CN101013266A - 供应系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种供应系统，其包括有依序连接的供应装置、缓冲容器、储存容器、过滤模块及出口，以及连接于缓冲容器与过滤模块之间的回收管路。供应装置所提供的溶液经由缓冲容器和储存容器流至过滤模块，过滤后的溶液由出口排出，而过滤模块所过滤出的溶液由回收管路回收至缓冲容器，以再次利用。

Description

供应系统

技术领域

本发明关于一种溶液供应系统，可应用于半导体工艺技术，特别是一种光刻胶溶液供应系统。

背景技术

在半导体工艺中，半导体的黄光区会进行涂抹光刻胶的动作，以将光刻胶涂抹于基板上。由于半导体元件非常精密细致，所以在工艺进行中不容有半点杂质，否则所制成的良率必会受到相当大的影响。然而，于光刻胶液中可能仍存有会影响工艺品质的气泡。

传统的光刻工艺中，光刻胶供应系统用以供应工艺所需的光刻胶液，然后将光刻胶覆盖于晶片的表面。其中光刻胶是通过气体压力而将其压出光刻胶储存装置，但因为各种原因，光刻胶中经常会含有气泡等杂质。由于工艺中光刻胶的厚度会影响到工艺品质，例如：聚焦深度的控制、图案的鉴别率等，而这些残留的气泡即可能会造成光刻胶覆盖厚度不均，甚至是覆盖不良，而影响工艺品质。因此于涂抹光刻胶前，必须先通过光刻胶供应系统将光刻胶液的杂质滤除。

如图1所示，先前技术的光刻胶供应系统由供应装置110供应光刻胶，将装有光刻胶的储存容器130放置于密闭空间中，再利用氮气加压，使得储存容器130内的光刻胶因压力而经由导管流至过滤模块140，以进行过滤的动作。过滤模块140的作用在于将光刻胶内的杂质一一滤除。然后，再将过滤后的光刻胶由出口150送至机台，以进行涂抹的动作。

然而，已有的光刻胶供应系统为一单方向的供应系统，不具备回收光刻胶液的回路设计，对于过滤器所过滤出的含杂质的光刻胶会直接排除，因而浪费掉不少光刻胶。

发明内容

鉴于以上的问题，本发明提供一种供应系统，藉以解决已有技术所揭露有效地利用所供应的溶液的问题。

因此，为达上述目的，本发明所揭露的供应系统，包括有供应装置、缓冲容器、储存容器、过滤模块、出口及回收管路。供应装置、缓冲容器、储存容器、过滤模块及出口依序连接，且回收管路连接于缓冲容器与过滤模块之间。

供应装置用以提供溶液，而此溶液经由缓冲容器和储存容器会流至过滤模块，以进行溶液的过滤动作。过滤模块会将含有杂质的溶液滤除，杂质可包括气泡等。过滤后的溶液再经由出口排出供应系统。而过滤模块所过滤出的溶液则经由回收管路回收至缓冲容器，以再次利用。

其中，过滤模块可包括有一个或多个过滤器，以分别过滤流经其中的溶液。每一过滤器可对应设置一回收阀，以控制过滤器所过滤出的溶液进入至回收管路。再者，于过滤器之间可增设抽取装置，将上游过滤器内的溶液抽取至下游过滤器。

于供应装置、缓冲容器、储存容器、过滤模块、出口各元件之间可设置流通阀，以控制溶液的流通。

于过滤器与回收管路之间或储存容器与回收管路之间可设置回收阀，以控制溶液进入回收管路。

缓冲容器可设置排出阀，以控制缓冲容器内的溶液的排放。于回收管路上亦可设置排出阀，以控制回收管路内的溶液的排放。

有关本发明的特征与实作，兹配合图式作优选实施例详细说明如下。

附图说明

图1为已有技术的光刻胶供应系统；

图2为本发明第一实施例的统图；及

图3为本发明图2的供应系统的详细结构。

【主要元件符号说明】

110  供应装置              120  缓冲容器

130  储存容器              140  过滤模块

142  第一过滤器            144  第二过滤器

146  抽取装置              150  出口

160  回收管路              170a 第一流通阀

170b 第二流通阀              170c  第三流通阀

170d 第四流通阀              170e  第五流通阀

180a 第一回收阀              180b  第二回收阀

180c 第三回收阀              190a  第一排出阀

190b 第二排出阀

具体实施方式

以下举出具体实施例以详细说明本发明的内容，并以图式作为辅助说明。说明中提及的符号参照图式符号。

请参照图2，本发明第一实施例的供应系统包含：供应装置110、缓冲容器120、储存容器130、过滤模块140、出口150及回收管路160。

供应装置110、缓冲容器120、储存容器130、过滤模块140及出150依序连接，且回收管路160连接于缓冲容器120与过滤模块140之间。

其中，供应装置110用以提供溶液，而此溶液经由缓冲容器120和储存容器130会流至过滤模块140，以进行溶液的过滤动作。过滤后的溶液再经由出口150排出供应系统。而过滤模块140所过滤出的溶液则经由回收管路160回收至缓冲容器120，以再次利用。

