中，對於通常之送液，使液體反向流動。即，排液時，將處理液通過第4流路，自第1泵裝置之第3開口送往第2泵裝置之第2開口。由於第1泵裝置之第3開口於3個開口中位於最低位置，故可容易排放收納於第1泵裝置之貯存部之液體。同樣地，由於第2泵裝置之第3開口於3個開口中位於最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。再者，可排放第1泵裝置之第3開口與第2泵裝置之第2開口間之第4路徑內之液體。
又，本發明之排液方法係處理液供給裝置之排液方法，該處理液供給裝置具備：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；該排液方法包含以下步驟：通常之送液步驟，其藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，使用連通於形成於上述腔室之上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、位於高於上述第1開口之位置之第2開口、及位於上述3個開口中最低之位置之第3開口中之任意2個開口，進行液體向上述貯存部內之吸引及液體自上述貯存部之送出；及液體排出步驟，其藉由自上述第3開口以外之2個開口中至少任一個開口向上述貯存部內導入氣體，而自上述第3開口排出上述貯存部內之液體。
根據本發明排液方法，於腔室形成連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中至少任一個開口導入於貯存部內，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中之最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。
又，本發明之液置換方法係處理液供給裝置之液置換方法，該處理液供給裝置具備：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，藉由上述可動構件位移使上述貯存部之容積變化；及驅動部，其使上述可動構件位移，該液置換方法包含以下步驟：通常之送液步驟，其藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，使用連通於形成於上述腔室之上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、位於高於上述第1開口之位置之第2開口、及位於上述3個開口中最低之位置之第3開口中之任意2個開口，進行液體向上述貯存部內之吸引，及液體自上述貯存部之送出；液體排出步驟，其藉由自上述第3開口以外之2個開口中至少任一個開口對上述貯存部內導入氣體，而自上述第3開口排出上述貯存部內之液體；及第2液體投入步驟，其自上述3個開口中任意1個開口對上述貯存部投入與上述液體不同之第2液體。
根據本發明之排液方法，於腔室形成連通於貯存部之至少3個開口即第1開口、第2開口、第3開口。第2開口位於較第1開口更高之位置。第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中至少任一個開口導入於貯存部內，而排出貯存部內之液體。由於第3開口位於3個開口中之最低位置，故可容易排放收納於貯存部之液體。藉此，可容易自原來的液體置換成第2液體。
又，上述液置換方法中，上述第2液體之一例為洗淨液。藉此，可洗淨貯存部內。 [發明之效果]
根據本發明之泵裝置、處理液供給裝置、基板處理裝置、排液方法及液置換方法，可容易排放腔室內之液體。
[實施例1]
以下，參照圖式說明本發明之實施例1。圖1係實施例1之基板處理裝置之概略構成圖。
＜基板處理裝置1之構成＞ 參照圖1。基板處理裝置1具備噴嘴2與保持旋轉部3。噴嘴2係對基板W噴出處理液者。處理液使用例如光阻液(以下適當稱為「光阻劑液」)、抗反射膜形成用藥液、顯影液、溶劑或純水(DIW)等之沖洗液。保持旋轉部3為將基板W以大致水平姿勢保持並使其旋轉者。
旋轉保持部3具備旋轉卡盤4及旋轉驅動部5。旋轉卡盤4可繞旋轉軸AX旋轉地保持基板W。旋轉卡盤4例如真空吸附基板W之背面。旋轉驅動部5進行使旋轉卡盤4繞旋轉軸AX旋轉之驅動。旋轉驅動部5係以電動馬達等構成。
基板處理裝置1進而具備液體氣體供給部7(亦稱為氣體供給部)、配管9A、9B、及處理液供給裝置11。又，液體氣體供給部7具備處理液容器15、氣體供給源17、氣體配管19及開閉閥V1。另，處理液相當於本發明之液體。
處理液容器(例如瓶)15係收納處理液者。於處理液容器15連接有配管9A。氣體供給源17列舉例如設置於工廠之氣體供給配管，或收納氣體之容器。氣體使用例如氮氣等惰性氣體或空氣。氣體配管19連接氣體供給源17與處理液容器15。於氣體配管19設有開閉閥V1。開閉閥V1進行自氣體供給源17向處理液容器15之氣體供給及氣體之供給停止。若通過氣體配管19對處理液容器15內輸送氣體，則所輸送之氣體通過配管9A，將處理液容器15內之處理液擠出。將擠出之處理液通過配管9A送往處理液供給裝置11。
又，基板處理裝置1具備控制部21及操作部22。控制部21具備1個以上之中央運算處理裝置(CPU)。控制部21控制包含處理液供給裝置11之基板處理裝置1之各構成。因此，控制部21相當於本發明之泵裝置之控制部。操作部22具備顯示部、記憶部及輸入部。顯示部係以液晶監視器等構成。記憶部至少具備ROM(Read-Only Memory：唯讀記憶體)、RAM (Random-Access Memory：隨機存取記憶體)及硬碟之任一者。輸入部具備鍵盤、滑鼠及各種按鈕之至少任一者。於記憶部記憶有基板處理之各種條件等及動作程式。
＜處理液供給裝置11之構成＞ 處理液供給裝置11具備過濾處理液之過濾器23，及泵裝置(第1泵裝置)25。泵裝置25具備泵本體25A，及開閉閥V2、V3、V4。另，圖1中，泵裝置25係設置於過濾器23之下游，但亦可設置於過濾器23之上游。
於處理液供給裝置11內，處理液流動於配管27A～27C。過濾器23設置於配管27A、27B之間。過濾器23過濾處理液，設置於連接於泵裝置25之後述第1開口55A之配管(流路)27B。另一方面，泵裝置25設置於配管27B、27C之間。又，於配管27B設有開閉閥V2，於配管27C設有開閉閥V3。開閉閥V2使處理液流動於配管27B，再者，使處理液之流動停止。開閉閥V3使處理液流動於配管27C，再者，使處理液之流動停止。另，於泵裝置25連接有排出配管29。於排出配管29設有開閉閥V4。開閉閥V4使處理液流動於排出配管29，再者，使處理液之流動停止。
過濾器23對處理液供給裝置11裝卸自如並可更換。於過濾器23之上表面23A，設有入口(流入口)23B、出口(流出口)23C及排氣部23D。於入口23B連接有配管27A，於出口23C連接有配管27B。於排氣部23D，連接排出氣泡之排出配管30。於排出配管30設有開閉閥V5。排氣部23D係用以排出過濾器23內之氣泡等之出口。過濾器23具備實際過濾處理液之過濾器本體23E。在過濾器本體23E中，去除氣泡等雜質。排氣部23D將通過過濾器本體23E之前之氣泡、或包含氣泡之處理液排出。
