KR102270003B1 - 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 - Google Patents

처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 과제는, 처리액 중의 이물질을 높은 포집율로 포집할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
처리액 용기(60)로부터의 처리액을 노즐(7)로부터 토출하는 데 있어서, 펌프(70)의 2차측에 필터(52)의 1차측을 접속하고, 필터(52)를 통과한 레지스트액(L)을 공급원측으로 복귀시킴과 함께, 복귀시킨 처리액과 처리액 용기(60)로부터 보충되는 처리액을 합성하고 있다. 그리고 처리액을 버퍼 탱크(61)로 복귀시킬 때 및 합성한 레지스트액(L)을 상기 펌프(70)에 흡입할 때 중 적어도 한쪽에 있어서, 필터(52)를 통과시키고 있다. 이로 인해, 필터(52)의 개수를 억제하면서 예를 들어 1개의 필터(52)를 사용하면서, 처리액 중의 이물질을 높은 포집율로 포집할 수 있다.

Description

처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법{APPARATUS FOR SUPPLYING TREATMENT LIQUID AND METHOD OF SUPPLYING TREATMENT LIQUID}
본 발명은 예를 들어 반도체 웨이퍼나 LCD용 글래스 기판 등의 피처리 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 디바이스의 제조의 포토리소그래피 기술에 있어서는, 반도체 웨이퍼나 FPD 기판 등의 기판에 포토레지스트를 도포하고, 이에 의해 형성된 레지스트막을 소정의 회로 패턴에 따라 노광하고, 이 노광 패턴을 현상 처리함으로써 레지스트막에 회로 패턴이 형성되어 있다.
이러한 포토리소그래피 공정에 있어서, 기판 등에 공급되는 레지스트액이나 현상액 등의 처리액에는, 여러 가지 원인에 의해 질소 가스 등의 기포나 파티클(이물질)이 혼입될 우려가 있고, 기포나 파티클이 혼재한 처리액을 기판에 공급하면 도포 불균일이나 결함이 발생할 우려가 있다. 그로 인해, 처리액을 기판에 도포하는 처리액 공급 장치에는, 처리액에 혼입된 기포나 파티클을 여과에 의해 제거하기 위한 필터가 설치되어 있다.
처리액에 혼입된 기포나 파티클의 여과 효율을 향상시키기 위한 장치로서, 복수의 필터를 설치하고, 이들 필터에 통과시킨 처리액을 웨이퍼 등에 공급하는 처리액 공급 장치가 알려져 있다. 그러나, 복수의 필터를 설치한 경우, 처리액 공급 장치가 대형화됨과 함께 대규모의 변경을 필요로 한다.
특허문헌 1에 있어서는, 약액(처리액)을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고 제1 용기에 저류되는 약액을 제2 용기에 흘리는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고 제2 용기에 저류되는 약액을 상기 제1 용기에 흘리는 제2 펌프를 구비하는 순환 여과식의 약액 공급 시스템이 개시되어 있다.
또한, 특허문헌 2에 있어서는, 하나의 필터를 설치한 순환 여과식의 다른 처리액 공급 장치로서, 포토레지스트 도포액(처리액)의 버퍼 용기와, 버퍼 용기로부터 포토레지스트 용액의 일부를 퍼내고 필터에 의해 여과한 후에 버퍼 용기로 복귀시키는 순환 여과 장치와, 버퍼 용기 또는 순환 장치로부터 포토레지스트 도포 장치로 포토레지스트 도포액을 송액하는 배관을 구비하는 포토레지스트 도포액 공급 장치가 개시되어 있다. 특허문헌 3에 있어서는, 필터의 1차측 및 2차측에 각각 펌프를 배치한 구성이 개시되어 있다.
특허문헌 1 및 특허문헌 2에 개시된 처리액 공급 장치에 있어서는, 필터에 의해 여과된 약액(처리액)이 제1 용기(버퍼 용기)로 복귀되고, 제1 용기로 복귀된 약액을 웨이퍼에 토출하고 있다. 이로 인해, 약액의 여과 효율의 향상을 도모하기 위해서는, 제1 용기로 복귀된 약액을 복수회 순환시켜 여과를 복수회 행할 필요가 있다. 이로 인해 대기 시간이 길어져, 스루풋 저하의 요인으로 된다.
또한, 파티클 검사 장치나 패턴 검사 장치의 분해능이 향상되고 있으므로, 처리액 중의 파티클에 대해, 현재에서는 문제가 안 되는 레벨의 크기라도, 금후 현재화될 것이 예상된다. 현재화된 미소한 파티클을 제거하는 대책을 강구함으로써, 반도체 디바이스의 수율을 향상시킬 수 있으므로, 처리액 공급계에 있어서도 지금까지 이상으로 파티클 억제의 대책이 요구되고, 예를 들어 처리액 공급로 중의 펌프로부터의 발진에 대해서도 무시할 수 없게 된다.
일본 특허 출원 공개 제2011-238666호 공보(특허청구범위, 도 7) 국제 공개 제2006/057345호 공보(특허청구범위, 도 4) 일본 특허 출원 공개 제2001-77015호 공보
본 발명은 이러한 사정에 기초하여 이루어진 것이며, 그 목적은, 처리액 중의 이물질을 높은 포집율로 포집할 수 있는 기술을 제공하는 데 있다.
본 발명의 처리액 공급 장치는, 처리액 공급원으로부터 토출부를 통해 처리액을 피처리체에 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액 공급원과 토출부 사이의 처리액 공급로에 설치되고, 펌프와 당해 펌프의 2차측에 접속된 필터 장치가 개재 설치된 순환로를 포함하고, 상기 필터 장치를 통과한 처리액과 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액을 합성하기 위한 합성부와,
상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치를 통과시키고, 상기 펌프로 복귀시키지 않고 상기 토출부로부터 토출시키는 토출 스텝과, 상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 복귀 스텝과, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액을 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액과 함께 상기 펌프에 흡입하는 보충 스텝을 실행하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하고,
상기 복귀 스텝 및 보충 스텝 중 적어도 한쪽에 있어서 처리액이 필터 장치를 통과하도록 구성되고,
상기 복귀 스텝에 있어서의 처리액의 복귀량은, 상기 토출부로부터 토출되는 처리액의 토출량 이상으로 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 처리액 공급 방법은, 처리액 공급원으로부터 토출부를 통해 처리액을 피처리체에 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서,
상기 처리액 공급원과 토출부 사이의 처리액 공급로에 설치되고, 펌프와 당해 펌프의 2차측에 접속된 필터 장치가 개재 설치된 순환로를 포함하고, 상기 필터 장치를 통과한 처리액과 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액을 합성하기 위한 합성부를 사용하고,
상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치를 통과시키고, 상기 펌프로 복귀시키지 않고 상기 토출부로부터 토출시키는 토출 공정과,
상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 복귀 공정과,
상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액을 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액과 함께 상기 펌프에 흡입하는 보충 공정을 포함하고,
상기 복귀 공정 및 보충 공정 중 적어도 한쪽에 있어서 처리액이 필터 장치를 통과하고,
상기 복귀 공정에 있어서의 처리액의 복귀량은, 상기 토출부로부터 토출되는 처리액의 토출량 이상으로 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 처리액 공급원으로부터의 처리액을 노즐 등의 토출부로부터 토출하는 데 있어서, 펌프의 2차측에 필터 장치의 1차측을 접속하고, 필터 장치를 통과한 처리액을 처리액 공급원측으로 복귀시킴과 함께, 복귀시킨 처리액과 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액을 합성하고 있다. 그리고 처리액을 처리액 공급원측으로 복귀시킬 때 및 합성한 처리액을 상기 펌프에 흡입할 때 중 적어도 한쪽에 있어서, 필터 장치를 통과시키고 있다. 이로 인해, 필터 장치의 개수를 억제하면서 예를 들어 1개의 필터 장치를 사용하면서, 처리액 중의 이물질을 높은 포집율로 포집할 수 있다.
도 1은 본 발명에 관한 처리액 공급 장치를 적용한 도포·현상 처리 장치에 노광 처리 장치를 접속한 처리 시스템의 전체를 나타내는 개략 사시도.
도 2는 상기 처리 시스템의 개략 평면도.
도 3은 본 발명에 관한 처리액 공급 장치의 제1 실시 형태를 나타내는 개략 단면도.
도 4는 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 펌프 흡입 동작을 나타내는 개략 단면도.
도 5는 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 6은 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 7은 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 8은 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 필터의 기포의 제거 동작을 나타내는 개략 단면도.
도 9는 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 펌프를 나타내는 개략 단면도.
도 10은 제1 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 일련의 펌프 흡입 동작, 토출 스텝, 복귀 스텝 및 보충 스텝을 나타내는 흐름도.
도 11은 레지스트액의 웨이퍼에의 토출량과 복귀량의 비율에 대한 합성 여과 횟수를 나타내는 그래프.
도 12는 제1 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 13은 제1 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 14는 제1 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 15는 제1 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 16은 제1 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 17은 제1 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 18은 제2 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치의 구성을 나타내는 개략 단면도.
도 19는 제2 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 20은 제2 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 21은 제2 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 22는 제2 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 23은 제2 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 24는 제2 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 25는 제2 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 토출 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 26은 제2 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 27은 제2 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 있어서의 보충 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 28은 제2 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치의 구성을 나타내는 개략 단면도.
도 29는 제3 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 처리액 토출 동작을 나타내는 개략 단면도.
도 30은 제3 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 처리액 공급 동작을 나타내는 개략 단면도.
도 31은 제3 실시 형태의 처리액 공급 장치에 있어서의 복귀 스텝을 나타내는 개략 단면도.
도 32는 제3 실시 형태에 사용되는 펌프의 일례를 나타내는 개략 단면도.
도 33은 제3 실시 형태에 사용되는 펌프의 일례를 나타내는 개략 단면도.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해, 첨부 도면에 기초하여 설명한다. 여기에서는, 본 발명에 관한 처리액 공급 장치(레지스트 처리액 공급 장치)를 도포·현상 처리 장치에 적용한 경우에 대해 설명한다.
상기 도포·현상 처리 장치는, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 피처리 기판인 웨이퍼(W)를 복수매, 예를 들어 25매 밀폐 수납하는 캐리어(10)를 반출입하기 위한 캐리어 스테이션(1)과, 이 캐리어 스테이션(1)으로부터 취출된 웨이퍼(W)에 레지스트 도포, 현상 처리 등을 실시하는 처리부(2)와, 웨이퍼(W)의 표면에 광을 투과하는 액층을 형성한 상태에서 웨이퍼(W)의 표면을 액침 노광하는 노광부(4)와, 처리부(2)와 노광부(4) 사이에 접속되어, 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 인터페이스부(3)를 구비하고 있다.
캐리어 스테이션(1)에는, 캐리어(10)를 복수개 배열하여 적재 가능한 적재부(11)와, 이 적재부(11)에서 볼 때 전방의 벽면에 설치되는 개폐부(12)와, 개폐부(12)를 통해 캐리어(10)로부터 웨이퍼(W)를 취출하기 위한 전달 수단(A1)이 설치되어 있다.
