KR20170043452A - 처리액 공급 장치 - Google Patents

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KR20170043452A
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츠네나가 나카시마
신스케 다가키
유지 기무라
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 기판 처리 시스템에 처리액을 공급하는 데 있어서, 처리액 용기의 교환 작업을 간이화하는 것을 과제로 한다.
처리액을 이용하여 기판의 액 처리를 행하는 액 처리부를 구비한 복수의 기판 처리 시스템(PR1∼PR4)에 대하여, 용기 내에 저류된 처리액을, 기판 처리 시스템(PR1∼PR4)의 외부로부터 공급하는 처리액 공급 장치(1)로서, 처리액이 저류되어 있는 새로운 용기(2)의 반입과, 사용이 끝난 용기(3)의 반출을 행하는 반입반출부(10)와, 격벽(21) 내에 배치된 용기(2)와, 복수의 기판 처리 시스템(PR1∼PR4)을 접속하는 처리액 유로(12)와, 격벽(21) 내에 배치된 용기(2) 내의 처리액을, 처리액 유로(12)를 통해 복수의 기판 처리 시스템(PR1∼PR4)에 대하여 압송하는 처리액 공급부(11)와, 격벽(21) 내의 사용이 끝난 용기(3)와, 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)를 자동 교환하는 용기 교환 기구를 갖는다.

Description

처리액 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING TREATMENT LIQUID}
본 발명은 처리액을 이용하여 기판의 액 처리를 행하는 액 처리부를 구비한 기판 처리 시스템에 대하여, 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치에 관한 것이다.
예컨대 반도체 디바이스의 제조 공정에 있어서의 포토 리소그래피 공정에서는, 웨이퍼 상에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하거나, 현상액을 공급하여 레지스트막을 현상 처리하기 위해, 여러 가지 액 처리가 행해진다. 이들 일련의 액 처리는, 각종 액 처리 장치나 장치 사이에서 웨이퍼를 반송하는 반송 기구 등을 탑재한 기판 처리 시스템에 의해 행해진다.
이러한 기판 처리 시스템에서 이용되는 각종 처리액은, 그 기판 처리 시스템 내에 배치된, 처리액을 저류하는 용기로부터 각 액 처리 장치에 공급된다. 그리고 용기 내의 처리액이 없는 경우, 작업원에 의해 사용이 끝난 용기와 새로운 용기의 교환 작업이 행해지지만, 이 용기의 교환 작업 시에 파티클이 새로운 용기 내에 혼입되거나, 약액에 따라서는 공기에 닿음으로써 변질되거나 하는 경우가 있다.
그래서, 특허문헌 1에는, 새로운 용기에의 파티클의 혼입이나 공기와의 접촉에 의한 변질을 피하기 위해, 기판 처리 시스템 내에 주위의 분위기로부터 구획된 영역을 형성하고, 그 영역 내에 사용이 끝난 용기와 새로운 용기를 자동 교환하는 기구를 마련하는 것이 제안되어 있다.
일본 특허 공개 제2015-76472호 공보
특허문헌 1에 기재된 기술은, 처리액 용기의 교환을 자동화함으로써, 인위적인 부착 실수나 용기 교환 시의 파티클 혼입 등의 리스크를 삭감하는 데 유효한 기술이다. 한편, 기판 처리 시스템마다 자동 교환 기구를 마련할 필요가 있어, 기판 처리 시스템의 구성이 대규모화될 염려가 있다.
특히 최근의 반도체 공장에서는, 클린 룸 내에 동일한 처리를 행하는 기판 처리 시스템이 복수대 배치되어 있기 때문에, 각각의 기판 처리 시스템에 자동 교환 기구를 마련하면 푸트프린트(footprint)가 증대해 버린다.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 기판 처리 시스템에 처리액을 공급하는 데 있어서, 처리액 용기의 교환 작업을 간이화하는 것을 목적으로 하고 있다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 처리액을 이용하여 기판의 액 처리를 행하는 액 처리부를 구비한 복수의 기판 처리 시스템에 대하여, 용기 내에 저류된 처리액을, 상기 기판 처리 시스템의 외부로부터 공급하는 처리액 공급 장치로서, 처리액이 저류되어 있는 새로운 용기의 반입과, 사용이 끝난 용기의 반출을 행하는 반입반출부와, 처리액 공급 위치에 배치된 상기 새로운 용기와, 복수의 상기 기판 처리 시스템을 접속하는 처리액 유로와, 상기 처리액 공급 위치에 배치된 상기 새로운 용기 내의 처리액을, 상기 처리액 유로를 통해 복수의 상기 기판 처리 시스템에 대하여 압송하는 처리액 공급부와, 상기 처리액 공급 위치의 사용이 끝난 용기와, 상기 반입반출부 상의 새로운 용기를 자동 교환하는 용기 교환 기구를 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 처리액 공급 장치가, 처리액 공급 위치에 배치된 새로운 용기와 복수의 기판 처리 시스템을 접속하는 처리액 유로를 가지고 있기 때문에, 처리액 공급 위치에 배치된 새로운 용기로부터 복수의 기판 처리 시스템에 대하여 하나의 처리액 공급 장치로부터 일괄적으로 처리액을 공급할 수 있다. 그리고, 처리액 공급 위치의 사용이 끝난 용기와 반입반출부 상의 새로운 용기의 자동 교환을 행하는 용기 교환 기구를 구비하고 있기 때문에, 각 기판 처리 시스템에 대하여 개별로 자동 교환 기능을 마련하는 경우와 비교하여, 푸트프린트의 증가를 최소한으로 억제할 수 있다. 또한, 복수의 기판 처리 시스템에 처리액을 공급할 때에는, 하나의 처리액 공급 장치에 대하여 새로운 용기를 보충하면 된다. 그 결과, 용기 교환에 따른 작업원의 부담을 경감하며, 잘못하여 상이한 기판 처리 시스템에 새로운 용기를 보충하는 일도 없게 된다. 따라서 본 발명에 따르면, 기판 처리 시스템에 있어서의 처리액 용기의 교환 작업을 간이화할 수 있다.
세정액 공급관을 통해 상기 처리액 유로에 접속된 세정액 공급원과, 상기 세정액 공급관에 있어서의, 상기 세정액 공급관과 상기 처리액 유로의 접속점과, 상기 세정액 공급원과의 사이에 마련된 세정액 전환 밸브를 더 가지고 있어도 좋다.
상기 처리액 유로는, 상기 처리액 공급 장치 내에서 상기 기판 처리 시스템마다 분기되어, 상기 각 기판 처리 시스템에 접속되어 있어도 좋다.
상기 처리액 공급부는, 상기 처리액의 공급 대상이 되는 상기 기판 처리 시스템과 동수(同數) 이상의 펌프를 가지며, 상기 각 기판 처리 시스템은, 상기 처리액 유로를 통해 상기 펌프 중 적어도 하나와 각각 접속되어 있어도 좋다.