圖2係泵本體25A之縱剖視圖。圖3係顯示自隔膜43側觀察之腔室本體40之立體圖。泵本體25A具備電動馬達M1(以下稱為「馬達」)及腔室33。馬達M1例如為步進馬達。具體而言，如圖2所示，馬達M1具備：定子35，其於內周側產生磁場；筒狀之轉子36，其可旋轉地配置於定子35之內周側，藉由定子35而旋轉；及軸(螺旋軸)37，其與轉子36之中空部螺合，藉由轉子36之旋轉而對轉子36進退驅動。
於馬達M1安裝腔室33。腔室33具備引導部39，及收納處理液之腔室本體40。引導部39插通有引導銷41。引導銷41之一端連結於軸37。又，引導銷41之另一端與設置於腔室本體40側之隔膜43之厚壁部43A連結。於引導部39設有引導孔45，其使引導銷41不繞軸37旋轉，而引導至圖2所示之箭頭P之左右方向。即，轉子36之螺紋與軸37之螺紋嚙合。若轉子36之旋轉傳遞至軸37，則與軸37連結之引導銷41不繞軸37旋轉，而藉由引導孔45引導至箭頭P之左右方向。
於腔室本體40側之引導部39，形成有凹部47，其收納位於隔膜43之中央之厚壁部43A，及引導銷41之另一端。隔膜43以接於後述之貯存部48之方式設置。隔膜43以其薄壁部43B之外緣被引導部39及腔室本體40之對接面夾持之方式固定。即，隔膜43之薄壁部43B之外緣安裝於引導部39或腔室本體40之內壁。隔膜43構成腔室本體40之內壁之一部分。隔膜43將腔室本體40內與引導銷41側之空間SP1隔離。隔膜43為樹脂製，例如以PTFE(polytetrafluoroethylene：聚四氟乙烯)構成。又，本實施例中，隔膜43為滾動隔膜，但亦可為平坦隔膜等之其他隔膜。
腔室本體40具備貯存部48。貯存部48設置於腔室本體40內，與凹部47對向之面。貯存部48為腔室本體40之內部空間，收納處理液。貯存部48自軸37觀察時為圓形狀(參照圖3)。貯存部48中，在與軸37正交之方向形成之垂直面49係形成於引導部39之相反側。垂直面49自軸37觀察時之直徑形成為小於凹部47之直徑。又，垂直面49自其外緣端起以連結成較凹部47之內周面略微大徑之圓之方式形成傾斜面50。即，腔室本體40之貯存部48係以圓錐梯狀形成。又，垂直面49形成有連通貯存部48與外部之檢查開口部51。於該檢查開口部51安裝有測定貯存部48內之壓力之壓力感測器53。
於腔室本體40，如圖2、圖3所示，設有連通於貯存部48之3個開口，即第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C。如由後述之說明所了解，實施例1中，第1開口55A作為用以將處理液引入貯存部48之流入口發揮作用。第2開口55B作為用以將貯存部48內之處理液送往噴嘴2之流出口發揮作用。第3開口55C作為用以排出貯存部48內之處理液之排出口發揮作用。
第1開口55A及第3開口55C設置於傾斜面50之下部。再者，第1開口55A及第3開口55C如圖3所示，自引導部39側觀察時，於較貯存部48之中心部更下方，隔著貯存部48之縱方向之中心線以左右對稱之位置關係形成。即，第1開口55A及第3開口55C配置於貯存部48內(腔室本體40內)之底部(大致最低位置)。例如，如圖3所示，第1開口55A及第3開口55C亦可設置於相同高度之位置。
又，第2開口55B設置於傾斜面50之上部。再者，第2開口55B如圖3所示，自引導部39側觀察時，於較貯存部48之中心部更上方，形成於貯存部48之縱方向之中心線上之位置。即，第2開口55B設置於貯存部48內之大致最高位置。因此，第2開口55B設置於較第1開口55A及第3開口55C更高之位置。
如圖2所示，第1開口55A、第2開口55B及第3開口55C以於正交於傾斜面50之方向延伸之方式，形成於腔室本體40。第1開口55A連接於配管27B。第2開口55B連接於配管27C。第3開口55C連接於排出配管29。另，圖2中，由於為方便圖示，而使第3開口55C與第1開口55A重疊，故表示為「55A、55C」。又，噴嘴2設置於與開口55B連接之配管(流路)27C、9B之末端(參照圖1)。
上述構成之處理液供給裝置11係驅動馬達M1，使軸37及引導銷41後退至馬達M1側(圖2之右方向)。此時，開閉閥V2～V4進行預先設定之操作。藉此，隔膜43之厚壁部43A成為收納於凹部47並退避之狀態(吸引動作)。藉由該動作，將處理液吸入並收納於貯存部48。另一方面，驅動馬達M1，使軸37前進至腔室本體40側(圖2之左方向)。此時，開閉閥V2～V4進行預先設定之操作。藉此，隔膜43之厚壁部43A成為前進至靠近垂直面49之位置之狀態(送出動作)。藉由該動作，送出貯存於貯存部48之處理液。
另，隔膜43相當於本發明之可動構件。圖2所示之驅動機構57具備馬達M1、軸37、引導部39、引導銷41、引導孔45及凹部47。驅動機構57相當於本發明之驅動部。驅動機構57使隔膜43位移。腔室33藉由隔膜43位移使貯存部48之容積變化。另，例如藉由使隔膜43(厚壁部43A)進入貯存部48，減少貯存部48之容積。藉由使隔膜43(厚壁部43A)後退至凹部47，利用凹部47之隔膜43與貯存部48間之空間，增加貯存部48之容積。
＜基板處理裝置1之動作＞ 接著，針對基板處理裝置1之動作進行說明。圖1中，未圖示之基板搬送機構將基板W搬送至保持旋轉部3上。保持旋轉部3吸附並保持基板W之下表面。其後，未圖示之噴嘴移動機構使噴嘴2自基板W外之待機位置移動至基板W中心之上方之特定位置。使噴嘴2移動後，於使基板W旋轉或停止旋轉之狀態下，處理液供給裝置11將自處理液容器15輸送之處理液送往噴嘴2。藉此，自噴嘴2對基板W上噴出處理液。
另，液體氣體供給部7對處理液供給裝置1輸送處理液。若打開開閉閥V1，則通過氣體配管19，將氣體(例如氮氣)自氣體供給源17送往處理液容器15。通過氣體配管19輸送之氣體自處理液容器15對配管9A擠出處理液。藉此，通過配管9A對處理液供給裝置11輸送處理液。
自噴嘴2噴出處理液，基板處理結束後，噴嘴移動機構將噴嘴2自基板W上方之特定位置回送至待機位置。且，保持旋轉部3於基板W之旋轉停止之狀態下，解除基板W之保持。基板搬送機構自保持旋轉部3搬送基板W。
＜處理液供給裝置11之動作＞ 接著，針對處理液供給裝置11之動作進行說明。於腔室本體40，除了用以使處理液流入之第1開口55A及用以使處理液流出之第2開口55B外，設有用以排出處理液之第3開口55C。藉此，易使處理液自處理液供給裝置11之腔室本體40排放。因此，對於處理液供給裝置11，首先，針對向噴嘴2輸送處理液之通常之送液動作進行說明，其次，針對泵裝置25之排液動作進行說明。另，開閉閥V1～V5通常設為關閉者。又，開閉閥V1僅於欲加壓時打開。
通常之送液動作如下進行。控制部21使用第1開口55A及第2開口55B，與隔膜43之位移連動，控制處理液之流通，藉此進行經由第1開口55A將處理液吸引至貯存部48內，經由第2開口55B送出貯存部48內之處理液的通常之送液。具體地說明。圖1中，液體氣體供給部7通過配管9A、27A，對過濾器23之入口23B輸送處理液。輸送至過濾器23之入口23B之處理液以過濾器本體23E去除氣泡等雜質後，依序送往出口23C、配管27B。即，係將處理液送至開閉閥V2為止之狀態。
泵裝置25將處理液吸引至貯存部48內(腔室本體40內)。即，馬達M1使隔膜43及引導銷41後退至右側。藉此，隔膜43位移或變形，使貯存部48之容積增加。使該軸37及引導銷41後退時，將開閉閥V2打開，將開閉閥V3～V5關閉。藉此，將處理液自設置於腔室本體40之第1開口55A吸引至貯存部48內。
