JP6020416B2 - 処理液供給装置及び処理液供給方法 - Google Patents

Description

この発明は、例えば半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給装置及び処理液供給方法に関する。

一般に、半導体デバイスの製造のフォトリソグラフィ技術においては、半導体ウエハやＦＰＤ基板等の基板にフォトレジストを塗布し、これにより形成されたレジスト膜を所定の回路パターンに応じて露光し、この露光パターンを現像処理することによりレジスト膜に回路パターンが形成されている。

このようなフォトリソグラフィ工程において、基板等に供給されるレジスト液や現像液等の処理液には、様々な原因によって窒素ガス等の気泡やパーティクル（異物）が混入するおそれがあり、気泡やパーティクルの混在した処理液を基板に供給すると塗布ムラや欠陥が発生するおそれがある。そのため、処理液を基板に塗布する処理液供給装置には、処理液に混入した気泡やパーティクルをろ過により除去するためのフィルタが設けられている。

処理液に混入した気泡やパーティクルのろ過効率を向上させるための装置として、複数のフィルタを設け、これらのフィルタに通過させた処理液をウエハ等に供給する処理液供給装置が知られている。しかしながら、複数のフィルタを設けた場合、処理液供給装置が大型化すると共に大がかりな変更を要する。

特許文献１においては、薬液（処理液）を貯留する第１の容器及び第２の容器と、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第１の配管に設けられ第１の容器に貯留される薬液を第２の容器へと流す第１のポンプと、第１の配管に設けられる第１のフィルタと、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第２の配管と、第２の配管に設けられ第２の容器に貯留される薬液を前記第１の容器へ流す第２のポンプとを備える循環ろ過式の薬液供給システムが開示されている。

また、特許文献２においては、一のフィルタを設けた循環ろ過式の別の処理液供給装置として、フォトレジスト塗布液（処理液）のバッファー容器と、バッファー容器からフォトレジスト溶液の一部をくみ出しフィルタによりろ過した後にバッファー容器に戻す循環ろ過装置と、バッファー容器または循環装置からフォトレジスト塗布装置へフォトレジスト塗布液を送液する配管を具備するフォトレジスト塗布液供給装置が開示されている。特許文献３においては、フィルタの一次側及び二次側に各々ポンプを配置した構成が開示されている。

特許文献１及び特許文献２に開示された処理液供給装置においては、フィルタによりろ過された薬液（処理液）が第１の容器（バッファー容器）に戻され、第１の容器に戻された薬液をウエハに吐出している。このため、薬液のろ過効率の向上を図るためには、第１の容器に戻された薬液を複数回循環させてろ過を複数回行う必要がある。このため待機時間が長くなり、スループット低下の要因となる。

また、パーティクル検査装置やパターン検査装置の分解能が向上しつつあることから、処理液中のパーティクルについて、現在では問題にならないレベルの大きさであっても、今後顕在化してくることが予想される。顕在化した微小なパーティクルを除去する対策を講じることにより、半導体デバイスの歩留まりを向上させることができることから、処理液供給系においても今まで以上にパーティクル抑制の対策が求められ、例えば処理液供給路中のポンプからの発塵についても無視できなくなってくる。

特開２０１１−２３８６６６号公報（特許請求の範囲、図７） 国際公開２００６／０５７３４５号公報（特許請求の範囲、図４） 特開２００１−７７０１５号公報

本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、処理液中の異物を高い捕集率で捕集することができる技術を提供することにある。

本発明の処理液供給装置は、処理液供給源から吐出部を介して処理液を被処理体に供給する処理液供給装置において、
前記処理液供給源と吐出部との間の処理液供給路に設けられ、ポンプと当該ポンプの二次側に接続されたフィルタ装置とが介設された循環路を含み、前記フィルタ装置を通過した処理液と処理液供給源から補充される処理液とを合成するための合成部と、
前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置を通過させ、前記ポンプに戻さずに前記吐出部から吐出させる吐出ステップと、前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻す戻しステップと、前記処理液供給源側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充される処理液と共に前記ポンプに吸い込む補充ステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記戻しステップ及び補充ステップの少なくとも一方において処理液が前記フィルタ装置を通過するように構成され、
前記戻しステップにおける処理液の戻り量は、前記吐出部から吐出される処理液の吐出量以上に設定されていることを特徴とする。

本発明の処理液供給方法は、処理液供給源から吐出部を介して処理液を被処理体に供給する処理液供給方法において、
前記処理液供給源と吐出部との間の処理液供給路に設けられ、ポンプと当該ポンプの二次側に接続されたフィルタ装置とが介設された循環路を含み、前記フィルタ装置を通過した処理液と処理液供給源から補充される処理液とを合成するための合成部を用い、
前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置を通過させ、前記ポンプに戻さずに前記吐出部から吐出させる吐出工程と、
前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻す戻し工程と、
前記処理液供給源側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充される処理液と共に前記ポンプに吸い込む補充工程と、を含み、
前記戻し工程及び補充工程の少なくとも一方において処理液が前記フィルタ装置を通過し、
前記戻し工程における処理液の戻り量は、前記吐出部から吐出される処理液の吐出量以上に設定されていることを特徴とする。

本発明は、処理液供給源からの処理液をノズル等の吐出部から吐出するにあたって、ポンプの二次側にフィルタ装置の一次側を接続し、フィルタ装置を通過した処理液を処理液供給源側に戻すと共に、戻した処理液と処理液供給源から補充される処理液とを合成している。そして処理液を処理液供給源側に戻すとき及び合成した処理液を前記ポンプに吸い込むときの少なくとも一方において、フィルタ装置を通過させている。このため、フィルタ装置の個数を抑えながら例えば１個のフィルタ装置を用いながら、処理液中の異物を高い捕集率で捕集することができる。

この発明に係る処理液供給装置を適用した塗布・現像処理装置に露光処理装置を接続した処理システムの全体を示す概略斜視図である。 上記処理システムの概略平面図である。 この発明に係る処理液供給装置の第１実施形態を示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置におけるポンプ吸入動作を示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置におけるフィルタの気泡の除去動作を示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置におけるポンプを示す概略断面図である。 第１実施形態の処理液供給装置における一連のポンプ吸入動作、吐出ステップ、戻しステップ及び補充ステップを示すフローチャートである。 レジスト液のウエハへの吐出量と戻り量の比率に対する合成ろ過回数を示すグラフである。 第１実施形態の他の例に係る処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第１実施形態の他の例に係る処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第１実施形態の他の例に係る処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第１実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第１実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第１実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態に係る処理液供給装置の構成を示す概略断面図である。 第２の実施形態に係る処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態に係る処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態に係る処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態の他の例に係る処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態の他の例に係る処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態の他の例に係る処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における吐出ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置における補充ステップを示す概略断面図である。 第２の実施形態のさらに他の例に係る処理液供給装置の構成を示す概略断面図である。 第３の実施形態の処理液供給装置における処理液吐出動作を示す概略断面図である。 第３の実施形態の処理液供給装置における処理液供給動作を示す概略断面図である。 第３実施形態の処理液供給装置における戻しステップを示す概略断面図である。 第３実施形態に用いられるポンプの一例を示す概略断面図である。 第３実施形態に用いられるポンプの一例を示す概略断面図である。

以下、この発明の実施形態について、添付図面に基づいて説明する。ここでは、この発明に係る処理液供給装置（レジスト処理液供給装置）を塗布・現像処理装置に適用した場合について説明する。

上記塗布・現像処理装置は、図１及び図２に示すように、被処理基板であるウエハＷを複数枚例えば２５枚密閉収納するキャリア１０を搬出入するためのキャリアステーション１と、このキャリアステーション１から取り出されたウエハＷにレジスト塗布，現像処理等を施す処理部２と、ウエハＷの表面に光を透過する液層を形成した状態でウエハＷの表面を液浸露光する露光部４と、処理部２と露光部４との間に接続されて、ウエハＷの受け渡しを行うインターフェース部３とを具備している。

キャリアステーション１には、キャリア１０を複数個並べて載置可能な載置部１１と、この載置部１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してキャリア１０からウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。
インターフェース部３は、処理部２と露光部４との間に前後に設けられる第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂにて構成されており、それぞれに第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂが設けられている。

また、キャリアステーション１の奥側には筐体２０にて周囲を囲まれる処理部２が接続されており、この処理部２には手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び液処理ユニットＵ４，Ｕ５の各ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う主搬送手段Ａ２，Ａ３が交互に配列して設けられている。また、主搬送手段Ａ２，Ａ３は、キャリアステーション１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁２１により囲まれる空間内に配置されている。また、キャリアステーション１と処理部２との間、処理部２とインターフェース部３との間には、各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニット２２が配置されている。

棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、その組み合わせはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット（図示せず）、ウエハＷを冷却する冷却ユニット（図示せず）等が含まれる。また、ウエハＷに所定の処理液を供給して処理を行う液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図１に示すように、レジストや現像液などの薬液収納部１４の上に反射防止膜を塗布する反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３，ウエハＷにレジスト液を塗布する塗布ユニット（ＣＯＴ）２４、ウエハＷに現像液を供給して現像処理する現像ユニット（ＤＥＶ）２５等を複数段例えば５段に積層して構成されている。塗布ユニット（ＣＯＴ）２４は、この発明に係る処理液供給装置を具備する。

上記のように構成される塗布・現像処理装置におけるウエハの流れの一例について、図１及び図２を参照しながら簡単に説明する。まず、例えば２５枚のウエハＷを収納したキャリア１０が載置部１１に載置されると、開閉部１２と共にキャリア１０の蓋体が外されて受け渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。そして、ウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われた後、塗布ユニット（ＣＯＴ）２４にてレジスト液が塗布される。次いで、主搬送手段Ａ２によりウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェース部３へと搬入される。このインターフェース部３において、第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂの第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂによって露光部４に搬送され、ウエハＷの表面に対向するように露光手段（図示せず）が配置されて露光が行われる。露光後、ウエハＷは逆の経路で主搬送手段Ａ２まで搬送され、現像ユニット（ＤＥＶ）２５にて現像されることでパターンが形成される。しかる後ウエハＷは載置部１１上に載置された元のキャリア１０へと戻される。

次に、この発明に係る処理液供給装置の第１の実施形態について説明する。
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態に係る処理液供給装置は、図３に示すように、処理液であるレジスト液Ｌを貯留する処理液供給源をなす処理液容器６０と、被処理基板であるウエハにレジスト液（処理液）Ｌを吐出（供給）するノズル７と、処理液容器６０とノズル７を接続する処理液供給路である処理液供給管路５１と、を備えている。処理液供給管路５１には、処理液容器６０からの処理液を一時的に貯留するバッファタンク６１、ポンプ７０及びレジスト液Ｌをろ過して異物を除去するためのフィルタ５２が上流側からこの順に設けられている。従ってフィルタ５２はポンプ７０の二次側に接続され、後述のようにポンプ７０から吐出された処理液はフィルタ５２を介してノズル７に送られることになる。
処理液供給管路５１については、処理液容器６０とバッファタンク６１との間、バッファタンク６１とポンプ７０との間、及びポンプ７０の下流側を夫々第１の処理液供給管路５１ａ、第２の処理液供給管路５１ｂ及び第３の処理液供給管路５１ｃと呼ぶことにする。第３の処理液供給管路５１ｃには、開閉弁とサックバックバルブとを含む供給制御弁５７が設けられている。

第３の処理液供給管路５１ｃにおけるフィルタ５２二次側の部位からは戻り流路をなす戻り管路５５が分岐され、この戻り管路５５はポンプ７０の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに接続されている。戻り管路５５の途中にはトラップタンク５３が介在して設けられている。この実施形態では、第２の処理液供給管路５１ｂと戻り管路５５との接続点から第３の処理液供給管路５１ｃと戻り管路５５の接続点に至るまでの第２の処理液供給管路５１ｂの一部、第３の処理液供給管路５１ｃの一部、戻り管路５５を含む流路及びポンプ７０等の機器は、フィルタ５２を通過したレジスト液Ｌとバッファタンク６１から補充されるレジスト液Ｌとを合成するための合成部を構成している。そして合成部に含まれる既述の流路は、循環路に相当する。フィルタ５２及びトラップタンク５３には、レジスト液Ｌ中に発生した気泡を排出するためのドレイン管路５６が設けられている。

処理液容器６０の上部には、不活性ガス例えば窒素（Ｎ_２）ガスの供給源６２と接続する第１の気体供給管路５８ａが設けられている。また、この第１の気体供給管路５８ａには、可変調整可能な圧力調整手段である電空レギュレータＲが介設されている。この電空レギュレータＲは、後述する制御部１０１からの制御信号によって作動する操作部例えば比例ソレノイドと、該ソレノイドの作動によって開閉する弁機構とを具備しており、弁機構の開閉によって圧力を調整するように構成されている。また、バッファタンク６１の上部には、バッファタンク６１の上部に滞留する不活性ガス例えば窒素（Ｎ_２）ガスを大気に開放する第２の気体供給管路５８ｂが設けられている。開閉弁Ｖ１１〜Ｖ１６は、電磁式の開閉弁であり、開閉弁Ｖ１１〜Ｖ１６及び電空レギュレータＲは、後述の制御部１０１からの制御信号によって制御されている。

バッファタンク６１には、貯留されるレジスト液Ｌの所定の液面位置（充填完了位置、要補充位置）を監視し、貯留残量を検出する上限液面センサ６１ａ、下限液面センサ６１ｂが設けられている。処理液容器６０からバッファタンク６１にレジスト液Ｌが供給されている場合において、レジスト液Ｌの液面位置が上限液面センサ６１ａによって検知されると、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が閉じ、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給が停止する。また、レジスト液Ｌの液面位置が下限液面センサ６１ｂによって検知されると、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が開き、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給が開始される。

次に、図９に基づいて、ポンプ７０の詳細な構造について説明する。図９に示されるポンプ７０は可変容量ポンプであるダイヤフラムポンプであり、このダイヤフラムポンプ７０は、可撓性部材であるダイヤフラム７１にてポンプ室７２と作動室７３に仕切られている。
ポンプ室７２には、開閉弁Ｖ１を介して第２の処理液供給管路５１ｂに接続され、第２の処理液供給管路５１ｂ内のレジスト液Ｌを吸入するための一次側連通路７２ａと、開閉弁Ｖ２を介して第３の処理液供給管路５１ｃに接続され、第３の処理液供給管路５１ｃにレジスト液Ｌを吐出する二次側連通路７２ｂと、を備える。また開閉弁Ｖ３を介して、二次側連通路７２ｂと異なる連通路に吐出するように構成されている。

作動室７３には制御部１０１からの信号に基づいて作動室７３内の気体の減圧及び加圧を制御する駆動手段７４が接続されている。駆動手段７４は、エアー加圧源７５ａ（以下に加圧源７５ａという）と、エアー減圧源７５ｂ（以下に減圧源７５ｂという）と、流量センサであるフローメータ７７と、電空レギュレータ７８と、圧力センサ７９とを備えている。

作動室７３は、給排切換弁Ｖ４を介して駆動手段７４側に接続する給排路７３ａが設けられており、この給排路７３ａに給排切換弁Ｖ４を介して加圧源７５ａと減圧源７５ｂに選択的に連通する管路７６が接続されている。この場合、管路７６は、作動室７３に接続する主管路７６ａと、この主管路７６ａから分岐され、減圧源７５ｂに接続する排気管路７６ｂと、加圧源７５ａに接続する加圧管路７６ｃとで形成されている。主管路７６ａには流量センサであるフローメータ７７が介設され、排気管路７６ｂに介設される排気圧を調整する圧力調整機構と、加圧管路７６ｃに介設される加圧すなわちエアー圧を調整する圧力調整機構とが電空レギュレータ７８にて形成されている。この場合、電空レギュレータ７８は、排気管路７６ｂと加圧管路７６ｃとを選択的に接続する共通の連通ブロック７８ａと排気管路７６ｂ又は加圧管路７６ｃの連通を遮断する２つの停止ブロック７８ｂ，７８ｃと、連通ブロック７８ａ、停止ブロック７８ｂ，７８ｃを切換操作する電磁切換部７８ｄを備える電空レギュレータ７８にて形成されている。また、電空レギュレータ７８には圧力センサ７９が設けられており、圧力センサ７９によって管路７６が接続する作動室７３内の圧力が検出される。

上記のように構成されるダイヤフラムポンプ７０の作動室７３側に接続される作動エアーの給排部において、駆動手段７４を構成する上記フローメータ７７と圧力センサ７９及び電空レギュレータ７８は、それぞれ制御部１０１と電気的に接続されている。そして、フローメータ７７によって検出された管路７６内の排気流量と、圧力センサ７９によって検出された管路７６内の圧力が制御部１０１に伝達（入力）され、制御部１０１からの制御信号が電空レギュレータ７８に伝達（出力）されるように形成されている。なお図９中ポンプ７０の左側に一次側連通路７２ａが設けられ、上下に夫々循環側連通路７２ｃ、二次側連通路７２ｂが設けられているが、概略断面図においては、一次側連通路７２ａ、二次側連通路７２ｂの設置位置は模式的に記載している。