상기 기판 처리 시스템으로부터의 처리액 요구 신호에 기초하여, 상기 처리액 요구 신호를 발생시킨 기판 처리 시스템에 접속된 상기 펌프의 제어를 행하는 제어부를 가지고 있어도 좋다.
상기 처리액 공급 위치 상의 용기 내의 처리액의 유무를 검출하는 처리액 검출 기구를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 처리액 검출 기구의 검출 결과에 기초하여, 상기 처리액 공급 위치 상의 사용이 끝난 용기와 상기 반입반출부 상의 새로운 용기와의 교환을 행하도록, 상기 용기 교환 기구를 제어하여도 좋다.
상기 처리액 공급부는, 상기 처리액 유로에 있어서의 상기 펌프의 상류측으로서 상기 새로운 용기의 하류측에 배치된 중간 저장조와, 상기 새로운 용기 내부를 가압하여 상기 중간 저장조에 상기 처리액을 압송하기 위해, 상기 새로운 용기 내에 청정 기체를 공급하는 가압 기체 공급원을 가지며, 상기 처리액 검출 기구는, 상기 중간 저장조 내의 액면 높이를 측정하는 액면 측정 기구이며, 상기 제어부는, 상기 액면 측정 기구로 측정된 액면이 미리 정해진 높이를 하회하였을 때에, 상기 가압 기체 공급원으로부터 상기 새로운 용기 내에 상기 청정 기체를 공급하도록, 상기 가압 기체 공급원을 제어하여도 좋다.
상기 반입반출부에 마련되고, 상기 새로운 용기의 유무를 검출하는 용기 검출 기구를 가지며, 상기 반입반출부는, 복수의 상기 새로운 용기가 배치 가능하며, 상기 제어부는, 상기 용기 검출 기구의 검출 결과에 기초하여, 상기 반입반출부 내의 상기 새로운 용기가 미리 정해진 수를 하회한 것을 판정하여도 좋다.
외부 분위기로부터 구획하는 격벽을 더 가지고, 상기 처리액 공급 위치 및 상기 용기 교환 기구는, 상기 격벽의 내부에 배치되어 있어도 좋다.
본 발명에 따르면, 기판 처리 시스템에 처리액을 공급하는 데 있어서, 처리액 용기의 교환 작업을 간이화할 수 있다.
도 1은 본 실시형태에 따른 처리액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 측면의 설명도이다.
도 2는 본 실시형태에 따른 처리액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면의 설명도이다.
도 3은 용기 교환 기구의 구성의 개략을 나타내는 측면의 설명도이다.
도 4는 용기 교환 기구의 구성의 개략을 나타내는 측면의 설명도이다.
도 5는 처리액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 배관 계통도이다.
도 6은 다른 실시형태에 따른 처리액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 배관 계통도이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 1은 본 실시형태에 따른 처리액 공급 장치(1)의 측면의 설명도이며, 도 2는 처리액 공급 장치(1)의 평면의 설명도이다. 처리액 공급 장치(1)에 의해 공급되는 처리액은, 예컨대 반도체 제조용의, 예컨대 레지스트액이나 현상액, 반사 방지막을 형성하기 위한 처리액 등이다.
또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 요소에 있어서는, 동일한 부호를 붙임으로써 중복 설명을 생략한다.
처리액 공급 장치(1)는, 처리액이 저류된 용기(새로운 용기, 2)의 반입 및 용기(사용이 끝난 용기, 3)의 반출을 행하는 반입반출부(10)와, 새로운 용기(2) 내의 처리액을, 처리액 공급 장치(1) 외부에 설치된 복수의, 예컨대 4대의 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에 대하여 압송하는 처리액 공급부(11)와, 처리액 공급부(11) 내의 새로운 용기(2)와 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)을 접속하는 배관으로서, 처리액 유로(12)를 가지고 있다. 또한, 여기서 말하는 「새로운 용기(2)」란, 미개봉 상태로 처리액이 가득차 있는 상태의 것과, 처리액 유로(12)에 접속되어, 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에 대하여 처리액을 공급할 수 있는 상태로 되어 있는 것 양방을 포함한 것이다.
또한, 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)은, 예컨대 기판으로서의 반도체 웨이퍼에 대하여 액 처리를 행하는 액 처리부로서의 액 처리 장치나, 가열 처리를 행하는 가열 처리 장치, 각종 처리 장치 사이에서 반도체 웨이퍼의 반송을 행하는 반송 장치 등을 구비한 시스템이다. 본 실시형태에서는, 예컨대 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)은, 클린 룸(CL) 내에 설치되어 있고, 처리액 공급 장치(1)는 클린 룸(CL)의 외부에 설치되어 있다. 그리고, 처리액 공급 장치(1)와 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)을 접속하는 처리액 유로(12)는, 그 처리액 유로(12)를 위요(圍繞)하는 배관 덕트(D) 내에 부설되어 있다. 바꾸어 말하면, 처리액 공급 장치(1)와 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4) 사이는, 배관 덕트(D)에 의해 개별로 접속되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)이 동일한 구성을 가지고, 동일한 처리를 행하는 것인 경우를 예로 하여 설명한다.
또한, 처리액 공급 장치(1)에는, 도 1에 나타내는 바와 같이 제어부(4)가 마련되어 있다. 제어부(4)는, 예컨대 컴퓨터이며, 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 가지고 있다. 프로그램 저장부에는, 처리액 공급 장치(1) 내에 마련된, 하기의 각종 구동 기구나 밸브 등의 동작을 제어하여, 처리액 공급 장치(1)에 의한 처리액의 공급을 실행하기 위한 프로그램이 저장되어 있다. 또한, 상기 프로그램은, 예컨대 컴퓨터 판독 가능한 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등의 컴퓨터로 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어부(4)에 인스톨된 것이어도 좋다.
반입반출부(10)는, 예컨대 도 2에 나타내는 바와 같이 복수개 마련되어 있다. 반입반출부(10)는, 예컨대 복수의 용기(2, 3)를 동시에 반송할 수 있는 벨트 컨베이어이며, 반입반출부(10) 상에 배치된 용기(2, 3)는, 도 1, 도 2의 X 방향 부방향측으로부터 X 방향 정방향측을 향하여 반송된다. 또한, 새로운 용기(2)는, 예컨대 도 1, 도 2의 X 방향 부방향측으로부터, 예컨대 작업원(OP)에 의해 반입반출부(10)로부터 반입되고, 사용이 끝난 용기(3)는, 도 1, 도 2의 X 방향 정방향측으로부터 처리액 공급 장치(1)의 외부에 반출된다. 또한, 도 2에서는, 4개의 반입반출부(10)가 병행으로 배치된 상태를 묘사하고 있지만, 반입반출부(10)의 배치나 설치수는 본 실시형태의 내용에 한정되는 것이 아니며, 임의로 설정할 수 있다. 후술하는 바와 같이, 반입반출부(10)의 설치수와, 처리액 공급부(11)로부터 공급할 수 있는 처리액의 종류수는 기본적으로 일치하기 때문에, 반입반출부(10)의 설치수는, 공급하는 처리액의 수에 따라 적절하게 설정된다.