인터페이스부(3)는, 처리부(2)와 노광부(4) 사이에 전후로 설치되는 제1 반송실(3A) 및 제2 반송실(3B)로 구성되어 있고, 각각에 제1 웨이퍼 반송부(30A) 및 제2 웨이퍼 반송부(30B)가 설치되어 있다.
또한, 캐리어 스테이션(1)의 안쪽에는 하우징(20)에 의해 주위를 둘러싸이는 처리부(2)가 접속되어 있고, 이 처리부(2)에는 앞쪽부터 순서대로 가열·냉각계의 유닛을 다단화한 선반 유닛(U1, U2, U3) 및 액처리 유닛(U4, U5)의 각 유닛간의 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 주 반송 수단(A2, A3)이 교대로 배열되어 설치되어 있다. 또한, 주 반송 수단(A2, A3)은, 캐리어 스테이션(1)에서 볼 때 전후 방향으로 배치되는 선반 유닛(U1, U2, U3)측의 일면부와, 후술하는 예를 들어 우측의 액처리 유닛(U4, U5)측의 일면부와, 좌측의 일면을 이루는 배면부로 구성되는 구획벽(21)에 의해 둘러싸이는 공간 내에 배치되어 있다. 또한, 캐리어 스테이션(1)과 처리부(2) 사이, 처리부(2)와 인터페이스부(3) 사이에는, 각 유닛에서 사용되는 처리액의 온도 조절 장치나 온습도 조절용 덕트 등을 구비한 온습도 조절 유닛(22)이 배치되어 있다.
선반 유닛(U1, U2, U3)은, 액처리 유닛(U4, U5)에서 행해지는 처리의 전처리 및 후처리를 행하기 위한 각종 유닛을 복수단, 예를 들어 10단으로 적층한 구성으로 되어 있고, 그 조합은 웨이퍼(W)를 가열(베이크)하는 가열 유닛(도시하지 않음), 웨이퍼(W)를 냉각하는 냉각 유닛(도시하지 않음) 등이 포함된다. 또한, 웨이퍼(W)에 소정의 처리액을 공급하여 처리를 행하는 액처리 유닛(U4, U5)은, 예를 들어 도 1에 나타내는 바와 같이, 레지스트나 현상액 등의 약액 수납부(14) 상에 반사 방지막을 도포하는 반사 방지막 도포 유닛(BCT)(23), 웨이퍼(W)에 레지스트액을 도포하는 도포 유닛(COT)(24), 웨이퍼(W)에 현상액을 공급하여 현상 처리하는 현상 유닛(DEV)(25) 등을 복수단, 예를 들어 5단으로 적층하여 구성되어 있다. 도포 유닛(COT)(24)은, 본 발명에 관한 처리액 공급 장치를 구비한다.
상기한 바와 같이 구성되는 도포·현상 처리 장치에 있어서의 웨이퍼의 흐름의 일례에 대해, 도 1 및 도 2를 참조하면서 간단하게 설명한다. 우선, 예를 들어 25매의 웨이퍼(W)를 수납한 캐리어(10)가 적재부(11)에 적재되면, 개폐부(12)와 함께 캐리어(10)의 덮개가 제거되어 전달 수단(A1)에 의해 웨이퍼(W)가 취출된다. 그리고, 웨이퍼(W)는 선반 유닛(U1)의 1단을 이루는 전달 유닛(도시하지 않음)을 통해 주 반송 수단(A2)에 전달되고, 도포 처리의 전처리로서 예를 들어 반사 방지막 형성 처리, 냉각 처리가 행해진 후, 도포 유닛(COT)(24)에서 레지스트액이 도포된다. 이어서, 주 반송 수단(A2)에 의해 웨이퍼(W)는 선반 유닛(U1∼U3)의 하나의 선반을 이루는 가열 유닛에서 가열(베이크 처리)되고, 또한 냉각된 후 선반 유닛(U3)의 전달 유닛을 경유하여 인터페이스부(3)에 반입된다. 이 인터페이스부(3)에 있어서, 제1 반송실(3A) 및 제2 반송실(3B)의 제1 웨이퍼 반송부(30A) 및 제2 웨이퍼 반송부(30B)에 의해 노광부(4)로 반송되고, 웨이퍼(W)의 표면에 대향하도록 노광 수단(도시하지 않음)이 배치되어 노광이 행해진다. 노광 후, 웨이퍼(W)는 반대의 경로에서 주 반송 수단(A2)까지 반송되고, 현상 유닛(DEV)(25)에서 현상됨으로써 패턴이 형성된다. 그러한 후, 웨이퍼(W)는 적재부(11) 상에 적재된 원래의 캐리어(10)로 복귀된다.
다음으로, 본 발명에 관한 처리액 공급 장치의 제1 실시 형태에 대해 설명한다.
<제1 실시 형태>
제1 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 처리액인 레지스트액(L)을 저류하는 처리액 공급원을 이루는 처리액 용기(60)와, 피처리 기판인 웨이퍼에 레지스트액(처리액)(L)을 토출(공급)하는 노즐(7)과, 처리액 용기(60)와 노즐(7)을 접속하는 처리액 공급로인 처리액 공급 관로(51)를 구비하고 있다. 처리액 공급 관로(51)에는, 처리액 용기(60)로부터의 처리액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(61), 펌프(70) 및 레지스트액(L)을 여과하여 이물질을 제거하기 위한 필터(52)가 상류측으로부터 이 순서대로 설치되어 있다. 따라서 필터(52)는 펌프(70)의 2차측에 접속되고, 후술하는 바와 같이 펌프(70)로부터 토출된 처리액은 필터(52)를 통해 노즐(7)로 이송되게 된다.
처리액 공급 관로(51)에 대해서는, 처리액 용기(60)와 버퍼 탱크(61) 사이, 버퍼 탱크(61)와 펌프(70) 사이, 및 펌프(70)의 하류측을 각각 제1 처리액 공급 관로(51a), 제2 처리액 공급 관로(51b) 및 제3 처리액 공급 관로(51c)라고 하는 것으로 한다. 제3 처리액 공급 관로(51c)에는, 개폐 밸브와 석백 밸브를 포함하는 공급 제어 밸브(57)가 설치되어 있다.
제3 처리액 공급 관로(51c)에 있어서의 필터(52) 2차측의 부위로부터는 복귀 유로를 이루는 복귀 관로(55)가 분기되고, 이 복귀 관로(55)는 펌프(70)의 1차측의 제2 처리액 공급 관로(51b)에 접속되어 있다. 복귀 관로(55)의 도중에는 트랩 탱크(53)가 개재하여 설치되어 있다. 이 실시 형태에서는, 제2 처리액 공급 관로(51b)와 복귀 관로(55)의 접속점으로부터 제3 처리액 공급 관로(51c)와 복귀 관로(55)의 접속점에 이르기까지의 제2 처리액 공급 관로(51b)의 일부, 제3 처리액 공급 관로(51c)의 일부, 복귀 관로(55)를 포함하는 유로 및 펌프(70) 등의 기기는, 필터(52)를 통과한 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)로부터 보충되는 레지스트액(L)을 합성하기 위한 합성부를 구성하고 있다. 그리고 합성부에 포함되는 상술한 유로는, 순환로에 상당한다. 필터(52) 및 트랩 탱크(53)에는, 레지스트액(L) 중에 발생한 기포를 배출하기 위한 드레인 관로(56)가 설치되어 있다.
처리액 용기(60)의 상부에는, 불활성 가스, 예를 들어 질소(N2) 가스의 공급원(62)과 접속되는 제1 기체 공급 관로(58a)가 설치되어 있다. 또한, 이 제1 기체 공급 관로(58a)에는, 가변 조정 가능한 압력 조정 수단인 전공 레귤레이터(R)가 개재 설치되어 있다. 이 전공 레귤레이터(R)는, 후술하는 제어부(101)로부터의 제어 신호에 의해 작동하는 조작부, 예를 들어 비례 솔레노이드와, 상기 솔레노이드의 작동에 의해 개폐하는 밸브 기구를 구비하고 있고, 밸브 기구의 개폐에 의해 압력을 조정하도록 구성되어 있다. 또한, 버퍼 탱크(61)의 상부에는, 버퍼 탱크(61)의 상부에 체류하는 불활성 가스, 예를 들어 질소(N2) 가스를 대기에 개방하는 제2 기체 공급 관로(58b)가 설치되어 있다. 개폐 밸브(V11∼V16)는, 전자기식의 개폐 밸브이며, 개폐 밸브(V11∼V16) 및 전공 레귤레이터(R)는, 후술하는 제어부(101)로부터의 제어 신호에 의해 제어되어 있다.
버퍼 탱크(61)에는, 저류되는 레지스트액(L)의 소정의 액면 위치(충전 완료 위치, 요 보충 위치)를 감시하고, 저류 잔량을 검출하는 상한 액면 센서(61a), 하한 액면 센서(61b)가 설치되어 있다. 처리액 용기(60)로부터 버퍼 탱크(61)에 레지스트액(L)이 공급되어 있는 경우에 있어서, 레지스트액(L)의 액면 위치가 상한 액면 센서(61a)에 의해 검지되면, 개폐 밸브(V11, V12)가 폐쇄되고, 처리액 용기(60)로부터 버퍼 탱크(61)에의 레지스트액(L)의 공급이 정지한다. 또한, 레지스트액(L)의 액면 위치가 하한 액면 센서(61b)에 의해 검지되면, 개폐 밸브(V11, V12)가 개방되고, 처리액 용기(60)로부터 버퍼 탱크(61)에의 레지스트액(L)의 공급이 개시된다.
다음으로, 도 9에 기초하여, 펌프(70)의 상세한 구조에 대해 설명한다. 도 9에 나타내어지는 펌프(70)는 가변 용량 펌프인 다이어프램 펌프이며, 이 다이어프램 펌프(70)는, 가요성 부재인 다이어프램(71)에 의해 펌프실(72)과 작동실(73)로 구획되어 있다.
펌프실(72)에는, 개폐 밸브(V1)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)에 접속되고, 제2 처리액 공급 관로(51b) 내의 레지스트액(L)을 흡입하기 위한 1차측 연통로(72a)와, 개폐 밸브(V2)를 통해 제3 처리액 공급 관로(51c)에 접속되고, 제3 처리액 공급 관로(51c)에 레지스트액(L)을 토출하는 2차측 연통로(72b)를 구비한다. 또한 개폐 밸브(V3)를 통해, 2차측 연통로(72b)와 다른 연통로에 토출하도록 구성되어 있다.
작동실(73)에는 제어부(101)로부터의 신호에 기초하여 작동실(73) 내의 기체의 감압 및 가압을 제어하는 구동 수단(74)이 접속되어 있다. 구동 수단(74)은, 에어 가압원(75a)[이하에 가압원(75a)이라 함]과, 에어 감압원(75b)[이하에 감압원(75b)이라 함]과, 유량 센서인 플로우 미터(77)와, 전공 레귤레이터(78)와, 압력 센서(79)를 구비하고 있다.
