CN207502908U - 一种光阻供应系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光阻供应系统，属于半导体制造技术领域，应用于微影制程中，包括：第一供应装置，用于装设光阻剂；第二供应装置，用于装设光阻剂；送液泵，所述送液泵的输入端通过第一管道连接所述第一供应装置，以及通过第二管道连接所述第二供应装置，所述送液泵的输出端连通一喷嘴；第一阀门，设置于所述第一管道上；第二阀门，设置于所述第二管道上；所述第二阀门与所述第一阀门反向工作的使所述送液泵与所述第一供应装置或所述第二供应装置连通。上述技术方案的有益效果是：通过设置两个光阻供应装置，交替为微影制程机台供应光阻，避免机台因更换光阻而停机，从而提高机台的工作效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种适用微影制程中的光阻供应系统。
背景技术
在半导体制造过程中，微影用于图案化基板如晶圆，以形成集成电路的多种结构。在一般的微影制程中，光阻层形成于基板上，并以射线曝光形成集成电路的潜影像。接着在显影剂如化学溶液中显影曝光后的光阻层，以移除部份光阻层并形成光阻图案。接着以光阻图案作为后续蚀刻制程的蚀刻掩模，将图案转移至下方的材料层。
光阻是半导体微影制程中必不可少也是特有的一种常用物料，每一道微影制程中都会用到，因此半导体生产过程中光阻的更换较为频繁。现有技术中，光阻的供应一般是通过向光阻瓶内充入氮气以将光阻压到一个缓存槽内，再通过送液泵将光阻抽送至喷嘴处，通过一个电磁阀开关控制光阻从喷嘴喷出，以将光阻涂覆在晶圆上。在光阻瓶里面光阻用尽，缓存槽得不到补偿时，缓存槽里面的液面会下降，当缓存槽内的液面降低到一定程度后机台就会停止工作并发出光阻报空的警报，需要更换光阻之后机台才能正常工作。
正常情况下，从机台发出光阻报空的警报，工作人员发现警报去机台端检查管路是否确实报空，再去光阻柜找到待更换的光阻，一般需要10～15mins 左右。还有很多时候机台报空没有被及时发现，或者因为别的原因延迟，这个时间可能长达半小时乃至一个小时，导致机台闲置，降低机台的工作效率。
发明内容
根据现有技术中存在的上述问题，现提供一种光阻供应系统，应用于微影制程中，旨在解决现有技术中，由于光阻液供应不及时导致的微影制程机台工作效率低的问题。本实用新型采用如下技术方案：
一种光阻供应系统，应用于微影制程中，包括：
第一供应装置，用于装设光阻剂；
第二供应装置，用于装设光阻剂；
送液泵，所述送液泵的输入端通过第一管道连接所述第一供应装置，以及通过第二管道连接所述第二供应装置，所述送液泵的输出端连通一喷嘴；
第一阀门，设置于所述第一管道上；
第二阀门，设置于所述第二管道上；
所述第二阀门与所述第一阀门反向工作的使所述送液泵与所述第一供应装置或所述第二供应装置连通。
较佳的，上述光阻供应系统中，所述第一供应装置包括：
第一缓存槽，所述第一缓存槽的底部与所述第一管道连接以使所述第一缓存槽与所述第一管道连通；
第三管道，所述第三管道的一端连接所述第一缓存槽的顶部以连通所述第一缓存槽，所述第三管道未连接所述第一缓存槽的一端伸入至第一光阻瓶内；
第一气源，连通所述第一光阻瓶并向所述第一光阻瓶内充气。
较佳的，上述光阻供应系统中，包括第一液位传感器，设置于所述第一缓存槽内接近所述第一缓存槽的底部的侧壁上；
所述第一液位传感器连接一报警装置。
较佳的，上述光阻供应系统中，所述第二供应装置包括：
第二缓存槽，所述第二缓存槽的底部与所述第二管道连接以使所述第二缓存槽与所述第二管道连通；
第四管道，所述第四管道的一端连接所述第二缓存槽的顶部以连通所述第二缓存槽，所述第四管道未连接所述第二缓存槽的一端伸入至第二光阻瓶内；
第二气源，连通所述第二光阻瓶并向所述第二光阻瓶内充气。
较佳的，上述光阻供应系统中，包括第二液位传感器，设置于所述第二缓存槽内接近所述第二缓存槽的底部的侧壁上；
所述第二液位传感器连接一报警装置。
较佳的，上述光阻供应系统中，包括过滤装置，连接于所述送液泵和所述喷嘴之间；
所述过滤装置通过第五管道连通所述送液泵；
所述过滤装置通过第六管道连通所述喷嘴。
较佳的，上述光阻供应系统中，包括气泡检测装置，所述气泡检测装置设置于所述第六管道上。