예컨대 도 2에 나타내는 바와 같이, 각 반입반출부(10)의 Y 방향 정방향측에는, 새로운 용기(2)를 배치하는 용기 배치대(20)가 설치되어 있다. 또한, 용기 배치대(20) 및 반입반출부(10)에 있어서의 용기 배치대(20)의 Y 방향 정방향측의 위치는 격벽(21)에 의해 구획되어 있다. 도 1, 도 2에 나타내는 바와 같이, 격벽(21)에 있어서의 반입반출부(10)에 대응하는 위치의 X 방향 정방향측 및 부방향측에는, 개폐 셔터(21a)가 마련되어 있고, 그 개폐 셔터(21a)를 개방함으로써 격벽(21)과 외부 사이에서 용기(2, 3)의 교환을 행할 수 있다. 또한, 개폐 셔터(21a)를 폐쇄함으로써, 격벽(21)으로 둘러싸인 공간을 외부로부터 차폐할 수 있다. 이 개폐 셔터(21a)의 동작은, 제어부(4)에 의해 제어된다. 또한, 예컨대 도 1에 나타내는 바와 같이, 격벽(21)의 X 방향 부방향측에는, 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)의 유무를 검출하는 용기 센서(S)가 설치되어 있다. 이 용기 센서(S)는, 격벽(21) 내에 반송되기 직전의 새로운 용기(2)의 유무를 검출할 수 있는 위치에 배치되어 있다.
도 3, 도 4에 나타내는 바와 같이, 격벽(21)의 내부에는, 반입반출부(10) 상에서 반송되는 새로운 용기(2)와, 용기 배치대(20) 상의 사용이 끝난 용기(3)의 자동 교환을 행하는 용기 교환 기구(22)가 설치되어 있다. 또한, 도 3, 도 4는, 예컨대 도 1의 X 방향 정방향측에서 용기 교환 기구(22)를 본 경우의 측면의 설명도이다. 용기 교환 기구(22)는, 용기 배치대(20)와 반입반출부 사이에서 용기(2, 3)를 반송하는 용기 반송 기구(23)와, 용기 배치대(20)에 배치된 새로운 용기(2)를 밀폐하는 캡(2a)의 착탈을 행하는 캡 착탈 기구(24)와, 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에의 처리액 유로(12)의 일부를 구성하는 흡인 노즐(25)과, 용기(2, 3)에 대하여 흡인 노즐(25)의 착탈을 행하는 노즐 착탈 기구(26)를 가지고 있다.
용기 반송 기구(23)는, 용기(2, 3)를 파지하는 반송 아암(30)과, 반송 아암(30)을 지지하여 그 반송 아암(30)을 승강시키는 승강 기구(31)와, 승강 기구(31)를 지지하며 또한 격벽(21)의 천장부에 배치된 Y 방향으로 연신되는 레일(32)을 따라 상기 승강 기구(31)를 이동시키는 이동 기구(33)를 가지고 있다. 그 때문에, 용기 반송 기구(23)에 의해, 용기 배치대(20)에 배치된 사용이 끝난 용기(3)를 반입반출부(10)에, 반입반출부(10)의 새로운 용기(2)를 용기 배치대(20)에, 각각 이동시킬 수 있다.
캡 착탈 기구(24)는, 캡(2a)의 개폐를 행하는 개폐부(40)와, 개폐부(40)를 지지하는 지지 부재(41)와, 지지 부재(41)를 지지하여 승강시키는 승강 기구(42)를 가지고 있다. 개폐부(40)는, 캡(2a)의 외주부에 밀착하는 개구를 구비하고 있고, 지지 부재(41) 내에 마련된 도시하지 않는 회전 기구에 의해 연직축 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 따라서, 개폐부(40)를 캡(2a)에 밀착시킨 상태로 상기 개폐부(40)를 캡(2a)의 개방 방향 및 폐쇄 방향으로 회전시킴으로써, 캡(2a)의 착탈을 행할 수 있다. 또한, 각 지지 부재(41)의 양단부도 각각 연직축 둘레로 회전 가능하게 되어 있고, 예컨대 도 4에 나타내는 바와 같이, 개폐부(40) 및 지지 부재(41)를 용기 배치대(20)에 배치된 용기(2, 3)의 상방으로부터 후퇴시킬 수 있다. 그 때문에, 지지 부재(41)나 개폐부(40)는, 노즐 착탈 기구(26)에 의해 흡인 노즐(25)을 용기(2, 3)와의 사이에서 착탈시킬 때나, 용기(2, 3)를 용기 배치대(20)와 반입반출부(10) 사이에서 반송할 때에, 간섭하지 않는 위치까지 후퇴 가능하게 되어 있다.
노즐 착탈 기구(26)는, 캡(2a)을 벗긴 후의 새로운 용기(2)의 개구를 상방으로부터 누름으로써 기밀하게 막고, 또한 흡인 노즐(25)을 유지하는 고무제의 유지부(50)와, 유지부(50)를 지지하는 지지 부재(51)와, 지지 부재(51)를 지지하여 승강시키는 승강 기구(52)를 가지고 있다. 흡인 노즐(25)은, 유지부(50)측의 단부가, 도 3, 도 4에서는 도시하지 않는 처리액 유로(12)를 통해 처리액 공급부(11)에 접속되어 있다. 또한, 도 3, 도 4에서는 도시하지 않지만, 유지부(50)에는, 후술하는 가압 기체 공급원(72)에 연통하는 가압관(76)이 접속되어 있다. 각 지지 부재(51)는, 캡 착탈 기구(24)의 지지 부재(41)와 마찬가지로, 양단부가 각각 연직축 둘레로 회전 가능하게 되어 있다. 그 때문에, 예컨대 도 3, 도 4에 나타내는 바와 같이, 유지부(50) 및 흡인 노즐(25)을, 용기 배치대(20)에 배치된 용기(2, 3)의 상방의 위치와, 용기(2, 3)의 교환이나 캡(2a) 제거 시에 캡 착탈 기구(24), 용기(2, 3) 혹은 용기 반송 기구(23)와 간섭하지 않는 위치 사이에서 이동시킬 수 있다. 또한, 새로운 용기(2)가 흡인 노즐(25)과 접속되는 용기 배치대(20)에 대응하는 위치가, 본 발명의 처리액 공급 위치이다. 또한, 본 실시형태에 있어서의 용기 교환 기구(22)는, 용기 반송 기구(23), 캡 착탈 기구(24) 및 노즐 착탈 기구(26)를 가지고 있지만, 용기 반송 기구(23)는 반드시 필요하지 않다. 즉, 용기 배치대(20)를 반입반출부(10)의 외부에 마련하고, 용기 반송 기구(23)를 마련함으로써, 반입반출부(10)에 의한 용기(2, 3)의 반송과, 용기 배치대(20)에 있어서의 캡(2a) 및 흡인 노즐(25)의 착탈을 별개 독립적으로 행할 수 있지만, 그 필요가 없는 경우는, 캡 착탈 기구(24) 및 노즐 착탈 기구(26)를 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)에 대하여 액세스 가능하게 배치하면 좋다. 이러한 경우는, 용기 배치대(20)가 아니라, 반입반출부(10)가 처리액 공급 위치이다.
