KR102408661B1

KR102408661B1 - 처리액 공급 장치

Info

Publication number: KR102408661B1
Application number: KR1020170113263A
Authority: KR
Inventors: 다카시 사사; 다이스케 이시마루; 가츠야 하시모토; 히데오 시테; 신야 와카미즈; 가즈히코 기무라
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2016-09-08
Filing date: 2017-09-05
Publication date: 2022-06-15
Also published as: KR20180028383A; TWI755422B; JP6942497B2; JP2018046269A; CN207381371U; TW201825164A

Abstract

장치 내의 각 부의 위치 관계나 배관, 설치 조건 등에 의하지 않고, 처리액 내의 파티클을 필터로 적절하게 제거할 수 있는 처리액 공급 장치를 제공한다.
레지스트액 공급 장치(200)는, 도포 노즐(142)에 레지스트액을 공급하는 것으로서, 레지스트액을 저류하는 레지스트액 공급원(201)으로부터 공급되는 처리액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(202)와, 도포 노즐(142)과 버퍼 탱크(202) 사이에 설치되고, 레지스트액 중의 이물을 제거하는 필터(212)와, 필터(212)에 의해 이물이 제거된 레지스트액을 도포 노즐(142)에 송출하는 펌프(211)를 구비하고, 버퍼 탱크(202)는, 해당 버퍼 탱크(202)에 저류되어 있는 레지스트액을 압송하는 압송 기능을 갖고 있다.

Description

처리액 공급 장치 {APPARATUS FOR SUPPLYING TREATMENT LIQUID}

본 발명은 피처리체에 처리액 토출부를 통해 레지스트액 등의 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치에 관한 것이다.

반도체 디바이스 등의 제조 프로세스에 있어서의 포토리소그래피 공정에서는, 반도체 웨이퍼 등의 피처리체 위에 반사 방지막이나 레지스트막 등의 도포막을 형성하거나, 노광 후의 레지스트막을 현상하거나 하기 위하여, 레지스트액이나 현상액 등의 처리액이 사용된다.

이 처리액 중에는 이물(파티클)이 포함되어 있는 경우가 있다. 또한, 원래의 처리액에는 파티클이 존재하지 않아도, 처리액을 공급하는 장치의 펌프, 밸브, 배관과 같은 계로 중에 파티클이 부착되어 있는 경우, 공급하는 처리액 중에 파티클이 혼입되는 경우가 있다. 그로 인하여, 처리액을 공급하는 장치의 계로 중에는 필터가 배치되어, 해당 필터에 의해 파티클의 제거가 행해지고 있다(특허문헌 1).

또한, 특허문헌 1의 처리액 공급 장치에는, 처리액을 저류하는 레지스트액 공급원을 교환할 때에 장치의 가동을 멈추지 않기 위하여, 처리액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크가 상기 레지스트액 공급원과 필터 사이에 설치되어 있다.

일본 특허 공개 제2013-211525호 공보

특허문헌 1의 처리액 공급 장치와 같이 필터를 이용함으로써, 처리액 중의 파티클을 포집/제거할 수 있지만, 필터의 파티클 포집 효율은 필터 통과 시의 처리액의 액압에 따라 변한다.

그러나, 필터 통과 시의 처리액의 액압은, 상기 버퍼 탱크와 필터의 위치 관계나 양자 간의 배관 등에 의해 원하는 것이 되지 못하는 경우가 있다. 또한, 예를 들어 처리액 공급 장치를 고지에 설치하는 경우도 필터 통과 시의 처리액의 액압으로서 원하는 것을 얻을 수 없는 경우가 있다.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 장치 내의 각 부의 위치 관계나 배관, 설치 조건 등에 의하지 않고, 처리액 내의 파티클을 필터로 적절하게 제거할 수 있는 처리액 공급 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부에, 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치이며, 처리액을 저류하는 처리액 공급원으로부터 공급되는 처리액을 일시적으로 저류하는 일시 저류 장치와, 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액 중의 이물을 제거하는 필터와, 해당 필터에 의해 이물이 제거된 처리액을 상기 처리액 토출부에 송출하는 펌프를 구비하고, 상기 일시 저류 장치는, 해당 일시 저류 장치에 저류되어 있는 처리액을 압송하는 압송 기능을 갖고 있는 것을 특징으로 하고 있다.

상기 일시 저류 장치보다 하류측에 설치되어, 처리액의 액압을 측정하는 압력 측정 장치와, 상기 압력 측정 장치에서의 측정 결과에 기초하여, 적어도 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압송을 제어하는 제어 장치를 구비하는 것이 바람직하다.

상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 2차측 액압을 측정하고, 상기 제어 장치는, 상기 필터의 2차측 액압이 일정해지도록, 상기 압송 시의 액압을 제어하는 것이 바람직하다.

상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 2차측 액압을 측정하고, 상기 제어 장치는, 상기 필터의 2차측 액압이 소정의 범위 내에 있는 경우는, 상기 일시 저류 장치에 소정의 압력을 가하여, 처리액을 압송시켜도 된다.

상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 1차측 액압을 측정하고, 상기 제어 장치는, 상기 필터의 1차측 액압이 일정해지도록, 상기 압송 시의 액압을 제어하여도 된다.

상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프의 세트를 복수 구비하고, 상기 제어 장치는, 상기 일시 저류 장치 각각에 대해 설치된, 해당 일시 저류 장치의 처리액을 저류하는 저장실 내의 액압을 조정하는 전공 레귤레이터를 갖는 것이 바람직하다.

상기 일시 저류 장치는, 튜브프램 펌프로 구성될 수 있다.

상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프의 세트를 복수 구비하고, 상기 일시 저류 장치는 각각 처리액을 저류하는 저류 장치와, 해당 저류 장치 내의 처리액을 압송하는 별개의 펌프를 별체로 갖고, 상기 일시 저류 장치의 상기 별개의 펌프에 대해, 해당 별개의 펌프의 처리액을 저류하는 저장실 내의 액압을 조정하는 공통의 전공 레귤레이터가 설치되어 있고, 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압송 시의 액압의 제어는, 상기 전공 레귤레이터에 의해 행해질 수도 있다.

상기 별개의 펌프는, 튜브프램 펌프로 구성될 수 있다.

상기 펌프는, 상기 필터에 의해 이물이 제거된 처리액을 상기 처리액 토출부에 송출할 때, 상기 필터 내를 다시 통과하도록 송출하는 것이 바람직하다.

상류 측으로부터 순서대로 상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프가 설치된 처리액 공급관을 구비하고, 상기 펌프는, 처리액을 저류하는 저장실을 갖고, 해당 처리액 공급관은, 상기 일시 저류 장치와 상기 필터 사이에 하나의 밸브를, 상기 일시 저류 장치와 상기 필터 사이에 다른 밸브를 갖고, 상기 제어 장치는, 상기 일시 저류 장치로부터 상기 펌프의 저장실에 상기 필터에 의해 이물이 제거된 처리액의 보충 시, 상기 하나의 밸브를 개방하고, 상기 다른 밸브를 폐쇄한 상태에서, 상기 압력 측정 장치로 측정한 상기 필터의 2차측 압력이 소정의 값이 되도록, 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압력을 제어하고, 그 후, 상기 하나의 밸브를 폐쇄하고, 상기 다른 밸브를 개방한 상태에서, 상기 압력 측정 장치로 측정한 상기 필터의 2차측 압력이 상기 소정의 값이 되도록, 상기 저장실 내의 압력을 제어하고 나서, 상기 하나의 밸브 및 상기 다른 밸브를 개방한 상태에서 상기 보충을 개시하는 것이 바람직하다.

본 발명의 처리액 공급 장치에 의하면, 장치 내의 각 부의 위치 관계나, 배관, 설치 조건 등에 의하지 않고 처리액 내의 파티클을 필터로 적절하게 제거할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 형태에 관한 기판 처리 시스템의 구성 개략을 나타내는 평면도.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 관한 기판 처리 시스템의 구성 개략을 나타내는 정면도.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 관한 기판 처리 시스템의 구성 개략을 나타내는 배면도.
도 4는 레지스트 도포 장치의 구성 개략을 나타내는 종단면도.
도 5는 레지스트 도포 장치의 구성 개략을 나타내는 횡단면도.
도 6은 제1 실시 형태에 관한 레지스트 도포 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도.
도 7은 버퍼 탱크를 설명하는 모식 외관도.
도 8은 버퍼 탱크의 구조 설명도.
도 9는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 버퍼 탱크에의 보충 공정을 실시한 상태의 설명도.
도 10은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 펌프에의 보충 공정을 실시한 상태의 설명도.
도 11은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 도포 공정의 설명도.
도 12는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 레지스트액을 버퍼 탱크로 되돌리는 공정의 설명도.
도 13은 버퍼 탱크로부터 압송할 때의 제어의 다른 예를 설명하는 도면.
도 14는 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도.
도 15는 비교 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 도면.
도 16은 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도.
도 17은 본 발명의 제4 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도.
도 18은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 펌프에의 보충 공정 또는 벤트 공정의 설명도.
도 19는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 펌프에의 보충 공정의 설명도.
도 20은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 펌프에의 보충 공정의 설명도.
도 21은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 펌프에의 다른 보충 공정의 설명도.
도 22는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 도포 공정을 실시한 상태의 설명도.
도 23은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 다른 도포 공정을 실시한 상태의 설명도.
도 24는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 벤트 공정의 설명도.
도 25는 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 벤트 공정의 설명도.
도 26은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 벤트 공정의 설명도.
도 27은 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내고, 별개의 벤트 공정의 설명도.
도 28은 실시예 및 비교예의 레지스트막 중에 관측된 파티클의 양을 나타내는 도면.

