CN107899781A - 一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统及工作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种实时监控光刻胶喷涂系统及工作方法,包括:光刻胶瓶;光刻胶储存罐的入口端连接光刻胶瓶的出口端;光刻胶供应系统包括光刻胶过滤器、光刻胶压缩泵和流量调节阀;光刻胶过滤器安装于光刻胶压缩泵的入口端处;光刻胶储存罐的出口端连接光刻胶过滤器的入口端,光刻胶过滤器的出口端连接光刻胶压缩泵的入口端;流量调节阀的入口端连接光刻胶压缩泵的出口端;喷嘴的入口端连接流量调节阀的出口端;红外线检测器设置于喷嘴上;红外线检测器连接涂布控制单元,涂布控制单元连接机台通信系统,机台通信系统连接机台运行数据整合系统。本发明通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象。
Description
技术领域
本发明涉及集成电路制造技术的技术领域,尤其涉及一种实时监控光刻胶喷涂系统的技术领域。
背景技术
随着集成电路技术不断向物理极限靠近,对于光刻工艺中的光刻胶涂布控制也是越来越精细,举例浸没式光刻来说,光刻胶的喷涂量通常只有2ml,所得到的光刻胶的膜厚通常薄至一千埃到三千埃(注:1埃=1-10米),而光刻胶涂布情况会直接影响到产品图形精确地从掩模版传递到晶圆表面。如何控制好光刻胶涂布,是光刻所面对的一个重要的挑战之一。
现有对光刻胶涂布的监控主要是对光刻涂布机的光刻胶压缩泵的工作周期和工作时的压力的监控,其缺点在于监控泵的情况不能完全代表光刻胶在晶圆上的涂布状况,且有滞后性;且如果光刻胶管路内有少量残留气泡,机台将无法侦测到,最终涂布在晶圆上的结果就是涂布不良。
发明内容
针对上述不足,本发明的目的是提供一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象,减少了产品的返工率和废品率,提高了生产效果。
为了达到上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其中,包括:
光刻胶瓶;
光刻胶储存罐,所述光刻胶储存罐的入口端连接所述光刻胶瓶的出口端;
光刻胶供应系统,所述光刻胶供应系统包括光刻胶过滤器、光刻胶压缩泵和流量调节阀;所述光刻胶过滤器安装于所述光刻胶压缩泵的入口端处;所述光刻胶储存罐的出口端连接所述光刻胶过滤器的入口端,所述光刻胶过滤器的出口端连接所述光刻胶压缩泵的入口端;所述流量调节阀的入口端连接所述光刻胶压缩泵的出口端;
喷嘴,所述喷嘴的入口端连接所述流量调节阀的出口端;
红外线检测器,所述红外线检测器设置于所述喷嘴上;所述红外线检测器连接涂布控制单元,所述涂布控制单元连接机台通信系统,所述机台通信系统连接机台运行数据整合系统。
上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其中,所述红外检测器能监控光刻胶实际开始涂布和的结束涂布的时间。
上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其中,所述光刻胶可采用I-line,Krf,Arf的光刻胶和抗反射料、填充材料和防水膜等。
一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的工作方法,其特征在于,包括上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,所述工作方法包括:
步骤一、当涂布机开始工作时,所述涂布控制单元根据设定的程序将信号发送至所述光刻胶供应系统;
步骤二、将光刻胶从所述光刻胶瓶输送至所述光刻胶储存罐,再经由所述光刻胶过滤器、所述光刻胶压缩泵和所述流量调节阀;之后所述喷嘴将所述光刻胶按照既定程序涂布在晶圆上;
步骤三、所述喷嘴将所述光刻胶开始涂布时,所述红外线检测器会检测到所述光刻胶开始喷涂,并将发送信号至所述涂布控制单元,当涂布完成时所述红外线检测器也会侦测到并将信号发送所述涂布控制单元;
步骤四、所述涂布控制单元根据所述红外线检测器所反馈的信号计算出实际的涂布时间,通过所述机台通信系统将得到的数据反馈到所述机台运行数据整合系统中并和程序设定的理论涂布时间做比对来判定涂布是否正常;
步骤五、如果发生涂布时间异常就会实时反应在所述机台运行数据整合系统中,并将受到影响得产品及时逮到,待工程师处理。
用以上技术方案,能够达到如下有益效果:
1、本发明通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象。
附图说明
图1是本发明的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的原理图。
附图中:1、光刻胶瓶;2、光刻胶储存罐;3、喷嘴;4、光刻胶供应系统;41、光刻胶过滤器;42、光刻胶压缩泵;43、流量调节阀;5、红外线检测器;61、涂布控制单元;62、机台通信系统;63、机台运行数据整合系统。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,但不作为本发明的限定。
图1是本发明的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的原理图。