制御部１０１はコンピュータ１００に内蔵されており、コンピュータ１００は、制御部１０１の他に、制御プログラムを格納する制御プログラム格納庫１０２と、外部からデータを読み取る読取部１０３と、データを記憶する記憶部１０４を内蔵している。また、制御コンピュータ１００は、制御部１０１に接続された入力部１０５と、モニタ部１０６と、読取部１０３に挿着されると共に制御コンピュータ１００に制御プログラムを実行させるソフトウェアが記憶されたコンピュータ読み取り可能な記憶媒体１０７と、を備えている。制御プログラムは後述する吐出ステップ、戻しステップ、補充ステップが実行されるようにステップ群が組み込まれている。ステップ群は、具体的には、各開閉弁の開閉、ポンプ７０のオンオフを行うための動作を行う。

また、制御プログラムは、ハードディスク、コンパクトディスク、フラッシュメモリ、フレキシブルディスク、メモリカード等の記憶媒体１０７に格納され、これら記憶媒体１０７から制御コンピュータ１００にインストールされて使用される。

次に、図４〜図８及び図１０に基づいて、この実施形態における処理液供給装置の動作について説明する。まず、制御部１０１からの制御信号に基づいて、第１の気体供給管路５８ａに介設された開閉弁Ｖ１１と第１の処理液供給管路５１ａに介設された開閉弁Ｖ１２が開放し、Ｎ_２ガス供給源６２から処理液容器６０内に供給されるＮ_２ガスの加圧によってレジスト液Ｌをバッファタンク６１内に供給する。

バッファタンク６１内に所定量のレジスト液Ｌが供給（補充）されると、上限液面センサ６１ａからの検知信号を受けた制御部１０１からの制御信号に基づいて、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２が閉じる。このとき、開閉弁Ｖ１は開き、開閉弁Ｖ２，Ｖ１３は閉じている。また、図４に示すように給排切換弁Ｖ４が排気側に切り換わり、この状態で圧力センサ７９によってダイヤフラムポンプ７０の作動室７３内の圧力が検出され、検出された圧力の検出信号が制御部１０１に伝達（入力）される。また、給排切換弁Ｖ４が排気側に切り換わった後に、開閉弁Ｖ１３が開く。

次に、電空レギュレータ７８が減圧源７５ｂ側に連通して、作動室７３内のエアーを排気する。このとき、フローメータ７７によって排気流量が検出され、検出された排気流量の検出信号が制御部１０１に伝達（入力）される。作動室７３内のエアーの排気を行うことで、図４に示すように第２の処理液供給管路５１ｂから所定量のレジスト液Ｌがポンプ７０（ポンプ室７２）に吸入される（ステップＳ１）（図１０参照）。図４等の作用説明図ではレジスト液Ｌが流れている状態を太線で示している。このステップＳ１はノズル７からウエハにレジスト液Ｌが供給されてウエハのロットを処理している途中段階から見れば後述の補充ステップＳ４と同じであると言えるが、この説明では、ステップＳ１によりポンプ７０により吸入されたレジスト液Ｌから合成部内でのレジスト液Ｌの合成が開始されるものとする。

次に、開閉弁Ｖ１，Ｖ１３を閉じ、開閉弁Ｖ２及び供給制御弁５７を開く。このとき、給排切換弁Ｖ４を吸気側に切り換え、電空レギュレータ７８を加圧側に連通して、作動室７３内にエアーを供給することで、図５に示すようにポンプ室７２に吸入されたレジスト液Ｌが押し出され、フィルタ５２を通過したレジスト液Ｌの一部（例えば５分の１）がノズル７からウエハに吐出される（ステップＳ２）。ステップＳ１が合成部によるレジスト液Ｌの合成の開始時点であるとすると、ステップＳ２においてノズル７から吐出されたレジスト液Ｌはダミーディスペンスとなるが、一連のステップのサイクルが繰り返されて定常状態となっている場合には、ノズル７から吐出されたレジスト液Ｌはウエハに供給される。例えばこのステップＳ２は吐出ステップに相当する。

この場合において、ポンプ室７２から排出されるレジスト液Ｌの量は、作動室７３内に供給されるエアーの供給量により調整される。即ち、作動室７３に供給されるエアーの供給量を少なくすることで作動室７３の体積増加が少なくなり、ウエハに吐出されるレジスト液Ｌの吐出量が少なくなる。また、作動室７３に供給されるエアーの供給量を多くすることで作動室７３の体積増加が多くなり、ウエハに吐出されるレジスト液Ｌの吐出量が多くなる。この実施形態では、ポンプ室７２に吸入されているレジスト液Ｌの５分の１がウエハに吐出される。また、作動室７３に供給されるエアーの供給量は、記憶部１０４に記憶されたデータに基づいて定められている。

なお、ポンプ室７２から排出されるレジスト液Ｌの量を調整する方法として、作動室７３内に供給されるエアーの供給量を調整する代わりに、エアーの供給時間を調整してもよく、あるいは、作動室７３内に供給されるエアーの供給を制御部１０１から発信されるパルス信号によって調整してもよい。

次に、開閉弁Ｖ１７，Ｖ１４を開き、作動室７３内のエアーの供給量を多くすることで、図６に示すようにポンプ７０に吸入された残りのレジスト液Ｌ（例えば５分の４）がフィルタ５２を通過し、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻される（ステップＳ３）。このステップＳ３は戻しステップに相当する。この実施形態では、ステップＳ１でポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌの５分の４が第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。

その後図７に示すように開閉弁Ｖ２，Ｖ１４を閉じ、開閉弁Ｖ１，Ｖ１３を開くことで、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６１に補充されているレジスト液Ｌが合成され、ステップＳ１に戻った状態で、合成されたレジスト液Ｌがポンプ７０に吸入される（ステップＳ４）。このステップＳ４は補充ステップに相当する。このとき、バッファタンク６１からポンプ７０に供給されるレジスト液Ｌの量は、ウエハへの吐出量と等量となる。即ち、レジスト液Ｌがウエハに吐出された分だけ、ポンプ７０にレジスト液Ｌが補充される。従って、この実施形態では、ポンプ７０に吸入されているレジスト液Ｌの５分の１の量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂに補充される。

ここで、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌはフィルタ５２によりろ過されているが、バッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌはフィルタ５２でろ過されていない。従って、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌとバッファタンク６１から補充されるレジスト液Ｌの合成によるレジスト液Ｌとのろ過回数をレジスト液Ｌの合成ろ過回数として求める場合、次式（１）で示される。

Ａｎ＝１＋（ａ＋ｂ）／ａ−ｂ／ａ×｛ｂ／（ａ＋ｂ）｝^ｎ−１ ・・・（１）
Ａｎはウエハに吐出されるレジスト液Ｌの合成ろ過回数であり、式（１）で表わされる合成ろ過回数を循環合成ろ過回数という。また、ａ，ｂは、ａとｂとの比（ａ：ｂ）によって、レジスト液Ｌのウエハへの吐出量と、戻り管路５５への戻り量と、の比が表される値となっている。即ち、レジスト液Ｌのウエハへの吐出量及び戻り管路５５への戻り量を夫々Ｖａ及びＶｂとすると、これらＶａ及びＶｂを任意の定数ｋで除した値が夫々ａ及びｂとなる。以降の説明において、ａ、ｂを単に「吐出量」及び「戻り量」として説明する場合がある。

また、ｎはステップ１〜ステップ３の一連の処理を行った回数（処理回数）である。また、レジスト液Ｌの合成ろ過回数Ａｎがこの発明の吐出量と戻り量の比率の合成に応じた回数に相当する。上述した式（１）から、合成ろ過回数Ａｎは、処理回数ｎを大きくすることにより（ａ＋ｂ）／ａの値に飽和する。このＡｎ，ｎ，ａ，ｂの関係を図１１に示す。

図１１に示すように、ａ＝１，ｂ＝４の場合には、処理回数ｎの増加に従って合成ろ過回数Ａｎが６に近づくように収束する。同様に、ａ＝１，ｂ＝２の場合には合成ろ過回数Ａｎが４に近づき、ａ＝１，ｂ＝１の場合には合成ろ過回数Ａｎが３に近づくように収束する。

この実施形態では、戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌとバッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌの流量の比は４対１である。戻り管路５５を介して第２の処理液供給管路５１ｂに戻ってきたレジスト液Ｌのろ過回数は１回、バッファタンク６１から供給されるレジスト液Ｌのろ過回数は０回である。この場合には、フィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂに供給されるレジスト液Ｌの合成ろ過回数は０．８回となり、このレジスト液Ｌをフィルタ５２に通過させることでレジスト液Ｌの合成ろ過回数は１．８回となる。

このようなステップＳ２〜Ｓ４の工程を繰り返すことで、（ステップＳ１は既述のようにイニシャルのステップとして取り扱っている）ポンプ７０にレジスト液Ｌを吸入し、ポンプ７０に吸入したレジスト液Ｌの一部（５分の１）がウエハに吐出される。そしてポンプ７０に吸入したレジスト液Ｌの残り（５分の４）が第２の処理液供給管路５１ｂに戻され、バッファタンク６１からレジスト液Ｌを補充され、以上の一連の工程が繰り返される。一例として、ウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂに戻る戻り量との比を１対４とした場合は、ａ＝１，ｂ＝４であるため、合成ろ過回数を上記式（１）に基づいて計算をすると、ステップＳ１からＳ３を５回繰り返した場合（ｎ＝５）において、合成ろ過回数Ａ５は４．３６回となる。

