JP6739286B2 - ポンプ装置および基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明に係るポンプ装置は、処理液を濾過するフィルタと、前記フィルタの上流に設けられた上流ポンプと、前記フィルタの下流に設けられた下流ポンプと、を備えたポンプ装置であって、前記上流ポンプおよび前記下流ポンプの各々は、ケーシング内に設けられ、液体を流通させる単一の供給室と、前記ケーシングに設けられて液体を流通させる第1開口部、第2開口部および第3開口部と、前記供給室の内壁に取り付けられて、各々が前記供給室の内壁の一部を構成する2つのローリングダイヤフラムと、前記2つのローリングダイヤフラムを変形させて、前記供給室の容積を交互に増加・減少させる駆動機構と、を備え、前記第2開口部は、前記第3開口部よりも上側で前記供給室に接続されると共に、前記第1開口部は、前記第3開口部よりも下側で前記供給室に接続され、前記ポンプ装置は、前記上流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第1処理液流路と、前記上流ポンプの上側の前記第2開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内の処理液を前記フィルタに送る第2処理液流路と、前記下流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記フィルタから前記下流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第3処理液流路と、前記下流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの前記供給室内の処理液を送り出すための第4処理液流路と、前記下流ポンプの上側の前記第2開口部および前記上流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの上側の前記第2開口部から前記上流ポンプの前記第3開口部に処理液を戻す戻り流路と、を更に備えていることを特徴とするものである。
図1を参照する。基板処理装置1は、ノズル2と保持回転部3とを備えている。ノズル2は、基板Wに対して処理液を吐出するものである。処理液は、例えば、フォトレジスト液、反射防止膜形成用の薬液、現像液、あるいは、溶剤または純水(DIW)などのリンス液が用いられる。保持回転部3は、略水平姿勢で基板Wを保持し、保持した基板Wを回転させるものである。
次に、図2を参照して、ポンプ装置13について説明する。ポンプ装置13は、フィルタ23、上流ポンプ(フィルポンプとも呼ばれる)25および下流ポンプ(ディスペンスポンプとも呼ばれる)27を備えている。上流ポンプ25は、フィルタ23を通して処理液を下流ポンプ27に送るものである。下流ポンプ27は、処理液を吐出するためのものである。
まず、フィルタ23について説明する。フィルタ23は、ポンプ装置13に対して着脱自在で、交換可能である。フィルタ23は、その上面23aに、入口23b、出口23cおよびベント部23dを備えている。入口23bには、処理液流路17bが接続されている。出口23cには、処理液流路17cが接続されている。ベント部23dには、気泡を排出する排出流路61が接続されている。ベント部23dは、フィルタ23内の気泡を排出するための出口である。これにより、処理液の供給経路の途中で、気泡を排出することができる。なお、ベント部23dは、気泡を処理液ごと排出してもよい。また、フィルタ23は、フィルタ本体23eを備えている。フィルタ本体23eは、フィルタ23内において処理液を実際に濾過するものである。
次に、上流ポンプ25について説明する。上流ポンプ25は、図2、図3(a)、図3(b)のように、ケーシング(シリンダ)31、上流ポンプ内流路33、2つのピストン(可動部)35,36、および2つのダイヤフラム37,38を備えている。
次に、下流ポンプ27について説明する。下流ポンプ27は、上流ポンプ25と略同じ構成である。そのため、重複する構成の説明は、一部省略する。下流ポンプ27は、図2のように、ケーシング(シリンダ)71、下流ポンプ内流路73、2つのピストン75,76、および2つのダイヤフラム77,78を備えている。なお、図2において、図示の便宜上、処理液流路17dは、第4ピストン76等に重ねて示す。処理液流路17dは、第2ピストン76等を貫通していない。
次に、基板処理装置1の動作について説明する。図示しない基板搬送機構は、図1に示す保持回転部3上に基板Wを搬送する。保持回転部3は、基板Wの裏面を吸着して保持する。その後、図示しないノズル移動機構は、基板W外の待機位置から基板W上方の予め定められた吐出位置にノズル2を移動させる。
ステップS01において、駆動機構40は、2つのダイヤフラム37,38を互いに離れる方向に同時に変形させることで、供給室33gの容積を増加させる。すなわち、第1ピストン35を移動させることで第1ダイヤフラム37を変形させる。これにより、供給室33gの容積を増加させる。これと同時に、第2ピストン36を移動させることで第2ダイヤフラム38を変形させる。これにより、供給室33gの容積を増加させる。
ステップS02において、駆動機構40は、2つのダイヤフラム37,38を互いに近づく方向に同時に変形させることで、供給室33gの容積を減少させる。
ステップS03において、引き続き、上流ポンプ25から下流ポンプ27に処理液が送られる。すなわち、更に、上流ポンプ25の駆動機構40は、2つのダイヤフラム37,38を互いに近づく方向に同時に変形させる。また、ステップS03において、開閉弁V2,V3が開かれ、開閉弁V1,V4〜V6は閉じられる。なお、ステップS03において、下流ポンプ27のモータM2は、回転を停止する。