處理液之吸引後，泵裝置25送出貯存部48內之處理液。即，馬達M1使圖1所示之軸37及引導銷41前進至左側。藉此，隔膜43位移或變形，使貯存部48之容積減少。使該軸37及引導銷41前進時，將開閉閥V2、V4、V5關閉，將開閉閥V3打開。藉此，將貯存部48內之處理液通過設置於腔室本體40之第2開口55B，依序送往配管27C、配管9B、噴嘴2。自噴嘴2噴出處理液。
另一方面，泵裝置25之排液動作如下進行。排液動作係將氣體(加壓氣體)送入設置於腔室本體40之第1開口55A，自貯存部48內排放處理液之動作。操作者例如將圖1所示之處理液容器15置換成未貯存處理液之空的容器。另，空的容器亦可為自處理液容器15送出處理液而變為空的狀態之容器。
[步驟S01]自泵裝置25之第2開口55B至噴嘴2之排液 控制部21於步驟S02之前，即，將氣體依序送往第1開口55A、貯存部48內、第3開口55C，於自第3開口55C排放貯存部48內之處理液前，將泵裝置25之第2開口55B至噴嘴2之處理液排放(排出)。即，控制部21打開開閉閥V2、V3之同時，關閉開閉閥V4、V5，進而，藉由液體氣體供給部7，將氣體依序送往第1開口55A、貯存部48內、第2開口55B、配管27C、配管9B，將自第2開口55B遍及噴嘴2貯存之處理液排放。
具體地說明。將開閉閥V2、V3打開，將開閉閥V4、V5關閉。且，液體氣體供給部7將來自氣體供給源17之氣體通過氣體配管19送至空的容器。將送至空的容器之氣體進而一面擠壓處理液，一面依序送往配管9A、配管27A、過濾器23、配管27B。且，如圖4A所示，將送至配管27B之氣體通過第1開口55A，送至貯存部48內。送至貯存部48內之氣體自第2開口55B略微擠出貯存部48內之處理液。另，圖4A中，符號LQ表示處理液(圖1、圖4B、圖5亦相同)。又，圖4A、圖4B為了容易理解，而以與圖2不同之形態表示第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C之位置。實際上，第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C之位置如圖2、圖3等般構成。就此點於圖1、圖5、圖6、圖8～圖10中亦相同。
但，第2開口55B高於第1開口55A，配置於貯存部48內之大致最高位置。因此，送至貯存部48內之氣體如圖4A所示，於自第2開口55B擠出貯存部48內之所有處理液之前，較處理液優先地朝向第2開口55B，故導致處理液殘留於貯存部48內。又，即使對貯存部48內輸送較多氣體，如圖4B所示，亦無法有效地自第2開口55B擠出貯存部48內之處理液。雖處理液殘留於貯存部48內，但藉由將氣體依序送往第1開口55A、貯存部48內、第2開口55B、配管27C、配管9B，而可排放第2開口55B至噴嘴2，即，配管9B、27C內及噴嘴2內之處理液。
步驟S01及後述之步驟S02之動作中，隔膜43之厚壁部43A係如圖2所示，可收納於凹部47，亦可以不妨礙液流地程度，使厚壁部43A位於靠近垂直面49之位置。另，隔膜43及引導銷41靜止。
[步驟S02]自泵裝置25之第3開口55C之排液 控制部21藉由經由第1開口55A對貯存部48內導入加壓氣體，而經由第3開口55C將貯存部48內之處理液排出。即，控制部21係如圖1、圖5所示，打開開閉閥V2、V4，同時關閉開閉閥V3、V5。進而，控制部21藉由液體氣體供給部7，將氣體自第1開口55A送至貯存部48內，自第3開口55C及配管29排放液體。
具體地說明。步驟S01之後，將開閉閥V3、V5關閉，同時將開閉閥V2、V4打開。且，液體氣體供給部7將來自氣體供給源17之氣體通過空的容器等及第1開口55A，送至貯存部48內。輸送之氣體自貯存部48內之上側向第3開口55C擠壓處理液。因此，輸送之氣體通過第3開口55C，將處理液擠出至排出配管29。第3開口55C配置於低於第2開口55B之位置，且貯存部48內部之底部(大致最低位置)。因此，藉由輸送之氣體，可容易排放貯存部48內之處理液。又，可藉由步驟S01、S02，排放貯存部48內、排出配管29內、配管27A～27C、9A、9B內、及噴嘴2內之處理液。另，亦可於步驟S02之後，進行步驟S01。
另，排液動作中，雖配置有過濾器23，但亦可為無過濾器本體23E者而將配管27A與配管27B之間連接。
根據本實施例，於腔室33形成有連通於貯存部48之至少3個開口即第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C。第2開口55B位於較第1開口55A更高之位置。第3開口55C係使用於藉由將加壓氣體自第1開口55A導入於貯存部48內，而排出貯存部48內之處理液。由於第3開口55C設置於貯存部48之底部，故可更容易排放收納於貯存部48之處理液。
即，為了將處理液所含之氣泡自圖4A所示之貯存部48內排放，而將第2開口55B配置於較第1開口55A更高之位置。因此，排放貯存部48內之處理液時，不易於第2開口55B排放。因此，自第3開口55C排放貯存部48內之處理液。第3開口55C位於較第2開口55B更低之位置，設置於貯存部48內之底部。藉此，可容易排放貯存部48內之處理液。
又，第1開口55A及第3開口55C設置於相同高度之位置。藉此，例如於圖3中，可將連接於第1開口55A及第3開口55C之各者之配管相反連接。即，亦可自第3開口55C對貯存部48內導入加壓氣體，將貯存部48內之處理液自第1開口55A排出。藉此，可簡化配管之連接。 [實施例2]
接著，參照圖式說明本發明之實施例2。另，省略與實施例1重複之說明。
實施例1之處理液供給裝置11具備單一之泵裝置25。就此點，實施例2之處理液供給裝置61除了泵裝置25外，進而具備第2泵裝置63。另，本實施例中，泵裝置25稱為第1泵裝置25。
圖6係顯示實施例2之處理液供給裝置61之構成之圖。處理液供給裝置61具備過濾器23、第1泵裝置25及第2泵裝置63。實施例1中，第1泵裝置25設置於過濾器23之下游，但實施例2中，設置於過濾器23之上游。又，第2泵裝置63設置於過濾器23之下游。
第1泵裝置25如實施例1、圖6、圖7B所示，具備泵本體25A及開閉閥V11、V12、V14。泵本體25A具備腔室本體40、驅動機構57、第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C及壓力感測器53。開閉閥V11設置於連接於第1開口55A之配管75A。開閉閥V12設置於連接於第2開口55B之配管75B。開閉閥V14設置於連接於第3開口55C之配管76。貯存部48為收納處理液之內部空間。驅動機構57為了使貯存部48之容積變化，而使隔膜43位移。驅動機構57如圖2所示，具備馬達M1、軸37、引導部39、引導銷41、引導孔45及凹部47。泵裝置25之細節如實施例1。