격벽(21)에는, 그 격벽(21)의 내부에, 예컨대 불활성 가스를 공급하는 가스 공급관(60)이 삽입 관통하여 마련되어 있다. 가스 공급관(60)에는, 청정한 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원(61)이 접속되어 있어, 격벽(21) 내부를 청정한 불활성 가스 분위기로 할 수 있다. 이에 의해, 예컨대 새로운 용기(2)의 캡(2a)을 벗겼을 때에, 용기(2) 내부의 처리액이 산소 등에 닿아 변질되거나, 파티클이 부착, 혼입되거나 하는 것을 방지할 수 있다. 불활성 가스로서는, 예컨대 질소 가스 등을 이용할 수 있다.
처리액 공급부(11)는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 복수의 펌프 유닛(70a, 70b, 70c, 70d)을 가지고 있다. 각 펌프 유닛(70)의 설치수는, 예컨대 반입반출부(10)의 설치수와 동일하게 설정되어 있다. 바꾸어 말하면, 처리액 공급 장치(1)로부터 공급하는 처리액의 수와 동일하게 설정되어 있고, 본 실시형태에서는, 반입반출부(10)의 설치수와 동수의 4개의 펌프 유닛(70a, 70b, 70c, 70d)이 마련되어 있다.
펌프 유닛(70a)은, 복수의 펌프(71)와, 새로운 용기(2) 내에 청정 기체를 공급하여 새로운 용기(2) 내부를 가압하는 가압 기체 공급원(72)과, 가압된 새로운 용기(2) 내부로부터 압송되는 처리액을 일단 저류하는 중간 저장조(73)를 가지고 있다. 중간 저장조(73)와 각 펌프(71)는, 처리액 유로(12)를 통해 접속되어 있다. 즉, 처리액 유로(12)는, 중간 저장조(73)의 하류로서 각 펌프(71)의 상류측에서 분기되고, 분기된 처리액 유로(12)가 각 펌프(71)에 접속되어 있다. 또한, 가압 기체 공급원(72)으로부터 공급되는 청정 기체는, 새로운 용기(2) 내의 처리액을 변질시키지 않기 때문에, 예컨대 질소 등의 불활성 가스가 이용된다.
하나의 펌프 유닛(70a) 내에 설치되는 펌프(71)의 설치 대수는, 처리액 공급 장치(1)에 의한 처리액의 공급 대상이 되는 기판 처리 시스템(PR), 즉, 처리액 유로(12)를 통해 처리액 공급 장치(1)에 접속된 기판 처리 시스템(PR)의 설치수와 동수 이상으로 설정되어 있다. 본 실시형태에서는 4대의 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)이 접속되어 있기 때문에, 각 펌프 유닛(70a)에는 적어도 4대의 펌프(71)가 설치된다. 또한, 다른 펌프 유닛(70b, 70c, 70d)에 대해서도 펌프 유닛(70a)과 동일한 구성이기 때문에, 이하에서는 펌프 유닛(70a)에 대해서만 설명하고, 다른 펌프 유닛(70b, 70c, 70d)에 대해서는 설명을 생략한다.
중간 저장조(73)는, 예컨대 각 펌프(71)보다 상방에 설치되어, 각 펌프(71)에 대하여 수두압(水頭壓)을 작용시키는 헤드 탱크로서 기능한다. 또한, 각 펌프(71)가, 하방으로부터 처리액을 자흡(自吸)할 수 있는 기능을 가지고 있으면, 중간 저장조(73)는 반드시 헤드 탱크로서 기능시킬 필요는 없어, 임의의 높이에 배치할 수 있다. 중간 저장조(73)에는, 내부의 처리액의 액면 높이를 측정하는, 액면 측정 기구로서의 액면계(74)가 마련되어 있다.
여기서, 액면계(74)에서의 검출 결과에 기초한, 제어부(4)에 의한 제어에 대해서 설명한다. 제어부(4)에서는, 액면계(74)로 검출하는 액면 높이에 따라, 가압 기체 공급원(72)과 용기(2) 사이에 배치된 가압 밸브(75)를 개방 조작한다. 구체적으로는, 액면계(74)로 검출한 처리액의 액면 높이가 도 5에 나타내는 높이(L)를 하회한 경우, 제어부(4)는 중간 저장조(73)에의 처리액의 보충이 필요하다고 판단하여, 가압 밸브(75)를 개방 조작한다. 이에 의해, 용기(2) 내에 가압관(76)을 통해 청정 기체가 공급되고, 용기(2) 내부가 가압되어, 흡인 노즐(25)과 접속된 배관(77)을 통해 중간 저장조(73)에 공급된다. 그리고, 액면계(74)로 검출하는 액면 높이가 도 5에 나타내는 높이(H)에 도달하면, 제어부(4)는 처리액의 보충이 완료하였다고 판단하여, 가압 밸브(75)나 배관(77)에 마련된 전환 밸브(78)의 폐쇄 조작을 행한다. 또한, 배관(77)은, 처리액 유로(12)의 일부를 형성하고 있다.
또한, 가압 밸브(75)를 개방 조작하여도, 용기(2) 내에 처리액이 없는 상태에서는, 펌프(71)의 가동에 따라 중간 저장조(73) 내의 처리액은 서서히 감소해 간다. 그 때문에 제어부(4)에서는, 액면계(74)로 검출하는 액면 높이가 도 5에 나타내는 높이(LL)에 도달한 경우, 용기 배치대(20) 상의 용기가 사용이 끝난 용기(3)라고 판정하여, 용기 교환 기구(22)에 의해, 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)와, 상기 사용이 끝난 용기(3)를 교환한다. 이때, 가압 밸브(75)나 전환 밸브(78)는 일단 폐지된다. 그리고, 용기 배치대(20)의 용기(2)와 용기(3)의 교환이 완료하면, 제어부(4)에 의해, 재차 가압 밸브(75)나 전환 밸브(78)가 개방 조작되어, 중간 저장조(73)에 처리액이 보충된다.