ステップS04において、下流ポンプ27の戻り出口73hから処理液が送り出される。この際、戻り出口73h付近に集まった気泡も送り出される。下流ポンプ27のモータM2は、所定量で逆回転する。すなわち、下流ポンプ27の駆動機構80は、2つのダイヤフラム77,78を互いに近づく方向に同時に変形させることで、供給室73gの容積を減少させる。また、ステップS04において、開閉弁V5とV1は開かれ、開閉弁V2〜V4,V6は閉じられる。戻り出口73hから送り出された処理液は順番に、戻り流路62、上流ポンプ25の戻り入口33cを通り、上流ポンプ内流路33に戻される。なお、上流ポンプ25に戻された処理液は、その後の動作により、再びフィルタ23に送られて、気泡が取り除かれる。
ステップS05において、引き続き、下流ポンプ27の戻り出口73hから処理液が送り出される。この際、開閉弁V5とV1は開かれ、開閉弁V2〜V4,V6は閉じられる。一方、下流ポンプ27のモータM2は、回転を停止する。
ステップS06において、下流ポンプ27から供給出口73bを通じて処理液を送り出す。下流ポンプ27のモータM2は、更に、逆回転する。これにより、更に、下流ポンプ27の駆動機構80は、2つのダイヤフラム77,78を互いに近づく方向に同時に変形させる。また、ステップS06において、開閉弁V6は開かれ、開閉弁V1〜V5は閉じられる。下流ポンプ27から送り出された処理液は、処理液配管9bを通じ、図1に示すノズル2から吐出される。
2 … ノズル
13 … ポンプ装置
25 … 上流ポンプ
27 … 下流ポンプ
33g,73g … 供給室
35,36,75,76,85,86 … ピストン
37,38,77,78,87,88 … ダイヤフラム
40,80,90 … 駆動機構
83 … チューブ
Claims (4)
- 処理液を濾過するフィルタと、
前記フィルタの上流に設けられた上流ポンプと、
前記フィルタの下流に設けられた下流ポンプと、を備えたポンプ装置であって、
前記上流ポンプおよび前記下流ポンプの各々は、
ケーシング内に設けられ、液体を流通させる単一の供給室と、
前記ケーシングに設けられて液体を流通させる第1開口部、第2開口部および第3開口部と、
前記供給室の内壁に取り付けられて、各々が前記供給室の内壁の一部を構成する2つのローリングダイヤフラムと、
前記2つのローリングダイヤフラムを変形させて、前記供給室の容積を交互に増加・減少させる駆動機構と、を備え、
前記第2開口部は、前記第3開口部よりも上側で前記供給室に接続されると共に、
前記第1開口部は、前記第3開口部よりも下側で前記供給室に接続され、
前記ポンプ装置は、
前記上流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第1処理液流路と、
前記上流ポンプの上側の前記第2開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内の処理液を前記フィルタに送る第2処理液流路と、
前記下流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記フィルタから前記下流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第3処理液流路と、
前記下流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの前記供給室内の処理液を送り出すための第4処理液流路と、
前記下流ポンプの上側の前記第2開口部および前記上流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの上側の前記第2開口部から前記上流ポンプの前記第3開口部に処理液を戻す戻り流路と、を更に備えていることを特徴とするポンプ装置。 - 請求項1に記載のポンプ装置において、
前記駆動機構は、前記2つのローリングダイヤフラムを互いに離れる方向に同時に変形させることで、前記供給室の容積を増加させること、および、前記2つのローリングダイヤフラムを互いに近づく方向に同時に変形させることで、前記供給室の容積を減少させることを交互に行うことを特徴とするポンプ装置。 - 請求項1または2に記載のポンプ装置において、
前記2つのローリングダイヤフラムは、前記供給室を挟んで対向して配置されていることを特徴とするポンプ装置。 - 基板に対して液体を吐出するノズルと、
前記ノズルに対して液体を送るポンプ装置と、を備え、
前記ポンプ装置は、
処理液を濾過するフィルタと、
前記フィルタの上流に設けられた上流ポンプと、
前記フィルタの下流に設けられた下流ポンプと、を備え、
前記上流ポンプおよび前記下流ポンプの各々は、
ケーシング内に設けられ、液体を流通させる単一の供給室と、
前記ケーシングに設けられて液体を流通させる第1開口部、第2開口部および第3開口部と、
前記供給室の内壁に取り付けられて、各々が前記供給室の内壁の一部を構成する2つのローリングダイヤフラムと、
前記2つのローリングダイヤフラムを変形させて、前記供給室の容積を交互に増加・減少させる駆動機構と、を備え、
前記第2開口部は、前記第3開口部よりも上側で前記供給室に接続されると共に、
前記第1開口部は、前記第3開口部よりも下側で前記供給室に接続され、
前記ポンプ装置は、
前記上流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第1処理液流路と、
前記上流ポンプの上側の前記第2開口部に接続され、前記上流ポンプの前記供給室内の処理液を前記フィルタに送る第2処理液流路と、
前記下流ポンプの下側の前記第1開口部に接続され、前記フィルタから前記下流ポンプの前記供給室内に処理液を送る第3処理液流路と、
前記下流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの前記供給室内の処理液を送り出すための第4処理液流路と、
前記下流ポンプの上側の前記第2開口部および前記上流ポンプの前記第3開口部に接続され、前記下流ポンプの上側の前記第2開口部から前記上流ポンプの前記第3開口部に処理液を戻す戻り流路と、を更に備えていることを特徴とする基板処理装置。
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