第2泵裝置63之構成與圖2所示之泵裝置25基本相同。即，第2泵裝置63如圖6所示，具備泵本體63A及開閉閥V13、V14、V16。泵本體63A具備第2腔室本體65、第2驅動機構67、壓力感測器69、第1開口71A、第2開口71B、第3開口71C。開閉閥V13設置於連接於第1開口71A之配管75C。開閉閥V14設置於連接於第2開口71B之配管76。開閉閥V16設置於連接於第3開口71C之配管75D。另，開閉閥V14兼用於第1泵裝置25與第2泵裝置63。第2貯存部74為收納處理液之內部空間。第2驅動機構67為了使第2貯存部74之容積變化，而使第2隔膜73位移。
第2驅動機構67如圖2、圖6所示，具備電動馬達M2(以下稱為「馬達M2」)、第2軸37、第2引導部39、第2引導銷72、第2引導孔45及第2凹部47。另，馬達M2、第2引導銷72及第2隔膜73以外，係以與第1泵裝置25相同之符號表示。第2引導銷72係如圖2所示之箭頭P般，被引導至左右方向。第2隔膜73具有厚壁部73A與薄壁部73B。位於第2隔膜73之中央之厚壁部73A與第2引導銷72連結。第2隔膜73之薄壁部73B之外緣安裝於第2引導部39或第2腔室本體65之內壁，構成第2腔室本體65之內壁之一部分。第2隔膜73將第2貯存部74(第2腔室本體65內)與第2引導銷72側之空間SP2隔離。將藉由馬達M2產生之旋轉藉由轉子(未圖示)、第2軸37及第2引導孔45等轉換成直線移動。
如圖6、圖7A所示，於第2腔室本體65，設有第1開口71A、第2開口71B及第3開口71C。第2開口71B為用以將第2貯存部74內之處理液之一部分回送至第1泵裝置25之開口。第1開口71A、第2開口71B及第3開口71C以於分別正交於第2傾斜面50(參照圖2、圖7A)之方向延伸之方式，形成於第2腔室本體65。即，3個開口71A～71C係以與第2貯存部74連通之方式構成。第1開口71A及第3開口71C配置於腔室本體40內之底部(大致最低位置)。第2開口71B設置於較第1開口71A及第3開口71C更高之位置。
於處理液供給裝置61內，處理液流動於配管75A～75D及回送配管76。配管75A將圖1所示之配管9A及第1泵裝置25之第1開口55A連接。配管75B將第1泵裝置25之第2開口55B及過濾器23之入口23B連接。配管75C將過濾器23之出口23C及第2泵裝置63之第1開口71A連接。配管75D將第2泵裝置63之第3開口71C及圖1所示之噴嘴2連接。即，噴嘴2設置於連接於第2泵裝置63之第3開口71C之配管75D、9B之末端。配管76將第2泵裝置63之第2開口71B及第1泵裝置25之第3開口55C連接。於排出配管30設有開閉閥V15。
另，配管75A相當於本發明之第1流路，開閉閥V11相當於本發明之第1開閉閥。配管75B相當於本發明之第2流路，開閉閥V12相當於本發明之第2開閉閥。配管75C相當於本發明之第3流路，開閉閥V13相當於本發明之第3開閉閥。配管76相當於本發明之第4流路，開閉閥V14相當於本發明之第4開閉閥。配管75D相當於本發明之第5流路，開閉閥V16相當於本發明之第5開閉閥。
＜處理液供給裝置61之動作＞ 接著，針對處理液供給裝置61之動作進行說明。首先，簡單地說明供給處理液之通常之送液動作，其次，說明排液動作。
說明通常之送液動作之概要。控制部21如圖6所示，與第1及第2泵裝置25、63之隔膜43、73之位移連動，開閉控制開閉閥V11～V16。藉此，第1泵裝置25經由配管75A及第1開口55A吸引處理液。再者，第1泵裝置25經由第2開口55B及配管75B，將處理液送至過濾器23。且，第2泵裝置63經由配管75C及第1開口71A，吸引經過濾器23過濾之處理液。進而，第2泵裝置63將所吸引之處理液之一部分經由第2開口71B及配管76，回送至第1泵裝置25之第3開口55C，且將所吸引之處理液之其餘部分經由第3開口71C及配管75D送出。以下說明通常之送液動作之細節。
圖8A～圖8E係用以說明處理液供給裝置61之動作之圖。圖1所示之控制部21進行第1及第2泵裝置25、63之驅動控制及處理液之流通控制。
[步驟T01]準備完成(就緒) 自圖8A所示之準備完成步驟進行說明。藉由吸引步驟、過濾步驟、沖洗步驟及噴出步驟等，如圖8A所示，設為將處理液吸引至第1泵裝置25之第1腔室本體40內(貯存部48)及第2泵裝置63之第2腔室本體65內(第2貯存部74)之狀態。另，圖8A中，開閉閥V11～V16關閉。
[步驟T02]噴出 圖8B係顯示噴出步驟。第2泵裝置63使第2引導銷72向左方向前進。此時，將開閉閥V16打開，將開閉閥V11～V15關閉。藉此，將吸引至第2泵裝置63之第2腔室本體65內之處理液送至噴嘴2，自噴嘴2噴出處理液。
[步驟T03]過濾 圖8C係顯示過濾步驟。圖8B中，將處理液吸引至第1泵裝置25之腔室本體40內。使該處理液通過過濾器23吸引至第2泵裝置63之第2腔室本體65。即，第1泵裝置25使引導銷41向左方向前進，且第2泵裝置63使第2引導銷72向右方向後退。此時，將開閉閥V12、V13打開，將開閉閥V11、V14～V16關閉。
[步驟T04]沖洗 圖8D係顯示沖洗步驟。第2泵裝置63使第2引導銷72向左方向略微前進。此時，將開閉閥V11、V14打開，將開閉閥V12、V13、V15、V16關閉。藉此，可將包含存在於第2腔室本體65之氣泡之處理液通過回送配管76，回送至第1泵裝置25之腔室本體40內。將回送至腔室本體40之氣泡於過濾步驟時，以過濾器23去除。
[步驟T05]吸引 圖8E係顯示吸引步驟。第1泵裝置25使引導銷41向右方向後退。此時，將開閉閥V11打開，將開閉閥V12～V16關閉。藉此，將處理液吸引至第1泵裝置25之腔室本體40內。又，成為圖8A之準備完成步驟，重複執行步驟T01～T05。
連續噴出之情形時，同時進行噴出步驟與吸引步驟。該情形時，例如依序重複噴出步驟及吸引步驟(步驟T02+T05)、過濾步驟(步驟T03)、沖洗(步驟T04)。另，自過濾器23之排氣部23D(參照圖6)排出氣泡之情形時，第1泵裝置25使引導銷41向左方向前進。此時，將開閉閥V12、V15打開，將開閉閥V11、V13、V14、V16關閉。
接著，參照圖9、圖10，針對排液動作進行說明。另，開閉閥V11～V16通常設為關閉者。又，圖1所示之開閉閥V1僅於欲加壓時打開。
排液動作係如下之動作：將來自液體氣體供給部7之氣體送入第1泵裝置25及第2泵裝置63，排放存在於貯存部48、第2貯存部74、配管75B、75C及配管76等之處理液。操作者例如將圖1所示之處理液容器15置換成未貯存處理液之空的容器。又，操作者送出處理液容器15內之處理液，使處理液容器15內成為空的。
[步驟S11]貯存部48及配管76之排液 圖9中，控制部21打開開閉閥V11、V14、V16(打開狀態)，並關閉開閉閥V12、V13、V15(關閉狀態)。該狀態下，控制部21將加壓氣體經由配管75A及第1開口55A送入第1泵裝置25之貯存部48，藉此，將貯存部48內之處理液經由第3開口55C及配管76向第2泵裝置63排出。進而，控制部21將自第1泵裝置25經由配管76送來之加壓氣體送入第2泵裝置63之第2貯存部74，且，將第2泵裝置63之第2貯存部74內之液體經由第3開口71C及配管75D排出。
具體地說明。液體氣體供給部7如圖1所示，將來自氣體供給源17之氣體通過空的容器送至配管9A，將存在於配管9A、75A之處理液向噴嘴2側擠壓。藉由氣體擠壓之處理液依序流經配管9A、配管75A、第1開口55A、貯存部48內、第3開口55C、配管76、第2開口71B、第2貯存部74內、第3開口71C、配管75D、配管9B、噴嘴2，自噴嘴2排出。