次に、表１に基づいて第１実施形態の効果について説明する。表１には、図３に示した処理液供給装置を用いて既述のようにして行う循環合成ろ過において、吐出量と戻り量と構成ろ過回数Ａｎとの関係が記載され、さらにサイクルタイム及びパーティクルの企画課数について記載されている。また比較のために戻しステップを行わずにフィルタ５２を一回通した後のレジスト液Ｌをウエハに吐出した場合（一回ろ過）についても同様に記載されているが、この場合合成ろ過回数Ａｎは１回である。サイクルタイムとは循環合成の場合には、往復合成ろ過の合成ろ過回数Ａｎに対するステップＳ１〜Ｓ３を行う際にかかる時間であり。１回ろ過の場合には、ステップＳ１とステップＳ２を行う際にかかる時間である。
さらに表１には循環往復合成ろ過を行った場合についても合成ろ過回数Ａｎ及び同様のパラメータ値が記載されているが、この「循環往復ろ過」とは、後述の第２の実施形態に相当する技術であり、その評価の考察については第２の実施形態の項目で述べる。
［表１］

合成ろ過回数Ａｎを５回行う循環合成ろ過方法では、サイクルタイムは２４．９秒であり、パーティクル規格化数は１７、１回ろ過に対するパーティクル規格化数は７７となった。従って、合成ろ過回数Ａｎを５回行う循環合成ろ過方法では、ろ過を１回行う場合とほぼ同じサイクルタイムを実現することができ、ろ過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を１７％に抑え、ろ過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を７７％に抑えることができた。

また、合成ろ過回数Ａｎを１０回行う循環合成ろ過方法では、サイクルタイムは３５．９秒であり、パーティクル規格化数は７、１回ろ過に対するパーティクル規格化数は３２となった。従って、合成ろ過回数Ａｎを１０回行う循環合成ろ過方法では、ろ過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を７％に抑え、ろ過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を３２％に抑えることができた。また、合成ろ過回数Ａｎを５回行う循環合成ろ過方法と比較してもパーティクル数を４１％に抑えることができた。

従って、フィルタによるろ過を１回行った場合と同様のスループットを確保しつつろ過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様に高いろ過効率（異物の捕集効率）を得ることができると共に、スループット低下を抑えることができる。

また液処理を続けているうちにフィルタ５２に気泡が溜まった場合には、フィルタ５２の気泡の除去処理を行う。例えばフィルタ５２を通過したレジスト液の量が所定量、例えば５００ｍｌに達した場合に、ポンプ７０に例えば１ｍｌのレジスト液Ｌを供給する。その後開閉弁Ｖ２、Ｖ１６を開き、ポンプ７０を駆動して図８に示すようにフィルタ５２にレジスト液Ｌを供給する。フィルタ５２を通過したレジスト液Ｌはドレイン管路５６へと流れ込む。これによりフィルタ５２に溜まっていた気泡は、レジスト液Ｌと共にドレイン管路５６から排出される。

また図１２〜図１４は、第１の実施形態の他の例に係る処理液供給装置である。既述の例は戻り流路５５に設けられている。この例では、トラップタンク５３は、第２の処理液供給流路５１ｂに設けられている。このような例を図１２〜図１４に基づいて説明する。この例では、第１実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
第１の実施形態の他の例の動作は、図１２に示すように、ポンプ７０に流入されているレジスト液Ｌの一部をウエハに吐出（ステップＳ２）した後、図１３に示すように開閉弁Ｖ３４が開いた状態で、ポンプ７０により、レジスト液Ｌが戻り管路５５を介して、第２の処理液供給管路５１ｂに戻される（ステップＳ３）。そして図１４に示すように開閉弁Ｖ１，Ｖ３１，Ｖ１３が開かれ、ウエハへの吐出量と等量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂに補充され、第２の処理液供給管路にて合成されたレジスト液Ｌがポンプ７０により吸引される（ステップＳ４）。この例においてもレジスト液Ｌは、戻しステップ（ステップＳ３）においてフィルタ５２を通過し、さらにポンプ７０からノズル７に送り出される吐出ステップ（ステップＳ２）ときにもフィルタ５２を通過する。

また第１実施の形態のさらに他の例に係る処理液供給装置について説明する。この処理液供給装置は、図１５〜図１７に示すように第２の処理液供給管路５１ｂの下流に環状流路３７が接続されている。環状流路３７には、第２の処理液供給管路５１ｂとの接続位置からレジスト液の流れ方向に沿って、開閉弁Ｖ３６、フィルタ５２、開閉弁Ｖ１、ポンプ７０、開閉弁Ｖ２の順で介設されている。ポンプ７０の一次側は開閉弁Ｖ１側である。この環状流路３７はポンプ７０から吐出したレジスト液Ｌがポンプに戻るので循環流路ということもできる。また環状流路３７におけるフィルタ５２とポンプ７０との間から第３の処理液供給管路５１ｃが分岐されている。

この処理液供給装置の動作について説明する。先の二つの例では、吐出ステップＳ２時にレジスト液Ｌをフィルタ５２を通過させ、さらに戻しステップＳ３時にレジスト液をフィルタ５２を通過させているが、この例では、吐出ステップＳ２時に加えて戻しステップＳ３ではなく、補充ステップＳ４時にレジスト液Ｌをフィルタ５２を通過させている。以下に動作を詳述する。ポンプ７０へのレジスト液Ｌを吸入する動作（ステップＳ１）について説明する。まず開閉弁Ｖ２が閉じ開閉弁Ｖ３６、Ｖ１が開かれた状態、ポンプ７０が稼働される。レジスト液Ｌは、バッファタンク６１から、第２の処理液供給管路５１ｂ、環状流路３７を介してフィルタ５２に流入し、フィルタ５２を通過した後、環状流路３７を介してポンプ７０へと供給される。この動作がレジスト液の合成の最初のステップとすれば、後述の補充ステップＳ４のようにフィルタを一回通過したレジスト液Ｌと合成されないが、液の流れとしては図１７に示すようにステップＳ４と同じになる。

次いで図１５に示すポンプ７０からノズル７へのレジスト液Ｌを供給する吐出ステップ（ステップＳ２）を行うために、開閉弁Ｖ２、Ｖ３６、供給制御弁５７が開かれる。ポンプ７０から供給されるレジスト液は、環状流路３７ａ、環状流路３７ｃを介してフィルタ５２に供給され、フィルタ５２を通過したレジスト液Ｌが第３の処理液供給管路５１ｃへと流れ、ノズル７から吐出される。ポンプ７０からは例えばポンプ７０内の１／５の量（例１ｍｌ）のレジスト液Ｌが供給される。既述のように一連のステップを繰り返すことにより定常状態つまり合成ろ過回数が上限になった状態のときには、ノズル７からダミーディスペンスではなくレジスト液Ｌがウエハに吐出されることになる。

続いて図１６に示すようにポンプ７０に残るレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す戻しステップを行う（ステップＳ３）。このとき開閉弁Ｖ３６及び供給制御弁５７が閉じられて、開閉弁Ｖ２が開かれた状態となる。その状態で残りの４／５のレジスト液Ｌ（例えば４ｍｌ）がポンプ７０から押し出されて第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。
続いて補充ステップであるステップＳ４を行う。ステップＳ４においては、図１７に示すように開閉弁Ｖ２が閉じられ、開閉弁Ｖ３６、Ｖ１、Ｖ１３が開かれる。バッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂにレジスト液Ｌが補充され、ステップＳ３においてポンプ７０から第２の処理液供給管路５１ｂまで戻されたレジスト液Ｌと、新たに補充されたレジスト液Ｌとが合成され、ポンプ７０へと供給される。第２の処理液供給管路５１ｂ内のレジスト液Ｌは第２の処理液供給管路５１ｂ、環状管路３７ｃ、フィルタ５２、環状管路３７ｂを介してポンプ７０へ吸い込まれる。ポンプ７０によりレジスト液Ｌが吸い込まれることにより、処理液容器６０からバッファタンク６１へとレジスト液Ｌが補充される。

従ってこの例では、ポンプ７０内のレジスト液Ｌを吐出する吐出ステップ（ステップＳ２）と、吐出ステップ（ステップＳ２）の後にポンプ７０内に残ったレジスト液Ｌとバッファタンク６１から補充されたレジスト液Ｌとをポンプ７０に吸い込む補充ステップ（ステップＳ４）とにおいてレジスト液Ｌがフィルタ５２を通過することになる。またポンプ７０に残されたレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す戻しステップ（ステップＳ３）においては、レジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過しないことになる。即ちこの例では、先の二つの実施形態と異なり、戻しステップＳ２ではなく補充ステップＳ４において、レジスト液Ｌがフィルタを通過することになる。