(제1 실시 형태)

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 처리액 공급 장치로서의 레지스트액 공급 장치를 탑재한 기판 처리 시스템(1)의 구성 개략을 도시하는 설명도이다. 도 2 및 도 3은, 각각 기판 처리 시스템(1)의 내부 구성의 개략을 모식적으로 나타내는 정면도와 배면도이다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 요소에는, 동일한 번호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.

기판 처리 시스템(1)은, 도 1에 도시한 바와 같이 복수매의 웨이퍼(W)를 수용한 카세트 C가 반출입되는 카세트 스테이션(10)과, 웨이퍼(W)에 소정의 처리를 실시하는 복수의 각종 처리 장치를 구비한 처리 스테이션(11)과, 처리 스테이션(11)에 인접하는 노광 장치(12) 사이에서 웨이퍼(W)의 수수를 행하는 인터페이스 스테이션(13)을 일체로 접속한 구성을 갖고 있다.

카세트 스테이션(10)에는, 카세트 적재대(20)가 설치되어 있다. 카세트 적재대(20)에는, 기판 처리 시스템(1)의 외부에 대해 카세트 C를 반출입할 때에 카세트 C를 적재하는 카세트 적재판(21)이 복수 설치되어 있다.

카세트 스테이션(10)에는, 도 1에 도시한 바와 같이 X 방향으로 연장되는 반송로(22) 상을 이동 가능한 웨이퍼 반송 장치(23)가 설치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(23)는, 상하 방향 및 연직축 주위(θ 방향)에도 이동 자재이며, 각 카세트 적재판(21) 상의 카세트 C와, 후술하는 처리 스테이션(11)의 제3 블록 G3의 수수 장치 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.

처리 스테이션(11)에는, 각종 장치를 구비한 복수, 예를 들어 4개의 블록 G1, G2, G3, G4가 설치되어 있다. 예를 들어 처리 스테이션(11)의 정면측(도 1의 X 방향 부방향측)에는, 제1 블록 G1이 설치되고, 처리 스테이션(11)의 배면측(도 1의 X 방향 정방향측)에는, 제2 블록 G2가 설치되어 있다. 또한, 처리 스테이션(11)의 카세트 스테이션(10)측(도 1의 Y 방향 부방향측)에는, 제3 블록 G3이 설치되고, 처리 스테이션(11)의 인터페이스 스테이션(13)측(도 1의 Y 방향 정방향측)에는, 제4 블록 G4가 설치되어 있다.

예를 들어 제1 블록 G1에는, 도 2에 도시한 바와 같이 복수의 액 처리 장치, 예를 들어 웨이퍼(W)를 현상 처리하는 현상 처리 장치(30), 웨이퍼(W)의 레지스트막 하층에 반사 방지막(이하 「하부 반사 방지막」이라고 함)을 형성하는 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 웨이퍼(W)에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 장치(32), 웨이퍼(W)의 레지스트막 상층에 반사 방지막(이하 「상부 반사 방지막」이라고 함)을 형성하는 상부 반사 방지막 형성 장치(33)가 아래부터 이 순서대로 배치되어 있다.

예를 들어 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)는, 각각 수평 방향으로 3개 배열하여 배치되어 있다. 또한, 이들 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)의 수나 배치는, 임의로 선택할 수 있다.

이들 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)와 같은 액 처리 장치에서는, 예를 들어 웨이퍼(W) 상에 소정의 처리액을 도포하는 스핀 코팅이 행해진다. 스핀 코팅에서는, 예를 들어 도포 노즐로부터 웨이퍼(W) 상에 처리액을 토출하는 동시에, 웨이퍼(W)를 회전시켜, 처리액을 웨이퍼(W)의 표면에 확산시킨다.

예를 들어 제2 블록 G2에는, 도 3에 도시한 바와 같이 웨이퍼(W)의 가열이나 냉각과 같은 열처리를 행하는 열처리 장치(40)나, 레지스트액과 웨이퍼(W)의 정착성을 높이기 위한 어드비젼 장치(41), 웨이퍼(W)의 외주부를 노광하는 주변 노광 장치(42)가 상하 방향과 수평 방향으로 배열하여 설치되어 있다. 이들 열처리 장치(40), 어드비젼 장치(41), 주변 노광 장치(42)의 수나 배치에 대해서도, 임의로 선택할 수 있다.

예를 들어 제3 블록 G3에는, 복수의 수수 장치(50, 51, 52, 53, 54, 55, 56)가 아래부터 순서대로 설치되어 있다. 또한, 제4 블록 G4에는, 복수의 수수 장치( 60, 61, 62)가 아래부터 순서대로 설치되어 있다.

도 1에 도시한 바와 같이 제1 블록 G1 내지 제4 블록 G4에 둘러싸인 영역에는, 웨이퍼 반송 영역 D가 형성되어 있다. 웨이퍼 반송 영역 D에는, 예를 들어 Y 방향, X 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 아암(70a)을 갖는 웨이퍼 반송 장치(70)가 복수 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(70)는, 웨이퍼 반송 영역 D 내를 이동하고, 주상의 제1 블록 G1, 제2 블록 G2, 제3 블록 G3 및 제4 블록 G4 내의 소정의 장치에 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.

또한, 웨이퍼 반송 영역 D에는, 제3 블록 G3과 제4 블록 G4 사이에서 직선적으로 웨이퍼(W)를 반송하는 셔틀 반송 장치(80)가 설치되어 있다.

셔틀 반송 장치(80)는, 예를 들어 도 3의 Y 방향으로 직선적으로 이동 가능하게 되었다. 셔틀 반송 장치(80)는, 웨이퍼(W)를 지지한 상태에서 Y 방향으로 이동하고, 제3 블록 G3의 수수 장치(52)와 제4 블록 G4의 수수 장치(62) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.

도 1에 도시한 바와 같이 제3 블록 G3의 X 방향 정방향측의 옆에는, 웨이퍼 반송 장치(100)가 설치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(100)는, 예를 들어 X 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 아암을 갖고 있다. 웨이퍼 반송 장치(100)는, 웨이퍼(W)를 지지한 상태에서 상하로 이동하고, 제3 블록 G3 내의 각 수수 장치에 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.

인터페이스 스테이션(13)에는, 웨이퍼 반송 장치(110)와 수수 장치(111)가 설치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(110)는, 예를 들어 Y 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 아암(110a)을 갖고 있다. 웨이퍼 반송 장치(110)는, 예를 들어 반송 아암(110a)에 웨이퍼(W)를 지지하고, 제4 블록 G4 내의 각 수수 장치, 수수 장치(111) 및 노광 장치(12) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.

다음에, 상술한 레지스트 도포 장치(32)의 구성에 대해 설명한다. 도 4는, 레지스트 도포 장치(32)의 구성 개략을 나타내는 종단면도이며, 도 5는, 레지스트 도포 장치(32)의 구성 개략을 나타내는 횡단면도이다.

레지스트 도포 장치(32)는, 도 4에 도시한 바와 같이 내부를 폐쇄 가능한 처리 용기(120)를 갖고 있다. 처리 용기(120)의 측면에는, 도 5에 도시한 바와 같이 웨이퍼(W)의 반입 출구(121)가 형성되고, 반입 출구(121)에는, 개폐 셔터(122)가 설치되어 있다.

처리 용기(120) 내의 중앙부에는, 도 4에 도시한 바와 같이 웨이퍼(W)를 보유 지지하여 회전시키는 스핀 척(130)이 설치되어 있다. 스핀 척(130)은, 수평한 상면을 갖고, 해당 상면에는, 예를 들어 웨이퍼(W)를 흡인하는 흡인구(도시되지 않음)가 설치되어 있다. 이 흡인구로부터의 흡인에 의해, 웨이퍼(W)를 스핀 척(130)상에 흡착 보유 지지할 수 있다.

스핀 척(130)은, 예를 들어 모터 등을 구비한 척 구동 기구(131)를 갖고, 그 척 구동 기구(131)에 의해 소정의 속도로 회전할 수 있다. 또한, 척 구동 기구(131)에는, 실린더 등의 승강 구동원이 설치되어 있고, 스핀 척(130)은 상하 이동 가능하다.