于此，过滤模块140会将含有杂质的溶液滤除，其中溶液中所含有的杂质可包括有气泡等。

举例而言，此供应系统可为光刻胶供应系统，供应装置110供应光刻胶，所供应的光刻胶经由缓冲容器120和储存容器130会流至过滤模块140，过滤出含有气泡的光刻胶，并将过滤后的光刻胶通过，进而由出口150供应给下一工艺设备，例如：光刻胶涂布系统。于此，含有杂质的光刻胶被过滤模块140滤出后可通过回收管路160回收至缓冲容器120，以再次利用。

请参照图3为图2的供应系统的详细结构。

过滤模块140包含第一过滤器142和第二过滤器144。第一过滤器142连接于储存容器130，第二过滤器144连接于出口150，二者分别连接至回收管路160，以分别过滤流经其中的溶液。第一过滤器142和第二过滤器144所过滤出的溶液可经由回收管路160而回收至缓冲容器120。于此，虽然仅以包括两个过滤器的过滤模块为例，但本发明不以此为限，可依实际需求，调整过滤器的数量，即过滤模块可包括有一个或多个过滤器。再者，每个过滤器可依实际需求，而设计成手动过滤或自动过滤等。举例而言，第一过滤器142可采用手动过滤，而第二过滤器144可采用自动过滤。

每一过滤器可对应设置一回收阀，以控制过滤器所过滤出的溶液进入至回收管路。第一过滤器142对应设置有第一回收阀180a，而第二过滤器144对应设置有第二回收阀180b。第一回收阀180a控制第一过滤器142所过滤出的溶液是否进入至回收管路160。第二回收阀180b控制第二过滤器144所过滤出的溶液是否进入至回收管路160。

于过滤器之间可增设抽取装置，将上游过滤器内的溶液抽取至下游过滤器。抽取装置146设置于第一过滤器142和第二过滤器144之间，用以将第一过滤器142内的溶液抽取至第二过滤器144。抽取装置146可为泵浦。

可于过滤器与回收管路之间或储存容器与回收管路之间设置回收阀，以控制排出的溶液的回收。对应于第一过滤器142的第一回收阀180a设置于第一过滤器142与回收管路160之间，用以控制第一过滤器142所过滤出的溶液是否进入至回收管路160，例如：根据检修第一过滤器142的需求，可开启第一回收阀180a使第一过滤器142的溶液进入回收管路160，重新回到缓冲容器120，既可检修第一过滤器142，又不至浪费溶液。对应于第二过滤器144的第二回收阀180b设置于第二过滤器144与回收管路160之间，用以控制第二过滤器144所过滤出的溶液是否进入至回收管路160。对应于储存容器130的第三回收阀180c设置于储存容器130与回收管路160之间，用以控制储存容器130的溶液是否进入至回收管路160，例如：根据清洁储存容器130的需求，可开启第三回收阀180c使储存容器130的溶液进入回收管路160，重新回到缓冲容器120，既可清洁储存容器130，又不至浪费溶液。

缓冲容器120设置有第一排出阀190a，以控制缓冲容器120内的溶液的排出，例如：当发现缓冲容器120内的溶液成分异常，可开启第一排出阀190a将缓冲容器120内的溶液排出，以避免影响后续工艺中供应的溶液。于回收管路160设置有第二排出阀190b，以控制回收管路160内的溶液的排出，例如：当发现回收管路160内的溶液所含杂质过高，不宜回收，可开启第二排出阀190b将回收管路160内的溶液排出，以避免影响缓冲容器120。

可于供应系统的各元件之间设置流通阀，以控制溶液的流通。设置于供应装置110与缓冲容器120之间的第一流通阀170a，用以控制供应装置110的溶液流通至缓冲容器120，例如：第一流通阀170a设定为自动模式，当缓冲容器120内的溶液少于依预定量则自动开启第一流通阀170a，使供应装置110的溶液流通至缓冲容器120，避免缓冲容器120的溶液因过少而干枯硬化。设置于缓冲容器120与储存容器130之间的第二流通阀170b，用以控制缓冲容器120的溶液流通至储存容器130。