この実施の形態では、レジスト液Ｌは、ポンプ７０から第２の処理液供給管路５１ｂに戻される動作においては、フィルタ５２を通過しないが、バッファタンク６１から補充されるレジスト液と合成され、フィルタ５２を通過した後ポンプ７０に供給されることになる。結果として、ポンプ７０に残されたレジスト液Ｌが、ポンプ７０から第２の処理液供給管路５１ｂに戻され、さらにポンプ７０に供給されるまでにフィルタ５２通過することになるため、ポンプ７０内のレジスト液Ｌのフィルタ５２の通過回数を増やすことができるため、同様の効果を得ることができる。

＜第２の実施形態＞
次に、図１８〜図２１に基づいて、この発明に係る処理液供給装置の第２実施形態について説明する。先の第１の実施形態では、吐出ステップＳ２に加えて、戻しステップＳ３または補充ステップＳ４にてレジスト液Ｌをフィルタ５２に通していたが、第２の実施形態では、戻しステップＳ３及び補充ステップＳ４の両方でレジスト液をフィルタに通すように構成している。なお、第２実施形態において、第１実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。

第２実施形態の処理液供給装置は、ポンプ７０から第２の処理液供給管路に接続された戻り管路５５を備えている。戻り管路５５には、ポンプ７０の開閉弁Ｖ２側からレジスト液Ｌの流れ方向に沿って、フィルタ５２、開閉弁Ｖ２４、トラップタンク５３、開閉弁Ｖ２１がこの順番で介設されている。またバッファタンク６１からポンプ７０までは補充流路５０となっている。補充流路５０にはバッファタンク６１側からレジスト液Ｌの流れ方向に沿って、開閉弁２２、フィルタ５２、開閉弁２４、トラップタンク５３が開設されており、ポンプ７０の開閉弁Ｖ１側に接続されている。これら戻り管路５５と補充流路５０とはその一部が共通の管路となっている。

また戻り管路５５と補充流路５０の共通の部位におけるフィルタ５２の二次側であって、開閉弁Ｖ２４の一次側には、第３の処理液供給管路が分岐されている。なおこの例においては、補充流路５０における開閉弁２２の一次側の戻り管路５５との接続点からポンプ７０までの部位、戻り流路５５における開閉弁Ｖ２１の二次側の補充流路５０との接続点までの部位及びポンプ７０等の機器が合成部に相当する。

第２実施形態の動作について説明する。まずポンプ７０により、ポンプ７０中にレジスト液Ｌが吸入される（ステップＳ１）。このとき開閉弁Ｖ２２、Ｖ２４、Ｖ１が開かれる。レジスト液Ｌは、バッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂ、補充流路５０、を介してフィルタ５２へ供給され、フィルタ５２を通過した後、トラップタンク５３を介して、ポンプ７０に吸引される（ステップＳ１）。この例においてもステップＳ１は戻り液と補充液との合成を開始する最初のステップであるとして説明を進める。
次いで開閉弁Ｖ１、Ｖ２２を閉じ、開閉弁Ｖ２及び供給制御弁５７を開く。そしてポンプ７０を駆動すると、図１９に示すようにポンプ７０に吸入されていたレジスト液Ｌの一部（例えば１ｍｌ）が押し出され、レジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過した後、ノズル７を介してウエハに吐出される（ステップＳ２）。このステップＳ２が吐出ステップに相当する。

ポンプ７０に残されたレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す戻しステップ（ステップＳ３）では、図２０に示すように、供給制御弁５７を閉じ、開閉弁Ｖ２４，Ｖ３２を開き、残りのレジスト液Ｌが戻り管路５５を介して、第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。このときポンプ７０から押し出されるレジスト液Ｌは、フィルタ５２及びトラップタンク５３を通過した後、第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。

続いて第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンクから補充されたレジスト液Ｌが合成されて、ポンプへと供給される（ステップＳ１）。このとき図２１に示すように開閉弁Ｖ２１が閉じられ、開閉弁Ｖ２２、Ｖ２４、Ｖ１、Ｖ１３が開かれる。そして、ウエハへの吐出量と等量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂに補充され、バッファタンク６１から補充されたレジスト液Ｌと、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとが合成され、合成されたレジスト液Ｌがポンプ室７２に吸入される。このとき第２の処理液供給管路５１ｂ内のレジスト液Ｌは、フィルタ５２及びトラップタンク５３を通過してポンプ７０へと供給される。

この実施例では、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出する動作（ステップＳ２）、ポンプ７０に残されたレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す動作（ステップＳ３）、さらに第２の処理液供給管路５１ｂに戻したレジスト液Ｌと、バッファタンク６１から供給されたレジスト液と、を合成した後ポンプに吸引する動作（ステップＳ１）において、レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過する。

従って、第２の実施形態にかかる処理液供給装置では、ポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌの一部は、第１の戻り管路６５ａと第２の処理液供給管路５１ｂを通過する過程、換言すれば第２の処理液供給管路５１ｂを往復する過程でフィルタ５２によるろ過（以下に、循環往復合成ろ過という）が行われる。この場合のウエハに吐出されるレジスト液Ｌの合成ろ過回数Ａｎと、ポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌのウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂへの戻り量の関係は、次式（２）で示される。

Ａｎ＝１＋（ａ＋２ｂ）／ａ−２ｂ／ａ×｛ｂ／（ａ＋ｂ）｝^ｎ−１ ・・・（２）
ここで、式（２）で表わされる合成ろ過回数を循環往復合成ろ過回数という。

一例として、ウエハへの吐出量と第２の処理液供給管路５１ｂに戻る戻り量との比を１対４とした場合は、ａ＝１，ｂ＝４であるため、合成ろ過回数を上記式（２）に基づいて計算をすると、ステップＳ１からＳ３を５回繰り返した場合（ｎ＝５）において、合成ろ過回数Ａ５は６．７２回となる。

さらに第２の実施形態の他の例に係る処理液供給装置として図２２〜図２４に示すように中間管路５０ｂにおける第３の処理液供給管路５１ｃの接続される位置よりも一次側の位置にトラップタンク５３を設けた構成であってもよい。この例では開閉弁Ｖ２１は三方弁なっている。まずポンプ７０からノズル７にレジスト液Ｌを供給する過程では、図２２に示すように開閉弁Ｖ１、Ｖ２２及び供給制御弁５７が開かれ、ポンプ７０によりレジスト液Ｌの一部がノズル７へと送液される。このときレジスト液Ｌはフィルタ５２、トラップタンク５３と通過した後、第３の処理液供給管路５１ｃに供給され、ノズル７から吐出される。

ポンプ７０から第２の処理液供給管路５１ｂに残りのレジスト液Ｌを戻す戻しステップ（ステップＳ３）では、図２３に示すように供給制御弁５７が閉じられ、開閉弁Ｖ２４が開かれ、開閉弁Ｖ２１により、戻り管路５５に接続される。ポンプ７０から送液されるレジスト液Ｌは、フィルタ５２、トラップタンク５３をこの順で通過した後、第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。

さらに第２の処理液供給管５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６１から補充されたレジスト液Ｌとが合成されポンプ７０に供給される動作（ステップＳ１）では、図２４に示すように開閉弁Ｖ２が閉じられ、開閉弁Ｖ２１はポンプ７０に向かうように接続される。また開閉弁Ｖ１３が開かれて、バッファタンク６１内のレジスト液が第２の処理液供給管路５１ｂに補充される。レジスト液Ｌは、第２の処理液供給管路５１ｂから補充流路５０を流れることになる。このときレジスト液Ｌは、フィルタ５２、トラップタンク５３の順に通過した後、ポンプ７０に供給される。
このような構成の場合にもポンプ７０から押し出されるレジスト液をノズル７から吐出する動作（ステップＳ１）、ポンプ７０に残るレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す動作（ステップＳ３）、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６０から補充されたレジスト液Ｌを混合してポンプ７０に送る動作（ステップＳ１）の各動作において、レジスト液Ｌはフィルタ５２を通過すため同様な効果を得ることができる。

次に、表１に基づいて第２実施形態の効果について説明する。第２実施形態における合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法では、サイクルタイムは２０．５秒であり、パーティクル規格化数は１８、１回濾過に対するパーティクル規格化数は８２となった。従って、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法では、濾過を１回行う場合よりも速いサイクルタイムを実現することができ、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を１８％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を８２％に抑えることができた。

また、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環往復合成濾過方法では、サイクルタイムは２６．０秒であり、パーティクル規格化数は８、１回濾過に対するパーティクル規格化数は３６となった。従って、合成濾過回数Ａｎを１０回行う循環往復合成濾過方法では、濾過されていないレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を８％に抑え、濾過を１回行ったレジスト液Ｌと比較してパーティクル数を３６％に抑えることができた。また、合成濾過回数Ａｎを５回行う循環往復合成濾過方法と比較してもパーティクル数を４４％に抑えることができた。

