CN109569081A - 过滤装置和光阻涂布系统 - Google Patents
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- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 111
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 66
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 45
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 40
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 40
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 19
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 20
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D36/00—Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
- B01F23/43—Mixing liquids with liquids; Emulsifying using driven stirrers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/05—Stirrers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/181—Preventing generation of dust or dirt; Sieves; Filters
- B01F35/187—Preventing generation of dust or dirt; Sieves; Filters using filters in mixers, e.g. during venting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
本发明公开一种过滤装置和光阻涂布系统,该过滤装置包括:储液桶,用于盛放待过滤光阻剂;搅拌结构,包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件;第一管路,所述第一管路的一端连通所述储液桶,所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶;第一过滤组件,设于所述第一管路,并位于所述储液桶和所述搅拌桶之间;第一压力检测组件,设于所述第一管路,用于检测所述第一管路内光阻剂的压力;及第二管路,所述第二管路的一端连通所述搅拌桶,所述第二管路的另一端连接于涂布装置。本发明旨在提供一种过滤性能佳、分散性好的过滤装置。
Description
技术领域
本发明涉及半导体处理设备技术领域,特别涉及一种过滤装置和光阻涂布系统。
背景技术
在半导体加工处理过程中,往往需要采用诸如光阻的光敏材料。光阻,亦称光阻剂,可以应用于很多工业制程中。一般地,光阻从生产到最后使用通常要经历运输及存放等,在产线使用时,光阻容易产生颗粒,直接涂布在产品基板上,容易造成产品瑕疵,导致产品的良率下降。这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息,而不必然地构成现有技术。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种过滤装置,旨在提供一种过滤性能佳、分散性好的过滤装置。
为实现上述目的,本发明提出的过滤装置,应用于光阻涂布系统,该过滤装置包括:
储液桶,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构,包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件;
第一管路,所述第一管路的一端连通所述储液桶,所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶;
第一过滤组件,设于所述第一管路,并位于所述储液桶和所述搅拌桶之间;
第一压力检测组件,设于所述第一管路,用于检测所述第一管路内光阻剂的压力;及
第二管路,所述第二管路的一端连通所述搅拌桶,所述第二管路的另一端连接于涂布装置。
在一实施例中,所述储液桶包括桶体和第一转接头,所述桶体具有盛放光阻剂的容置腔,所述桶体设有连通所述容置腔的第一开口,所述第一转接头安装于所述第一开口处,所述第一管路的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内;