또한, 제어부(4)는, 액면계(74)로 검출된 액면 높이가 높이(LL)를 나타내었을 때에, 반입반출부(10)의 상방에 배치된 용기 센서(S)에 의해 새로운 용기(2)가 검출되지 않는 경우는, 교환을 위한 새로운 용기(2)가 반입반출부(10)에 존재하지 않는다고 판단하여, 예컨대 용기 보충을 재촉하기 위한 경보를 발한다. 제어부(4)로부터 발한 경보는, 예컨대 도시하지 않는 중앙 조작실의 호스트 컴퓨터 상에 표시된다. 또한, 용기 센서(S)가, 격벽(21) 내에 반송되기 직전의 새로운 용기(2)의 유무를 검출할 수 있는 위치에 배치되어 있는 경우, 새로운 용기(2)의 보충이 정체되면 기판 처리 시스템(PR)측에의 처리액의 보충이 정지해 버릴 우려가 있다. 그 때문에, 예컨대 도 1에 나타내는 용기 센서(S)보다, 반입반출부(10)의 더욱 상류측(도 1의 X 방향 부방향측)에 용기 센서(S)를 마련하여, 새로운 용기(2)가 반입반출부(10)로부터 없어지기 전에, 보충을 재촉하는 경보를 발하도록 하여도 좋다. 또한, 경보를 발하는 높이(LL)의 설정에 있어서는, 예컨대 경보 발보 후에, 새로운 용기(2)를 즉시 보충하지 않아도, 펌프(71)로부터의 처리액의 공급에 영향을 끼치지 않는 설정이 되는 것이 바람직하고, 높이(LL)는, 중간 저장조(73)의 용량을 고려하여 적절하게 설정된다.
또한, 펌프 유닛(70a)의 배관(77)에 있어서의 용기(2, 3)와 전환 밸브(78) 사이에는, 세정액 공급원(80)에 연통하는 세정액 공급관(81)이 접속되어 있다. 세정액 공급관(81)에 있어서의 배관(77)과의 접속점과, 세정액 공급원(80) 사이에는, 세정액의 공급을 제어하는 세정액 전환 밸브(81a)가 마련되어 있다. 따라서, 예컨대 사용이 끝난 용기(3)를, 상기 사용이 끝난 용기(3)로부터 공급한 처리액과는 상이한 처리액을 저류하는 새로운 용기(2)로 교환할 때에, 배관(77)이나 중간 저장조(73) 내부를 세정액에 의해 세정하여, 오래된 처리액이, 그 오래된 처리액과는 상이한 새로운 처리액에 혼입되는 것을 방지할 수 있다. 세정액 공급관(81)을 통해 공급된 세정액은, 예컨대 처리액 유로(12)로부터 분기되어 마련된 드레인관(82)을 통해 배출된다. 드레인관(82)에는, 드레인 밸브(83)가 설치되어 있고, 세정액의 배출 시에 적절하게 개폐 조작된다. 또한, 세정액 공급원(80)으로부터 공급되는 세정액은, 용기(2, 3) 내의 처리액에 따라 적절하게 선택되고, 예컨대 처리액의 용제나 순수 등이 이용된다. 또한, 도 5에서는, 세정액 공급원(80)이 펌프 유닛(70a)에 내부에 마련되어 있는 것처럼 도시하고 있지만, 세정액 공급원(80)은 반드시 펌프 유닛(70a) 내에 설치되어 있을 필요는 없고, 처리액 공급 장치(1)의 외부에 배치되어 있어도 좋다.
또한, 세정액 공급관(81) 및 가압관(76)은, 처리액 유로(12)에 있어서의 펌프(71)의 상류측에 마련된 밸브 유닛(90)에 접속되어 있다. 밸브 유닛(90)은, 예컨대 도 5에 나타내는 바와 같이, 처리액 유로(12), 세정액 공급관(81) 및 가압관(76)과 펌프(71)의 접속 상태를 전환 가능하게 구성되어 있고, 밸브 유닛(90)을 조작함으로써, 예컨대 처리액 유로(12)를 세정액에 의해 세정하거나, 가압 기체 공급원(72)으로부터 공급된 청정 기체에 의해 플러싱하거나 할 수 있다. 또한, 도 5에 나타내는 각 밸브의 개폐 상태는, 중간 저장조(73)에 대하여 높이(L) 이상의 처리액이 공급되어 있으며, 각 펌프(71)에 의해 기판 처리 시스템(PR)에 처리액을 공급하고 있는 경우의 것을 묘사하고 있다.
각 펌프(71)의 하류측의 처리액 유로(12)는, 예컨대 이음매(CP)를 통해 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4) 내의 각 액 처리 장치(WT)에 접속되어 있다. 액 처리 장치(WT)에는, 처리액 공급 장치(1)로부터 공급되는 처리액을 일단 저류하는 중간 저장조(TK), 중간 저장조(TK) 내의 처리액을 처리액 노즐(N)에 압송하는 펌프(P)가 마련되어 있다. 예컨대 기판 처리 시스템(PR)이 서로 상이한 처리액을 이용한 액 처리를 행하는 4대의 액 처리 장치(WT1, WT2, WT3, WT4)를 가지고 있는 경우, 도 5에 나타내는 바와 같이, 액 처리 장치(WT1)에는 펌프 유닛(70a) 내의 하나의 펌프(71)가 접속되고, 액 처리 장치(WT2)에는, 펌프 유닛(70b) 내의 하나의 펌프(71)가, 액 처리 장치(WT3)에는, 펌프 유닛(70c) 내의 하나의 펌프(71)가, 액 처리 장치(WT4)에는, 펌프 유닛(70d) 내의 하나의 펌프(71)가 각각 접속된다. 이에 의해, 상이한 4종류의 처리액을 공급하는 펌프 유닛(70a, 70b, 70c, 70d)으로부터, 상이한 4종류의 처리액에 의한 액 처리를 행하는 액 처리 장치(WT1, WT2, WT3, WT4)에 대하여 독립적으로 처리액을 공급할 수 있다. 또한, 도 5에서는, 도시의 형편상, 펌프 유닛(70a) 내의 하나의 펌프(71)만이, 예컨대 액 처리 장치(WT1)와 접속된 상태를 묘사하고 있지만, 펌프 유닛(70a) 내의 다른 펌프(71)는, 다른 기판 처리 시스템(PR2, PR3, PR4)의 액 처리 장치(WT1)와 각각 접속되어 있다. 마찬가지로, 각 펌프 유닛(70b, 70c, 70d)은, 기판 처리 시스템(PR2, PR3, PR4)의 각 액 처리 장치(WT2, WT3, WT4)와 접속되어 있다.
각 펌프(71)에 대해서도, 전술한 제어부(4)에 의해 동작의 제어가 행해진다. 각 펌프(71)의 제어에 대해서 설명한다. 예컨대 각 기판 처리 시스템(PR)의 액 처리 장치(WT)에 마련된 중간 저장조(TK)에는, 펌프 유닛(70)의 중간 저장조(73)와 마찬가지로, 내부의 처리액의 액면 높이를 측정하는 액면계(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 그리고, 이 액면계에 의해 중간 저장조(TK) 내의 처리액의 액면이, 처리액의 보충이 필요해지는 높이까지 저하하면, 기판 처리 시스템(PR)에 마련된 도시하지 않는 제어부로부터, 처리액 공급 장치(1)의 제어부(4)에 대하여 처리액 보충을 요구하는 신호가 전송된다. 그리고 제어부(4)가 처리액 보충 요구 신호를 수신하면, 제어부(4)는 처리액의 보충 대상이 되는 중간 저장조(TK)에 접속된 펌프(71)를 기동시킨다. 예컨대 기판 처리 시스템(PR1)의 액 처리 장치(WT1)로부터의 요구 신호를 수신한 경우, 펌프 유닛(70)의 펌프 중, 액 처리 장치(WT1)의 중간 저장조(TK)에 접속된, 도 5에 사선으로 나타내는 펌프(71)를 기동시킨다.