従って、第１実施形態と同様に、フィルタによる濾過を１回行った場合と同様のスループットを確保しつつ濾過効率を向上させることができるため、装置の大掛かりな変更をすることなく、一のフィルタで複数のフィルタを設けた場合と同様の濾過効率を得ると共に、スループット低下の防止を図ることができる。

また、第２実施形態の循環往復合成濾過方法では、レジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す際にもフィルタ５２を通過させるため、第２実施形態では、第１実施形態と比べてウエハ上に付着するパーティクルの数を減少させることができる。

また第２の実施の形態のさらに他の例として、トラップタンク５３を設けない構成であってもよい。図２５〜図２７に示すように図１８に示した処理液供給装置において、トラップタンク５３を除いた構成とする。この例では、ノズル７からレジスト液Ｌを吐出する吐出ステップ（ステップＳ２）においては、開閉弁Ｖ１、Ｖ２２を閉じ、開閉弁Ｖ２及び供給制御弁５７を開く。この後図２５に示すようにポンプ７０に吸入されたレジスト液Ｌの一部が押し出され、レジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過した後、第３の処理液供給管路５１ｃへと流れ、ノズル７を介してウエハに吐出される。

ポンプ７０に残されたレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す戻しステップ（ステップＳ３）では、供給制御弁５７を閉じ、開閉弁Ｖ２４，Ｖ３２を開かれる。そして図２６に示すように残りのレジスト液Ｌがポンプ７０から押し出され、戻り管路５５を流れて、第２の処理液供給管路５１ｂに戻される。このときポンプ７０から押し出されるレジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過した後、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されることとなり、トラップタンク５３を通過しない点で第２の実施形態と異なる。

続いて、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６１内のレジスト液Ｌとを合成して、合成されたレジスト液Ｌをポンプ７０に供給する動作（ステップＳ４）においては、図２７に示すように開閉弁Ｖ２１が閉じられ、開閉弁Ｖ２２、Ｖ１３、Ｖ１が開かれる。そして、ウエハへの吐出量と等量のレジスト液Ｌがバッファタンク６１から第２の処理液供給管路５１ｂに補充され、バッファタンク６１から補充されたレジスト液Ｌと、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとが合成され、合成されたレジスト液Ｌがポンプ７０に吸入される。このとき第２の処理液供給管路５１ｂ内のレジスト液Ｌは、フィルタ５２通過してポンプ７０へと供給される。

従ってこの動作においてもトラップタンク５３を通過しない点で第２の実施形態と異なる。この例においてもポンプ７０から押し出されるレジスト液をノズル７から吐出する動作（ステップＳ２）、ポンプ７０に残るレジスト液Ｌを第２の処理液供給管路５１ｂに戻す動作（ステップＳ３）、第２の処理液供給管路５１ｂに戻されたレジスト液Ｌとバッファタンク６０から供給されたレジスト液Ｌ混合してポンプ７０に送る動作（ステップＳ４）の各動作において、フィルタ５２を通過することになり、同様な効果を得ることができる。
さらには、第２の実施の形態では、図２８に示すようにトラップタンク５３は補充流路５０におけるフィルタ５２の一次側の位置であって、補充流路５０と戻り管路５５との共通の管路に設けられていてもよい。

＜第３実施形態＞
続いて、本発明の第３実施形態について、図２９〜図３３を参照して説明する。この第３実施形態では、既述の第１実施形態にて説明した合成ろ過を行うにあたって、図２９〜図３１に示すように、フィルタ５２の一次側の第２の処理液供給管路５１ｂ及び二次側における第３の処理液供給管路５１ｃに、供給ポンプ１１１と吐出ポンプ１１２とを夫々配置している。これらポンプ１１１、１１２は、図３２に示すように、例えばシリンジポンプが用いられている。具体的には、各々のポンプ１１１、１１２は、一面側（図３２中手前側）が開口する概略円筒形状の外側部材１１３と、この外側部材１１３の内部にて前記一面側から他面側に向かって進退自在に挿入された円筒形状の進退部材１１４と、によって構成されている。

また吐出ポンプ１１２の二次側に、更に他のフィルタ２００を設ける。このフィルタ２００と供給制御弁５７との間における第３の処理液供給管路５１ｃには、戻り流路２０１の一端側が接続されており、この戻り流路２０１の他端側は、開閉弁Ｖ５１を介して、バッファタンク６１と供給ポンプ１１１との間における第２の処理液供給管路５１ｂに接続されている。尚、図２９〜図３１中２０２はフィルタ２００から気泡を排出するためのベント管、Ｖ５２はこのベント管２０２に設けられた開閉弁である。

外側部材１１３の側周面には、レジスト液Ｌを処理液容器６０側から吸引する吸引口１１５と、レジスト液Ｌをウエハ側に供給する供給口１１６と、が互いに対向するように配置されている。また、外側部材１１３において進退部材１１４に対向する先端部には、レジスト液Ｌをフィルタ５２側に戻すための戻し口１１７が形成されており、この戻し口１１７は、後述の戻り流路１１８の開口端をなしている。そして、これら吸引口１１５、供給口１１６及び戻し口１１７から夫々伸びる流路（第２の処理液供給管路５１ｂ、第３の処理液供給管路５１ｃ及び戻り流路１１８）には、開閉弁Ｖ９１、Ｖ９２、Ｖ９３が夫々介設されている。尚、図３２及び図３３では、これら開閉弁Ｖ９１〜Ｖ９３の配置場所について、模式的にポンプ１１１、１１２に近接させて描画している。

進退部材１１４には、例えばステッピングモーターやサーボモーターなどの駆動部１１９が組み合わされて設けられており、当該進退部材１１４は、外側部材１１３の開口端に対して、当該進退部材１１４の端部における周縁部が気密に接触しながら進退できるように構成されている。従って、開閉弁Ｖ９１を開放すると共に、開閉弁Ｖ９２、Ｖ９３を閉止して、進退部材１１４を外側部材１１３から引き抜く方向に後退させると、図３０に示すように、レジスト液Ｌが第２の処理液供給管路５１ｂから吸引口１１５を介して外側部材１１３の内部領域に引き込まれる。

一方、開閉弁Ｖ９１を閉止すると共に、開閉弁Ｖ９２あるいは開閉弁Ｖ９３を開放して、進退部材１１４を外側部材１１３の内部に向かって押し込むと、開閉弁３２（開閉弁Ｖ９３）を介して、第３の処理液供給管路５１ｃ（戻り流路１１８）に向かってレジスト液Ｌが吐出される。各々のポンプ１１１、１１２における液供給量（液の貯留量）は、例えば３０ｍｌとなっている。尚、以下の説明において、進退部材１１４を外側部材１１３の内部に向かって押し込む動作及び進退部材１１４を外側部材１１３の内部から引き抜く動作を夫々「進退部材１１４を前進させる」及び「進退部材１１４を後退させる」として説明する。

続いて、これらポンプ１１１、１１２を備えた処理液供給装置の構成の説明に戻ると、図２９に示すように、ポンプ１１１、１１２の間には、既述のフィルタ５２が介設された接続路１２１が配置されている。この接続路１２１は、上流側の開口端が供給ポンプ１１１における供給口１１６として開口すると共に、下流側の開口端が吐出ポンプ１１２における吸引口１１５として開口している。また、ポンプ１１１、１１２の間には、前記接続路１２１とは別の戻り流路１１８が配置されており、ポンプ１１１、１１２における戻し口１１７、１１７同士は、当該戻り流路１１８を介して互いに連通している。

ここで、供給ポンプ１１１における各開閉弁Ｖ９１〜Ｖ９３及び吐出ポンプ１１２における各開閉弁Ｖ９１〜Ｖ９３について、夫々「ａ」及び「ｂ」の添え字を付すと、図２９に示すように、供給ポンプ１１１の開閉弁Ｖ９３ａは、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ９３ｂと共通化されている。また、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ９２ｂは、供給制御弁５７と共通化されている。図２９中１２２は、吐出ポンプ１１２内におけるレジスト液Ｌの圧力を測定するための圧力計である。

次に、ポンプ１１１、１１２を用いた合成ろ過の具体的な動作について説明する。ここで、初期状態として、供給ポンプ１１１では進退部材１１４が外側部材１１３の内部における奥部まで押し込まれていて、レジスト液Ｌの貯留量がゼロになっているものとする。一方、吐出ポンプ１１２では、進退部材１１４は、前記奥部よりも手前側に引き出されていて、例えば１ｍｌのレジスト液Ｌが貯留されているものとする。また、供給制御弁５７を含む各開閉弁Ｖ９１〜３３は、各々閉止されているものとする。