작동실(73)은, 급배 전환 밸브(V4)를 통해 구동 수단(74)측에 접속되는 급배로(73a)가 설치되어 있고, 이 급배로(73a)에 급배 전환 밸브(V4)를 통해 가압원(75a)과 감압원(75b)에 선택적으로 연통되는 관로(76)가 접속되어 있다. 이 경우, 관로(76)는, 작동실(73)에 접속되는 주 관로(76a)와, 이 주 관로(76a)로부터 분기되고, 감압원(75b)에 접속되는 배기 관로(76b)와, 가압원(75a)에 접속되는 가압 관로(76c)로 형성되어 있다. 주 관로(76a)에는 유량 센서인 플로우 미터(77)가 개재 설치되고, 배기 관로(76b)에 개재 설치되는 배기압을 조정하는 압력 조정 기구와, 가압 관로(76c)에 개재 설치되는 가압, 즉, 에어압을 조정하는 압력 조정 기구가 전공 레귤레이터(78)로 형성되어 있다. 이 경우, 전공 레귤레이터(78)는, 배기 관로(76b)와 가압 관로(76c)를 선택적으로 접속하는 공통의 연통 블록(78a)과 배기 관로(76b) 또는 가압 관로(76c)의 연통을 차단하는 2개의 정지 블록(78b, 78c)과, 연통 블록(78a), 정지 블록(78b, 78c)을 전환 조작하는 전자기 전환부(78d)를 구비하는 전공 레귤레이터(78)로 형성되어 있다. 또한, 전공 레귤레이터(78)에는 압력 센서(79)가 설치되어 있고, 압력 센서(79)에 의해 관로(76)가 접속되는 작동실(73) 내의 압력이 검출된다.
상기한 바와 같이 구성되는 다이어프램 펌프(70)의 작동실(73)측에 접속되는 작동 에어의 급배부에 있어서, 구동 수단(74)을 구성하는 상기 플로우 미터(77)와 압력 센서(79) 및 전공 레귤레이터(78)는, 각각 제어부(101)와 전기적으로 접속되어 있다. 그리고, 플로우 미터(77)에 의해 검출된 관로(76) 내의 배기 유량과, 압력 센서(79)에 의해 검출된 관로(76) 내의 압력이 제어부(101)에 전달(입력)되고, 제어부(101)로부터의 제어 신호가 전공 레귤레이터(78)에 전달(출력)되도록 형성되어 있다. 또한 도 9 중 펌프(70)의 좌측에 1차측 연통로(72a)가 설치되고, 상하에 각각 순환측 연통로(72c), 2차측 연통로(72b)가 설치되어 있지만, 개략 단면도에 있어서는, 1차측 연통로(72a), 2차측 연통로(72b)의 설치 위치는 모식적으로 기재하고 있다.
제어부(101)는 컴퓨터(100)에 내장되어 있고, 컴퓨터(100)는, 제어부(101) 외에, 제어 프로그램을 저장하는 제어 프로그램 저장고(102)와, 외부로부터 데이터를 판독하는 판독부(103)와, 데이터를 기억하는 기억부(104)를 내장하고 있다. 또한, 제어 컴퓨터(100)는, 제어부(101)에 접속된 입력부(105)와, 모니터부(106)와, 판독부(103)에 삽입 장착됨과 함께 제어 컴퓨터(100)에 제어 프로그램을 실행시키는 소프트웨어가 기억된 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체(107)를 구비하고 있다. 제어 프로그램은 후술하는 토출 스텝, 복귀 스텝, 보충 스텝이 실행되도록 스텝군이 내장되어 있다. 스텝군은, 구체적으로는, 각 개폐 밸브의 개폐, 펌프(70)의 온/오프를 행하기 위한 동작을 행한다.
또한, 제어 프로그램은, 하드 디스크, 콤팩트 디스크, 플래시 메모리, 플렉시블 디스크, 메모리 카드 등의 기억 매체(107)에 저장되고, 이들 기억 매체(107)로부터 제어 컴퓨터(100)에 인스톨되어 사용된다.
다음으로, 도 4∼도 8 및 도 10에 기초하여, 이 실시 형태에 있어서의 처리액 공급 장치의 동작에 대해 설명한다. 우선, 제어부(101)로부터의 제어 신호에 기초하여, 제1 기체 공급 관로(58a)에 개재 설치된 개폐 밸브(V11)와 제1 처리액 공급 관로(51a)에 개재 설치된 개폐 밸브(V12)가 개방되고, N2 가스 공급원(62)으로부터 처리액 용기(60) 내에 공급되는 N2 가스의 가압에 의해 레지스트액(L)을 버퍼 탱크(61) 내에 공급한다.
버퍼 탱크(61) 내에 소정량의 레지스트액(L)이 공급(보충)되면, 상한 액면 센서(61a)로부터의 검지 신호를 받은 제어부(101)로부터의 제어 신호에 기초하여, 개폐 밸브(V11, V12)가 폐쇄된다. 이때, 개폐 밸브(V1)는 개방되고, 개폐 밸브(V2, V13)는 폐쇄되어 있다. 또한, 도 4에 나타내는 바와 같이 급배 전환 밸브(V4)가 배기측으로 전환되고, 이 상태에서 압력 센서(79)에 의해 다이어프램 펌프(70)의 작동실(73) 내의 압력이 검출되고, 검출된 압력의 검출 신호가 제어부(101)에 전달(입력)된다. 또한, 급배 전환 밸브(V4)가 배기측으로 전환된 후에, 개폐 밸브(V13)가 개방된다.
다음으로, 전공 레귤레이터(78)가 감압원(75b)측에 연통되어, 작동실(73) 내의 에어를 배기한다. 이때, 플로우 미터(77)에 의해 배기 유량이 검출되고, 검출된 배기 유량의 검출 신호가 제어부(101)에 전달(입력)된다. 작동실(73) 내의 에어의 배기를 행함으로써, 도 4에 나타내는 바와 같이 제2 처리액 공급 관로(51b)로부터 소정량의 레지스트액(L)이 펌프(70)[펌프실(72)]에 흡입된다(스텝 S1)(도 10 참조). 도 4 등의 작용 설명도에서는 레지스트액(L)이 흐르고 있는 상태를 굵은 선으로 나타내고 있다. 이 스텝 S1은 노즐(7)로부터 웨이퍼에 레지스트액(L)이 공급되어 웨이퍼의 로트를 처리하고 있는 도중 단계로부터 보면 후술하는 보충 스텝 S4와 동일하다고 할 수 있지만, 이 설명에서는, 스텝 S1에 의해 펌프(70)에 의해 흡입된 레지스트액(L)으로부터 합성부 내에서의 레지스트액(L)의 합성이 개시되는 것으로 한다.
다음으로, 개폐 밸브(V1, V13)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V2) 및 공급 제어 밸브(57)를 개방한다. 이때, 급배 전환 밸브(V4)를 흡기측으로 전환하고, 전공 레귤레이터(78)를 가압측에 연통하여, 작동실(73) 내에 에어를 공급함으로써, 도 5에 나타내는 바와 같이 펌프실(72)에 흡입된 레지스트액(L)이 압출되고, 필터(52)를 통과한 레지스트액(L)의 일부(예를 들어 5분의 1)가 노즐(7)로부터 웨이퍼에 토출된다(스텝 S2). 스텝 S1이 합성부에 의한 레지스트액(L)의 합성의 개시 시점인 것으로 하면, 스텝 S2에 있어서 노즐(7)로부터 토출된 레지스트액(L)은 더미 디스펜스로 되지만, 일련의 스텝의 사이클이 반복되어 정상 상태로 되어 있는 경우에는, 노즐(7)로부터 토출된 레지스트액(L)은 웨이퍼에 공급된다. 예를 들어 이 스텝 S2는 토출 스텝에 상당한다.
이 경우에 있어서, 펌프실(72)로부터 배출되는 레지스트액(L)의 양은, 작동실(73) 내에 공급되는 에어의 공급량에 의해 조정된다. 즉, 작동실(73)에 공급되는 에어의 공급량을 적게 함으로써 작동실(73)의 체적 증가가 적어지고, 웨이퍼에 토출되는 레지스트액(L)의 토출량이 적어진다. 또한, 작동실(73)에 공급되는 에어의 공급량을 많게 함으로써 작동실(73)의 체적 증가가 많아지고, 웨이퍼에 토출되는 레지스트액(L)의 토출량이 많아진다. 이 실시 형태에서는, 펌프실(72)에 흡입되어 있는 레지스트액(L)의 5분의 1이 웨이퍼에 토출된다. 또한, 작동실(73)에 공급되는 에어의 공급량은, 기억부(104)에 기억된 데이터에 기초하여 정해져 있다.
또한, 펌프실(72)로부터 배출되는 레지스트액(L)의 양을 조정하는 방법으로서, 작동실(73) 내에 공급되는 에어의 공급량을 조정하는 대신에, 에어의 공급 시간을 조정해도 되고, 혹은, 작동실(73) 내에 공급되는 에어의 공급을 제어부(101)로부터 발신되는 펄스 신호에 의해 조정해도 된다.
다음으로, 개폐 밸브(V17, V14)를 개방하고, 작동실(73) 내의 에어의 공급량을 많게 함으로써, 도 6에 나타내는 바와 같이 펌프(70)에 흡입된 나머지의 레지스트액(L)(예를 들어 5분의 4)이 필터(52)를 통과하고, 복귀 관로(55)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다(스텝 S3). 이 스텝 S3은 복귀 스텝에 상당한다. 이 실시 형태에서는, 스텝 S1에서 펌프(70)에 흡입된 레지스트액(L)의 5분의 4가 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다.
그 후 도 7에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V2, V14)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V1, V13)를 개방함으로써, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)에 보충되어 있는 레지스트액(L)이 합성되고, 스텝 S1로 되돌아간 상태에서, 합성된 레지스트액(L)이 펌프(70)에 흡입된다(스텝 S4). 이 스텝 S4는 보충 스텝에 상당한다. 이때, 버퍼 탱크(61)로부터 펌프(70)에 공급되는 레지스트액(L)의 양은, 웨이퍼에의 토출량과 등량으로 된다. 즉, 레지스트액(L)이 웨이퍼에 토출된 분만큼, 펌프(70)에 레지스트액(L)이 보충된다. 따라서, 이 실시 형태에서는, 펌프(70)에 흡입되어 있는 레지스트액(L)의 5분의 1의 양의 레지스트액(L)이 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)에 보충된다.
여기서, 복귀 관로(55)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되어 온 레지스트액(L)은 필터(52)에 의해 여과되어 있지만, 버퍼 탱크(61)로부터 공급되는 레지스트액(L)은 필터(52)로 여과되어 있지 않다. 따라서, 복귀 관로(55)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되어 온 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)로부터 보충되는 레지스트액(L)의 합성에 의한 레지스트액(L)과의 여과 횟수를 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수로서 구하는 경우, 다음 식 (1)로 나타내어진다.