스핀 척(130)의 주위에는, 웨이퍼(W)로부터 비산 또는 낙하하는 액체를 받아 들이고, 회수하는 컵(132)이 설치되어 있다. 컵(132)의 하면에는, 회수한 액체를 배출하는 배출관(133)과, 컵(132) 내의 분위기를 배기하는 배기관(134)이 접속되어 있다.

도 5에 도시한 바와 같이 컵(132)의 X 방향 부방향(도 5의 하측 방향)측에는, Y 방향(도 5의 좌우 방향)에 따라 연신하는 레일(140)이 형성되어 있다. 레일(140)은, 예를 들어 컵(132)의 Y 방향 부방향(도 5의 좌측 방향)측의 외측으로부터 Y 방향 정방향(도 5의 우측 방향)측의 외측까지 형성되어 있다. 레일(140)에는, 아암(141)이 설치되어 있다.

아암(141)에는, 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이 레지스트액을 토출하는 도포 노즐(142)이 지지되어 있다. 아암(141)은, 도 5에 도시하는 노즐 구동부(143)에 의해, 레일(140) 상을 이동 가능하다. 이에 의해, 도포 노즐(142)은, 컵(132)의 Y 방향 정방향측의 외측에 설치된 대기부(144)로부터 컵(132) 내의 웨이퍼(W) 중심부 상방까지 이동할 수 있고, 또한 해당 웨이퍼(W)의 표면 상을 웨이퍼(W)의 직경 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 아암(141)은, 노즐 구동부(143)에 의해 승강 가능하며, 도포 노즐(142)의 높이를 조절할 수 있다. 도포 노즐(142)은, 도 4에 도시한 바와 같이 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치(200)에 접속되어 있다.

다음에, 레지스트 도포 장치(32) 내의 처리액 토출부로서의 도포 노즐(142)에 대해 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치(200)의 구성에 대해 설명한다. 도 6은, 레지스트액 공급 장치(200)의 구성 개략을 나타내는 설명도이다. 도 7은, 버퍼 탱크를 설명하는 모식 외관도이다. 또한, 레지스트액 공급 장치(200)는, 예를 들어 도시되지 않은 케미컬실 내에 설치되어 있다. 케미컬실이란, 각종 처리액을 액 처리 장치에 공급하기 위한 것이다.

도 6의 레지스트액 공급 장치(200)는, 내부에 레지스트액을 저류하는 레지스트액 공급원(본 발명에 관한 「처리액 공급원」의 일례)(201)과, 이 레지스트액 공급원(201)으로부터 이송된 레지스트액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(본 발명에 관한 「일시 저류 장치」)(202)를 구비한다.

레지스트액 공급원(201)은, 교체 가능한 것이며, 해당 레지스트액 공급원(201)의 상부에는, 버퍼 탱크(202)에 레지스트액을 이송하는 제1 처리액 공급관(251)이 설치되어 있다. 제1 처리액 공급관(251)에는 공급 밸브(203)가 설치되어 있다.

또한, 제1 처리액 공급관(251)에 있어서의 공급 밸브(203)의 하류측에는, 버퍼 탱크(202) 내를 가압하여 해당 탱크(202) 내의 레지스트액을 배출하기 위한 가압원(204)에 접속하는 급기관(252)이 설치되어 있다. 급기관(252)에는, 전환 밸브(205)가 설치되어 있다.

버퍼 탱크(202)는, 교체 가능한 레지스트액 공급원(201)으로부터 이송된 레지스트액을 일시적으로 저류함과 함께, 저류되어 있는 처리액을 압송하는 압송 기능을 갖고 있다. 이 버퍼 탱크(202)는, 예를 들어 튜브프램 펌프로 구성되어, 도 7에 도시한 바와 같이, 가요성을 갖는 다이어프램(202a)을 포함하고, 해당 다이어프램(202a)에 의해, 레지스트액을 일시적으로 저류하는 저장실(202b)이 형성되어 있다. 이 저장실(202b) 내의 용량은 다이어프램(202a)이 변형됨으로써 가변되고, 그래서, 레지스트액 공급원(201)의 교환 시에도 저장실(202b) 내에서의 레지스트액과 가스의 접촉을 최소화할 수 있다.

버퍼 탱크(202)의 상부에는, 해당 탱크(202) 내의 레지스트액을 배출할 때에 사용되는 드레인관(253)이 설치되고, 해당 드레인관(253)에는 배출 밸브(206)가 설치되어 있다.

또한, 버퍼 탱크(202)에는, 다이어프램(202a)을 변형시키기 위한 전공 레귤레이터(207)가 급배 기관(254)을 통하여 접속되어 있다. 전공 레귤레이터(207)에는, 가압원(208)에 접속하는 급기관(255)이 접속되고, 감압원(209)에 접속하는 배기관(256)이 접속되어 있다. 가압원(208)에 의한 압력과 감압원(209)에 의한 압력을 조정함으로써, 다이어프램(202a)을 변형시킬 수 있다. 급배 기관(254)에는, 관로 내의 압력(기압) 즉 다이어프램(202a)을 변형시키기 위한 압력을 측정하는 압력 센서(210)가 설치되어 있다.

도 8은, 버퍼 탱크(202)의 구조 설명도이며, 도 8의 (A)는 외관도, 도 8의 (B)는 후술하는 외주벽만 단면으로 나타낸 단면도, 도 8의 (C)는 A-A 단면도이다.

버퍼 탱크(202)를 구성하는 튜브프램 펌프는, 예를 들어 도 8에 도시한 바와 같이, 다이어프램(202a)과 외주벽(202c)을 갖는다. 이 버퍼 탱크(202)에 있어서는, 원통 형상의 외주벽(202c)에 의해 형성되는 공간이, 가요성을 갖는 다이어프램(202a)에 의해 저장실(202b)과 작동실(202d)로 구획되어 있다. 작동실(202d) 내의 압력을 전공 레귤레이터(207)에 의해 제어함으로써, 레지스트액 공급원(201)으로부터 저장실(202b)에 레지스트액을 이송하거나, 저장실(202b)로부터 레지스트액을 원하는 액압으로 압송하거나 할 수 있다.

또한, 다이어프램(202a)의 상단에는, 제1 처리액 공급관(251) 및 드레인관(253)이 접속되는 입구측 포트(202e)가 설치되고, 하단에는, 후술하는 제2 처리액 공급관(257)이 접속되는 출구측 포트(202f)가 설치되어 있다. 또한, 외주벽(202c)의 상부에는, 급배 기관(254)이 접속되는 접속 포트(202g)가 설치되어 있다.

또한, 다이어프램(202a)과 외주벽(202c)은 예를 들어 불소 수지에 의해 형성된다. 불소 수지를 사용함으로써, 투명하기 때문에 내부의 레지스트액 상태를 광전 센서 등에 의해 검지할 수 있고, 또한, 다이어프램(202a)과 외주벽(202c)을 서로 용접하여 외주벽(202c) 내를 밀봉하여 작동실(202d)을 형성할 수 있다.

도 6의 설명으로 되돌아간다.

버퍼 탱크(202)의 하부에는, 펌프(211)에 레지스트액을 이송하는 제2 처리액 공급관(257)이 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 버퍼 탱크(202)의 하류측에는 펌프(211)가 설치되어 있다.

또한, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 버퍼 탱크(202)와 펌프(211) 사이에는, 레지스트액 중의 파티클을 제거하는 필터(212)가 설치되어 있다. 필터(212)에는, 레지스트액 중에 발생된 기포를 배출하기 위한 드레인관(258)이 설치되어 있다. 드레인관(258)에는 배출 밸브(213)가 설치되어 있다.

또한, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 필터(212)의 상류측에는 공급 밸브(214)가 설치되고, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 필터(212)와 펌프(211) 사이에는 전환 밸브(215)가 설치되어 있다.

펌프(211)는, 예를 들어 튜브프램 펌프이며, 레지스트액을 저류하는 도시되지 않은 저장실을 가짐과 함께, 펌프(211)로부터의 레지스트액의 토출량의 제어 등을 행하기 위한 전공 레귤레이터(216)가 급배 기관(259)을 통하여 접속되어 있다. 전공 레귤레이터(216)에는, 가압원(217)에 접속하는 급기관(260)이 접속되고, 감압원(218)에 접속하는 배기관(261)이 접속되어 있다.

펌프(211)에는, 해당 펌프(211)로부터 도포 노즐(142)을 통하여 피처리체로서의 웨이퍼 위에 레지스트액을 공급하는 제3 처리액 공급관(262)이 설치되어 있다. 제3 처리액 공급관(262)에는, 제3 처리액 공급관(262) 내의 레지스트액의 액압을 측정하는 압력 센서(219)가 설치되어 있다.

또한, 제3 처리액 공급관(262)에 있어서의 압력 센서(219)의 하류측에는 전환 밸브(220)가 설치되어 있고, 해당 전환 밸브(220)의 하류측이며 도포 노즐(142)의 근방에는 공급 제어 밸브(221)가 설치되어 있다.