较佳的，上述光阻供应系统中，所述第一阀门和/或所述第二阀门为电磁阀。
上述技术方案的有益效果是：通过设置两个光阻供应装置，交替为微影制程机台供应光阻，避免机台因更换光阻而停机，从而提高机台的工作效率。
附图说明
图1是本实用新型的较佳的实施例中，一种光阻供应系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。
本实用新型的较佳的实施例中，如图1所示，提供一种光阻供应系统，应用于微影制程中，包括：
第一供应装置1，用于装设光阻剂(图1中斜线阴影部分表示光阻剂)；
第二供应装置2，用于装设光阻剂；
送液泵3，送液泵3的输入端通过第一管道4连接第一供应装置1，以及通过第二管道5连接第二供应装置2，送液泵3的输出端连通一喷嘴6；
第一阀门41，设置于第一管道4上；
第二阀门51，设置于第二管道5上；
第二阀门41与第一阀门51反向工作的使送液泵3与第一供应装置1或第二供应装置2连通。
本实施例中，送液泵3连通第一供应装置1或第二供应装置2，用于抽取光阻剂至喷嘴6喷出，以实现光阻剂的供应。其中第一供应装置1和第二供应装置2连接送液泵3，在第一阀门41打开时，第二阀门51处于关闭状态，使得第一供应装置1与送液泵3连通；在第二阀门51打时，第一阀门 41处理关闭状态，使得第二供应装置2与送液泵3连通。
进一步地，本实施例中，第一阀门41与第二阀门51为电磁阀，与微影制程机台(用于完成微影制程的机台)的主机连接，由微影制程机台的主机提供一对反向信号控制第一阀门41和第二阀门42，以使第一供应装置1或第二供应装置2与送液泵3连通。在第一供应装置1内的光阻剂用完后，直接使用第二供应装置2内的光阻剂，在第二供应装置2供应光阻剂期间工作人员再对第一供应装置1进行光阻剂补给，以保证光阻剂的不间断供应，避免出现因光阻剂供应不及时导致的微影制程机台闲置，从而提高微影制程机台的工作效率。
需要说明的是，上述的由微影制程机台的主机提供一对反向信号控制两个电磁阀(第一阀门41和第二阀门42)是现有技术，本实用新型的技术方案中，通过对光阻供应系统的结构进行改造，结合现有的控制技术，实现光阻剂的不间断供应。
本实用新型的较佳的实施例中，第一供应装置1包括：
第一缓存槽11，第一缓存槽11的底部与第一管道4连接以使第一缓存槽11与第一管道4连通；
第三管道12，第三管道12的一端连接第一缓存槽11的顶部以连通第一缓存槽11，第三管道12未连接第一缓存槽11的一端伸入至第一光阻瓶13 内；
第一气源(如图1中所示的充入第二光阻瓶13内的N2)，连通第一光阻瓶13并向第一光阻瓶13内充气。
本实用新型的较佳的实施例中，包括第一液位传感器14，设置于第一缓存槽11内接近第一缓存槽11的底部的侧壁上；
第一液位传感器14连接一报警装置(图中未画出)。
本实施例中，第一供应装置1包括一第一缓存槽11，第一缓存槽11于其底部与第一管道4连通，以及通过第三管道12连通第一光阻瓶13，第一供应装置1还包括一第一气源，通过第一气源向第一光阻瓶13内充入氮气，以增大第一光阻瓶13内的气压，从而将第一光阻瓶13内的光阻剂压入第一缓存槽11内，第一缓存槽11缓存光阻剂，以排出光阻剂内的气泡。进一步地，第一缓存槽11内接近其底部的侧壁上设置有第一液位传感器14，第一液位传感器14连接上述的微影制程机台的主机，在第一缓存槽11内液位到达第一液位传感器14的位置时，微影制程机台的主机发出一对反应控制信号给第一阀门41和第二阀门51，以使第一阀门41关闭，第二阀门51打开，使第二供应装置2与送液泵3连通，系统由第二供应装置2供应光阻，另外，第一液位传感器14还连接一报警器(图中未画出)，在第一缓存槽11内液位到达第一液位传感器14的位置时，报警器报警以提醒工作人员更换光阻瓶。
需要说明的是，上述微影制程机台的主机根据传感器信号发送相应的控制信号是现有技术，以及报警器根据传感器信号报警也是现有技术。另外上述的第一光阻瓶13为消耗品，为市面上常用的光阻剂的封装(包括用于装设光阻剂的瓶子，以及瓶内光阻剂)，当第一光阻瓶13内的光阻剂耗尽后，更换新的光阻瓶即可。
本实用新型的较佳的实施例中，第二供应装置2包括：
第二缓存槽21，第二缓存槽21的底部与第二管道4连接以使第二缓存槽21与第二管道连通5；