所述过滤装置还包括通气管,所述通气管的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内,所述通气管的另一端连接有气泵。
在一实施例中,所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第一调节孔,所述第一管路的一端穿过所述第一调节孔伸入所述容置腔内,且所述第一管路通过所述第一调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第二调节孔,所述通气管的一端穿过所述第二调节孔伸入所述容置腔内,且所述通气管通过所述第二调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述第一管路伸入所述容置腔内的长度大于所述通气管伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述储液桶还包括设于所述第一开口处的密封圈,所述密封圈夹设于所述第一转接头和所述第一开口的内壁之间,用于密封所述第一转接头和所述桶体的第一开口。
在一实施例中,所述第一过滤组件包括串联设置于所述第一管路的第一滤芯和第二滤芯,所述第一滤芯靠近所述储液桶,所述第二滤芯靠近所述搅拌桶,所述第一滤芯的孔径大于或等于所述第二滤芯的孔径;
所述第一压力检测组件包括第一压力检测器和第二压力检测器;所述第一压力检测器位于所述储液桶和所述第一滤芯之间,用于检测所述第一管路内光阻剂过滤前的压力;第二压力检测器位于所述第二滤芯和所述搅拌桶之间,用于检测所述第一管路内光阻剂过滤后的压力。
在一实施例中,所述搅拌桶设有第二开口和盖合于所述第二开口的第二转接头,所述第一管路和第二管路的一端穿过所述第二转接头伸入所述搅拌桶内;
所述搅拌组件包括可转动地穿设于所述第二转接头的搅拌杆、搅拌头及驱动件,所述搅拌头连接于所述搅拌杆伸入所述搅拌桶内的端部,所述驱动件设于所述搅拌杆远离所述搅拌头的一端,所述驱动件驱动所述搅拌杆带动所述搅拌头转动,以搅拌所述搅拌桶内的光阻剂。
在一实施例中,所述过滤装置还包括:
第二过滤组件,包括串联设置于所述第二管路的第三滤芯和第四滤芯,所述第三滤芯和第四滤芯位于所述搅拌桶和所述涂布装置之间,所述第三滤芯靠近所述搅拌桶,所述第四滤芯靠近所述涂布装置,所述第三滤芯的孔径大于或等于所述第四滤芯的孔径;
第二压力检测组件,设于所述第二管路,所述第二压力检测组件包括第三压力检测器和第四压力检测器,所述第三压力检测器位于所述搅拌桶和所述第三滤芯之间,用于检测所述第二管路内光阻剂过滤前的压力;所述第四压力检测器位于所述第四滤芯和所述涂布装置之间,用于检测所述第二管路内光阻剂过滤后的压力。
在一实施例中,所述过滤装置还包括设于所述第四压力检测器和所述涂布装置之间的取样检测组件,所述取样检测组件包括连接于所述第二管路的取样管、和连接于所述取样管的取样阀。
在一实施例中,所述过滤装置还包括设于所述第二管路的第一截止阀,所述第一截止阀位于所述取样管和所述涂布装置之间;
且/或,所述过滤装置还包括第三管路和设于第三管路的第二截止阀,所述第三管路的一端与所述取样管连通,所述第三管路的另一端与所述搅拌桶连通。
本发明还提出一种过滤装置,应用于光阻涂布系统,该过滤装置包括:
储液桶,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构,包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件;
第一管路,所述第一管路的一端连通所述储液桶,所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶;
第一过滤组件,包括串联设置于所述第一管路的第一滤芯和第二滤芯,所述第一滤芯和第二滤芯位于所述储液桶和所述搅拌桶之间;
第一压力检测组件,设于所述第一管路,用于检测所述第一管路内光阻剂的压力;
第二管路,所述第二管路的一端连通所述搅拌桶,所述第二管路的另一端连接于涂布装置;及
第二过滤组件,包括串联设置于所述第二管路的第三滤芯和第四滤芯,所述第三滤芯和第四滤芯位于所述搅拌桶和所述涂布装置之间;
其中,所述第三滤芯和第四滤芯的孔径与所述第一滤芯和第二滤芯的孔径不同。
本发明还提出一种光阻涂布系统,包括:
上述所述的过滤装置;和
涂布装置,所述涂布装置通过所述第二管路与所述搅拌结构连通。
本发明还提出一种显示装置,包括上述所述的显示面板
本发明技术方案的过滤装置通过在连通储液桶和搅拌桶的第一管路上设置第一过滤组件和第一压力检测组件,利用第一过滤组件对进入搅拌桶的光阻剂进行过滤,并利用第一压力检测组件检测第一管路内光阻剂的压力,以判断第一管路内光阻剂是否还存在颗粒等物质,从而提高过滤装置的过滤性能;进一步地,通过搅拌组件对搅拌桶内的光阻剂进行分散处理,使分散后的光阻剂通过第二管路直接连接于涂布装置,并涂布在产品基板上,如此可大大降低产品的瑕疵率,有效提升产品品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明过滤装置一实施例的结构示意图;