또한, 레지스트액 공급 장치(200)는, 펌프(211) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 되돌리기 위한 복귀관(263)을 구비한다. 복귀관(263)의 일단부는, 제3 처리액 공급관(262)에 있어서의 압력 센서(219)와 전환 밸브(220) 사이에 접속되고, 타단부는, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 공급 밸브(214)와 필터(212) 사이에 접속된다. 또한, 복귀관(263)에는 복귀되어 제어 밸브(222)가 설치되어 있다.

또한, 레지스트액 공급 장치(200)는, 도시되지 않은 제어부를 구비한다. 레지스트액 공급 장치(200)에 설치된 각 밸브에는, 상기 제어부에 의해 제어 가능한 전자기 밸브나 공기 작동 밸브가 사용되고, 각 밸브와 상기 제어부는 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 해당 제어부는, 압력 센서(210)나 압력 센서(219), 전공 레귤레이터(207, 216)와 전기적으로 접속되어 있다. 이 구성에 의해, 레지스트액 공급 장치(200)에 있어서의 일련의 처리는 제어부의 제어 하에, 자동으로 행하는 것이 가능하게 되었다. 또한, 본 발명의 「제어 장치」는 예를 들어 이 제어부와 전공 레귤레이터(207, 216)에 의해 구성된다.

다음에, 도 9 내지 도 12에 기초하여, 레지스트액 공급 장치(200)의 동작에 대해 설명한다.

(버퍼 탱크(202)에의 보충)

도 9에 도시한 바와 같이, 제어부로부터의 제어 신호에 기초하여, 제1 처리액 공급관(251)으로 통하게 설치된 공급 밸브(203)를 개방 상태로 함과 함께, 전공 레귤레이터(207) 및 감압원(209)에 의해 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내를 감압하고, 이에 의해 레지스트액 공급원(201)으로부터 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내에 레지스트액을 공급한다. 이 때, 저장실(202b) 내의 압력 즉 작동실(202d) 내의 압력은, 압력 센서(210)에서의 측정 결과에 기초하여 피드백 제어된다.

또한, 도 9 및 이후의 도면에 있어서는, 개방 상태의 밸브를 백색 도포로, 폐쇄 상태의 밸브를 흑색 도포로, 레지스트액 등의 유체가 유통하고 있는 관을 굵은 선으로 나타냄으로써, 그 외의 밸브의 개폐 상태에 대해서는 설명을 생략한다.

(펌프(211)에의 보충)

버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내에 소정량의 레지스트액이 공급/보충되면, 도 10에 도시한 바와 같이, 공급 밸브(203)를 폐쇄 상태로 하고, 제2 처리액 공급관(257)으로 통하게 설치된 공급 밸브(214), 전환 밸브(215)를 개방 상태로 한다. 그와 더불어, 전공 레귤레이터(207)에 의해 버퍼 탱크(202)의 접속처를 가압원(208)으로 전환하고, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)을 가압함으로써, 버퍼 탱크(202)로부터 저장실(202b) 내의 레지스트액을 제2 처리액 공급관(257)에 압송한다. 압송된 레지스트액은, 필터(212)를 통과한 후, 펌프(211)에 옮겨진다. 이 때, 제3 처리액 공급관(262) 내의 압력, 즉 필터(212)의 2차측 압력과 동등해지는 상기 공급관(262)에 연통되는 펌프(211) 내의 압력이, 압력 센서(219)에 의해 측정되어 있다. 그리고, 해당 측정 결과에 기초하여, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)로부터 처리액을 압송할 때의 액압은, 압력 센서(219)에 의해 측정되는 필터(212)의 2차측 액압이 원하는 값이 되도록 피드백 제어된다.

(토출)

펌프(211) 내에 소정량의 레지스트액이 공급/보충되면, 도 11에 도시한 바와 같이, 공급 밸브(214), 전환 밸브(215)를 폐쇄 상태로 하고, 제3 처리액 공급관(262)으로 통하게 설치된 전환 밸브(220), 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 한다. 그와 더불어, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211)의 접속처를 가압원(217)으로 전환하고, 펌프(211)로부터 레지스트액을 제3 처리액 공급관(262)에 압송한다. 이에 의해, 펌프(211)에 이송된 레지스트액의 일부(예를 들어 5분의 1)가 도포 노즐(142)을 통하여 웨이퍼에 토출된다. 이 때, 펌프(211) 내의 압력은, 압력 센서(219)에 의한 제3 처리액 공급관(262) 내의 압력 측정 결과에 기초하여 피드백 제어된다.

(리턴)

소정량의 레지스트액이 펌프(211)로부터 배출되면, 도 12에 도시한 바와 같이, 전환 밸브(220), 공급 제어 밸브(221)를 폐쇄 상태로 하고, 복귀 제어 밸브(222), 공급 밸브(214)를 개방 상태로 한다. 그와 더불어, 펌프(211)의 압력이 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내의 압력보다도 커지도록, 압력 센서(210) 및 압력 센서(219)에서의 측정 결과에 기초하여 전공 레귤레이터(216)를 제어한다. 이에 의해, 펌프(211) 내의 나머지 레지스트액(예를 들어 5분의 4)이 복귀관(263)을 통하여 버퍼 탱크(202)로 복귀된다.

그 후, 상술한 동작이 반복된다.

상술한 바와 같이, 레지스트액 공급 장치(200)는, 버퍼 탱크(202)가 일시적으로 처리액을 저류하는 기능뿐만 아니라 해당 처리액을 압송하는 압송 기능을 갖고 있다.

따라서, 레지스트액 공급 장치(200)는, 이하의 효과를 갖는다. 즉, 버퍼 탱크가 종래의 것이면, 장치 설치 조건이나 장치 내 레이아웃에 따라서는, 버퍼 탱크로부터 펌프(211)에 레지스트액을 보충할 때에 필터(212)에 있어서의 액압을 원하는 것으로 할 수 없다. 그러나, 레지스트액 공급 장치(200)는, 버퍼 탱크(202)가 압송 기능을 갖고 있기 때문에, 마찬가지의 장치 설치 조건이나 장치 내 레이아웃에서도, 레지스트액 공급 장치(200)에서는 펌프(211)에 레지스트액을 보충할 때에 필터(212)에 있어서의 액압을 원하는 것으로 할 수 있다.

특히, 압력 센서(219)에 의해 측정된 제3 처리액 공급관(262) 내의 레지스트액의 액압 즉 필터(212)의 2차측 액압에 기초하여, 해당 2차측 액압이 소정의 값으로 일정해지도록, 버퍼 탱크(202)로부터 압송할 때의 액압(이하, 압송 액압)을 피드백 제어하고 있다. 그로 인하여, 버퍼 탱크(202)로부터 펌프(211)에 레지스트액을 보충할 때에 필터(212)에 있어서의 액압을 보다 확실하게 원하는 것으로 할 수 있다.

또한, 레지스트액이 필터(212)를 통과했을 때에 유속이 상승함으로써 레지스트액의 액압이 저하되고, 그 때, 포화 증기압까지 내려가면, 캐비테이션의 원리에 의해, 레지스트액 중에 기포가 발생되어 버린다. 그러나, 레지스트액 공급 장치(200)에서는, 필터(212)의 2차측 액압을 제어하고 있어, 정압 레벨을 포화 증기압보다 높임으로써 기포의 발생을 억제할 수 있다.

또한, 버퍼 탱크(202)는 레지스트액을 저류하는 저장실(202b)이 변형된 것이다. 따라서, 이하의 효과가 있다.

레지스트액 공급원(201) 내에 레지스트액이 없어지고, 버퍼 탱크의 저장실 내의 레지스트액이 줄어들었을 경우, 통상의 버퍼 탱크라면, 저장실 내의 레지스트액의 액면이 내려가고, 저장실 내의 내주면과 공기가 접촉하여 건조하게 되고, 그 결과, 처리 후의 웨이퍼에 결함이 발생되는 경우가 있다.

그것에 대하여, 레지스트액 공급 장치(200)는 상술한 바와 같이 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)이 변형되기 때문에, 저장실(202b) 내의 레지스트액의 양이 줄어들었다고 해도 저장실(202b)의 내주면과 공기가 접촉하지 않도록 하고 건조하게 되는 경우가 없도록 할 수 있다.

또한, 버퍼 탱크(202) 내의 레지스트액은, 가압원(204)을 사용하여, 제2 처리액 공급관(257) 및 제3 처리액 공급관(262)을 통하여 배출할 수 있다. 또한, 가압원(204)은, 복귀관(263)이나 필터(212)에의 통액 처리를 행할 때에도 사용할 수 있다. 필터(212)에의 통액 처리 시, 드레인관(258)을 통하여 레지스트액은 배출된다.

또한, 도시 생략하지만, 버퍼 탱크(202)와 제1 처리액 공급관(251)에의 레지스트액의 통액 처리를 위하여, 레지스트액 공급원(201)에 가압원을 설치할 수도 있다. 해당 통액 처리 시, 드레인관(253)을 통하여 레지스트액은 배출된다.