このような初期状態に続いて、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作と、供給ポンプ１１１へのレジスト液Ｌの補充動作とを行う。具体的には、図２９に示すように、供給制御弁５７を開放して、開閉弁Ｖ１３を開くと共に、吐出ポンプ１１２における進退部材１１４を前進させると、供給ポンプ１１１ではレジスト液Ｌの貯留量が例えば０ｍｌから１０ｍｌに増加する。一方、吐出ポンプ１１２では、レジスト液Ｌの貯留量が例えば１ｍｌから０ｍｌに減少して、このレジスト液Ｌがフィルタ２００を通過してノズル７から吐出される。この時、開閉弁Ｖ５１、Ｖ１５は、各々閉じられている。前記吐出動作と前記補充動作とは、同時に行われる。この吐出動作が吐出ステップに該当する。

ここで、「同時」とは、これらポンプ１１１、１１２の動作開始タイミングと動作終了タイミングとが互いに揃っている場合の他、ポンプ１１１、１１２のうち一方のポンプ１１１（１１２）が動作を開始した後、当該動作を終えるまでの間に、他方のポンプ１１２（１１１）が動作している場合を含む。即ち、レジスト液Ｌの吐出動作とレジスト液Ｌの補充動作とを夫々行っている時間帯同士が互いに重なり合っている場合を含む。尚、図２９では、各ポンプ１１１、１１２におけるレジスト液Ｌの貯留量について、各ポンプ１１１、１１２の下側に併記している。以降の図２９〜図３１も同様である。また、図２９〜図３１では、装置構成について簡略化して描画している。

次いで、図３０に示すように、供給ポンプ１１１における開閉弁Ｖ９１ａを閉止すると共に、開閉弁Ｖ９２ａを開放する。また、吐出ポンプ１１２における開閉弁Ｖ９１ｂを開放して、供給制御弁５７を閉じる。そして、供給ポンプ１１１の進退部材１１４を前進させると共に、吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を後退させると、供給ポンプ１１１内のレジスト液Ｌは、フィルタ５２を通過して異物や気泡が除去された後、吐出ポンプ１１２内に移動する。この時、レジスト液Ｌのフィルトレーション動作に続いて、フィルタ５２に残る気泡の除去作業（ベント）を行う場合には、０．５〜１ｍｌ程度のレジスト液Ｌを供給ポンプ１１１内に残しておく。尚、図３０では、供給ポンプ１１１に残るレジスト液Ｌの残量として、便宜的に０ｍｌと記載している。このフィルトレーション動作と、前述の補充動作とが補充ステップに該当する。

気泡の除去作業は、フィルタ５２の上部側における開閉弁Ｖ１５を開放して、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ９１ｂを閉止する。そして、供給ポンプ１１１の進退部材１１４を僅かに（０．５〜１ｍｌ程度のレジスト液Ｌが吐出されるように）前進させると、フィルタ５２に残る気泡がレジスト液Ｌと共に排出される。

続いて、図３１に示すように、供給ポンプ１１１の開閉弁Ｖ９１ａを開放して、開閉弁Ｖ９２ａを閉止する。また、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ９３ｂを開放すると共に、開閉弁Ｖ１５を閉止する。更に、既述のフィルタ５２における気泡の除去作業を行わなかった場合には、吐出ポンプ１１２の開閉弁Ｖ９１ｂを閉止する。そして、吐出ポンプ１１２の進退部材１１４を前進させると、当該吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌは、フィルタ２００を通過して、戻り流路２０１を経由してバッファタンク６１の二次側（供給ポンプ１１１の一次側）に到達する。こうして後続のウエハの処理に必要な液量（１ｍｌ）を越えた余分な量（９ｍｌ）が吐出ポンプ１１２から排出されるまで、あるいは任意の量（１ｍｌ〜９ｍｌ）のレジスト液Ｌが吐出ポンプ１１２から排出されるまで、当該吐出ポンプ１１２における進退部材１１４を前進させる。図３１に示す動作が戻しステップとなる。

図３１は、初期状態となっている。従って、その後、供給ポンプ１１１内にレジスト液Ｌを補充すると、第２の処理液供給管路５１ｂ内にて一度フィルタ５２を通過してバッファタンク６１側に戻されていたレジスト液Ｌは、再度フィルタ５２を通過する。従って、第１実施形態で説明した合成ろ過が行われる。その後、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作、吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌをフィルタ５２の一次側に戻す送り戻し動作、供給ポンプ１１１内へのレジスト液Ｌの引き込み動作及びフィルタ５２へのレジスト液Ｌの通液動作からなる一連の工程を繰り返す。

このようにフィルタ５２の前後にポンプ１１１、１１２を配置した構成を用いて合成ろ過を行うことにより、第１実施形態と同様の効果に加えて、以下の効果が得られる。即ち、フィルタ５２を経由して吐出ポンプ１１２側にレジスト液Ｌを通流させるにあたって、供給ポンプ１１１の吐出圧力を用いることができる。従って、接続路１２１内を陽圧に保つことができるので、当該接続路１２１への気泡の混入を抑制することができ、既述の第１実施形態におけるトラップタンク５３が不要になる。また、フィルタ５２にレジスト液Ｌを通液させるにあたり、供給ポンプ１１１においてレジスト液Ｌを送り出す圧力に加えて、吐出ポンプ１１２においてレジスト液Ｌを吸引する圧力を用いることができる。そのため、フィルタ５２における圧力を容易に調整できる。

更に、例えば図１の構成と比べて、配管構成が簡略化されるので、装置のコストアップ及び配管内における圧力損失を抑制できる。また、ウエハへのレジスト液Ｌの吐出動作と、バッファタンク６１からのレジスト液Ｌの吸引動作とを同時に行うことができるため、後続のウエハに対するレジスト液Ｌの吐出処理を速やかに行うことができる。

ノズル７にレジスト液Ｌを通流させる時、レジスト液Ｌがフィルタ２００を通過するので、例えば吐出ポンプ１１２においてパーティクルが発生した場合であっても、このパーティクルを捕集して清浄なレジスト液Ｌをウエハに供給できる。また、吐出ポンプ１１２内のレジスト液Ｌを供給ポンプ１１１の一次側に戻す時も、レジスト液Ｌがフィルタ２００を通過するので、同様に吐出ポンプ１１２にてパーティクルが発生しても、当該パーティクルを捕集できる。

ここで、本発明では、合成ろ過や循環往復合成ろ過を行うにあたって、既述の図１１からも分かるように、フィルタ５２の一次側へのレジスト液Ｌの戻り量ｂについて、ウエハへのレジスト液Ｌの供給量ａと同じか、あるいは当該供給量ａよりも多くなるように設定することが好ましい。そして、ウエハへのレジスト液Ｌの供給量ａに対して、フィルタ５２の一次側へのレジスト液Ｌの戻り量ｂが大きすぎると、処理に要する時間が嵩みやすくなり、一方少なすぎるとレジスト液の清浄化の作用が小さくなる。従って、前記比率（ａ：ｂ）は、１：１〜１：２０であり、好ましくは１：１〜１：１０、更に好ましくは１：１〜１：５である。

以上のように、２つのポンプ１１１、１１２を用いる場合には、処理液容器６０と供給ポンプ１１１との間、供給ポンプ１１１とフィルタ５２との間、フィルタ５２と吐出ポンプ１１２との間、吐出ポンプ１１２とノズル７との間の少なくとも一箇所に、既述のトラップタンク５３を配置しても良い。
ここで、第３実施形態における２つのポンプ１１１、１１２のうち、供給ポンプ１１１については送液動作を行わずに、フィルタ５２の二次側の吐出ポンプ１１２だけを用いることにより、いわば第１実施形態、第２の実施形態のようにレジスト液Ｌの吸引及び送液を行っても良い。

上述の実施の形態では、吐出ステップＳ２を行った後、戻しステップＳ３を行っているが、このステップの順序は逆でもよく、戻しステップＳ３を行った後、吐出ステップＳ２を行ってもよい。また吐出ステップＳ２を１回行った後、戻しステップＳ３を行うことに限らず、吐出ステップＳ２を２回行った後、戻しステップＳ３を行うようにしてもよい。この場合、例えばレジスト液を２枚のウエハに対して順次連続して１ｍｌずつ供給し、次いで４ｍｌを戻り流路を用いて合成部の処理液供給源に戻すようにしてもよい。
またポンプに吸いこんだレジスト液のうちの一部により吐出ステップＳ２を行い、残りの液により戻しステップＳ３を行うことに限らず、ポンプに吐出ステップＳ２を行う量、例えば１ｍｌだけ吸い込んで吐出ステップＳ２を行い、その後、ポンプに戻しステップＳ３を行う量、例えば４ｍｌだけ吸い込んで戻しステップＳ３を行うようにしてもよい。
なお、処理液としてはレジスト液Ｌに限られるものではなく、絶縁膜の前駆体を含む塗布液や現像液などであってもよい。