如此，藉由將開閉閥V11、V14、V16打開，將開閉閥V12、V13、V15關閉，而可排放第1泵裝置25之貯存部48及配管75A、75D、76等之處理液。另，第2泵裝置63之第2貯存部74內之處理液亦可排放。但，該排液動作中，無法排放第1泵裝置25與第2泵裝置63間之配管75B、75C之處理液。因此，如下操作開閉閥V11～V16。
[步驟S12]配管75B、75C及第2腔室本體65之排液 圖10中，控制部21打開開閉閥V11～V13及V16(打開狀態)，並關閉開閉閥V14、V15(關閉狀態)。該狀態下，控制部21將加壓氣體經由配管75A及第1開口55A送入第1泵裝置25之貯存部48。進而，控制部21自第1泵裝置25之第2開口55B經由配管75向過濾器23輸送氣體，自過濾器23經由配管75C及第2泵裝置63之第1開口71A，對第2泵裝置63之第2貯存部74送入氣體。且，控制部21將第2泵裝置63之貯存部74內之處理液經由第3開口71C及配管75D排出。
具體地說明。藉由步驟S11，排放配管9A、75A及貯存部48內等之處理液。若液體氣體供給部7將氣體送至配管9A，則被送至貯存部48內之氣體會將存在於第1泵裝置25及第2泵裝置63間之配管75B、75C之處理液向噴嘴2側擠壓。藉由氣體擠壓之處理液依序流經配管75B、配管75C、第1開口71A、第2貯存部74、第3開口71C、配管75D、配管9B、噴嘴2，自噴嘴2排出。
如此，藉由將開閉閥V11～V13、V16打開，將開閉閥V14、V15關閉，而可排放第2貯存部74內、配管75A～75D、噴嘴2之處理液。另，步驟S11中，雖排放第2貯存部74之處理液，但步驟S12中，因配管75B、75C內之處理液流入，故於步驟S12中，再次進行第2貯存部74內之排液。
另，亦可於步驟S12之後，進行步驟S11。即，步驟12係於自貯存部74等排出之步驟S11之第1排液動作之前，或該第1排液動作之後進行。又，僅進行步驟S12之情形時，於貯存部48內(第1腔室本體40內)，如圖4B所示，氣體較處理液優先到達第2開口55B，故導致貯存部48內之處理液殘留。又，導致配管76內之處理液殘留。因此，藉由進行步驟S11，而可排放貯存部48內及回送配管76內之處理液。
另，步驟S12中，藉由依開閉閥V11、開閉閥V12、開閉閥V13、開閉閥V16之順序，打開開閉閥V11～V13、V16，而可抑制存在於配管75B之處理液自第2開口55B向貯存部48內逆流。步驟S11之情形時，亦依閉閥V11、開閉閥V14、開閉閥V16之順序，打開開閉閥V11、V14、V16。
根據本實施例，通常之送液中，將處理液通過配管76，自第2泵裝置63之第2開口71B送往第1泵裝置25之第3開口55C。本發明之排液動作中，藉由將開閉閥V11、V14、V16打開，同時將開閉閥V12、V13關閉，而對於通常之送液反向流動處理液。即，排液時，將處理液通過配管76，自第1泵裝置25之第3開口55C送往第2泵裝置63之第2開口71B。由於第1泵裝置25之第3開口55C設置於貯存部48之底部，故可容易排放收納於第1泵裝置25之貯存部48之處理液。同樣地，由於第2泵裝置63之第3開口71C設置於第2貯存部74(第2腔室本體65內)之底部，故可容易排放收納於第2貯存部74(第2腔室本體65內)之處理液。再者，可排放第1泵裝置25之第3開口55C與第2泵裝置63之第2開口71B間之配管76內之液體。
又，將開閉閥V11～V13及V16打開，同時將開閉閥V14、V15關閉。藉此，由於第2泵裝置63之第3開口71C設置於第2貯存部74之底部，故可容易排放收納於第2貯存部74之處理液。進而，可排放第1泵裝置25之第2開口55B與第2泵裝置63之第1開口71A間之配管75B及配管75C之處理液。因此，可至少排放第1泵裝置25之貯存部48、第2泵裝置63之第2貯存部74、配管75B、75C、76之處理液。 [實施例3]
接著，說明本發明之實施例3。另，省略與實施例1、2重複之說明。圖11係說明將光阻液A置換為光阻液B之流程圖。
實施例1、2中，已針對向設置於腔室本體40之第1開口55A送入氣體，自腔室本體40內排放處理液之排液動作進行說明。就此點於實施例3中，作為排液動作之應用例，一面參照圖11，一面針對將光阻液A置換成光阻液B之情形進行說明。另，雖針對具備圖1所示之處理液供給裝置11之基板處理裝置1進行說明，但圖6所示之處理液供給裝置61之情形亦相同。另，開閉閥V2～V5通常設為關閉者。又，開閉閥V1僅於欲加壓時打開。
[步驟U01]光阻液A之排出 進行實施例1之步驟S01、S02之排液動作，自貯存部48等排放光阻液A。實施例2之情形時，實施步驟S11、S12之排液動作。
[步驟U02]置換液之投入(第1次) 對處理液供給裝置11之內部，例如貯存部48，自第1開口55A投入不同於光阻液A之置換液。置換液係使用例如OK73稀釋劑(東京應化工業股份公司製)、PGME(丙二醇單甲醚：propylene glycol monomethyl ether)、或PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯：propylene glycol monomethyl ether acetate)。洗淨液對於光阻液A、B強烈反應。因此，置換液流動於處理液供給裝置11之內部，沖洗光阻液A或後述之沖洗液。
具體地說明。將空的處理液容器15更換成經饋入置換液之置換液容器。接著，將開閉閥V1打開，將來自氣體供給源17之氣體送往置換液容器。接著，處理液供給裝置11藉由重複吸引及送出之動作(通常之送液)，而將配管9A至噴嘴2間之光阻液A置換成置換液。即，將開閉閥V2打開，將開閉閥V3、V4、V5關閉，進而，軸37及引導銷41後退至右側。藉此，將置換液等自第1開口55A吸引至貯存部48內。且，將開閉閥V3打開，將開閉閥V2、V4、V5關閉，進而，軸37及引導銷41前進至左側。藉此，吸引至貯存部48內之置換液等自第2開口55B送出。藉由重複該等吸引及送出動作，以置換液沖洗處理液供給裝置11等之內部。另，亦可將置換液送至排出配管29、30及配管76內。
[步驟U03]洗淨液之投入 為了洗淨貯存部48內，而於置換液自第1開口55A進入貯存部48內之狀態下，投入洗淨液。洗淨液係使用例如NMP(N-甲基-2-吡咯烷酮：N-methyl-2-pyrrolidone)、γ-丁內酯(gamma-Butyrolactone)或丙酮等。
將置換液容器置換成經饋入洗淨液之洗淨液容器。接著，將開閉閥V1打開，將來自氣體供給源17之氣體送至洗淨液容器。接著，處理液供給裝置11藉由重複吸引及送出之動作，而將配管9A至噴嘴2間之置換液置換成洗淨液。藉此，將包含貯存部48內之配管9A至噴嘴2之間以洗淨液洗淨。另，亦可洗淨排出配管29、30及配管76內。
[步驟U04]置換液之投入(第2次) 於洗淨液自第1開口55A饋入貯存部48內之狀態下，投入置換液。將洗淨液容器置換成置換液容器。接著，將開閉閥V1打開，將來自氣體供給源17之氣體送至置換液容器。接著，處理液供給裝置11藉由重複吸引及送出之動作，而將配管9A至噴嘴2間之洗淨液置換成置換液。另，亦可將置換液送至排出配管29、30及配管76內。