(압송 제어의 다른 예)

상술한 예에서는, 필터(212)의 2차측 액압이 소정의 값으로 일정해지도록 압송 액압을 피드백 제어하고 있었다. 그러나, 이것 대신에, 압력 센서(219)에 의해 측정된 필터(212)의 2차측 액압이 소정의 범위 내에 있고, 측정 결과에 이상이 보이지 않는 경우에는 이하와 같이 할 수도 있다. 즉, 버퍼 탱크(202)에, 보다 구체적으로는, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)에, 전공 레귤레이터(207)를 사용하여 소정의 일정한 압력을 가함으로써, 버퍼 탱크(202)로부터 처리액을 압송시키게 할 수도 있다.

(압송 제어의 다른 예)

도 13은, 버퍼 탱크(202)로부터 압송할 때의 제어의 다른 예를 설명하는 도면이다.

도 13의 레지스트액 공급 장치(200)는, 제2 처리액 공급관(257)에 있어서의 버퍼 탱크(202)와 공급 밸브(214) 사이에, 제2 처리액 공급관(257) 내의 액압을 측정하는 압력 센서(223)가 설치되어 있다.

이 압력 센서(223)로 측정되는 필터(212)의 1차측 액압이 소정의 값으로 일정해지도록, 전공 레귤레이터(207)를 사용하여 압송 액압을 피드백 제어하도록 할 수도 있다.

(제2 실시 형태)

도 14는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 도시하는 설명도이다. 도 15는, 비교 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 도면이다.

본 실시 형태 및 비교 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 버퍼 탱크보다 하류의 구성은, 도 6의 레지스트액 공급 장치(200)와 마찬가지이기 때문에, 도시를 생략한다.

도 14의 레지스트액 공급 장치(300)는, 도 6의 레지스트액 공급 장치(200)와 상이하고, 레지스트액 공급원(201)에 대해 2개의 버퍼 탱크(202)가 설치되어 있다. 그리고, 이 레지스트액 공급 장치(300)는, 버퍼 탱크(202) 각각에 대해 전공 레귤레이터(207)가 설치되어 있고, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)마다 다른 압력을 가할 수 있게 되어 있다.

한편, 도 15의 레지스트액 공급 장치(300')는, 2개의 버퍼 탱크(202)에 대해 공통의 전공 레귤레이터(207)가 설치되어 있다. 그래서, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)에 가할 수 있는 압력은 2개의 저장실(202b)에서 동일하다.

따라서, 레지스트액 공급 장치(300')에서는, 이하의 문제가 있다. 레지스트액 공급원(201)으로부터 버퍼 탱크(202)에 보충할 수 없으면, 한쪽의 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 압송했을 때에, 해당 한쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)이 축소하도록 다이어프램(202a)은 변형되어 원래의 형태로는 복귀되지 않는다. 그래서, 보다 큰 압력을 해당 한쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)에 첨가하지 않으면 원하는 압력으로 레지스트액을 압송할 수 없다. 그러나, 해당 한쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내의 압력을 올리려고 하면, 원하는 압력이 얻어지는 다른 쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내의 압력도 올라가고, 해당 다른 쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)로부터 압송할 때의 압력이 원하는 것보다 커져 버린다.

이와 같이 레지스트액 공급 장치(300')에서는, 레지스트액 공급원(201)으로부터 버퍼 탱크(202)에 보충할 수 없어졌을 때, 즉 레지스트액 공급원(201)의 교환 시에 문제가 있다.

그것에 대하여, 도 14의 레지스트액 공급 장치(300)에서는, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)마다 다른 압력을 가할 수 있기 때문에, 레지스트액 공급원(201)의 교환 시에 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)이 축소되도록 변형되어도, 원하는 압력으로 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 압송할 수 있다.

또한, 레지스트액 공급 장치(300)에서는, 버퍼 탱크(202)로부터의 압송 액압은, 예를 들어 압력 센서(219)에 의해 측정되는 필터(212)의 2차측 액압이 소정의 값으로 일정해지도록 피드백 제어된다. 또한, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 압력 센서(219)에 의해 측정된 필터(212)의 2차측 액압이 소정의 범위 내에 있는 경우는, 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)에, 전공 레귤레이터(207)를 사용하여 소정의 일정한 압력을 가함으로써, 버퍼 탱크(202)로부터 처리액을 압송시키게 할 수도 있다. 또한, 제2 처리액 공급관(257) 내의 액압을 측정하는 압력 센서를 설치하고, 해당 압력 센서로 측정되는 필터(212)의 1차측 액압이 소정의 값으로 일정해지도록, 전공 레귤레이터(207)를 사용하여 버퍼 탱크(202)로부터의 압송 액압을 피드백 제어하도록 할 수도 있다.

또한, 도 13의 레지스트액 공급 장치(300')와 같이 버퍼 탱크(202)에 공통의 전공 레귤레이터(207)를 갖는 구성이어도, 버퍼 탱크(202) 내의 다이어프램(202a)이 변형되어도 반력이 작은 경우에는 상술한 레지스트액 공급원(201)의 교환 시의 문제는 발생하지 않는다.

또한, 레지스트액 공급 장치(300')에서는, 버퍼 탱크(202)와 전공 레귤레이터(207)를 접속하는 급배 기관(254)에 전환 밸브(301)가 설치되어 있다. 또한, 버퍼 탱크(202)에는 감압원(302)이 접속된 배기관(351)이 설치되고, 배기관(351)에는 배기 밸브(303)가 설치되어 있다. 그리고, 레지스트액 공급 장치(300')에서는, 버퍼 탱크(202)에의 레지스트액의 보충 시에는, 전환 밸브(301)를 폐쇄 상태로 하고, 공급 밸브(203)를 개방 상태로 하고, 또한, 배기 밸브(303)를 개방 상태로 함으로써 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내를 감압한다. 이에 의해 레지스트액 공급원(201)으로부터 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b) 내에 레지스트액이 공급된다.

(제3 실시 형태)

도 16은, 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도이다.

도 16의 레지스트액 공급 장치(400)는, 도 15의 레지스트액 공급 장치(300')와 마찬가지로, 2개의 버퍼 탱크(202)에 대해 공통의 전공 레귤레이터(207)가 설치되어 있다. 그러나, 도 16의 레지스트액 공급 장치(400)는, 도 15의 레지스트액 공급 장치(300')와 상이하고, 제1 처리액 공급관(251)에 있어서의 레지스트액 공급원(201)과 버퍼 탱크(202) 사이에, 별개의 버퍼 탱크(401)가 설치되어 있다. 이 별개의 버퍼 탱크(401)는 압송 기능을 갖지 않는 통상의 탱크이다.

이 레지스트액 공급 장치(400)에서는, 레지스트액 공급원(201)이 비워진 상태에서, 한쪽의 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 압송하고, 해당 한쪽의 버퍼 탱크(202)의 저장실(202b)이 축소되도록 다이어프램(202a)이 변형되어도, 별개의 버퍼 탱크(401)로부터 상기 한쪽의 버퍼 탱크(202)에 레지스트액이 보충되기 때문에, 다이어프램(202a)은 원래의 형태로 복귀된다. 그래서, 레지스트액 공급원(201)의 교환이 필요하게 되었을 때라도, 버퍼 탱크(202)로부터 원하는 압력으로 레지스트액을 압송할 수 있다.

또한, 제1 처리액 공급관(251)에 있어서의 다른 버퍼 탱크(401)와 버퍼 탱크(202) 사이에는 전환 밸브(402)가 설치되어 있다.

(제4 실시 형태)

도 17은, 본 발명의 제4 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치의 구성 개략을 나타내는 설명도이다.

도 17의 레지스트액 공급 장치(500)에서는, 버퍼 탱크(202)의 하부에는, 튜브프램 펌프인 펌프(211)에 레지스트액을 이송하는 제2 처리액 공급관(551)이 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 제2 처리액 공급관(551)의 일단부에는, 버퍼 탱크(202)가 접속되고, 타단부에는, 펌프(211)의 한쪽 포트(도 8의 부호(202e, 202f) 참조)가 접속되어 있다.

제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 버퍼 탱크(202)와 펌프(211) 사이에는, 필터(212)가 설치되어 있다. 또한, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서, 버퍼 탱크(202)와 필터(212) 사이에는 공급 밸브(214)가 설치되고, 해당 공급 밸브(214)와 필터(212) 사이에는 전환 밸브(215)가 설치되어 있다. 또한, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 필터(212)와 펌프(211) 사이에는, 전환 밸브(501)가 설치되어 있다.

레지스트액 공급 장치(500)는, 펌프(211)로부터의 레지스트액을 도포 노즐(142)을 통하여 웨이퍼 상에 공급하는 제3 처리액 공급관(552)을 구비한다. 제3 처리액 공급관(552)의 일단부는, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 필터(212)와 전환 밸브(501) 사이에 접속되고, 타단부에는 도포 노즐(142)이 접속된다. 제3 처리액 공급관(552)에는, 상류 측으로부터 순서대로 압력 센서(219), 액체 유량계(502), 공급 제어 밸브(221), 도포 노즐(142)이 설치되어 있다.