그리고, 중간 저장조(TK)의 액면 높이가 미리 정해진 값에 도달하면, 예컨대 기판 처리 시스템(PR1)으로부터의 요구 신호가 소실되고, 상기 요구 신호의 소실을 검지한 제어부(4)는, 펌프(71)를 정지시킨다. 또한, 요구 신호에 기초하여 펌프(71)가 기동되어 있음에도 불구하고, 액 처리 장치(WT1)로부터의 요구 신호가 미리 정해진 시간 이상 계속되거나, 혹은, 중간 저장조(TK)의 액면 높이가 더욱 미리 정해진 값 저하한 경우, 어떠한 이상에 의해 중간 저장조(TK)에 대하여 처리액이 공급되지 않는 것으로 생각되기 때문에, 제어부(4)는, 처리액의 보충이 잘 이루어지지 않는 취지의 경보를 발한다. 제어부(4)로부터 발한 경보는, 예컨대 도시하지 않는 중앙 조작실의 호스트 컴퓨터 상에 표시된다. 또한, 처리액의 보충이 잘 이루어지지 않는 원인으로서는, 예컨대 처리액 유로(12)의 누설이나, 펌프(71)의 고장 등으로 생각된다.
본 실시형태에 따른 처리액 공급 장치(1)는 이상과 같이 구성되어 있다. 다음에, 이 처리액 공급 장치(1)에 의한 복수의 기판 처리 시스템(PR)에의 처리액의 공급에 대해서 설명한다.
처리액 공급 장치(1)로부터의 처리액의 공급에 있어서는, 우선 각 반입반출부(10)에 대하여, 작업원(OP)에 의해, 처리액을 저류한 새로운 용기(2)가 반입된다. 새로운 용기(2)가 반입되면, 각 반입반출부(10)에 의해 새로운 용기(2)가 적절하게 격벽(21) 내에 반송된다.
격벽(21) 내의 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)는, 용기 교환 기구(22)의 용기 반송 기구(23)에 의해, 반입반출부(10) 상으로부터 용기 배치대(20) 상에 배치된다. 용기 배치대(20) 상에 새로운 용기(2)가 반송되면, 격벽(21)의 개폐 셔터(21a)가 폐쇄되고, 가스 공급관(60)에 의해 격벽(21) 내에 청정한 불활성 가스가 공급된다. 이에 의해, 격벽(21) 내부가 청정한 불활성 가스 분위기가 된다.
그 후, 용기(2)는, 캡 착탈 기구(24)에 의해 캡(2a)이 제거된다. 계속해서, 노즐 착탈 기구(26)에 의해, 캡(2a)을 벗긴 후의 새로운 용기(2)에 대하여 흡인 노즐(25)이 삽입되며, 새로운 용기(2)의 개구가 유지부(50)에 의해 기밀하게 막힌다. 이때, 격벽(21) 내부는 청정한 불활성 가스의 분위기로 되어 있기 때문에, 새로운 용기(2) 내의 처리액이 산소에 의해 변질되거나, 용기(2) 내에 파티클이 혼입하거나 하는 일이 없다.
계속해서, 중간 저장조(73)의 액면이 높이(L)를 하회하면, 가압 밸브(75)가 개방 조작되어, 새로운 용기(2)로부터 중간 저장조(73)에 대하여 처리액이 압송된다. 그리고, 중간 저장조(73)의 액면 높이가 H에 도달하면, 가압 밸브(75)가 폐쇄 조작된다. 이에 의해, 펌프(71)에 의해 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 처리액이 공급 가능하게 된다. 그리고, 기판 처리 시스템(PR)측으로부터의 신호에 기초하여, 펌프(71)에 의해 액 처리 장치(WT)의 중간 저장조(TK)에 대하여 적절하게 처리액이 공급된다.
그 후, 각 펌프(71)에 의해 순차 각 액 처리 장치(WT)에 대하여 처리액이 공급되어, 새로운 용기(2) 내의 처리액이 비고, 중간 저장조(73)에 처리액이 공급되지 않게 되면, 중간 저장조(73)의 액면 높이가 LL에 도달한다. 그렇게 되면, 먼저 노즐 착탈 기구(26)에 의해 용기 배치대(20) 상의 사용이 끝난 용기(3)로부터 흡인 노즐(25)이 제거된다. 이때, 격벽(21)의 개폐 셔터(21a)는 폐쇄된 상태이며, 가스 공급관(60)으로부터 청정한 불활성 가스의 공급도 계속해서 행해진다. 그 후, 불활성 가스의 공급을 정지하며, 격벽(21)의 개폐 셔터(21a)가 일시적으로 개방되고, 사용이 끝난 용기(3)는 용기 교환 기구(22)에 의해 반입반출부(10)에 대하여 반송된다.
다음에, 각 격벽(21)의 개폐 셔터(21a)가 일시적으로 개방되고, 반입반출부(10)에 의해 사용이 끝난 용기(3)가 도 1의 X 방향 정방향측에 반송되어 상기 용기(3)가 처리액 공급 장치(1)의 외부에 반출되며, 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)가 격벽(21) 내에 반입된다. 그리고, 격벽(21) 내의 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)는, 용기 교환 기구(22)에 의해 용기 배치대(20) 상에 배치된다. 계속해서, 개폐 셔터(21a)가 재차 폐쇄되며, 가스 공급관(60)에 의해 격벽(21) 내에 재차 청정한 불활성 가스가 공급된다.
그 후, 캡 착탈 기구(24)에 의해 새로운 용기(2)의 캡(2a)이 제거되고, 계속해서, 노즐 착탈 기구(26)에 의해, 캡(2a)을 벗긴 후의 새로운 용기(2)에 대하여 흡인 노즐(25)이 삽입되며, 새로운 용기(2)의 개구가 유지부(50)에 의해 기밀하게 막히게 된다.
그리고, 이 새로운 용기(2)와 사용이 끝난 용기(3)의 교환 작업이 반복해서 행해지면, 반입반출부(10) 상의 새로운 용기(2)가 미리 정해진 수를 하회한다. 이에 의해, 처리액 공급 장치(1)에의 용기 보충을 재촉하기 위한 경보가 발하게 되고, 경보를 확인한 작업원(OP)에 의해, 순차 새로운 용기(2)가 반입반출부(10)에 대하여 보충된다. 이때, 처리액 공급 장치(1)는 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 공통으로 설치되어 있기 때문에, 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 처리액을 공급하는 경우라도, 작업원(OP)은 처리액 공급 장치(1)에 대하여 새로운 용기(2)를 보충하면 된다.