Figure 112014104136172-pat00001
An은 웨이퍼에 토출되는 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수이며, 식 (1)로 나타내어지는 합성 여과 횟수를 순환 합성 여과 횟수라 한다. 또한, a, b는, a와 b의 비(a:b)에 의해, 레지스트액(L)의 웨이퍼에의 토출량과, 복귀 관로(55)에의 복귀량의 비가 나타내어지는 값으로 되어 있다. 즉, 레지스트액(L)의 웨이퍼에의 토출량 및 복귀 관로(55)에의 복귀량을 각각 Va 및 Vb로 하면, 이들 Va 및 Vb를 임의의 상수 k로 제산한 값이 각각 a 및 b로 된다. 이후의 설명에 있어서, a, b를 단순히 「토출량」 및 「복귀량」으로 하여 설명하는 경우가 있다.
또한, n은 스텝 1∼스텝 3의 일련의 처리를 행한 횟수(처리 횟수)이다. 또한, 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수 An이 본 발명의 토출량과 복귀량의 비율의 합성에 따른 횟수에 상당한다. 상술한 식 (1)로부터, 합성 여과 횟수 An은, 처리 횟수 n을 크게 함으로써 (a＋b)/a의 값으로 포화한다. 이 An, n, a, b의 관계를 도 11에 나타낸다.
도 11에 나타내는 바와 같이, a＝1, b＝4의 경우에는, 처리 횟수 n의 증가에 따라 합성 여과 횟수 An이 6에 근접하도록 수렴된다. 마찬가지로, a＝1, b＝2의 경우에는 합성 여과 횟수 An이 4에 근접하고, a＝1, b＝1의 경우에는 합성 여과 횟수 An이 3에 근접하도록 수렴된다.
이 실시 형태에서는, 복귀 관로(55)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되어 온 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)로부터 공급되는 레지스트액(L)의 유량의 비는 4 대 1이다. 복귀 관로(55)를 통해 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되어 온 레지스트액(L)의 여과 횟수는 1회, 버퍼 탱크(61)로부터 공급되는 레지스트액(L)의 여과 횟수는 0회이다. 이 경우에는, 필터(52)의 1차측의 제2 처리액 공급 관로(51b)에 공급되는 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수는 0.8회로 되고, 이 레지스트액(L)을 필터(52)에 통과시킴으로써 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수는 1.8회로 된다.
이러한 스텝 S2∼S4의 공정을 반복함으로써,(스텝 S1은 상술한 바와 같이 이니셜의 스텝으로서 취급하고 있음) 펌프(70)에 레지스트액(L)을 흡입하고, 펌프(70)에 흡입한 레지스트액(L)의 일부(5분의 1)가 웨이퍼에 토출된다. 그리고 펌프(70)에 흡입한 레지스트액(L)의 나머지(5분의 4)가 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되고, 버퍼 탱크(61)로부터 레지스트액(L)이 보충되고, 이상의 일련의 공정이 반복된다. 일례로서, 웨이퍼에의 토출량과 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되는 복귀량의 비를 1 대 4로 한 경우에는, a＝1, b＝4이므로, 합성 여과 횟수를 상기 식 (1)에 기초하여 계산을 하면, 스텝 S1 내지 S3을 5회 반복한 경우(n＝5)에 있어서, 합성 여과 횟수 A5는 4.36회로 된다.
다음으로, 표 1에 기초하여 제1 실시 형태의 효과에 대해 설명한다. 표 1에는, 도 3에 나타낸 처리액 공급 장치를 사용하여 상술한 바와 같이 하여 행하는 순환 합성 여과에 있어서, 토출량과 복귀량과 구성 여과 횟수 An의 관계가 기재되고, 또한 사이클 타임 및 파티클의 규격화수에 대해 기재되어 있다. 또한 비교를 위해 복귀 스텝을 행하지 않고 필터(52)를 1회 통과시킨 후의 레지스트액(L)을 웨이퍼에 토출한 경우(1회 여과)에 대해서도 마찬가지로 기재되어 있지만, 이 경우 합성 여과 횟수 An은 1회이다. 사이클 타임이라 함은 순환 합성의 경우에는, 왕복 합성 여과의 합성 여과 횟수 An에 대한 스텝 S1∼S3을 행할 때에 드는 시간을 말하며, 1회 여과의 경우에는, 스텝 S1과 스텝 S2를 행할 때에 드는 시간을 말한다.
또한 표 1에는 순환 왕복 합성 여과를 행한 경우에 대해서도 합성 여과 횟수 An 및 마찬가지의 파라미터값이 기재되어 있지만, 이 「순환 왕복 여과」라 함은, 후술하는 제2 실시 형태에 상당하는 기술을 말하며, 그 평가의 고찰에 대해서는 제2 실시 형태의 항목에서 설명한다.
Figure 112014104136172-pat00002
합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 합성 여과 방법에서는, 사이클 타임은 24.9초이며, 파티클 규격화수는 17, 1회 여과에 대한 파티클 규격화수는 77로 되었다. 따라서, 합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 합성 여과 방법에서는, 여과를 1회 행하는 경우와 거의 동일한 사이클 타임을 실현할 수 있고, 여과되어 있지 않은 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 17％로 억제하고, 여과를 1회 행한 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 77％로 억제할 수 있었다.
또한, 합성 여과 횟수 An을 10회 행하는 순환 합성 여과 방법에서는, 사이클 타임은 35.9초이며, 파티클 규격화수는 7, 1회 여과에 대한 파티클 규격화수는 32로 되었다. 따라서, 합성 여과 횟수 An을 10회 행하는 순환 합성 여과 방법에서는, 여과되어 있지 않은 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 7％로 억제하고, 여과를 1회 행한 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 32％로 억제할 수 있었다. 또한, 합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 합성 여과 방법과 비교해도 파티클수를 41％로 억제할 수 있었다.
따라서, 필터에 의한 여과를 1회 행한 경우와 마찬가지의 스루풋을 확보하면서 여과 효율을 향상시킬 수 있으므로, 장치의 대규모의 변경을 하는 일 없이, 하나의 필터로 복수의 필터를 설치한 경우와 마찬가지로 높은 여과 효율(이물질의 포집 효율)을 얻을 수 있음과 함께, 스루풋 저하를 억제할 수 있다.
또한 액처리를 계속하고 있는 동안에 필터(52)에 기포가 저류된 경우에는, 필터(52)의 기포의 제거 처리를 행한다. 예를 들어 필터(52)를 통과한 레지스트액의 양이 소정량, 예를 들어 500ml에 도달한 경우에, 펌프(70)에 예를 들어 1ml의 레지스트액(L)을 공급한다. 그 후 개폐 밸브(V2, V16)를 개방하고, 펌프(70)를 구동하여 도 8에 나타내는 바와 같이 필터(52)에 레지스트액(L)을 공급한다. 필터(52)를 통과한 레지스트액(L)은 드레인 관로(56)에 유입된다. 이에 의해 필터(52)에 저류되어 있었던 기포는, 레지스트액(L)과 함께 드레인 관로(56)로부터 배출된다.
또한 도 12∼도 14는 제1 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치이다. 상술한 예는 복귀 유로(55)에 설치되어 있다. 이 예에서는, 트랩 탱크(53)는, 제2 처리액 공급 유로(51b)에 설치되어 있다. 이러한 예를 도 12∼도 14에 기초하여 설명한다. 이 예에서는, 제1 실시 형태와 동일한 구성에 대해서는, 동일 부분에 동일 부호를 부여하여 설명은 생략한다.
제1 실시 형태의 다른 예의 동작은, 도 12에 나타내는 바와 같이, 펌프(70)에 유입되어 있는 레지스트액(L)의 일부를 웨이퍼에 토출(스텝 S2)한 후, 도 13에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V34)가 개방된 상태에서, 펌프(70)에 의해, 레지스트액(L)이 복귀 관로(55)를 통해, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다(스텝 S3). 그리고 도 14에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V1, V31, V13)가 개방되고, 웨이퍼에의 토출량과 등량의 레지스트액(L)이 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)에 보충되고, 제2 처리액 공급 관로에서 합성된 레지스트액(L)이 펌프(70)에 의해 흡인된다(스텝 S4). 이 예에 있어서도 레지스트액(L)은, 복귀 스텝(스텝 S3)에 있어서 필터(52)를 통과하고, 또한 펌프(70)로부터 노즐(7)로 송출되는 토출 스텝(스텝 S2) 시에도 필터(52)를 통과한다.
또한 제1 실시 형태의 또 다른 예에 관한 처리액 공급 장치에 대해 설명한다. 이 처리액 공급 장치는, 도 15∼도 17에 나타내는 바와 같이 제2 처리액 공급 관로(51b)의 하류에 환상 유로(37)가 접속되어 있다. 환상 유로(37)에는, 제2 처리액 공급 관로(51b)와의 접속 위치로부터 레지스트액의 흐름 방향을 따라, 개폐 밸브(V36), 필터(52), 개폐 밸브(V1), 펌프(70), 개폐 밸브(V2)의 순으로 개재 설치되어 있다. 펌프(70)의 1차측은 개폐 밸브(V1)측이다. 이 환상 유로(37)는 펌프(70)로부터 토출한 레지스트액(L)이 펌프로 복귀되므로 순환 유로라 할 수도 있다. 또한 환상 유로(37)에 있어서의 필터(52)와 펌프(70) 사이로부터 제3 처리액 공급 관로(51c)가 분기되어 있다.
이 처리액 공급 장치의 동작에 대해 설명한다. 상술한 2개의 예에서는, 토출 스텝 S2 시에 레지스트액(L)을 필터(52)를 통과시키고, 또한 복귀 스텝 S3 시에 레지스트액을 필터(52)를 통과시키고 있지만, 이 예에서는, 토출 스텝 S2 시에 더하여 복귀 스텝 S3이 아니라, 보충 스텝 S4 시에 레지스트액(L)을 필터(52)를 통과시키고 있다. 이하에 동작을 상세하게 설명한다. 펌프(70)에의 레지스트액(L)을 흡입하는 동작(스텝 S1)에 대해 설명한다. 우선 개폐 밸브(V2)가 폐쇄되고 개폐 밸브(V36, V1)가 개방된 상태, 펌프(70)가 가동된다. 레지스트액(L)은, 버퍼 탱크(61)로부터, 제2 처리액 공급 관로(51b), 환상 유로(37)를 통해 필터(52)에 유입되고, 필터(52)를 통과한 후, 환상 유로(37)를 통해 펌프(70)에 공급된다. 이 동작이 레지스트액의 합성의 최초의 스텝으로 하면, 후술하는 보충 스텝 S4와 같이 필터를 1회 통과한 레지스트액(L)과 합성되지 않지만, 액의 흐름으로서는 도 17에 나타내는 바와 같이 스텝 S4와 동일해진다.
이어서 도 15에 나타내는 펌프(70)로부터 노즐(7)에의 레지스트액(L)을 공급하는 토출 스텝(스텝 S2)을 행하기 위해, 개폐 밸브(V2, V36), 공급 제어 밸브(57)가 개방된다. 펌프(70)로부터 공급되는 레지스트액은, 환상 유로(37a), 환상 유로(37c)를 통해 필터(52)에 공급되고, 필터(52)를 통과한 레지스트액(L)이 제3 처리액 공급 관로(51c)로 흐르고, 노즐(7)로부터 토출된다. 펌프(70)로부터는 예를 들어 펌프(70) 내의 1/5의 양(예 1ml)의 레지스트액(L)이 공급된다. 상술한 바와 같이 일련의 스텝을 반복함으로써 정상 상태, 즉, 합성 여과 횟수가 상한으로 된 상태일 때에는, 노즐(7)로부터 더미 디스펜스가 아니라 레지스트액(L)이 웨이퍼에 토출되게 된다.