第四管道22，第四管道22的一端连接第二缓存槽21的顶部以连通第二缓存槽21，第四管道22未连接第二缓存槽21的一端伸入至第二光阻瓶23 内；
第二气源(如图1中所示的充入第二光阻瓶23内的N2)，连通第二光阻瓶23并向第二光阻瓶23内充气。
本实用新型的较佳的实施例中，包括第二液位传感器24，设置于第二缓存槽21内接近第二缓存槽21的底部的侧壁上；
第二液位传感器24连接一报警装置(图中未画出)。
本实施例中，第二供应装置2的结构与第一供应装置1的结构相同，在此不再赘述。
本实用新型的较佳的实施例中，包括过滤装置7，连接于送液泵3和喷嘴6之间；
过滤装置7通过第五管道8连通送液泵3；
过滤装置7通过第六管道9连通喷嘴6。
本实施例中，过滤装置7用于过滤管道内的光阻剂内的杂质与气泡。
本实用新型的较佳的实施例中，包括气泡检测装置10，气泡检测装置10 设置于第六管道9上。
本实施例中气泡检测装置10为气泡检测传感器，在光阻剂被喷嘴6喷出是之前检测光阻剂中是否有气泡，以方便工作人员及时维护供应系统，保证在光阻涂布时，光阻剂中没有气泡，从而保证光阻涂布均匀。
以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。
Claims (8)
1.一种光阻供应系统，应用于微影制程中，其特征在于，包括：
第一供应装置，用于装设光阻剂；
第二供应装置，用于装设光阻剂；
送液泵，所述送液泵的输入端通过第一管道连接所述第一供应装置，以及通过第二管道连接所述第二供应装置，所述送液泵的输出端连通一喷嘴；
第一阀门，设置于所述第一管道上；
第二阀门，设置于所述第二管道上；
所述第二阀门与所述第一阀门反向工作的使所述送液泵与所述第一供应装置或所述第二供应装置连通。
2.如权利要求1所述的光阻供应系统，其特征在于，所述第一供应装置包括：
第一缓存槽，所述第一缓存槽的底部与所述第一管道连接以使所述第一缓存槽与所述第一管道连通；
第三管道，所述第三管道的一端连接所述第一缓存槽的顶部以连通所述第一缓存槽，所述第三管道未连接所述第一缓存槽的一端伸入至第一光阻瓶内；
第一气源，连通所述第一光阻瓶并向所述第一光阻瓶内充气。
3.如权利要求2所述的光阻供应系统，其特征在于，包括第一液位传感器，设置于所述第一缓存槽内接近所述第一缓存槽的底部的侧壁上；
所述第一液位传感器连接一报警装置。
4.如权利要求1所述的光阻供应系统，其特征在于，所述第二供应装置包括：
第二缓存槽，所述第二缓存槽的底部与所述第二管道连接以使所述第二缓存槽与所述第二管道连通；
第四管道，所述第四管道的一端连接所述第二缓存槽的顶部以连通所述第二缓存槽，所述第四管道未连接所述第二缓存槽的一端伸入至第二光阻瓶内；
第二气源，连通所述第二光阻瓶并向所述第二光阻瓶内充气。
5.如权利要求4所述的光阻供应系统，其特征在于，包括第二液位传感器，设置于所述第二缓存槽内接近所述第二缓存槽的底部的侧壁上；
所述第二液位传感器连接一报警装置。
6.如权利要求1所述的光阻供应系统，其特征在于，包括过滤装置，连接于所述送液泵和所述喷嘴之间；
所述过滤装置通过第五管道连通所述送液泵；
所述过滤装置通过第六管道连通所述喷嘴。
7.如权利要求6所述的光阻供应系统，其特征在于，包括气泡检测装置，所述气泡检测装置设置于所述第六管道上。
8.如权利要求1所述的光阻供应系统，其特征在于，所述第一阀门和/或所述第二阀门为电磁阀。
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| US11609500B2 (en) | 2018-12-04 | 2023-03-21 | HKC Corporation Limited | Filter device and photoresist coating system |
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| CN111451061B (zh) * | 2020-04-07 | 2021-12-31 | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 | 双缓冲型光阻液喷涂系统 |
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