以上説明した各第１〜第３実施形態では、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）内のレジスト液Ｌをウエハに吐出する吐出動作と、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）内に残ったレジスト液Ｌの残液をフィルタ５２の一次側に戻す送り戻し動作と、が一組の工程となっている。そして、この一組の工程を繰り返している。そのため、ウエハにレジスト液Ｌを吐出しながら、言い換えると装置がアイドリング状態（待機状態）ではなく運転状態となっていても、レジスト液Ｌに含まれる異物や気泡を除去できる。

ここで、前記吐出動作と送り戻し動作とを交互に繰り返すことに代えて、例えば吐出動作を複数回行った後、送り戻し動作を一度行い、その後更に吐出動作を複数回行っても良い。具体的には、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）からフィルタ５２の一次側にレジスト液Ｌを戻す時、ウエハにレジスト液Ｌを吐出する複数回分（例えば２回分）の液量を当該ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残しておく。次いで、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残る液量の分だけ複数のウエハに対して連続してレジスト液Ｌを吐出する。その後、フィルタ５２を介してレジスト液Ｌをポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に補充する。従って、本発明の特許請求の範囲において、フィルタ５２の一次側に戻されるレジスト液Ｌの液量についての説明である、「残りの処理液」とは、ポンプ７０（吐出ポンプ１１２）に残っている残液全てを意味する場合の他、前記残液の一部だけの場合も含まれる。

また、各第１〜第３実施形態では、ノズル７からレジスト液Ｌを吐出させた後、ポンプ７０、１１１にレジスト液Ｌを補充するにあたって、当該ノズル７からの吐出量に対応する分だけ補充したが、前記吐出量とポンプ７０、１１１に補充する補充量とを互いに異なる量に設定しても良い。即ち、ポンプ７０については作動室７３に供給するエアーの供給量を調整することにより、あるいはポンプ１１１については進退部材１１４の進退寸法を調整することにより、ポンプ７０、１１１に引き込むレジスト液Ｌの流量を任意に設定しても良い。

このように前記吐出量と前記補充量とを互いに異なる量に設定する場合について、具体的に説明する。例えば第ｎ回目における吐出動作では、吐出量、フィルタ５２の一次側に戻すレジスト液Ｌの戻り量及び補充量について、夫々０．５ｍｌ、２．４ｍｌ及び０．６ｍｌに設定する。次いで、第（ｎ＋１）回目における吐出動作では、吐出量、戻り量及び補充量について、夫々０．５ｍｌ、２．６ｍｌ及び０．４ｍｌに設定する。こうして以上の２つのパターンを順番に繰り返しても良い。
以上の第３実施形態における各ポンプ１１１、１１２の少なくとも一方として、既述の図３２に示す構成に代えて、ポンプ７０を用いても良い。

７ ノズル
５０ 補充流路
５１ 処理液供給管路
５２ フィルタ
５３ トラップタンク
５５ 戻り管路
６０ 処理液容器
６１ バッファタンク
７０ ポンプ
１０１ 制御部
Ｌ レジスト液（処理液）
Ｖ１〜Ｖ３，Ｖ１４ 開閉弁

Claims (14)

1. 処理液供給源から吐出部を介して処理液を被処理体に供給する処理液供給装置において、
   前記処理液供給源と吐出部との間の処理液供給路に設けられ、ポンプと当該ポンプの二次側に接続されたフィルタ装置とが介設された循環路を含み、前記フィルタ装置を通過した処理液と処理液供給源から補充される処理液とを合成するための合成部と、
   前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置を通過させ、前記ポンプに戻さずに前記吐出部から吐出させる吐出ステップと、前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻す戻しステップと、前記処理液供給源側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充される処理液と共に前記ポンプに吸い込む補充ステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
   前記戻しステップ及び補充ステップの少なくとも一方において処理液が前記フィルタ装置を通過するように構成され、
   前記戻しステップにおける処理液の戻り量は、前記吐出部から吐出される処理液の吐出量以上に設定されていることを特徴とする処理液供給装置。
2. 前記吐出ステップは、前記補充ステップにて前記ポンプに吸い込まれた処理液の一部を前記吐出部から吐出させるステップであり、
   前記戻しステップは、前記補充ステップにて前記ポンプに吸い込まれた処理液のうち前記処理液の一部を除いた処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻すステップであることを特徴とする請求項１記載の処理液供給装置。
3. 前記処理液供給源から補充される処理液の補充量は、前記吐出部から吐出された処理液の吐出量に相当する量であることを特徴とする請求項１または２記載の処理液供給装置。
4. 前記フィルタ装置の二次側と前記ポンプの一次側とを接続する戻り流路が設けられ、
   前記戻しステップは、前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置及び前記戻り流路を介して前記合成部の処理液供給源側に戻すステップであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
5. 前記フィルタ装置の二次側は、前記ポンプの一次側及び吐出部に接続され、
   前記処理液供給源からの処理液供給路は、前記ポンプの二次側とフィルタ装置の一次側との間に接続され、
   前記補充ステップは、前記処理液供給源側に戻された処理液と前記処理液供給源からの処理液とが前記フィルタ装置を介して前記ポンプに吸い込まれるステップであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
6. 前記フィルタ装置の二次側と前記前記処理液供給源からの処理液供給路との間に戻り流路が接続され、
   前記ポンプの二次側とフィルタ装置の一次側との間にその一端が接続された流路と、前記フィルタ装置の二次側とポンプの一次側との間に接続された流路と、により補充流路が構成され、
   前記補充ステップは、前記処理液供給源側に戻された処理液と前記処理液供給源からの処理液とが前記補充流路を介して前記ポンプに吸い込まれるステップであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
7. 前記フィルタ装置の二次側とポンプの一次側との間に接続された流路は、前記戻り流路の一部を共用していることを特徴とする請求項６記載の処理液供給装置。
8. 処理液供給源から吐出部を介して処理液を被処理体に供給する処理液供給方法において、
   前記処理液供給源と吐出部との間の処理液供給路に設けられ、ポンプと当該ポンプの二次側に接続されたフィルタ装置とが介設された循環路を含み、前記フィルタ装置を通過した処理液と処理液供給源から補充される処理液とを合成するための合成部を用い、
   前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置を通過させ、前記ポンプに戻さずに前記吐出部から吐出させる吐出工程と、
   前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻す戻し工程と、
   前記処理液供給源側に戻された処理液を前記処理液供給源から補充される処理液と共に前記ポンプに吸い込む補充工程と、を含み、
   前記戻し工程及び補充工程の少なくとも一方において処理液が前記フィルタ装置を通過し、
   前記戻し工程における処理液の戻り量は、前記吐出部から吐出される処理液の吐出量以上に設定されていることを特徴とする処理液供給方法。
9. 前記吐出工程は、前記補充工程にて前記ポンプに吸い込まれた処理液の一部を前記吐出部から吐出させる工程であり、
   前記戻し工程は、前記補充工程にて前記ポンプに吸い込まれた処理液のうち前記処理液の一部を除いた処理液を前記合成部の処理液供給源側に戻す工程であることを特徴とする請求項８記載の処理液供給方法。
10. 前記処理液供給源から補充される処理液の補充量は、前記吐出部から吐出された処理液の吐出量に相当する量であることを特徴とする請求項８または９記載の処理液供給方法。
11. 前記フィルタ装置の二次側と前記ポンプの一次側とを接続する戻り流路が設けられ、
    前記戻し工程は、前記ポンプに吸い込んだ処理液を前記フィルタ装置及び前記戻り流路を介して前記合成部の処理液供給源側に戻す工程であることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか一項に記載の処理液供給方法。
12. 前記フィルタ装置の二次側は、前記ポンプの一次側及び吐出部に接続され、
    前記処理液供給源からの処理液供給路は、前記ポンプの二次側とフィルタ装置の一次側との間に接続され、
    前記補充工程は、前記処理液供給源側に戻された処理液と前記処理液供給源からの処理液とが前記フィルタ装置を介して前記ポンプに吸い込まれる工程であることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか一項に記載の処理液供給方法。
13. 前記フィルタ装置の二次側と前記前記処理液供給源からの処理液供給路との間に戻り流路が接続され、
    前記ポンプの二次側とフィルタ装置の一次側との間にその一端が接続された流路と、前記フィルタ装置の二次側とポンプの一次側との間に接続された流路と、により補充流路が構成され、
    前記補充工程は、前記処理液供給源側に戻された処理液と前記処理液供給源からの処理液とが前記補充流路を介して前記ポンプに吸い込まれる工程であることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか一項に記載の処理液供給方法。
14. 前記フィルタ装置の二次側とポンプの一次側との間に接続された流路は、前記戻り流路の一部を共用していることを特徴とする請求項１３記載の処理液供給方法。

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