계속해서 도 16에 나타내는 바와 같이 펌프(70)에 남는 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 복귀 스텝을 행한다(스텝 S3). 이때 개폐 밸브(V36) 및 공급 제어 밸브(57)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V2)가 개방된 상태로 된다. 그 상태에서 나머지의 4/5의 레지스트액(L)(예를 들어 4ml)이 펌프(70)로부터 압출되어 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다.
계속해서 보충 스텝인 스텝 S4를 행한다. 스텝 S4에 있어서는, 도 17에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V2)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V36, V1, V13)가 개방된다. 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)에 레지스트액(L)이 보충되고, 스텝 S3에 있어서 펌프(70)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)까지 복귀된 레지스트액(L)과, 새롭게 보충된 레지스트액(L)이 합성되고, 펌프(70)에 공급된다. 제2 처리액 공급 관로(51b) 내의 레지스트액(L)은 제2 처리액 공급 관로(51b), 환상 관로(37c), 필터(52), 환상 관로(37b)를 통해 펌프(70)에 흡입된다. 펌프(70)에 의해 레지스트액(L)이 흡입됨으로써, 처리액 용기(60)로부터 버퍼 탱크(61)에 레지스트액(L)이 보충된다.
따라서, 이 예에서는, 펌프(70) 내의 레지스트액(L)을 토출하는 토출 스텝(스텝 S2)과, 토출 스텝(스텝 S2) 후에 펌프(70) 내에 남은 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)로부터 보충된 레지스트액(L)을 펌프(70)에 흡입하는 보충 스텝(스텝 S4)에 있어서 레지스트액(L)이 필터(52)를 통과하게 된다. 또한 펌프(70)에 남겨진 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 복귀 스텝(스텝 S3)에 있어서는, 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과하지 않게 된다. 즉, 이 예에서는, 상술한 2개의 실시 형태와 달리, 복귀 스텝 S2가 아니라 보충 스텝 S4에 있어서, 레지스트액(L)이 필터를 통과하게 된다.
이 실시 형태에서는, 레지스트액(L)은, 펌프(70)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되는 동작에 있어서는, 필터(52)를 통과하지 않지만, 버퍼 탱크(61)로부터 보충되는 레지스트액과 합성되고, 필터(52)를 통과한 후 펌프(70)에 공급되게 된다. 결과적으로, 펌프(70)에 남겨진 레지스트액(L)이, 펌프(70)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되고, 또한 펌프(70)에 공급될 때까지 필터(52)를 통과하게 되므로, 펌프(70) 내의 레지스트액(L)의 필터(52)의 통과 횟수를 증가시킬 수 있으므로, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.
<제2 실시 형태>
다음으로, 도 18∼도 21에 기초하여, 본 발명에 관한 처리액 공급 장치의 제2 실시 형태에 대해 설명한다. 상술한 제1 실시 형태에서는, 토출 스텝 S2에 더하여, 복귀 스텝 S3 또는 보충 스텝 S4에서 레지스트액(L)을 필터(52)에 통과시키고 있었지만, 제2 실시 형태에서는, 복귀 스텝 S3 및 보충 스텝 S4의 양쪽에서 레지스트액을 필터에 통과시키도록 구성하고 있다. 또한, 제2 실시 형태에 있어서, 제1 실시 형태와 동일한 구성에 대해서는, 동일 부분에 동일 부호를 부여하여 설명은 생략한다.
제2 실시 형태의 처리액 공급 장치는, 펌프(70)로부터 제2 처리액 공급 관로에 접속된 복귀 관로(55)를 구비하고 있다. 복귀 관로(55)에는, 펌프(70)의 개폐 밸브(V2)측으로부터 레지스트액(L)의 흐름 방향을 따라, 필터(52), 개폐 밸브(V24), 트랩 탱크(53), 개폐 밸브(V21)가 이 순서대로 개재 설치되어 있다. 또한 버퍼 탱크(61)로부터 펌프(70)까지는 보충 유로(50)로 되어 있다. 보충 유로(50)에는 버퍼 탱크(61)측으로부터 레지스트액(L)의 흐름 방향을 따라, 개폐 밸브(22), 필터(52), 개폐 밸브(24), 트랩 탱크(53)가 개설되어 있고, 펌프(70)의 개폐 밸브(V1)측에 접속되어 있다. 이들 복귀 관로(55)와 보충 유로(50)는 그 일부가 공통의 관로로 되어 있다.
또한 복귀 관로(55)와 보충 유로(50)의 공통의 부위에 있어서의 필터(52)의 2차측이며, 개폐 밸브(V24)의 1차측에는, 제3 처리액 공급 관로가 분기되어 있다. 또한 이 예에 있어서는, 보충 유로(50)에 있어서의 개폐 밸브(22)의 1차측의 복귀 관로(55)와의 접속점으로부터 펌프(70)까지의 부위, 복귀 유로(55)에 있어서의 개폐 밸브(V21)의 2차측의 보충 유로(50)와의 접속점까지의 부위 및 펌프(70) 등의 기기가 합성부에 상당한다.
제2 실시 형태의 동작에 대해 설명한다. 우선 펌프(70)에 의해, 펌프(70) 중에 레지스트액(L)이 흡입된다(스텝 S1). 이때 개폐 밸브(V22, V24, V1)가 개방된다. 레지스트액(L)은, 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b), 보충 유로(50)를 통해 필터(52)에 공급되고, 필터(52)를 통과한 후, 트랩 탱크(53)를 통해, 펌프(70)에 흡인된다(스텝 S1). 이 예에 있어서도 스텝 S1은 복귀액과 보충액의 합성을 개시하는 최초의 스텝인 것으로 하여 설명을 진행시킨다.
이어서 개폐 밸브(V1, V22)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V2) 및 공급 제어 밸브(57)를 개방한다. 그리고 펌프(70)를 구동하면, 도 19에 나타내는 바와 같이 펌프(70)에 흡입되어 있었던 레지스트액(L)의 일부(예를 들어 1ml)가 압출되고, 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과한 후, 노즐(7)을 통해 웨이퍼에 토출된다(스텝 S2). 이 스텝 S2가 토출 스텝에 상당한다.
펌프(70)에 남겨진 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 복귀 스텝(스텝 S3)에서는, 도 20에 나타내는 바와 같이, 공급 제어 밸브(57)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V24, V32)를 개방하고, 나머지의 레지스트액(L)이 복귀 관로(55)를 통해, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다. 이때 펌프(70)로부터 압출되는 레지스트액(L)은, 필터(52) 및 트랩 탱크(53)를 통과한 후, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다.
계속해서 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크로부터 보충된 레지스트액(L)이 합성되어, 펌프에 공급된다(스텝 S1). 이때 도 21에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V21)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V22, V24, V1, V13)가 개방된다. 그리고, 웨이퍼에의 토출량과 등량의 레지스트액(L)이 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)에 보충되고, 버퍼 탱크(61)로부터 보충된 레지스트액(L)과, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)이 합성되고, 합성된 레지스트액(L)이 펌프실(72)에 흡입된다. 이때 제2 처리액 공급 관로(51b) 내의 레지스트액(L)은, 필터(52) 및 트랩 탱크(53)를 통과하여 펌프(70)에 공급된다.
이 실시예에서는, 웨이퍼에의 레지스트액(L)이 토출하는 동작(스텝 S2), 펌프(70)에 남겨진 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 동작(스텝 S3), 또한 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시킨 레지스트액(L)과, 버퍼 탱크(61)로부터 공급된 레지스트액을 합성한 후 펌프에 흡인하는 동작(스텝 S1)에 있어서, 레지스트액(L)이 필터(52)를 통과한다.
따라서, 제2 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치에서는, 펌프(70)에 흡입된 레지스트액(L)의 일부는, 제1 복귀 관로(65a)와 제2 처리액 공급 관로(51b)를 통과하는 과정, 바꾸어 말하면 제2 처리액 공급 관로(51b)를 왕복하는 과정에서 필터(52)에 의한 여과(이하에, 순환 왕복 합성 여과라 함)가 행해진다. 이 경우의 웨이퍼에 토출되는 레지스트액(L)의 합성 여과 횟수 An과, 펌프(70)에 흡입된 레지스트액(L)의 웨이퍼에의 토출량과 제2 처리액 공급 관로(51b)에의 복귀량의 관계는, 다음 식 (2)로 나타내어진다.
Figure 112014104136172-pat00003
여기서, 식 (2)로 나타내어지는 합성 여과 횟수를 순환 왕복 합성 여과 횟수라 한다.
일례로서, 웨이퍼에의 토출량과 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되는 복귀량의 비를 1 대 4로 한 경우에는, a＝1, b＝4이므로, 합성 여과 횟수를 상기 식 (2)에 기초하여 계산을 하면, 스텝 S1 내지 S3을 5회 반복한 경우(n＝5)에 있어서, 합성 여과 횟수 A5는 6.72회로 된다.
또한 제2 실시 형태의 다른 예에 관한 처리액 공급 장치로서 도 22∼도 24에 나타내는 바와 같이 중간 관로(50b)에 있어서의 제3 처리액 공급 관로(51c)가 접속되는 위치보다도 1차측의 위치에 트랩 탱크(53)를 설치한 구성이어도 된다. 이 예에서는 개폐 밸브(V21)는 3방향 밸브로 되어 있다. 우선 펌프(70)로부터 노즐(7)에 레지스트액(L)을 공급하는 과정에서는, 도 22에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V1, V22) 및 공급 제어 밸브(57)가 개방되고, 펌프(70)에 의해 레지스트액(L)의 일부가 노즐(7)로 송액된다. 이때 레지스트액(L)은 필터(52), 트랩 탱크(53)를 통과한 후, 제3 처리액 공급 관로(51c)에 공급되고, 노즐(7)로부터 토출된다.
펌프(70)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)로 나머지의 레지스트액(L)을 복귀시키는 복귀 스텝(스텝 S3)에서는, 도 23에 나타내는 바와 같이 공급 제어 밸브(57)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V24)가 개방되고, 개폐 밸브(V21)에 의해, 복귀 관로(55)에 접속된다. 펌프(70)로부터 송액되는 레지스트액(L)은, 필터(52), 트랩 탱크(53)를 이 순서대로 통과한 후, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다.
또한 제2 처리액 공급관(51b)으로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61)로부터 보충된 레지스트액(L)이 합성되어 펌프(70)에 공급되는 동작(스텝 S1)에서는, 도 24에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V2)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V21)는 펌프(70)를 향하도록 접속된다. 또한 개폐 밸브(V13)가 개방되어, 버퍼 탱크(61) 내의 레지스트액이 제2 처리액 공급 관로(51b)에 보충된다. 레지스트액(L)은, 제2 처리액 공급 관로(51b)로부터 보충 유로(50)를 흐르게 된다. 이때 레지스트액(L)은, 필터(52), 트랩 탱크(53)의 순으로 통과한 후, 펌프(70)에 공급된다.