[步驟U05]光阻液B之投入 於貯存部48內經饋入置換液之狀態下，自第1開口55A對貯存部48投入光阻液B。將置換液容器更換成經饋入光阻液B之處理液容器15。接著，將開閉閥V1打開，將來自氣體供給源17之氣體送至置換液容器15。接著，處理液供給裝置11藉由重複吸引及送出之動作，而將配管9A至噴嘴2間之置換液置換成光阻液B。
另，步驟U02之投入置換液後，亦可如步驟U01，不排放經投入之置換液。即，經由處理液供給裝置11自配管9A至噴嘴2間流動置換液，沖洗處理液供給裝置11等之內部。其後，將置換液容器更換成空的容器之情形時，或送出置換液而容器變為空之情形時，停止處理液供給裝置11之隔膜43及引導銷41之動作。其後，進行實施例1之步驟S01、S02之排液動作。步驟U03、U04之情形亦同樣，亦可於投入洗淨液或置換液後，進行排液，投入下一液體(例如若為處理液則為置換液)。
如實施例1、2，藉由排液動作變容易，而可容易將處理液供給裝置11等之內部例如自光液A置換成置換液。藉此，可削減置換液或洗淨液之使用量，或亦可省略步驟U02。另，例如處理液供給裝置11、61或基板處理裝置1等出貨之情形時，進行步驟U01～U03後，進行步驟S01、02或步驟S11、12而排液。接著，為使貯存部48等之內部乾燥，亦可自液體氣體供給部7持續供給氣體。該動作時，例如如步驟S01、02，切換開閉閥V2～V5，而充滿氣體。
本發明並非限定於上述實施形態，可如下述般變化實施。
(1)上述實數例1中，亦可重複步驟S01與步驟S02。又，實施例2中，亦可重複步驟S11與步驟S12。該情形時，例如亦可依序以步驟S12、步驟S11、步驟S12，進行排液動作。另，亦可於步驟S12之後，進行步驟S11。
(2)上述實施例1之泵裝置25中，如圖1所示，第1開口55A及第2開口55B係使用於藉由與隔膜43之位移連動，控制處理液之流通，經由第1開口55A將處理液吸引至貯存部48內，且經由第2開口55B送出貯存部48內之處理液的通常之送液。且，第3開口55C係使用於藉由經由第1開口55A對貯存部48內導入加壓氣體，而經由第3開口55C排出貯存部48內之處理液。藉此，送出處理液之第2開口55B位於較吸引處理液之第1開口55A更高之位置。因此，通常之送液時，可通過第2開口55B自貯存部48去除氣泡。
就此點，圖1所示之實施例1之泵裝置25亦可為如圖6所示之實施例2之第2泵裝置63之構成。說明具體例。第1開口55A及第3開口55C係使用於藉由與隔膜43之位移連動，控制處理液之流通，經由第1開口55A將處理液吸引至貯存部48內，且經由第3開口55C送出貯存部48內之處理液的通常之送液。再者，第3開口55C係使用於藉由經由第1開口55A對貯存部48內導入加壓氣體，且經由第3開口55C排出貯存部48內之處理液。另，該變化例之情形時，噴嘴2設置於連接於第3開口55C之配管(流路)27C、9B之末端。
藉此，吸引處理液之第1開口55A位於較第2開口55B更低之位置，送出處理液之第3開口55C位於3個開口(第1開口55A、第2開口55B、第3開口55C)中之最低位置。因此，由於通常之送液時，氣泡聚集於第2開口55B附近，故可防止通過第3開口55C自貯存部48送出氣泡。
又，第2開口55B係使用於將聚集於貯存部48內之上部之氣泡經由第2開口55B排出。藉此，通常之送液時，自位於較第2開口55B更低位置之第1開口吸引液體，自位於3個開口55A～55C中最低位置之第3開口送出液體55C。該情形時，可將聚集於第2開口55B附近之氣泡自第2開口55B排出。其後，亦可以過濾器23捕捉氣泡。被捕捉之氣泡亦可通過排出配管30排出。
又，該變化例只要如下構成即可。3個開口中任意2個開口係使用於藉由與隔膜43之位移連動而控制處理液之流通，而向貯存部48內吸引處理液及自貯存部48送出處理液的通常之送液。再者，第3開口55C係使用於藉由自其他2個開口55A、55B中至少任1個開口對貯存部48內導入加壓氣體，而排出貯存部48內之處理液。
(3)上述各實施例及各變化例中，如圖3、圖7B所示，第3開口55C於貯存部48內(第1腔室本體40內)之大致最低位置，配置於與第1開口55A相同高度之位置。就此點，第3開口55C亦可配置於較第1開口55A更低之位置。例如，第3開口55C亦可如圖12A所示，配置於貯存部48內之最低位置。即，第3開口55C配置於通過貯存部48內之中心縱方向之中心線CL上。設置於第2腔室本體65之第3開口71C亦與設置於第1腔室本體40之第3開口55C相同。
又，如圖3、圖7B所示，第3開口55C配置於貯存部48內之大致最低位置。就此點，第1開口55A及第3開口55C亦可以配置於貯存部48內之最低位置之方式，形成於貯存部48內。例如，圖12B中，接於第3開口55C及第1開口55A之部分亦可為平面FL。
另，該情形時，於貯存部48內，於第1開口55A及第3開口55C之間，未形成會妨礙第1開口55A至第3開口55C之流動般之凸部。
(4)上述各實施例及變化例中，處理液供給裝置11、61如圖1所示，與噴嘴2、配管9A、9B、氣體液體供給部7等個別地構成。相對於此，處理液供給裝置11、61亦可具備噴嘴2、配管9A、9B、液體氣體供給部7之至少任一者。
(5)上述各實施例及各變化例中，作為氣體供給部之液體氣體供給部7使來自氣體供給源17之氣體中介空的容器等，供給至處理液供給裝置11、61。就此點，液體氣體供給部7亦可以使來自氣體供給源17之氣體以不中介空的容器等之方式，供給於處理液供給裝置11、61。例如，亦可將氣體直接供給於配管27A、75A或配管27B。
(6)上述各實施例及各變化例中，排液動作時，使隔膜43、73及引導銷41、72靜止。就此點，於排液動作時，亦可使隔膜43、73及引導銷41、72移動。
(7)上述各實施例及各變化例中，於第1泵裝置15，設有第1開口55A、第2開口55B及第3開口55C，於第2泵裝置63，設有第1開口71A、第2開口71B及第3開口71C。即，於第1泵裝置25及第2泵裝置63，分別設有3個開口。就此點，亦可於第1泵裝置25及第2泵裝置63，進而設置流入及/或流出處理液之1個或2個以上之開口。
(8)上述各實施例及各變化例中，第3開口55C、71C設置於貯存部48之底部。就此點，第3開口55C、71C亦可不設置於貯存部48之底部，例如設置於較貯存部48之底部更高之位置。即，泵裝置25之情形時，第3開口55C只要設置於3個開口55A～55C中之最低位置即可。即，第3開口55C設置於低於第2開口55B之位置，且設置於第1開口55A之位置以下。第2泵裝置63亦與第1泵裝置25相同。
(9)亦可取代上述各實施例及變化例之腔室本體40、65及隔膜43、75之組合，使用如圖13所示之具有彈性之管構件84。針對該變化例進行說明。泵裝置80具備泵本體80A，及開閉閥V2～V4。泵本體80A具備腔室本體82、管構件84、驅動機構86、第1開口55A、第2開口55B、及第3開口55C。另，開閉閥V2～V4、第1開口55A、第2開口55B及第3開口55C係以與實施例1之泵裝置25相同之符號表示。
管構件84係以包圍貯存部88(腔室本體82內)之方式設置。又，管構件84係以接於貯存部88之方式設置。驅動機構86藉由管構件84之主體部位移，而使貯存部88之容積變化。可動構件為管構件84之情形時，可更容易排放收納於貯存部88之處理液。驅動機構86亦可不以馬達M1等驅動，而利用水壓或空氣壓，使管構件84變形者。