또한, 레지스트액 공급 장치(500)는, 펌프(211) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 되돌릴 때 등에 사용되는 복귀관(553)을 구비한다. 복귀관(553)의 일단부는, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 공급 밸브(214)와 전환 밸브(215) 사이에 접속되고, 타단부는, 펌프(211)의 제2 처리액 공급관(551)의 접속측과는 반대측의 다른 쪽 포트(도 8의 부호(202e, 202f) 참조)에 접속된다. 또한, 복귀관(553)에는 전환 밸브(503)가 설치되어 있다.

그리고, 레지스트액 공급 장치(500)에서는, 펌프(211)와 전공 레귤레이터(216) 사이에 설치된 급배 기관(259)에 기체 유량계(504)가 설치되어 있다.

다음에, 도 18 내지 도 27에 기초하여, 레지스트액 공급 장치(500)의 동작에 대해 설명한다.

(펌프(211)에의 보충)

먼저, 도 18에 도시한 바와 같이, 제2 처리액 공급관(551)으로 통하게 설치된 전환 밸브(501), 복귀관(553)으로 통하게 설치된 전환 밸브(503)를 폐쇄 상태로 한 채, 공급 밸브(214), 전환 밸브(215)를 개방 상태로 하고, 또한 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 한다. 이 상태에서, 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 송출한다. 그리고, 이 때의 제3 처리액 공급관(552) 내의 액압을 압력 센서(219)로 측정한다. 측정된 액압은, 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액 공급/보충 시에 펌프(211)에 가해지는 배압에 대략 동등하다.

계속해서, 도 19에 도시한 바와 같이, 전환 밸브(215)를 폐쇄 상태로 하고 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액의 송출을 정지하고, 전환 밸브(501)를 개방 상태로 한다. 그리고, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정되는 압력 즉 펌프(211)의 전환 밸브(501)측의 압력이, 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액의 송출 시에 압력 센서(219)에 의해 측정된 압력과 동등해지도록 한다.

그 후, 도 20에 도시한 바와 같이, 공급 제어 밸브(221)를 폐쇄 상태로 하고, 전환 밸브(215)를 개방 상태로 하고, 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액의 보충을 개시한다. 이 때, 펌프(211)의 전환 밸브(501)측의 압력이, 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액의 송출 시에 압력 센서(219)로 측정된 압력 즉 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액 보충 시에 펌프(211)에 가해지는 배압과 동등하게 되기 때문에, 보충 개시 시에, 배압의 변동에 의해 펌프(211) 내에 순간적으로 레지스트액이 유입되는 경우가 없다.

(펌프(211)에의 보충의 다른 예)

먼저, 도 18에 도시한 바와 같이, 제2 처리액 공급관(551)으로 통하게 설치된 전환 밸브(501) 및 복귀관(553)으로 통하게 설치된 전환 밸브(503)를 폐쇄 상태로 한 채, 공급 밸브(214), 전환 밸브(215)를 개방 상태로 하고, 또한 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 한다. 이 상태에서, 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 송출한다. 그리고, 필터(212)의 2차측 압력, 구체적으로는, 제3 처리액 공급관(552) 내의 액압을, 압력 센서(219)로 측정한다. 이 압력 측정과 함께 전공 레귤레이터(207)에 의해 버퍼 탱크(202) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정된 압력이 목표 압력(예를 들어 50kPa)이 되도록, 피드백 제어한다.

계속해서, 도 21에 도시한 바와 같이, 공급 밸브(214)를 폐쇄 상태로 하고, 전환 밸브(501)를 개방 상태로 한다. 그리고, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정되는 압력 즉 펌프(211)의 전환 밸브(501)측의 압력이, 상기와 같은 목표 압력과 동등해지도록 한다.

그 후, 도 20에 도시한 바와 같이, 공급 제어 밸브(221)를 폐쇄 상태로 하고, 공급 밸브(214)를 개방 상태로 하고, 버퍼 탱크(202)로부터의 레지스트액의 보충을 개시한다. 이 경우, 보충 개시 시에 있어서, 버퍼 탱크(202)로부터의 압송 액압과 펌프(211)의 전환 밸브(501)측의 압력이, 상기 목표 압력으로 동등해지고 있기 때문에, 보충 개시 시에, 펌프(211) 내에 순간적으로 레지스트액이 유입되는 일이 없다.

(토출)

레지스트액의 토출 시, 도 22에 도시한 바와 같이, 제2 처리액 공급관(551)으로 통하게 설치된 전환 밸브(501) 및 제3 처리액 공급관(552)으로 통하게 설치된 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 한다. 그와 함께, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211)의 접속처를 가압원(217)으로 하고, 펌프(211)의 전환 밸브(501)측의 포트로부터 레지스트액을 제2 처리액 공급관(551)을 통하여 제3 처리액 공급관(552)에 압송한다. 이에 의해, 필터(212)로 통과되어 펌프(211) 내에 저류된 레지스트액이, 도포 노즐(142)을 통하여 웨이퍼에 토출된다.

(토출의 다른 예)

도 23에 도시한 바와 같이, 제2 처리액 공급관(551)으로 통하게 설치된 전환 밸브(215), 제3 처리액 공급관(552)으로 통하게 설치된 공급 제어 밸브(221) 및 복귀관(553)으로 통하게 설치된 전환 밸브(503)를 개방 상태로 한다. 그와 더불어, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211)의 접속처를 가압원(217)으로 하고, 펌프(211)의 복귀관(553)측의 포트로부터 레지스트액을 복귀관(553) 및 제2 처리액 공급관(551)을 통하여 제3 처리액 공급관(552)에 압송한다. 이에 의해, 필터(212)로 통과되어 펌프(211) 내에 저류된 레지스트액을, 다시 필터(212)로 통과시킨 후에 웨이퍼에 토출할 수 있다. 이와 같이 구성함으로써, 웨이퍼에 결함을 일으킬 가능성을 더 저하시킬 수 있다.

(토출의 전환)

이하에서는, 도 23과 같이 레지스트액을 다시 필터(212)로 통과시키고 나서 웨이퍼에 토출하는 방식을 더블 패스 방식, 도 22와 같이 레지스트액을 다시 필터(212)로 통과시키지 않고 웨이퍼에 토출하는 방식을 싱글 패스 방식이라고 한다.

더블 패스 방식과 싱글 패스 방식은 목적 등에 따라 선택 가능한 것이 바람직하다. 예를 들어, 통상은 더블 패스 방식을 이용하여, 퍼지를 할 때나, 단시간에 레지스트액을 토출할 필요가 있을 때 등에 싱글 패스 방식을 사용한다.

또한, 펌프(211)에의 레지스트액의 보충 속도 즉 보충 시의 필터(212)의 여과 레이트와, 더블 패스 방식에서의 레지스트액의 토출 속도 즉 해당 방식에서의 토출 시의 필터(212)의 여과 레이트란, 양쪽 여과 레이트 모두 느린 것이 바람직하다. 느린 쪽이, 필터(212)로 처리액 중의 파티클을 보다 확실하게 포집할 수 있기 때문이다. 단, 후자의 토출 시의 여과 레이트는, 너무 늦으면, 처리액이 단속적으로 액적 상에 토출되기 때문에, 저속화에 한계가 있다. 그래서, 상술한 보충 시의 여과 레이트와 토출 시의 여과 레이트 중 보충 시의 여과 레이트 쪽이 작은 것이 바람직하다. 또한, 보충 시의 여과 레이트는 예를 들어 0.05ml/초, 토출 시의 여과 레이트는 예를 들어 0.5ml/초이다.

(벤트)

벤트 시에는, 예를 들어 먼저, 도 24에 도시한 바와 같이, 제2 처리액 공급관(551)으로 통하게 설치된 공급 밸브(214) 및 복귀관(553)으로 통하게 설치된 전환 밸브(503)를 폐쇄 상태로 한 채, 전환 밸브(215), 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 하고, 또한 배출 밸브(213)를 개방 상태로 한다. 그리고, 이 때의 제3 처리액 공급관(552) 내의 액압을 압력 센서(219)로 측정한다. 측정된 액압은, 벤트 시에 펌프(211)에 가해지는 배압에 대략 동등하다.

계속해서, 도 25에 도시한 바와 같이, 배출 밸브(213), 공급 제어 밸브(221)를 폐쇄 상태로 하고, 전환 밸브(503)를 개방 상태로 한다. 그리고, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정되는 압력 즉 펌프(211)의 전환 밸브(503)측의 압력이, 도 24의 상태에서 압력 센서(219)에 의해 측정된 압력과 동등해지도록 한다.