이러한 구성의 경우에도 펌프(70)로부터 압출되는 레지스트액을 노즐(7)로부터 토출하는 동작(스텝 S1), 펌프(70)에 남는 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 동작(스텝 S3), 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(60)로부터 보충된 레지스트액(L)을 혼합하여 펌프(70)로 이송하는 동작(스텝 S1)의 각 동작에 있어서, 레지스트액(L)은 필터(52)를 통과하므로 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.
다음으로, 표 1에 기초하여 제2 실시 형태의 효과에 대해 설명한다. 제2 실시 형태에 있어서의 합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 왕복 합성 여과 방법에서는, 사이클 타임은 20.5초이며, 파티클 규격화수는 18, 1회 여과에 대한 파티클 규격화수는 82로 되었다. 따라서, 합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 왕복 합성 여과 방법에서는, 여과를 1회 행하는 경우보다도 빠른 사이클 타임을 실현할 수 있고, 여과되어 있지 않은 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 18％로 억제하고, 여과를 1회 행한 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 82％로 억제할 수 있었다.
또한, 합성 여과 횟수 An을 10회 행하는 순환 왕복 합성 여과 방법에서는, 사이클 타임은 26.0초이며, 파티클 규격화수는 8, 1회 여과에 대한 파티클 규격화수는 36으로 되었다. 따라서, 합성 여과 횟수 An을 10회 행하는 순환 왕복 합성 여과 방법에서는, 여과되어 있지 않은 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 8％로 억제하고, 여과를 1회 행한 레지스트액(L)과 비교하여 파티클수를 36％로 억제할 수 있었다. 또한, 합성 여과 횟수 An을 5회 행하는 순환 왕복 합성 여과 방법과 비교해도 파티클수를 44％로 억제할 수 있었다.
따라서, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 필터에 의한 여과를 1회 행한 경우와 마찬가지의 스루풋을 확보하면서 여과 효율을 향상시킬 수 있으므로, 장치의 대규모의 변경을 하는 일 없이, 하나의 필터로 복수의 필터를 설치한 경우와 마찬가지의 여과 효율을 얻음과 함께, 스루풋 저하의 방지를 도모할 수 있다.
또한, 제2 실시 형태의 순환 왕복 합성 여과 방법에서는, 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시킬 때에도 필터(52)를 통과시키므로, 제2 실시 형태에서는, 제1 실시 형태에 비해 웨이퍼 상에 부착되는 파티클의 수를 감소시킬 수 있다.
또한 제2 실시 형태의 또 다른 예로서, 트랩 탱크(53)를 설치하지 않는 구성이어도 된다. 도 25∼도 27에 나타내는 바와 같이 도 18에 나타낸 처리액 공급 장치에 있어서, 트랩 탱크(53)를 제외한 구성으로 한다. 이 예에서는, 노즐(7)로부터 레지스트액(L)을 토출하는 토출 스텝(스텝 S2)에 있어서는, 개폐 밸브(V1, V22)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V2) 및 공급 제어 밸브(57)를 개방한다. 이 후 도 25에 나타내는 바와 같이 펌프(70)에 흡입된 레지스트액(L)의 일부가 압출되고, 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과한 후, 제3 처리액 공급 관로(51c)로 흐르고, 노즐(7)을 통해 웨이퍼에 토출된다.
펌프(70)에 남겨진 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 복귀 스텝(스텝 S3)에서는, 공급 제어 밸브(57)를 폐쇄하고, 개폐 밸브(V24, V32)를 개방한다. 그리고 도 26에 나타내는 바와 같이 나머지의 레지스트액(L)이 펌프(70)로부터 압출되고, 복귀 관로(55)를 흘러, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된다. 이때 펌프(70)로부터 압출되는 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과한 후, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀되게 되고, 트랩 탱크(53)를 통과하지 않는 점에서 제2 실시 형태와 다르다.
계속해서, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(61) 내의 레지스트액(L)을 합성하여, 합성된 레지스트액(L)을 펌프(70)에 공급하는 동작(스텝 S4)에 있어서는, 도 27에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V21)가 폐쇄되고, 개폐 밸브(V22, V13, V1)가 개방된다. 그리고, 웨이퍼에의 토출량과 등량의 레지스트액(L)이 버퍼 탱크(61)로부터 제2 처리액 공급 관로(51b)에 보충되고, 버퍼 탱크(61)로부터 보충된 레지스트액(L)과, 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)이 합성되고, 합성된 레지스트액(L)이 펌프(70)에 흡입된다. 이때 제2 처리액 공급 관로(51b) 내의 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과하여 펌프(70)에 공급된다.
따라서, 이 동작에 있어서도 트랩 탱크(53)를 통과하지 않는 점에서 제2 실시 형태와 다르다. 이 예에 있어서도 펌프(70)로부터 압출되는 레지스트액을 노즐(7)로부터 토출하는 동작(스텝 S2), 펌프(70)에 남는 레지스트액(L)을 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀시키는 동작(스텝 S3), 제2 처리액 공급 관로(51b)로 복귀된 레지스트액(L)과 버퍼 탱크(60)로부터 공급된 레지스트액(L)을 혼합하여 펌프(70)로 이송하는 동작(스텝 S4)의 각 동작에 있어서, 필터(52)를 통과하게 되고, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.
나아가서는, 제2 실시 형태에서는, 도 28에 나타내는 바와 같이 트랩 탱크(53)는 보충 유로(50)에 있어서의 필터(52)의 1차측의 위치이며, 보충 유로(50)와 복귀 관로(55)의 공통의 관로에 설치되어 있어도 된다.
<제3 실시 형태>
계속해서, 본 발명의 제3 실시 형태에 대해, 도 29∼도 33을 참조하여 설명한다. 이 제3 실시 형태에서는, 상술한 제1 실시 형태에서 설명한 합성 여과를 행하는 데 있어서, 도 29∼도 31에 나타내는 바와 같이, 필터(52)의 1차측의 제2 처리액 공급 관로(51b) 및 2차측에 있어서의 제3 처리액 공급 관로(51c)에, 공급 펌프(111)와 토출 펌프(112)를 각각 배치하고 있다. 이들 펌프(111, 112)는, 도 32에 나타내는 바와 같이, 예를 들어 시린지 펌프가 사용되어 있다. 구체적으로는, 각각의 펌프(111, 112)는, 일면측(도 32 중 앞쪽)이 개방되는 개략 원통 형상의 외측 부재(113)와, 이 외측 부재(113)의 내부에서 상기 일면측으로부터 타면측을 향해 진퇴 가능하게 삽입된 원통 형상의 진퇴 부재(114)에 의해 구성되어 있다.
또한 토출 펌프(112)의 2차측에, 또 다른 필터(200)를 설치한다. 이 필터(200)와 공급 제어 밸브(57) 사이에 있어서의 제3 처리액 공급 관로(51c)에는, 복귀 유로(201)의 일단부측이 접속되어 있고, 이 복귀 유로(201)의 타단부측은, 개폐 밸브(V51)를 통해, 버퍼 탱크(61)와 공급 펌프(111) 사이에 있어서의 제2 처리액 공급 관로(51b)에 접속되어 있다. 또한, 도 29∼도 31 중 부호 202는 필터(200)로부터 기포를 배출하기 위한 벤트관, 부호 V52는 이 벤트관(202)에 설치된 개폐 밸브이다.
외측 부재(113)의 측 둘레면에는, 레지스트액(L)을 처리액 용기(60)측으로부터 흡인하는 흡인구(115)와, 레지스트액(L)을 웨이퍼측에 공급하는 공급구(116)가 서로 대향하도록 배치되어 있다. 또한, 외측 부재(113)에 있어서 진퇴 부재(114)에 대향하는 선단부에는, 레지스트액(L)을 필터(52)측으로 복귀시키기 위한 복귀구(117)가 형성되어 있고, 이 복귀구(117)는, 후술하는 복귀 유로(118)의 개구 단부를 이루고 있다. 그리고, 이들 흡인구(115), 공급구(116) 및 복귀구(117)로부터 각각 신장되는 유로[제2 처리액 공급 관로(51b), 제3 처리액 공급 관로(51c) 및 복귀 유로(118)]에는, 개폐 밸브(V91, V92, V93)가 각각 개재 설치되어 있다. 또한, 도 32 및 도 33에서는, 이들 개폐 밸브(V91∼V93)의 배치 장소에 대해, 모식적으로 펌프(111, 112)에 근접시켜 묘화하고 있다.
진퇴 부재(114)에는, 예를 들어 스테핑 모터나 서보 모터 등의 구동부(119)가 조합되어 설치되어 있고, 당해 진퇴 부재(114)는, 외측 부재(113)의 개구 단부에 대해, 당해 진퇴 부재(114)의 단부에 있어서의 주연부가 기밀하게 접촉하면서 진퇴할 수 있도록 구성되어 있다. 따라서, 개폐 밸브(V91)를 개방함과 함께, 개폐 밸브(V92, V93)를 폐지하여, 진퇴 부재(114)를 외측 부재(113)로부터 인발하는 방향으로 후퇴시키면, 도 30에 나타내는 바와 같이, 레지스트액(L)이 제2 처리액 공급 관로(51b)로부터 흡인구(115)를 통해 외측 부재(113)의 내부 영역에 인입된다.
한편, 개폐 밸브(V91)를 폐지함과 함께, 개폐 밸브(V92) 혹은 개폐 밸브(V93)를 개방하여, 진퇴 부재(114)를 외측 부재(113)의 내부를 향해 압입하면, 개폐 밸브(32)[개폐 밸브(V93)]를 통해, 제3 처리액 공급 관로(51c)[복귀 유로(118)]를 향해 레지스트액(L)이 토출된다. 각각의 펌프(111, 112)에 있어서의 액 공급량(액의 저류량)은, 예를 들어 30ml로 되어 있다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 진퇴 부재(114)를 외측 부재(113)의 내부를 향해 압입하는 동작 및 진퇴 부재(114)를 외측 부재(113)의 내부로부터 인발하는 동작을 각각 「진퇴 부재(114)를 전진시킨다」 및 「진퇴 부재(114)를 후퇴시킨다」고 하여 설명한다.
계속해서, 이들 펌프(111, 112)를 구비한 처리액 공급 장치의 구성의 설명으로 되돌아가면, 도 29에 나타내는 바와 같이, 펌프(111, 112)의 사이에는, 상술한 필터(52)가 개재 설치된 접속로(121)가 배치되어 있다. 이 접속로(121)는, 상류측의 개구 단부가 공급 펌프(111)에 있어서의 공급구(116)로서 개방됨과 함께, 하류측의 개구 단부가 토출 펌프(112)에 있어서의 흡인구(115)로서 개방되어 있다. 또한, 펌프(111, 112)의 사이에는, 상기 접속로(121)와는 다른 복귀 유로(118)가 배치되어 있고, 펌프(111, 112)에 있어서의 복귀구(117, 117)끼리는, 당해 복귀 유로(118)를 통해 서로 연통되어 있다.