(10)上述各實施例及各變化例中，排液動作時，輸送來自圖1所示之液體氣體供給部7之氣體供給源17之氣體。就此點，例如亦可如上述通常之送液般，藉由使處理液供給裝置11、61動作，而對貯存部48、74內等導入氣體。該情形時，處理液容器15置換成未饋入處理液之空的容器。空的容器亦可為送出處理液而成為空的狀態之容器。又，空的容器可設為外氣可自由進入，亦可設為自氣體供給源17供給氣體。又，圖6所示之實施例2之處理液供給裝置61中，亦可使2個隔膜43、73等協動，對貯存部48、74內等導入氣體。又，亦可取代其，使2個隔膜43、73之任一者動作。例如，圖9之步驟S11之排液動作中，不使隔膜43動作，而使隔膜73動作。該情形時，於關閉開閉閥V12、V13、V15，打開開閉閥V11之狀態下，進行利用開閉閥V14、V16及隔膜73等之吸引及送出動作。藉此，進行排液。 本發明可在不脫離其思想或本質下，以其他具體形式實施，因此，作為表示發明之範圍者，並非以上之說明，而應參照所附加之申請專利範圍。
1‧‧‧基板處理裝置2‧‧‧噴嘴3‧‧‧保持旋轉部4‧‧‧旋轉卡盤5‧‧‧旋轉驅動部7‧‧‧液體氣體供給部9A、9B‧‧‧配管11‧‧‧處理液供給裝置15‧‧‧處理液容器17‧‧‧氣體供給源19‧‧‧氣體配管21‧‧‧控制部22‧‧‧操作部23‧‧‧過濾器23A‧‧‧上表面23B‧‧‧入口23C‧‧‧出口23D‧‧‧排氣部23E‧‧‧過濾器本體25‧‧‧泵裝置25A‧‧‧泵本體27A～27C‧‧‧配管29‧‧‧排出配管30‧‧‧排出配管33‧‧‧腔室35‧‧‧定子36‧‧‧轉子37‧‧‧軸39‧‧‧引導部40‧‧‧腔室本體41‧‧‧引導銷43‧‧‧隔膜43A‧‧‧厚壁部43B‧‧‧薄壁部45‧‧‧引導孔47‧‧‧凹部48‧‧‧貯存部49‧‧‧垂直面50‧‧‧傾斜面51‧‧‧檢查開口部53‧‧‧壓力感測器55A‧‧‧第1開口55B‧‧‧第2開口55C‧‧‧第3開口57‧‧‧驅動機構61‧‧‧處理液供給裝置63‧‧‧第2泵裝置63A‧‧‧泵本體65‧‧‧第2腔室本體69‧‧‧壓力感測器71A‧‧‧第1開口71B‧‧‧第2開口72‧‧‧第2引導銷73‧‧‧第2隔膜73A‧‧‧厚壁部73B‧‧‧薄壁部74‧‧‧第2貯存部75A‧‧‧配管75B‧‧‧配管75C‧‧‧配管75D‧‧‧配管76‧‧‧配管80‧‧‧泵裝置80A‧‧‧泵本體82‧‧‧腔室本體84‧‧‧管構件86‧‧‧驅動機構AX‧‧‧旋轉軸CL‧‧‧中心線FL‧‧‧平面LQ‧‧‧處理液M1‧‧‧電動馬達M2‧‧‧電動馬達SP1‧‧‧空間SP2‧‧‧空間U01～U05‧‧‧步驟V1～V5‧‧‧開閉閥V11～V16‧‧‧開閉閥W‧‧‧基板
雖然爲了說明發明而圖示有當前認為較佳之若干個形態，但應理解，發明並非限定於如圖示之構成及手段。
圖1係實施例1之基板處理裝置之概略構成圖。 圖2係泵本體之縱剖視圖。 圖3係顯示自隔膜側觀察之腔室本體之立體圖。 圖4A、圖4B係用以說明泵裝置之動作之圖。 圖5係用以說明泵裝置之動作之圖。 圖6係顯示實施例2之處理液供給裝置之構成之圖。 圖7A係顯示自圖6之隔膜側觀察之第2腔室本體之立體圖，圖7B係顯示自圖6之隔膜側觀察之第1腔室本體之立體圖。 圖8A～圖8E係用以說明處理液供給裝置之動作之圖。 圖9係用以說明第1腔室本體及回送配管之排液動作之圖。 圖10係用以說明輸送流路及第2腔室本體之排液動作之圖。 圖11係說明自光阻液A置換為光阻液B之流程圖。 圖12A、圖12B係顯示泵裝置之變化例之圖。 圖13係顯示泵裝置之變化例之圖。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧噴嘴
3‧‧‧保持旋轉部
4‧‧‧旋轉卡盤
5‧‧‧旋轉驅動部
7‧‧‧液體氣體供給部
9A、9B‧‧‧配管
11‧‧‧處理液供給裝置
15‧‧‧處理液容器
17‧‧‧氣體供給源
19‧‧‧氣體配管
21‧‧‧控制部
22‧‧‧操作部
23‧‧‧過濾器
23A‧‧‧上表面
23B‧‧‧入口
23C‧‧‧出口
23D‧‧‧排氣部
23E‧‧‧過濾器本體
25‧‧‧泵裝置
25A‧‧‧泵本體
27A~27C‧‧‧配管
29‧‧‧排出配管
30‧‧‧排出配管
37‧‧‧軸
39‧‧‧引導部
40‧‧‧腔室本體
41‧‧‧引導銷
43‧‧‧隔膜
43A‧‧‧厚壁部
43B‧‧‧薄壁部
48‧‧‧貯存部
53‧‧‧壓力感測器
55A‧‧‧第1開口
55B‧‧‧第2開口
55C‧‧‧第3開口
AX‧‧‧旋轉軸
LQ‧‧‧處理液
M1‧‧‧電動馬達
SP1‧‧‧空間
V1~V5‧‧‧開閉閥
W‧‧‧基板

Claims (15)

  1. 一種輸送液體之泵裝置，其包含以下構件：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；上述腔室形成有連通於上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、第2開口、第3開口，上述第2開口位於較上述第1開口更高之位置，上述第3開口位於上述3個開口中最低且沿著上述可動構件之周緣部之位置，上述3個開口中之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而向上述貯存部內吸引液體及自上述貯存部送出液體之通常的送液；且上述腔室之上述貯存部係形成為包含垂直面、及連結上述垂直面與較上述垂直面大徑之圓之傾斜面之圓錐梯狀；上述第3開口設置於上述傾斜面之下部傾斜面；上述可動構件與上述垂直面以隔著上述圓之方式配置；上述第3開口係使用於藉由將氣體自其他2個開口中之至少任一個開口導入至上述貯存部內，而排出沿著上述傾斜面以及上述可動構件之周緣部被引導之上述貯存部內之液體。
  2. 如請求項1之泵裝置，其中 上述第3開口設置於上述貯存部之底部。
  3. 如請求項2之泵裝置，其中上述第1開口及上述第3開口設置於相同高度之位置。
  4. 如請求項1至3中任一項之泵裝置，其中上述第1開口及上述第2開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而經由上述第1開口將液體吸引至上述貯存部內，且經由上述第2開口送出上述貯存部內之液體的通常之送液，上述第3開口係使用於藉由經由上述第1開口向上述貯存部內導入氣體，而經由上述第3開口排出上述貯存部內之液體。
  5. 如請求項1至3中任一項之泵裝置，其中上述第1開口及上述第3開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制流體之流通，而經由上述第1開口將液體吸引至上述貯存部內，且經由上述第3開口送出上述貯存部內之液體的通常之送液，上述第3開口係使用於藉由經由上述第1開口向上述貯存部內導入氣體，而經由上述第3開口排出上述貯存部內之液體。
  6. 如請求項5之泵裝置，其中上述第2開口係使用於將聚集於上述貯存部內之上部之氣泡經由上述第2開口排出。
  7. 如請求項1至3中任一項之泵裝置，其中上述可動構件係以與上述貯存部相接之方式設置之隔膜，上述驅動部係使上述隔膜位移之驅動部。