또한, 예컨대 기판 처리 시스템(PR)측에서 사용하는 처리액을 변경하는 경우, 예컨대 세정액 공급원(80)으로부터 세정액 공급관(81)을 통해 세정액을 공급하여, 흡인 노즐(25) 및 사용이 끝난 용기(3)를 세정한다. 계속해서, 세정액에 의해 세정된 용기(3) 내에 가압 기체 공급원(72)으로부터 청정 기체를 공급하여, 배관(77), 중간 저장조(73)를 통해 드레인관(82)으로부터 세정액을 배출한다. 그리고, 가압 기체 공급원(72)으로부터 청정 기체를 계속해서 공급하여, 각 배관 내의 퍼지를 행한다. 그리고, 필요에 따라 이 작업을 반복해서 행하여, 펌프 유닛(70) 내의 세정을 행한다.
그리고, 반입반출부(10)에 상이한 처리액을 저류한 새로운 용기(2)를 반입하여, 용기 교환 기구(22), 캡 착탈 기구(24) 및 노즐 착탈 기구(26)에 의한 일련의 작업이 행해져, 상이한 처리액이 공급 가능해진다.
이상의 실시형태에 따르면, 처리액 공급 장치(1)가, 용기 배치대(20)에 배치된 새로운 용기(2)와, 복수의 기판 처리 시스템(PR)을 접속하는 처리액 유로(12)를 가지고 있기 때문에, 용기 배치대(20)에 배치된 새로운 용기(2)로부터 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 하나의 처리액 공급 장치(1)로부터 일괄적으로 처리액을 공급할 수 있다. 그리고, 용기 배치대(20) 상의 사용이 끝난 용기(3)와, 반입반출부(10)의 새로운 용기(2)의 자동 교환을 행하는 용기 교환 기구(22)를 구비하고 있기 때문에, 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 개별로 자동 교환 기능을 마련하는 경우와 비교하여, 푸트프린트의 증가를 최소한으로 억제할 수 있다. 또한, 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 처리액을 공급할 때에는, 하나의 처리액 공급 장치(1)에 대하여 새로운 용기(2)를 보충하면 된다. 그 결과, 용기(2, 3)의 교환에 따른 작업원(OP)의 부담이 경감된다. 또한, 종래와 같이 기판 처리 시스템(PR)마다 용기(2)의 보충을 행하는 경우, 잘못하여 상이한 기판 처리 시스템(PR)에 용기(2)를 보충하여 버릴 우려가 있었지만, 본 실시형태에 따르면, 복수의 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 공통으로 설치된 처리액 공급 장치(1)에 대하여 새로운 용기(2)를 보충하면 되기 때문에, 그와 같은 잘못도 피할 수 있다.
또한, 처리액 공급 장치(1)가 기판 처리 시스템(PR)의 외부에 별도 마련되어 있기 때문에, 처리액 공급 장치(1)를 클린 룸(CL)의 외부에 설치하면, 클린 룸(CL)의 푸트프린트를 저감할 수 있다. 그리고, 용기 교환 기구(22)가, 청정한 불활성 가스 분위기로 구획할 수 있는 격벽(21) 내에 배치되어 있기 때문에 클린 룸의 외부라도, 새로운 용기(2) 내의 처리액 등이 파티클에 오염되는 경우도 없다. 또한, 예컨대 처리액이 산소에 의한 변질을 수반하는 것이 아니거나, 처리액 공급 장치(1)가 클린 룸(CL) 내에 설치되기 때문에, 처리액 공급 장치(1)의 설치 환경 그 자체가 청정하거나 한 경우, 격벽(21)을 반드시 마련할 필요는 없다.
또한, 각 처리액 유로(12)가 배관 덕트(D) 내에 부설되어 있기 때문에, 예컨대 처리액 유로(12)로부터 처리액의 누설이 있었던 경우도, 예컨대 클린 룸(CL) 내에 처리액이 누설하여 클린 룸(CL)을 오염시키는 일이 없다. 또한, 기판 처리 시스템(PR)마다 배관 덕트(D)가 마련되어 있기 때문에, 누설이 발생한 경우, 각 배관 덕트(D) 내부를 검사함으로써, 어떤 기판 처리 시스템(PR)에 접속된 처리액 유로(12)가 누설되고 있는 것인지를 용이하게 특정할 수 있다. 따라서, 예컨대 누설 시의 메인터넌스에 요하는 시간을 대폭 단축할 수 있다.
또한, 이상의 실시형태에서는, 용기 배치대(20) 상에서 흡인 노즐(25)이 접속된 새로운 용기(2) 내의 처리액의 유무를, 예컨대 중간 저장조(73)에 마련된 액면계(74)의 측정 결과에 기초하여 제어부(4)에서 판정하였지만, 예컨대 흡인 노즐(25)의 선단부 근방에 레벨 스위치 등의 액면 검출 기구를 마련하고, 상기 레벨 스위치의 검출 결과에 기초하여 판정하도록 하여도 좋다. 또한, 예컨대 흡인 노즐(25)이나, 상기 흡인 노즐(25)과 중간 저장조(73)를 접속하는 배관(77)에 유량 센서 등을 설치하고, 용기(2)의 내부를 가압하여도 유량 센서에 의해 유량이 검출되지 않는 경우는, 용기(2) 내에 처리액이 없다고 판단하도록 하여도 좋다.
이상의 실시형태에서는, 펌프 유닛(70a) 내에 설치되는 펌프(71)의 설치 대수를, 처리액 유로(12)를 통해 처리액 공급 장치(1)에 접속된 기판 처리 시스템(PR)의 설치수와 동수 이상으로 설정하였지만, 펌프(71)의 설치 대수는 반드시 본 실시형태의 내용에 한정되는 것이 아니며, 펌프 유닛(70)이 복수의 각 기판 처리 시스템(PR)에 대하여 처리액을 공급할 수 있게 구성되어 있으면, 펌프(71)의 설치 대수는 임의로 설정할 수 있다. 즉, 펌프 유닛(70)당 펌프(71)의 설치 대수는, 기판 처리 시스템(PR)의 설치수 이상이어도 좋고, 기판 처리 시스템(PR)의 설치수보다 적어도 좋다.
펌프(71)의 설치 대수를 기판 처리 시스템(PR)의 설치수 이상으로 하는 경우, 기판 처리 시스템(PR)의 각 액 처리 장치(WT)는, 적어도 하나 이상의 펌프와 각각 접속된다. 또한, 펌프 유닛(70)당 펌프(71)의 설치 대수를, 공급 대상이 되는 기판 처리 시스템(PR)보다 적게 할 수 있는 경우로서는, 예컨대 도 6에 나타내는 바와 같이, 예컨대 4대의 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에 대하여 동시에 처리액을 공급할 수 있는 용량을 구비한 펌프(71)를 각 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에 공통으로 마련하는 예를 들 수 있다. 또한, 펌프(71)를 공통화하는 경우, 펌프(71)가 고장 나면 모든 기판 처리 시스템(PR1, PR2, PR3, PR4)에 대한 처리액의 공급이 정지될 우려가 있다. 그 때문에, 예컨대 도 6에 나타내는 바와 같이, 펌프 유닛(70) 내에 2대의 펌프(71)를 병렬로 설치하여, 한쪽 펌프(71)에 이상이 생긴 경우, 다른쪽 펌프(71)에 의해 백업 가능하게 구성하는 것이 바람직하다. 또한, 처리액 유로(12)의 각 기판 처리 시스템(PR)에의 분기는 반드시 펌프 유닛(70) 내에 마련하지 않아도 좋고, 펌프 유닛(70)의 외부로서 각 기판 처리 시스템(PR)의 근방에 분기를 마련하도록 하여도 좋다.