여기서, 공급 펌프(111)에 있어서의 각 개폐 밸브(V91∼V93) 및 토출 펌프(112)에 있어서의 각 개폐 밸브(V91∼V93)에 대해, 각각 「a」 및 「b」의 첨자를 부여하면, 도 29에 나타내는 바와 같이, 공급 펌프(111)의 개폐 밸브(V93a)는, 토출 펌프(112)의 개폐 밸브(V93b)와 공통화되어 있다. 또한, 토출 펌프(112)의 개폐 밸브(V92b)는, 공급 제어 밸브(57)와 공통화되어 있다. 도 29 중 부호 122는, 토출 펌프(112) 내에 있어서의 레지스트액(L)의 압력을 측정하기 위한 압력계이다.
다음으로, 펌프(111, 112)를 사용한 합성 여과의 구체적인 동작에 대해 설명한다. 여기서, 초기 상태로서, 공급 펌프(111)에서는 진퇴 부재(114)가 외측 부재(113)의 내부에 있어서의 안쪽부까지 압입되어 있어, 레지스트액(L)의 저류량이 제로로 되어 있는 것으로 한다. 한편, 토출 펌프(112)에서는, 진퇴 부재(114)는, 상기 안쪽부보다도 앞쪽에 인출되어 있어, 예를 들어 1ml의 레지스트액(L)이 저류되어 있는 것으로 한다. 또한, 공급 제어 밸브(57)를 포함하는 각 개폐 밸브(V91∼33)는, 각각 폐지되어 있는 것으로 한다.
이러한 초기 상태에 이어, 웨이퍼에의 레지스트액(L)의 토출 동작과, 공급 펌프(111)에의 레지스트액(L)의 보충 동작을 행한다. 구체적으로는, 도 29에 나타내는 바와 같이, 공급 제어 밸브(57)를 개방하여, 개폐 밸브(V13)를 개방함과 함께, 토출 펌프(112)에 있어서의 진퇴 부재(114)를 전진시키면, 공급 펌프(111)에서는 레지스트액(L)의 저류량이 예를 들어 0ml로부터 10ml로 증가한다. 한편, 토출 펌프(112)에서는, 레지스트액(L)의 저류량이 예를 들어 1ml로부터 0ml로 감소하여, 이 레지스트액(L)이 필터(200)를 통과하여 노즐(7)로부터 토출된다. 이때, 개폐 밸브(V51, V15)는, 각각 폐쇄되어 있다. 상기 토출 동작과 상기 보충 동작은, 동시에 행해진다. 이 토출 동작이 토출 스텝에 해당한다.
여기서, 「동시」라 함은, 이들 펌프(111, 112)의 동작 개시 타이밍과 동작 종료 타이밍이 서로 일치하고 있는 경우 외에, 펌프(111, 112) 중 한쪽의 펌프[111(112)]가 동작을 개시한 후, 당해 동작을 종료할 때까지의 사이에, 다른 쪽의 펌프[112(111)]가 동작하고 있는 경우를 포함한다. 즉, 레지스트액(L)의 토출 동작과 레지스트액(L)의 보충 동작을 각각 행하고 있는 시간대끼리가 서로 겹쳐 있는 경우를 포함한다. 또한, 도 29에서는, 각 펌프(111, 112)에 있어서의 레지스트액(L)의 저류량에 대해, 각 펌프(111, 112)의 하측에 병기하고 있다. 이후의 도 29∼도 31도 마찬가지이다. 또한, 도 29∼도 31에서는, 장치 구성에 대해 간략화하여 묘화하고 있다.
이어서, 도 30에 나타내는 바와 같이, 공급 펌프(111)에 있어서의 개폐 밸브(V91a)를 폐지함과 함께, 개폐 밸브(V92a)를 개방한다. 또한, 토출 펌프(112)에 있어서의 개폐 밸브(V91b)를 개방하고, 공급 제어 밸브(57)를 폐쇄한다. 그리고, 공급 펌프(111)의 진퇴 부재(114)를 전진시킴과 함께, 토출 펌프(112)의 진퇴 부재(114)를 후퇴시키면, 공급 펌프(111) 내의 레지스트액(L)은, 필터(52)를 통과하여 이물질이나 기포가 제거된 후, 토출 펌프(112) 내로 이동한다. 이때, 레지스트액(L)의 필트레이션 동작에 이어, 필터(52)에 남는 기포의 제거 작업(벤트)을 행하는 경우에는, 0.5∼1ml 정도의 레지스트액(L)을 공급 펌프(111) 내에 남겨 둔다. 또한, 도 30에서는, 공급 펌프(111)에 남는 레지스트액(L)의 잔량으로서, 편의적으로 0ml라고 기재하고 있다. 이 필트레이션 동작과, 전술한 보충 동작이 보충 스텝에 해당한다.
기포의 제거 작업은, 필터(52)의 상부측에 있어서의 개폐 밸브(V15)를 개방하고, 토출 펌프(112)의 개폐 밸브(V91b)를 폐지한다. 그리고, 공급 펌프(111)의 진퇴 부재(114)를 약간[0.5∼1ml 정도의 레지스트액(L)이 토출되도록] 전진시키면, 필터(52)에 남는 기포가 레지스트액(L)과 함께 배출된다.
계속해서, 도 31에 나타내는 바와 같이, 공급 펌프(111)의 개폐 밸브(V91a)를 개방하고, 개폐 밸브(V92a)를 폐지한다. 또한, 토출 펌프(112)의 개폐 밸브(V93b)를 개방함과 함께, 개폐 밸브(V15)를 폐지한다. 또한, 상술한 필터(52)에 있어서의 기포의 제거 작업을 행하지 않은 경우에는, 토출 펌프(112)의 개폐 밸브(V91b)를 폐지한다. 그리고, 토출 펌프(112)의 진퇴 부재(114)를 전진시키면, 당해 토출 펌프(112) 내의 레지스트액(L)은, 필터(200)를 통과하여, 복귀 유로(201)를 경유하여 버퍼 탱크(61)의 2차측[공급 펌프(111)의 1차측]에 도달한다. 이와 같이 하여 후속의 웨이퍼의 처리에 필요한 액량(1ml)을 초과한 여분의 양(9ml)이 토출 펌프(112)로부터 배출될 때까지, 혹은 임의의 양(1ml∼9ml)의 레지스트액(L)이 토출 펌프(112)로부터 배출될 때까지, 당해 토출 펌프(112)에 있어서의 진퇴 부재(114)를 전진시킨다. 도 31에 나타내는 동작이 복귀 스텝으로 된다.
도 31은 초기 상태로 되어 있다. 따라서, 그 후, 공급 펌프(111) 내에 레지스트액(L)을 보충하면, 제2 처리액 공급 관로(51b) 내에서 한번 필터(52)를 통과하여 버퍼 탱크(61)측으로 복귀되어 있었던 레지스트액(L)은, 다시 필터(52)를 통과한다. 따라서, 제1 실시 형태에서 설명한 합성 여과가 행해진다. 그 후, 웨이퍼에의 레지스트액(L)의 토출 동작, 토출 펌프(112) 내의 레지스트액(L)을 필터(52)의 1차측으로 복귀시키는 이송 복귀 동작, 공급 펌프(111) 내에의 레지스트액(L)의 인입 동작 및 필터(52)에의 레지스트액(L)의 통액 동작으로 이루어지는 일련의 공정을 반복한다.
이와 같이 필터(52)의 전후로 펌프(111, 112)를 배치한 구성을 사용하여 합성 여과를 행함으로써, 제1 실시 형태와 마찬가지의 효과에 더하여, 이하의 효과가 얻어진다. 즉, 필터(52)를 경유하여 토출 펌프(112)측에 레지스트액(L)을 통류시키는 데 있어서, 공급 펌프(111)의 토출 압력을 사용할 수 있다. 따라서, 접속로(121) 내를 양압(陽壓)으로 유지할 수 있으므로, 당해 접속로(121)에의 기포의 혼입을 억제할 수 있고, 상술한 제1 실시 형태에 있어서의 트랩 탱크(53)가 불필요해진다. 또한, 필터(52)에 레지스트액(L)을 통액시키는 데 있어서, 공급 펌프(111)에 있어서 레지스트액(L)을 송출하는 압력에 더하여, 토출 펌프(112)에 있어서 레지스트액(L)을 흡인하는 압력을 사용할 수 있다. 그로 인해, 필터(52)에 있어서의 압력을 용이하게 조정할 수 있다.
또한, 예를 들어 도 1의 구성에 비해, 배관 구성이 간략화되므로, 장치의 비용 상승 및 배관 내에 있어서의 압력 손실을 억제할 수 있다. 또한, 웨이퍼에의 레지스트액(L)의 토출 동작과, 버퍼 탱크(61)로부터의 레지스트액(L)의 흡인 동작을 동시에 행할 수 있으므로, 후속의 웨이퍼에 대한 레지스트액(L)의 토출 처리를 빠르게 행할 수 있다.
노즐(7)에 레지스트액(L)을 통류시킬 때, 레지스트액(L)이 필터(200)를 통과하므로, 예를 들어 토출 펌프(112)에 있어서 파티클이 발생한 경우라도, 이 파티클을 포집하여 청정한 레지스트액(L)을 웨이퍼에 공급할 수 있다. 또한, 토출 펌프(112) 내의 레지스트액(L)을 공급 펌프(111)의 1차측으로 복귀시킬 때에도, 레지스트액(L)이 필터(200)를 통과하므로, 마찬가지로 토출 펌프(112)에서 파티클이 발생해도, 당해 파티클을 포집할 수 있다.
여기서, 본 발명에서는, 합성 여과나 순환 왕복 합성 여과를 행하는 데 있어서, 상술한 도 11로부터도 알 수 있는 바와 같이, 필터(52)의 1차측에의 레지스트액(L)의 복귀량 b에 대해, 웨이퍼에의 레지스트액(L)의 공급량 a와 동일하거나, 혹은 당해 공급량 a보다도 많아지도록 설정하는 것이 바람직하다. 그리고, 웨이퍼에의 레지스트액(L)의 공급량 a에 대해, 필터(52)의 1차측에의 레지스트액(L)의 복귀량 b가 지나치게 크면, 처리에 필요로 하는 시간이 늘어나기 쉬워지고, 한편 지나치게 적으면 레지스트액의 청정화의 작용이 작아진다. 따라서, 상기 비율(a:b)은, 1:1∼1:20이며, 바람직하게는 1:1∼1:10, 더욱 바람직하게는 1:1∼1:5이다.
이상과 같이, 2개의 펌프(111, 112)를 사용하는 경우에는, 처리액 용기(60)와 공급 펌프(111) 사이, 공급 펌프(111)와 필터(52) 사이, 필터(52)와 토출 펌프(112) 사이, 토출 펌프(112)와 노즐(7) 사이 중 적어도 1개소에, 상술한 트랩 탱크(53)를 배치해도 된다.
여기서, 제3 실시 형태에 있어서의 2개의 펌프(111, 112) 중, 공급 펌프(111)에 대해서는 송액 동작을 행하지 않고, 필터(52)의 2차측의 토출 펌프(112)만을 사용함으로써, 말하자면 제1 실시 형태, 제2 실시 형태와 같이 레지스트액(L)의 흡인 및 송액을 행해도 된다.