  8. 一種供給處理液之處理液供給裝置，其包含以下構件：如請求項1至3中任一項之泵裝置；及過濾器，其設置於連接於上述泵裝置之上述第1開口之流路，將液體即處理液過濾；上述3個開口中包含上述第1開口之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，而向上述貯存部內吸引液體及自上述貯存部送出液體之通常的送液。
  9. 一種處理基板之基板處理裝置，其包含以下構件：如請求項1至3中任一項之泵裝置；過濾器，其設置於連接於上述泵裝置之上述第1開口之流路，將液體即處理液過濾；及噴嘴，其設置於連接於上述泵裝置之上述第2開口或上述第3開口之流路之末端；上述3個開口中包含上述第1開口之任意2個開口係使用於藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流動，而向上述貯存部內吸引液體及自上述貯存部送出液體之通常的送液。
  10. 一種供給處理液之處理液供給裝置，其包含以下構件： 過濾器，其過濾處理液；第1泵裝置，其設置於上述過濾器之上游側，對上述過濾器送入處理液；第2泵裝置，其設置於上述過濾器之下游側，將以上述過濾器過濾後之處理液引入並送出；及控制部，其進行上述第1泵裝置及上述第2泵裝置之驅動控制及處理液之流通控制；上述第1泵裝置及上述第2泵裝置各自具備：腔室，其具備收納包含處理液之液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；上述第1泵裝置與上述第2泵裝置之上述腔室各自形成有連通於上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、第2開口、第3開口，上述第2開口位於較上述第1開口更高之位置，上述第3開口位於上述3個開口中最低之位置，且，上述第1泵裝置之第1開口連接有設有第1開閉閥之第1流路，上述第1泵裝置之第2開口藉由設有第2開閉閥之第2流路而連接於上述過濾器之流入口，上述過濾器之流出口藉由設有第3開閉閥之第3流路而連接於上述第2泵裝置之第1開口，上述第2泵裝置之第2開口藉由設有第4開閉閥之第4流路而連接於上 述第1泵裝置之第3開口，上述第2泵裝置之第3開口連接有設有第5開閉閥之第5流路，上述控制部於供給處理液之通常送液動作之情形時，藉由與上述第1泵裝置及上述第2泵裝置之上述可動構件之位移連動，對上述第1至上述第5開閉閥進行開閉控制，上述第1泵裝置經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口吸引處理液，進而，經由上述第1泵裝置之第2開口與上述第2流路將處理液送至上述過濾器，且，上述第2泵裝置經由上述第3流路及上述第2泵裝置之第1開口吸引經上述過濾器過濾之處理液，進而，將所吸引之處理液之一部分經由上述第2泵裝置之第2開口及上述第4流路回送至上述第1泵裝置之第3開口，並將所吸引之處理液之其餘部分經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路送出，進而，上述控制部於自上述第1泵裝置及上述第2泵裝置排出液體之情形時，操作上述第1開閉閥、上述第2開閉閥、上述第3開閉閥、上述第4開閉閥、及上述第5開閉閥，經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口將氣體送入上述第1泵裝置之貯存部，藉此將上述第1泵裝置之貯存部內之液體經由上述第1泵裝置之第3開口及上述第4流路向上述第2泵裝置排出，進而，將自上述第1泵裝置經由上述第4流路送來之氣體送入上述第2泵裝置之貯存部，且，將上述第2泵裝置之貯存部內之液體經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路排出。
  11. 如請求項10之處理液供給裝置，其中上述控制部於自上述第1泵裝置及上述第2泵裝置排出液體之前，或排出液體之後，操作上述第1開閉閥、上述第2開閉閥、上述第3開閉閥、上述第4開閉閥、上述第5開閉閥，將氣體經由上述第1流路及上述第1泵裝置之第1開口送入上述第1泵裝置之貯存部，進而，自上述第1泵裝置之第2開口經由上述第2流路送往上述過濾器，自上述過濾器經由上述第3流路及上述第2泵裝置之第1開口送入上述第2泵裝置之貯存部，且，將上述第2泵裝置之貯存部內之液體經由上述第2泵裝置之第3開口及上述第5流路排出。
  12. 一種處理基板之基板處理裝置，其包含以下構件：如請求項10或11之處理液供給裝置；及噴嘴，其設置於連接於上述第2泵裝置之第3開口的上述第5流路之末端。
  13. 一種處理液供給裝置之排液方法，該處理液供給裝置具備：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且上述貯存部之容積因上述可動構件位移而變化；及驅動部，其使上述可動構件位移；該排液方法包含以下步驟：通常之送液步驟，其藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，使用連通於形成於上述腔室之上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、位於高於上述第1開口之位置之第2開口、及位於上述3個開口中最低 且沿著上述可動構件之周緣部之位置之第3開口中之任意2個開口，進行向上述貯存部內之液體吸引及自上述貯存部之液體送出；及液體排出步驟，其藉由自上述第3開口以外之2個開口中至少任一個開口向上述貯存部內導入氣體，而自上述第3開口排出沿著上述傾斜面以及上述可動構件之周緣部被引導之上述貯存部內之液體；上述腔室之上述貯存部係形成為包含垂直面、及連結上述垂直面與較上述垂直面大徑之圓之傾斜面之圓錐梯狀；上述第3開口設置於上述傾斜面之下部；上述可動構件與上述垂直面以隔著上述圓之方式配置。
  14. 一種處理液供給裝置之液置換方法，該處理液供給裝置具備：腔室，其具備收納液體之內部空間即貯存部、及與上述貯存部相接之可動構件，且藉由上述可動構件位移使上述貯存部之容積變化；及驅動部，其使上述可動構件位移，該液置換方法包含以下步驟：通常之送液步驟，其藉由與上述可動構件之位移連動而控制液體之流通，使用連通於形成於上述腔室之上述貯存部之至少3個開口，即第1開口、位於高於上述第1開口之位置之第2開口、及位於上述3個開口中最低且沿著上述可動構件之周緣部之位置之第3開口中之任意2個開口，進行向上述貯存部內之液體吸引及自上述貯存部之液體送出；液體排出步驟，其藉由自上述第3開口以外之2個開口中至少任一個開口對上述貯存部內導入氣體，而自上述第3開口排出沿著上述傾斜面以及上述可動構件之周緣部被引導之上述貯存部內之液體；及第2液體投入步驟，其自上述3個開口中任意1個開口對上述貯存部投 入與上述液體不同之第2液體；上述腔室之上述貯存部係形成為包含垂直面、及連結垂直面與較上述垂直面大徑之圓之傾斜面之圓錐梯狀；上述第3開口設置於上述傾斜面之下部；上述可動構件與上述垂直面以隔著上述圓之方式配置。
  15. 如請求項14之液置換方法，其中上述第2液體為洗淨液。
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