그 후, 도 26에 도시한 바와 같이, 배출 밸브(213)을 개방 상태로 하고, 드레인관(258)을 통한 펌프(211) 내의 레지스트액 배출을 개시한다. 이 때, 펌프(211)의 전환 밸브(503)측의 압력이, 도 24의 상태에서 압력 센서(219)에 의해 측정된 압력 즉 벤트 시에 펌프(211)에 가해지는 배압과 동등하게 되기 때문에, 벤트 개시 시에, 배압의 변동에 의해 펌프(211) 내에 순간적으로 레지스트액이 유출되는 경우가 없다.

(벤트의 다른 예)

벤트의 방식으로서는, 상술한 필터(212)를 통하여 배출하는 필터 벤트 방식 외에, 버퍼 탱크(202)로 되돌리는 리턴 벤트 방식이 있다.

리턴 벤트 방식에서는, 벤트를 행하기 전에, 예를 들어 먼저, 도 18에 도시한 바와 같이, 전환 밸브(501) 및 전환 밸브(503)가 폐쇄 상태로 되고, 공급 밸브(214), 전환 밸브(215) 및 공급 제어 밸브(221)를 개방 상태로 한다. 이 상태에서, 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 송출한다. 그리고, 필터(212)의 2차측 압력, 구체적으로는, 제3 처리액 공급관(552) 내의 액압을, 압력 센서(219)로 측정한다. 이 압력 측정과 함께 전공 레귤레이터(207)에 의해 버퍼 탱크(202) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정된 압력이 소정의 압력이 되도록, 피드백 제어를 행한다. 계속해서, 압력 센서(219)로 측정된 압력이 소정의 압력이 되었을 때의 버퍼 탱크(202)의 작동실의 압력에 기초하여, 펌프(211)의 벤트 개시 시의 압력을 보정한다. 예를 들어, 소정의 압력이 되었을 때의 상기 작동실의 압력이 크면, 펌프(211)의 벤트 개시 시의 압력이 높아지도록 보정하고, 작으면, 상기 압력이 작아지도록 보정한다.

계속해서, 도 25에 도시한 바와 같이, 공급 밸브(214), 공급 제어 밸브(221)를 폐쇄 상태로 하고, 전환 밸브(503)를 개방 상태로 한다. 그리고, 전공 레귤레이터(216)에 의해 펌프(211) 내의 작동실의 압력을 제어하고, 압력 센서(219)로 측정되는 압력 즉 펌프(211)의 전환 밸브(503)측의 압력이, 보정된 펌프(211)의 벤트 개시 시의 압력이 되도록 한다.

그 후, 도 27에 도시한 바와 같이, 공급 밸브(214)를 개방 상태로 하고, 전환 밸브(215)를 폐쇄 상태로 하고, 펌프(211) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 복귀시키는 것, 즉 리턴 벤트를 개시한다.

버퍼 탱크(202)의 저장실 내의 압력은 해당 저장실 내의 레지스트액의 양에 따라 변하기 때문에, 리턴 벤트 개시 시의 펌프(211)의 압력을 일정하게 하면, 적절하게 리턴 벤트를 행할 수 없다. 그러나, 본 예에서는, 리턴 벤트 개시 시의 펌프(211)의 압력이, 버퍼 탱크(202)의 저장실 내의 압력에 대응하는 버퍼 탱크(202)의 작동실의 압력에 기초하여 보정되기 때문에, 적절하게 리턴 벤트를 행할 수 있다.

(벤트량)

벤트량은, 펌프(211)에의 보충량과 레지스트액의 토출량의 차분으로 정해진다.

도면의 예에서는, 액체 유량계(502)가 설치되어 있기 때문에, 액체 유량계(502)에서의 측정 결과에 기초하여, 실제의 레지스트액 토출량을 산출할 수 있다. 그래서, 벤트량을 정확하게 산출할 수 있다.

액체 유량계(502)가 설치되지 않은 경우에는, 펌프(211)에 대해 설치된 기체 유량계(504)에 의해, 펌프(211)에 대해 송출된 기체의 유량을 측정하고, 해당 측정 결과를 사용하여 산출된다. 기체 유량계(504)는, 질량 유량계이며, 측정된 질량의 적산값을 체적으로 변환함으로써, 레지스트액의 토출량을 산출할 수 있다. 질량과 체적의 관계는, 압력과 온도에 의존하기 때문에, 질량으로부터의 체적에의 변환은, 펌프(211) 내의 온도가 20℃이며 펌프(211) 내의 압력이 1 기압인 것으로서 행해도 되고, 펌프(211) 내의 온도가 23℃일 때에 측정한 펌프(211)의 작동실의 압력에 기초하여 행할 수도 있다.

벤트량을 정확하게 결정함으로써 벤트의 시간을 적절하게 설정할 수 있다.

(벤트의 실행 타이밍)

리턴 벤트는, 레지스트액을 체류시키지 않기 위하여 행하는 것이며, 예를 들어 정기적으로 행해진다.

필터 벤트는, 펌프(211) 내 등의 레지스트액의 세정도가 낮을 때에 행하는 것이며, 예를 들어 기동 시에 행해지거나, 정기적으로 행해지거나, 필터(212)의 1차측에서 기포가 검출되었을 때에 행해지거나 한다.

상기 기포의 검출기는, 예를 들어 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 복귀관(553)의 접속부와 공급 밸브(214) 사이의 부분에 설치되는 것이 바람직하다. 해당 부분은, 실제의 레지스트액 공급 장치(500)에서는, 필터(212) 및 펌프(211)의 연직 방향의 상방에 위치한다. 그로 인하여, 필터의 1차측에서 발생된 기포를, 보다 구체적으로는, 필터(212)나 펌프(211), 기포 검출기가 설치된 부분으로부터 필터(212)나 펌프(211)에 이르는 계로에서 발생된 기포를, 확실하게 검출할 수 있다.

(이상 검출)

레지스트액 공급 장치(500)에서는, 펌프(211)의 저장실을 구성하는 다이어프램이 시간과 함께 신장하기 때문에, 다이어프램을 변형시키기 위한 압력 즉 전공 레귤레이터(216)에 의해 제어되는 펌프(211) 내의 작동실의 압력(EV압)은, 다이어프램의 신장에 맞춰 크게 할 필요가 있다.

그래서, 레지스트액 공급 장치(500)에서는, EV압을 측정하고, 압력 센서(219)로 측정된 압력(액압)과 비교한다. 다이어프램의 신장이 허용 범위를 초과하거나 그 외의 이상이 발생하거나 해서, EV압과 액압의 차가 소정값 이상이 되면, 소리 정보나 시각 정보 등에서 에러를 통지한다.

또한, 에러 통지와 함께, 가압원(217)에 의한 펌프(211)의 작동실의 가압을 정지하고, EV압을 대기압으로 한다. 그 때, 공급 밸브(214)나, 전환 밸브(215), 전환 밸브(501)는 개방 상태로 하는 것이 바람직하다.

버퍼 탱크(202)에 대해서도 펌프(211)와 마찬가지로 버퍼 탱크 내의 작동실의 압력에 기초하여 에러를 검지하게 할 수도 있다.

또한, 이상의 레지스트액 공급 장치(500)에서는, 액체 유량계(502)가, 제3 처리액 공급관(552)에 있어서의 펌프(211)와 공급 제어 밸브(221) 사이에 설치되어 있었지만, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 제3 처리액 공급관(552)의 접속부와 필터(212) 사이에 설치될 수도 있다. 또한, 액체 유량계(502)는 설치되지 않을 수도 있다.

레지스트액 공급 장치(500)에서는, 필터(212)의 2차측 압력을 측정하는 압력 센서(219)가, 제3 처리액 공급관(552)의 최상류부에 설치되어 있다. 단, 해당 압력 센서(219)는, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 제3 처리액 공급관(552)의 접속부와 전환 밸브(501) 사이에 설치될 수도 있다. 이 경우, 펌프(211)로부터 레지스트액을 필터(212)를 통하여 토출할 때, 압력 센서(219)를 통과하지 않으므로, 레지스트액에의 파티클의 혼입을 더 방지할 수 있다.

레지스트액 공급 장치(500)에는, 필터(212)의 2차측 압력을 측정하는 압력 센서(219) 이외에도, 필터(212)의 1차측 압력을 측정하는 압력 센서를 설치할 수도 있다.

1차측 압력 센서는, 예를 들어 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 전환 밸브(215)와 필터(212) 사이의 부분에 설치된다. 해당 부분에 설치된 1차측 압력 센서와 2차측 압력 센서(219)의 차압은, 필터(212)의 눈막힘 상태에 따라 변화한다. 그래서, 상기 부분에 1차측 압력 센서(219)를 설치함으로써, 차압에 기초하여 필터(212)의 상태를 판별할 수 있다.

또한, 상술한 부분에 1차측 압력 센서를 설치하면, 버퍼 탱크(202)로부터 1차측 압력 센서까지의 압력 손실은, 버퍼 탱크(202)로부터 2차측 압력 센서(219)까지의 압력 손실에 비하여 작다. 그래서, 1차측 압력 센서에서의 측정 결과를, 버퍼 탱크(202)의 작동실의 압력에 피드백하면, 2차측 압력 센서(219)에서의 측정 결과를 피드백하는 경우에 비하여, 버퍼 탱크(202)에서의 레지스트액에 대한 가압의 크기를 보다 원하는 것으로 할 수 있다.