또한, 이상의 실시형태에서는, 반입반출부(10)가 복수의 용기(2, 3)를 반송할 수 있게 구성되어 있지만, 반입반출부(10)는 반드시 복수의 용기(2, 3)를 반송할 수 있게 구성될 필요는 없다. 반입반출부(10)의 기능으로서는, 최저한으로 용기 교환 기구(22)에 의해 용기 배치대(20)와의 사이에서 교환을 행하는 용기(2, 3)를 배치하기 위한 장소가 확보되어 있으면 좋다. 즉, 예컨대 도 2에 나타내는 격벽(21)과 반입반출부(10)가 접속되는 영역만 확보되어 있으면, 반입반출부(10)로서의 기능은 만족된다. 단, 반입반출부(10)에 배치 가능한 새로운 용기(2)의 수는, 처리액 공급 장치(1)에 스톡할 수 있는 새로운 용기(2)의 수와 동의(同義)이며, 스톡할 수 있는 새로운 용기(2)의 수가 많을수록 처리액 공급 장치(1)에의 새로운 용기(2)의 보충 빈도를 저하시킬 수 있다. 따라서, 반입반출부(10)는, 복수의 새로운 용기(2)를 설치할 수 있게 구성하는 것이 바람직하다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 설명하였지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는다. 당업자라면, 청구범위에 기재된 사상의 범주 내에 있어서, 각종 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 분명하고, 이들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 양해된다. 본 발명은 이 예에 한정되지 않고 여러 가지 양태를 채용할 수 있는 것이다. 이상의 실시형태에서는, 처리액 공급 장치(1)가 반도체 웨이퍼 제조용의 처리액을 저류하는 용기를 수용하는 경우를 예로 설명하였지만, 처리액으로서는, 반도체 웨이퍼 제조용의 처리액에 한정되지 않고, 예컨대 반도체 웨이퍼끼리를 접합하는 접합 프로세스에 이용하는 접착제를 처리액으로 하는 경우 등에 있어서도, 당연히 적용할 수 있다.
본 발명은 기판 처리 시스템에 대하여 처리액을 공급할 때에 유용하다.
1 처리액 공급 장치 2 용기(새로운 용기)
3 용기(사용이 끝난 용기) 10 반입반출부
11 처리액 공급부 12 처리액 유로
20 용기 배치대 21 격벽
22 용기 교환 기구 23 용기 반송 기구
24 캡 착탈 기구 25 흡인 노즐
26 노즐 착탈 기구 30 반송 아암
40 개폐부 50 유지부
60 가스 공급관 61 불활성 가스 공급원
70 펌프 유닛 71 펌프
80 세정액 공급원 CL 클린 룸
D 덕트 S 용기 센서
PR 기판 처리 시스템 WT 액 처리 장치

Claims (9)

  1. 처리액을 이용하여 기판의 액 처리를 행하는 액 처리부를 구비한 복수의 기판 처리 시스템에 대하여, 용기 내에 저류된 처리액을, 상기 기판 처리 시스템의 외부로부터 공급하는 처리액 공급 장치에 있어서,
    처리액이 저류되어 있는 새로운 용기의 반입과, 사용이 끝난 용기의 반출을 행하는 반입반출부와,
    처리액 공급 위치에 배치된 상기 새로운 용기와, 복수의 상기 기판 처리 시스템을 접속하는 처리액 유로와,
    상기 처리액 공급 위치에 배치된 상기 새로운 용기 내의 처리액을, 상기 처리액 유로를 통해 복수의 상기 기판 처리 시스템에 대하여 압송하는 처리액 공급부와,
    상기 처리액 공급 위치의 사용이 끝난 용기와, 상기 반입반출부 상의 새로운 용기를 자동 교환하는 용기 교환 기구
    를 갖는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    세정액 공급관을 통해 상기 처리액 유로에 접속된 세정액 공급원과,
    상기 세정액 공급관에 있어서의, 상기 세정액 공급관과 상기 처리액 유로의 접속점과, 상기 세정액 공급원과의 사이에 마련된 세정액 전환 밸브
    를 더 갖는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리액 유로는, 상기 처리액 공급 장치 내에서 상기 기판 처리 시스템마다 분기되어, 상기 각 기판 처리 시스템에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 처리액 공급부는, 상기 처리액의 공급 대상이 되는 상기 기판 처리 시스템과 동수(同數) 이상의 펌프를 가지며,
    상기 각 기판 처리 시스템은, 상기 처리액 유로를 통해 상기 펌프 중 적어도 하나와 각각 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 기판 처리 시스템으로부터의 처리액 요구 신호에 기초하여, 상기 처리액 요구 신호를 발생시킨 기판 처리 시스템에 접속된 상기 펌프의 제어를 행하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 처리액 공급 위치 상의 용기 내의 처리액의 유무를 검출하는 처리액 검출 기구를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 처리액 검출 기구의 검출 결과에 기초하여, 상기 처리액 공급 위치 상의 사용이 끝난 용기와 상기 반입반출부 상의 새로운 용기와의 교환을 행하도록, 상기 용기 교환 기구를 제어하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 처리액 공급부는,
    상기 처리액 유로에 있어서의 상기 펌프의 상류측으로서 상기 새로운 용기의 하류측에 배치된 중간 저장조와,
    상기 새로운 용기 내부를 가압하여 상기 중간 저장조에 상기 처리액을 압송하기 위해, 상기 새로운 용기 내에 청정 기체를 공급하는 가압 기체 공급원
    을 가지며,
    상기 처리액 검출 기구는, 상기 중간 저장조 내의 액면 높이를 측정하는 액면 측정 기구이고,
    상기 제어부는, 상기 액면 측정 기구로 측정된 액면이 미리 정해진 높이를 하회하였을 때에, 상기 가압 기체 공급원으로부터 상기 새로운 용기 내에 상기 청정 기체를 공급하도록, 상기 가압 기체 공급원을 제어하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 반입반출부에 마련되고, 상기 새로운 용기의 유무를 검출하는 용기 검출 기구를 가지며,
    상기 반입반출부는, 복수의 상기 새로운 용기를 배치할 수 있고,
    상기 제어부는, 상기 용기 검출 기구의 검출 결과에 기초하여, 상기 반입반출부 내의 상기 새로운 용기가 미리 정해진 수를 하회한 것을 판정하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 외부 분위기로부터 구획하는 격벽을 더 가지고,
    상기 처리액 공급 위치 및 상기 용기 교환 기구는, 상기 격벽의 내부에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.
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