于第一过滤器142和抽取装置146之间可设置第三流通阀170c，用以控制第一过滤器142的溶液流通至抽取装置146。于抽取装置146和第二过滤器144之间可设置流通阀170d，用以控制抽取装置146内的溶液流通至第二过滤器144。于第二过滤器144和出口150之间可设置流通阀170d，用以控制第二过滤器144内的溶液流通至出口150。于第二过滤器144与出口150之间可设置第五流通阀170e，用以控制第二过滤器144的溶液流通至出口150。于此，虽然各元件间均设置流通阀为例进行说明，但本发明并不以此为限，其可配合实际需求，而于各元件间设置一个或多个流通阀，亦或是仅于部分元件之间设置流通阀。

其中，上述的流通阀、回收阀或排出阀可依据实际使用需求而以针孔阀、电磁阀、止向阀、手动阀等阀门来实现。

虽然本发明以前述的较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，所述领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的专利保护范围须视权利要求所界定者为准。

Claims (22)

1.一种供应系统，包含：

供应装置，用以提供溶液；

缓冲容器，连接于该供应装置；

储存容器，连接于该缓冲容器；

过滤模块，连接于该储存容器，用以过滤该溶液；

出口，连接于该过滤模块，用以排出该溶液；及

回收管路，连接该过滤模块与该缓冲容器，以将该过滤模块所过滤出的该溶液回收至该缓冲容器。

2.如权利要求1的供应系统，其中该溶液为光刻胶。

3.如权利要求1的供应系统，其中该过滤模块过滤出含杂质的该溶液。

4.如权利要求2的供应系统，其中该杂质为气泡。

5.如权利要求1的供应系统，还包含：第一流通阀，位于该缓冲容器与该储存容器之间，用以控制该缓冲容器的溶液流通至该储存容器。

6.如权利要求1的供应系统，还包含：第二流通阀，位于该第一过滤装置与该抽取装置之间，用以控制该第一过滤器的溶液流通至该抽取装置。

7.如权利要求1的供应系统，其中该过滤模块包含：

第一过滤器，连接于该储存容器与该回收管路。

8.如权利要求7的供应系统，其中该第一过滤器为手动过滤。

9.如权利要求8的供应系统，还包含：第一回收阀，位于该第一过滤器与该回收管路之间，用以控制该第一过滤器所过滤出含有杂质的溶液进入该回收管路。

10.如权利要求1的供应系统，其中该过滤模块包含：

第二过滤器，连接于该出口与该回收管路。

11.如权利要求10的供应系统，其中该第二过滤器为自动过滤。

12.如权利要求10的供应系统，还包含：第二回收阀，位于该第二过滤器与该回收管路之间，用以控制该第二过滤器所过滤出含有杂质的溶液进入该回收管路。

13.如权利要求1的供应系统，其中该过滤模块包含：

第一过滤器，连接于该储存容器与该回收管路；

第二过滤器，连接于该出口与该回收管路；及

抽取装置，连接于该第一过滤器与该第二过滤器之间，用以抽取该溶液。

14.如权利要求13的供应系统，其中该第一过滤器为手动过滤。

15.如权利要求13的供应系统，其中该第二过滤器为自动过滤。

16.如权利要求13的供应系统，其中该抽取装置为泵浦。

17.如权利要求13的供应系统，还包含：第三流通阀，位于该第一过滤器与该抽取装置之间，用以控制该第一过滤器的溶液流通至该抽取装置。

18.如权利要求13的供应系统，还包含：第四流通阀，位于该抽取装置与该第二过滤器之间，用以控制该抽取装置的溶液流通至该第二过滤器。

19.如权利要求13的供应系统，还包含：第五流通阀，位于该第二过滤器与该出口之间，用以控制该第二过滤器的溶液流通至该出口。

20.如权利要求1的供应系统，还包含：第三回收阀，位于该储存容器与该回收管路之间，用以控制该储存容器的溶液进入该回收管路。

21.如权利要求1的供应系统，还包含：第一排出阀，位于该缓冲容器，用以控制该缓冲装置的该溶液的排出。

22.如权利要求1的供应系统，还包含：第二排出阀，位于该回收管路，用以控制该回收管路的该溶液的排出。

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