또한, 레지스트액 공급 장치(500)에 있어서, 1차측 압력 센서를, 제2 처리액 공급관(551)에 있어서의 버퍼 탱크(202)와 공급 밸브(214) 사이의 부분에 설치해도, 상술한 바와 같이 전환 밸브(215)와 필터(212) 사이의 부분에 설치할 때와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

레지스트액 공급 장치(500)는, 버퍼 탱크(202)에 의해 탈기액을 생성할 수 있다. 필터(212)의 기동 시나 정기 유지 보수 시에, 버퍼 탱크(202)에서 생성한 탈기액을 필터(212)에 통액함으로써, 탈기하지 않은 통상의 레지스트액에서는 제거할 수 없는 미소 기포를 제거할 수 있다. 또한, 필터(212)에 통액된 탈기액은, 드레인관(258)을 통하여 배출하는 것이 바람직하다.

또한, 이상에서는, 본 발명에 관한 처리액 공급 장치가 공급하는 처리액으로서 레지스트액을 예로 들어 설명하고 있었지만, 예를 들어 SOG(Spin On Glass)의 도포액을 공급하도록 할 수도 있다.

실시예

도 28은, 실시예 및 비교예의 레지스트막 중에 관측된 파티클의 양을 도시하는 도면이며, 도 28의 (A) 내지 (D)는 순서대로 비교예 1, 실시예 1, 비교예 2, 실시예 2의 파티클의 양을 나타낸다. 또한, 도면에 있어서, 횡축은, 몇매째의 웨이퍼일지를 나타내며, 종축은, 파티클의 양이며, 비교예 2에 있어서의 4매째의 웨이퍼의 레지스트막에 존재한 파티클의 수를 1이라 했을 때의 값을 나타낸다. 파티클의 유무/수는 전자 현미경에 의해 관찰하여 확인했다. 또한, 도면의 막대 그래프 중의 사선부는 기포 원인이라고 생각되는 파티클의 수를 나타낸다.

실시예 1 및 실시예 2에서는, 제4 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치(500)를 사용하여, 압력 센서(219)에서의 압력이 50kPa가 되도록 버퍼 탱크(202)로 가압하면서, 구체적으로는, 압력 센서(219)에서의 압력이 50kPa가 되도록, 버퍼 탱크(202)의 작동실의 압력을 제어하면서, 해당 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 펌프(211)에 보충했다. 또한, 실시예 1 및 실시예 2에서는, 더블 패스 방식으로 펌프(211)로부터 레지스트액을 공급하고, 레지스트막을 형성했다.

비교예 1 및 비교예 2에서는, 제4 실시 형태에 관한 레지스트액 공급 장치(500)를 사용하여, 버퍼 탱크(202)로부터 레지스트액을 펌프(211)에 보충하고, 더블 패스 방식으로 펌프(211)로부터 레지스트액을 공급하고, 레지스트막을 형성했지만, 보충 시에 버퍼 탱크(202)에 의한 가압을 행하지 않았다.

또한, 실시예 1 및 비교예 1과 실시예 2 및 비교예 2는, 버퍼 탱크와 필터의 위치 관계나 양자 간의 배관, 처리액 공급 장치의 설치 장소 등이 상이하다.

도 28의 (A) 및 도 28의 (C)에 도시한 바와 같이, 비교예 1에서는 약간 적기는 하나, 비교예 1 및 비교예 2에서는, 많은 파티클이 존재하고, 또한, 기포 원인이라고 생각되는 파티클도 존재한다.

그것에 대하여, 실시예 1 및 실시예 2에서는, 도 28의 (B) 및 도 28의 (D)에 도시한 바와 같이, 파티클의 수는 적고, 특히, 기포 원인이라고 생각되는 파티클의 수는 제로이다.

이상의 실시예 및 비교예로부터 알 수 있는 바와 같이, 레지스트액 공급 장치(500)에 의하면, 버퍼 탱크(202)의 가압 기능이 없으면 많은 파티클이 존재해 버리는 것 같은 환경 하에서도, 필터(212)로 파티클을 적절하게 제거할 수 있다. 즉, 환경에 의하지 않고, 파티클을 적절하게 제거할 수 있다. 또한, 레지스트액 공급 장치(500)에 의하면 환경에 의하지 않고, 기포 원인의 파티클 발생을 방지할 수 있다.

본 발명은 피처리체에 처리액을 도포하는 기술에 유용하다.

142: 도포 노즐
200, 300, 400, 500: 레지스트액 공급 장치
201: 레지스트액 공급원
202: 버퍼 탱크
202a: 다이어프램
202b: 저장실
207: 전공 레귤레이터
210: 압력 센서
211: 펌프
212: 필터
216: 전공 레귤레이터
219: 압력 센서
223: 압력 센서

Claims

피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부에, 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치이며,
처리액을 저류하는 처리액 공급원으로부터 공급되는 처리액을 일시적으로 저류하는 일시 저류 장치와,
상기 일시 저류 장치로부터의 처리액 중의 이물을 제거하는 필터와,
해당 필터에 의해 이물이 제거된 처리액을 상기 처리액 토출부에 송출하는 펌프를 구비하고,
상기 일시 저류 장치는, 해당 일시 저류 장치에 저류되어 있는 처리액을 압송하는 압송 기능을 갖고 있고,
상기 일시 저류 장치보다 하류측에 설치되고, 처리액의 액압을 측정하는 압력 측정 장치와,
상기 압력 측정 장치로의 측정 결과에 기초하여, 적어도 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압송을 제어하는 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
삭제
제1항에 있어서, 상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 2차측 액압을 측정하고,
상기 제어 장치는, 상기 필터의 2차측 액압이 일정해지도록, 상기 압송 시의 액압을 제어하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항에 있어서, 상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 2차측 액압을 측정하고,
상기 제어 장치는, 상기 필터의 2차측 액압이 소정의 범위 내에 있는 경우는, 상기 일시 저류 장치에 소정의 압력을 가하여, 처리액을 압송시키는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항에 있어서, 상기 압력 측정 장치는, 상기 필터의 1차측 액압을 측정하고,
상기 제어 장치는, 상기 필터의 1차측 액압이 일정해지도록, 상기 압송 시의 액압을 제어하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프의 세트를 복수 구비하고,
상기 제어 장치는, 상기 일시 저류 장치 각각에 대해 설치된, 당해 일시 저류 장치의 처리액을 저류하는 저장실 내의 액압을 조정하는 전공 레귤레이터를 갖는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일시 저류 장치는, 튜브프램 펌프인 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항에 있어서, 상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프의 세트를 복수 구비하고,
상기 일시 저류 장치는 각각 처리액을 저류하는 저류 장치와, 해당 저류 장치 내의 처리액을 압송하는 별개의 펌프를 별체로 갖고,
상기 일시 저류 장치의 상기 별개의 펌프에 대해, 당해 별개의 펌프의 처리액을 저류하는 저장실 내의 액압을 조정하는 공통의 전공 레귤레이터가 설치되어 있고,
상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압송 시의 액압의 제어는, 상기 전공 레귤레이터에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제8항에 있어서, 상기 별개의 펌프는, 튜브프램 펌프인 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항, 제3항 내지 제5항, 제8항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펌프는, 상기 필터에 의해 이물이 제거된 처리액을 상기 처리액 토출부에 송출할 때, 상기 필터 내를 다시 통과하도록 송출하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
제1항에 있어서, 상류 측으로부터 순서대로 상기 일시 저류 장치, 상기 필터 및 상기 펌프가 설치된 처리액 공급관을 구비하고,
상기 펌프는, 처리액을 저류하는 저장실을 갖고,
해당 처리액 공급관은, 상기 일시 저류 장치와 상기 필터 사이에 하나의 밸브를, 상기 일시 저류 장치와 상기 필터 사이에 다른 밸브를 갖고,
상기 제어 장치는, 상기 일시 저류 장치로부터 상기 펌프의 저장실에 상기 필터에 의해 이물이 제거된 처리액의 보충 시, 상기 하나의 밸브를 개방하고, 상기 다른 밸브를 폐쇄한 상태에서, 상기 압력 측정 장치로 측정한 상기 필터의 2차측 압력이 소정의 값이 되도록, 상기 일시 저류 장치로부터의 처리액의 압력을 제어하고, 그 후, 상기 하나의 밸브를 폐쇄하고, 상기 다른 밸브를 개방한 상태에서, 상기 압력 측정 장치로 측정한 상기 필터의 2차측 압력이 상기 소정의 값이 되도록, 상기 저장실 내의 압력을 제어하고 나서, 상기 하나의 밸브 및 상기 다른 밸브를 개방한 상태에서 상기 보충을 개시하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.