请参见图1所示,在一种较佳的实施例中,一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其特征在于,包括:
光刻胶瓶1。
光刻胶储存罐2,光刻胶储存罐2的入口端连接光刻胶瓶1的出口端。
光刻胶供应系统4,光刻胶供应系统4包括光刻胶过滤器41、光刻胶压缩泵42和流量调节阀43;光刻胶过滤器41安装于光刻胶压缩泵42的入口端处;光刻胶储存罐2的出口端连接光刻胶过滤器41的入口端,光刻胶过滤器41的出口端连接光刻胶压缩泵42的入口端;流量调节阀43的入口端连接光刻胶压缩泵42的出口端。
喷嘴3,喷嘴3的入口端连接流量调节阀43的出口端。
红外线检测器5,红外线检测器5设置于喷嘴3上;红外线检测器5连接涂布控制单元61,涂布控制单元61连接机台通信系统62,机台通信系统62连接机台运行数据整合系统63。
以上仅为本发明较佳的实施例,并非因此限制本发明的实施方式及保护范围。
进一步,在一种较佳实施例中,红外线检测器5能监控光刻胶实际开始涂布和的结束涂布的时间。
进一步,在一种较佳实施例中,红外检测器5能监控光刻胶实际开始涂布和的结束涂布的时间。
进一步,在一种较佳实施例中,包括:光刻胶可采用I-line,Krf,Arf的光刻胶和抗反射料、填充材料和防水膜等。
进一步,在一种较佳实施例中,本发明的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,适用于各种尺寸的光刻胶涂胶设备,如8英寸、12英寸、18英寸以及更加大尺寸的硅片制造设备。
除上述实施例外,本发明还具有如下的工作方法,请参见图1所示:
步骤一、当涂布机开始工作时,涂布控制单元61根据设定的程序将信号发送至光刻胶供应系统4。
步骤二、将光刻胶从光刻胶瓶1输送至光刻胶储存罐2,再经由光刻胶过滤器41、光刻胶压缩泵42和流量调节阀43;之后喷嘴3将光刻胶按照既定程序涂布在晶圆上。
步骤三、喷嘴3将光刻胶开始涂布时,红外线检测器5会检测到光刻胶开始喷涂,并将发送信号至涂布控制单元61,当涂布完成时红外线检测器5也会侦测到并将信号发送涂布控制单元61。
步骤四、涂布控制单元61根据红外线检测器4所反馈的信号计算出实际的涂布时间,通过机台通信系统62将得到的数据反馈到机台运行数据整合系统63中并和程序设定的理论涂布时间做比对来判定涂布是否正常。
步骤五、如果发生涂布时间异常就会实时反应在机台运行数据整合系统63中,并将受到影响得产品及时逮到,待工程师处理。
以上仅为本发明较佳的实施例,并非因此限制本发明的实施方式及保护范围,对于本领域技术人员而言,应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案,均应当包含在本发明的保护范围内。
Claims (4)
1.一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其特征在于,包括:
光刻胶瓶;
光刻胶储存罐,所述光刻胶储存罐的入口端连接所述光刻胶瓶的出口端;
光刻胶供应系统,所述光刻胶供应系统包括光刻胶过滤器、光刻胶压缩泵和流量调节阀;所述光刻胶过滤器安装于所述光刻胶压缩泵的入口端处;所述光刻胶储存罐的出口端连接所述光刻胶过滤器的入口端,所述光刻胶过滤器的出口端连接所述光刻胶压缩泵的入口端;所述流量调节阀的入口端连接所述光刻胶压缩泵的出口端;
喷嘴,所述喷嘴的入口端连接所述流量调节阀的出口端;
红外线检测器,所述红外线检测器设置于所述喷嘴上;所述红外线检测器连接涂布控制单元,所述涂布控制单元连接机台通信系统,所述机台通信系统连接机台运行数据整合系统。
2.根据权利要求1所述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其特征在于,所述红外检测器能监控光刻胶实际开始涂布和的结束涂布的时间。
3.根据权利要求1所述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,其特征在于,所述光刻胶可采用I-line,Krf,Arf的光刻胶和抗反射料、填充材料和防水膜等。
4.一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的工作方法,其特征在于,包括权利要求1~3的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统,所述工作方法包括:
步骤一、当涂布机开始工作时,所述涂布控制单元根据设定的程序将信号发送至所述光刻胶供应系统;
步骤二、将光刻胶从所述光刻胶瓶输送至所述光刻胶储存罐,再经由所述光刻胶过滤器、所述光刻胶压缩泵和所述流量调节阀;之后所述喷嘴将所述光刻胶按照既定程序涂布在晶圆上;
步骤三、所述喷嘴将所述光刻胶开始涂布时,所述红外线检测器会检测到所述光刻胶开始喷涂,并将发送信号至所述涂布控制单元,当涂布完成时所述红外线检测器也会侦测到并将信号发送所述涂布控制单元;
步骤四、所述涂布控制单元根据所述红外线检测器所反馈的信号计算出实际的涂布时间,通过所述机台通信系统将得到的数据反馈到所述机台运行数据整合系统中并和程序设定的理论涂布时间做比对来判定涂布是否正常;
步骤五、如果发生涂布时间异常就会实时反应在所述机台运行数据整合系统中,并将受到影响得产品及时逮到,待工程师处理。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111090220A (zh) * | 2018-10-23 | 2020-05-01 | 长鑫存储技术有限公司 | 供给系统 |