상술한 실시 형태에서는, 토출 스텝 S2를 행한 후, 복귀 스텝 S3을 행하고 있지만, 이 스텝의 순서는 반대여도 되고, 복귀 스텝 S3을 행한 후, 토출 스텝 S2를 행해도 된다. 또한 토출 스텝 S2를 1회 행한 후, 복귀 스텝 S3을 행하는 것에 한하지 않고, 토출 스텝 S2를 2회 행한 후, 복귀 스텝 S3을 행하도록 해도 된다. 이 경우, 예를 들어 레지스트액을 2매의 웨이퍼에 대해 순차적으로 연속하여 1ml씩 공급하고, 이어서 4ml를 복귀 유로를 사용하여 합성부의 처리액 공급원으로 복귀시키도록 해도 된다.
또한 펌프에 흡입한 레지스트액 중 일부에 의해 토출 스텝 S2를 행하고, 나머지의 액에 의해 복귀 스텝 S3을 행하는 것에 한하지 않고, 펌프에 토출 스텝 S2를 행하는 양, 예를 들어 1ml만 흡입하여 토출 스텝 S2를 행하고, 그 후, 펌프에 복귀 스텝 S3을 행하는 양, 예를 들어 4ml만 흡입하여 복귀 스텝 S3을 행하도록 해도 된다.
또한, 처리액으로서는 레지스트액(L)에 한정되는 것이 아니라, 절연막의 전구체를 포함하는 도포액이나 현상액 등이어도 된다.
이상 설명한 각 제1∼제3 실시 형태에서는, 펌프(70)[토출 펌프(112)] 내의 레지스트액(L)을 웨이퍼에 토출하는 토출 동작과, 펌프(70)[토출 펌프(112)] 내에 남은 레지스트액(L)의 잔액을 필터(52)의 1차측으로 복귀시키는 이송 복귀 동작이 1세트의 공정으로 되어 있다. 그리고, 이 1세트의 공정을 반복하고 있다. 그로 인해, 웨이퍼에 레지스트액(L)을 토출하면서, 바꾸어 말하면 장치가 아이들링 상태(대기 상태)가 아니라 운전 상태로 되어 있어도, 레지스트액(L)에 포함되는 이물질이나 기포를 제거할 수 있다.
여기서, 상기 토출 동작과 이송 복귀 동작을 교대로 반복하는 것 대신에, 예를 들어 토출 동작을 복수회 행한 후, 이송 복귀 동작을 한번 행하고, 그 후 또한 토출 동작을 복수회 행해도 된다. 구체적으로는, 펌프(70)[토출 펌프(112)]로부터 필터(52)의 1차측으로 레지스트액(L)을 복귀시킬 때, 웨이퍼에 레지스트액(L)을 토출하는 복수회분(예를 들어 2회분)의 액량을 당해 펌프(70)[토출 펌프(112)]에 남겨 둔다. 이어서, 펌프(70)[토출 펌프(112)]에 남는 액량의 분만큼 복수의 웨이퍼에 대해 연속하여 레지스트액(L)을 토출한다. 그 후, 필터(52)를 통해 레지스트액(L)을 펌프(70)[토출 펌프(112)]에 보충한다. 따라서, 본 발명의 특허청구범위에 있어서, 필터(52)의 1차측으로 복귀되는 레지스트액(L)의 액량에 대한 설명인,「나머지의 처리액」이라 함은, 펌프(70)[토출 펌프(112)]에 남아있는 잔액 모두를 의미하는 경우 외에, 상기 잔액의 일부만의 경우도 포함된다.
또한, 각 제1∼제3 실시 형태에서는, 노즐(7)로부터 레지스트액(L)을 토출시킨 후, 펌프(70, 111)에 레지스트액(L)을 보충하는 데 있어서, 당해 노즐(7)로부터의 토출량에 대응하는 분만큼 보충하였지만, 상기 토출량과 펌프(70, 111)에 보충하는 보충량을 서로 다른 양으로 설정해도 된다. 즉, 펌프(70)에 대해서는 작동실(73)에 공급하는 에어의 공급량을 조정함으로써, 혹은 펌프(111)에 대해서는 진퇴 부재(114)의 진퇴 치수를 조정함으로써, 펌프(70, 111)에 인입하는 레지스트액(L)의 유량을 임의로 설정해도 된다.
이와 같이 상기 토출량과 상기 보충량을 서로 다른 양으로 설정하는 경우에 대해, 구체적으로 설명한다. 예를 들어 제n회째에 있어서의 토출 동작에서는, 토출량, 필터(52)의 1차측으로 복귀시키는 레지스트액(L)의 복귀량 및 보충량에 대해, 각각 0.5ml, 2.4ml 및 0.6ml로 설정한다. 이어서, 제(n＋1)회째에 있어서의 토출 동작에서는, 토출량, 복귀량 및 보충량에 대해, 각각 0.5ml, 2.6ml 및 0.4ml로 설정한다. 이와 같이 하여 이상의 2개의 패턴을 순서대로 반복해도 된다.
이상의 제3 실시 형태에 있어서의 각 펌프(111, 112) 중 적어도 한쪽으로서, 상술한 도 32에 나타내는 구성 대신에, 펌프(70)를 사용해도 된다.
7 : 노즐
50 : 보충 유로
51 : 처리액 공급 관로
52 : 필터
53 : 트랩 탱크
55 : 복귀 관로
60 : 처리액 용기
61 : 버퍼 탱크
70 : 펌프
101 : 제어부
L : 레지스트액(처리액)
V1∼V3, V14 : 개폐 밸브

Claims (14)

  1. 처리액 공급원으로부터 토출부를 통해 처리액을 피처리체에 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서,
    상기 처리액 공급원과 토출부 사이의 처리액 공급로에 설치되고, 펌프와 당해 펌프의 2차측에 접속된 필터 장치가 개재 설치된 순환로를 포함하고, 상기 필터 장치를 통과한 처리액과 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액을 합성하기 위한 합성부와,
    상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치를 통과시키고, 상기 펌프로 복귀시키지 않고 상기 토출부로부터 토출시키는 토출 스텝과, 상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 복귀 스텝과, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액을 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액과 함께 상기 펌프에 흡입하는 보충 스텝을 실행하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하고,
    상기 복귀 스텝 및 보충 스텝 중 적어도 한쪽에 있어서 처리액이 상기 필터 장치를 통과하도록 구성되고,
    상기 복귀 스텝에 있어서의 처리액의 복귀량은, 상기 토출부로부터 토출되는 처리액의 토출량 이상으로 설정되어 있고,
    상기 필터 장치의 2차측과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액 공급로 사이에 복귀 유로가 접속되고,
    상기 펌프의 2차측과 필터 장치의 1차측 사이에 그 일단부가 접속된 유로와, 상기 필터 장치의 2차측과 펌프의 1차측 사이에 접속된 유로에 의해 보충 유로가 구성되고,
    상기 보충 스텝은, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액이 상기 보충 유로를 통해 상기 펌프에 흡입되는 스텝인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 토출 스텝은, 상기 보충 스텝에서 상기 펌프에 흡입된 처리액의 일부를 상기 토출부로부터 토출시키는 스텝이며,
    상기 복귀 스텝은, 상기 보충 스텝에서 상기 펌프에 흡입된 처리액 중 상기 처리액의 일부를 제외한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 스텝인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액의 보충량은, 상기 토출부로부터 토출된 처리액의 토출량에 상당하는 양인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측과 상기 펌프의 1차측을 접속하는 복귀 유로가 설치되고,
    상기 복귀 스텝은, 상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치 및 상기 복귀 유로를 통해 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 스텝인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측은, 상기 펌프의 1차측 및 토출부에 접속되고,
    상기 처리액 공급원으로부터의 처리액 공급로는, 상기 펌프의 2차측과 필터 장치의 1차측 사이에 접속되고,
    상기 보충 스텝은, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액이 상기 필터 장치를 통해 상기 펌프에 흡입되는 스텝인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측과 펌프의 1차측 사이에 접속된 유로는, 상기 복귀 유로의 일부를 공용하고 있는 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 장치.
  8. 처리액 공급원으로부터 토출부를 통해 처리액을 피처리체에 공급하는 처리액 공급 방법에 있어서,
    상기 처리액 공급원과 토출부 사이의 처리액 공급로에 설치되고, 펌프와 당해 펌프의 2차측에 접속된 필터 장치가 개재 설치된 순환로를 포함하고, 상기 필터 장치를 통과한 처리액과 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액을 합성하기 위한 합성부를 사용하고,
    상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치를 통과시키고, 상기 펌프로 복귀시키지 않고 상기 토출부로부터 토출시키는 토출 공정과,
    상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 복귀 공정과,
    상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액을 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액과 함께 상기 펌프에 흡입하는 보충 공정을 포함하고,
    상기 복귀 공정 및 보충 공정 중 적어도 한쪽에 있어서 처리액이 상기 필터 장치를 통과하고,
    상기 복귀 공정에 있어서의 처리액의 복귀량은, 상기 토출부로부터 토출되는 처리액의 토출량 이상으로 설정되어 있고,
    상기 필터 장치의 2차측과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액 공급로 사이에 복귀 유로가 접속되고,
    상기 펌프의 2차측과 필터 장치의 1차측 사이에 그 일단부가 접속된 유로와, 상기 필터 장치의 2차측과 펌프의 1차측 사이에 접속된 유로에 의해 보충 유로가 구성되고,
    상기 보충 공정은, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액이 상기 보충 유로를 통해 상기 펌프에 흡입되는 공정인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 토출 공정은, 상기 보충 공정에서 상기 펌프에 흡입된 처리액의 일부를 상기 토출부로부터 토출시키는 공정이며,
    상기 복귀 공정은, 상기 보충 공정에서 상기 펌프에 흡입된 처리액 중 상기 처리액의 일부를 제외한 처리액을 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 공정인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 처리액 공급원으로부터 보충되는 처리액의 보충량은, 상기 토출부로부터 토출된 처리액의 토출량에 상당하는 양인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측과 상기 펌프의 1차측을 접속하는 복귀 유로가 설치되고,
    상기 복귀 공정은, 상기 펌프에 흡입한 처리액을 상기 필터 장치 및 상기 복귀 유로를 통해 상기 합성부의 처리액 공급원측으로 복귀시키는 공정인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
  12. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측은, 상기 펌프의 1차측 및 토출부에 접속되고,
    상기 처리액 공급원으로부터의 처리액 공급로는, 상기 펌프의 2차측과 필터 장치의 1차측 사이에 접속되고,
    상기 보충 공정은, 상기 처리액 공급원측으로 복귀된 처리액과 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액이 상기 필터 장치를 통해 상기 펌프에 흡입되는 공정인 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
  13. 삭제
  14. 제8항에 있어서, 상기 필터 장치의 2차측과 펌프의 1차측 사이에 접속된 유로는, 상기 복귀 유로의 일부를 공용하고 있는 것을 특징으로 하는, 처리액 공급 방법.
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