CN111644283A (zh) * | 2020-06-01 | 2020-09-11 | 安徽江淮汽车集团股份有限公司 | 喷涂设备喷涂保护的控制方法、控制装置及喷涂系统 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1570766A (zh) * | 2003-07-11 | 2005-01-26 | 友达光电股份有限公司 | 一种光刻胶涂敷装置 |
CN1766734A (zh) * | 2004-10-13 | 2006-05-03 | 三星电子株式会社 | 用于在制造半导体器件等中分配光刻胶的方法和设备 |
CN1928720A (zh) * | 2005-09-06 | 2007-03-14 | 东京应化工业株式会社 | 光刻胶液供给装置及用于得到它的改造套件 |
CN101013266A (zh) * | 2007-02-28 | 2007-08-08 | 友达光电股份有限公司 | 供应系统 |
US20070272327A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-29 | Applied Materials, Inc. | Chemical dispense system |
CN101122746A (zh) * | 2006-08-10 | 2008-02-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶涂布系统 |
CN101398626A (zh) * | 2007-09-26 | 2009-04-01 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶供应装置 |
CN204086808U (zh) * | 2014-09-24 | 2015-01-07 | 焦作市金宇阳高科电子有限公司 | 一种应用在涂胶机上的光刻胶过滤回收循环系统 |
CN104730866A (zh) * | 2013-12-19 | 2015-06-24 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻胶喷嘴器件和光刻胶供应系统 |
CN205539920U (zh) * | 2016-02-05 | 2016-08-31 | 上海旭福电子有限公司 | 一种控制液体滴液量的装置 |
-
2017
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1570766A (zh) * | 2003-07-11 | 2005-01-26 | 友达光电股份有限公司 | 一种光刻胶涂敷装置 |
CN1766734A (zh) * | 2004-10-13 | 2006-05-03 | 三星电子株式会社 | 用于在制造半导体器件等中分配光刻胶的方法和设备 |
CN1928720A (zh) * | 2005-09-06 | 2007-03-14 | 东京应化工业株式会社 | 光刻胶液供给装置及用于得到它的改造套件 |
US20070272327A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-29 | Applied Materials, Inc. | Chemical dispense system |
CN101122746A (zh) * | 2006-08-10 | 2008-02-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶涂布系统 |
CN101013266A (zh) * | 2007-02-28 | 2007-08-08 | 友达光电股份有限公司 | 供应系统 |
CN101398626A (zh) * | 2007-09-26 | 2009-04-01 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶供应装置 |
CN104730866A (zh) * | 2013-12-19 | 2015-06-24 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻胶喷嘴器件和光刻胶供应系统 |
CN204086808U (zh) * | 2014-09-24 | 2015-01-07 | 焦作市金宇阳高科电子有限公司 | 一种应用在涂胶机上的光刻胶过滤回收循环系统 |
CN205539920U (zh) * | 2016-02-05 | 2016-08-31 | 上海旭福电子有限公司 | 一种控制液体滴液量的装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111090220A (zh) * | 2018-10-23 | 2020-05-01 | 长鑫存储技术有限公司 | 供给系统 |
CN111644283A (zh) * | 2020-06-01 | 2020-09-11 | 安徽江淮汽车集团股份有限公司 | 喷涂设备喷涂保护的控制方法、控制装置及喷涂系统 |
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