图2为本发明过滤装置另一实施例的结构示意图;
图3为本发明滤芯一实施例的结构示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外,在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
本发明提出一种过滤装置100,应用于光阻涂布系统。可以理解的,用光阻剂进行涂布前先利用过滤装置100对光阻剂进行过滤和分散处理,可有效提高产品的品质。
请结合参照图1至图3,在本发明实施例中,该过滤装置100包括:
储液桶10,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构20,包括搅拌桶21、及至少部分容纳搅拌桶21内的搅拌组件22;
第一管路31,第一管路31的一端连通储液桶10,第一管路31的另一端连通搅拌桶21;
第一过滤组件40,设于第一管路31,并位于储液桶10和搅拌桶21之间;
第一压力检测组件50,设于第一管路31,用于检测第一管路31内光阻剂的压力;及
第二管路32,第二管路32的一端连通搅拌桶21,第二管路32的另一端连接于涂布装置300。
具体地,过滤装置100的储液桶10用于储存和盛放光阻剂,第一管路31将储液桶10和搅拌结构20的搅拌桶21连通,第一过滤组件40设于第一管路31并位于储液桶10和搅拌桶21之间,使得储液桶10内光阻剂经过第一管路31上的第一过滤组件40时,被第一过滤组件40进行过滤处理,从而有效将光阻剂中的颗粒等物质过滤掉。第一压力检测组件50设于第一管路31,第一压力检测组件50可对第一管路31内光阻剂的压力进行检测,从而判断第一管路31内光阻剂是否还存在颗粒等物质,从而提高过滤装置100的过滤效果。
可以理解的,搅拌结构20还包括搅拌组件22,当经过第一过滤组件40的光阻剂进入搅拌桶21内时,可通过搅拌组件22对搅拌桶21内的光阻剂进行搅拌和分散处理,从而提高光阻剂的分散性能,经过分散处理后的光阻剂,通过第二管路32连接于涂布装置300,利用涂布装置300对产品进行光阻涂布,从而提高产品的品质,有效降低产品瑕疵。
本发明的过滤装置100通过在连通储液桶10和搅拌桶21的第一管路31上设置第一过滤组件40和第一压力检测组件50,利用第一过滤组件40对进入搅拌桶21的光阻剂进行过滤,并利用第一压力检测组件50检测第一管路31内光阻剂的压力,以判断第一管路31内光阻剂是否还存在颗粒等物质,从而提高过滤装置100的过滤性能;进一步地,通过搅拌组件22对搅拌桶21内的光阻剂进行分散处理,使分散后的光阻剂通过第二管路32直接连接于涂布装置300,并涂布在产品基板上,如此可大大降低产品的瑕疵率,有效提升产品品质。
在一实施例中,为了方便储液桶10内的光阻剂通过第一管路31流入第一过滤组件40和搅拌桶21,可在储液桶10的底部设置出液口,第一管路31通过出液口与储液桶10连通。当然,为了更好地控制第一管路31的出液量,也可在出液口处设置开关阀,以便有效控制第一管路31的出液量。
可选地,第一管路31的一端也可通过储液桶10的上端伸入储液桶10内,此时,第一管路31伸入储液桶10内的部分需位于储液桶10内光阻剂的液面一下,如此可通过气压或其他方式将储液桶10内光阻剂压入第一管路31内。
在本实施例中,第一过滤组件40可以是过滤桶或过滤器,当然,第一过滤组件40也可以是其他具有过滤功能的结构,在此不做限定。第一压力检测组件50可以是压力传感器或液体压力阀等,当然,第一压力检测组件50也可以是其他能够检测第一管路31内液体压力的结构,在此不做限定。
在一实施例中,如图1和图2所示,储液桶10包括桶体11和第一转接头12,桶体11具有盛放光阻剂的容置腔11a,桶体11设有连通容置腔11a的第一开口11b,第一转接头12安装于第一开口11b处,第一管路31的一端穿过第一转接头12容纳于容置腔11a内;
过滤装置100还包括通气管33,通气管33的一端穿过第一转接头12容纳于容置腔11a内,通气管33的另一端连接有气泵200。
具体地,桶体11具有容置腔11a,并设有连通容置腔11a的第一开口11b。可以理解的,待过滤的光阻剂可通过桶体11的第一开口11b装入桶体11的容置腔11a内,当然,还可在桶体11上端设置连通容置腔11a的入液口,待过滤的光阻剂也可通过入液口装入桶体11的容置腔11a内,在此不做限定。作为本实施例的可选方案,桶体11的第一开口11b即作为装入待过滤的光阻剂的入口,也作为连接第一管路31的出口。
如图1和图2所述,在本实施例中,为了封闭桶体11的第一开口11b,在第一开口11b处设置第一转接头12,第一管路31的一端穿过第一转接头12容纳于容置腔11a内,并伸入容置腔11a内光阻剂的液面以下,如此可方便光阻剂流入第一管路31。
为了进一步保证桶体11的密封性,储液桶10还包括设于第一开口11b处的密封圈13,密封圈13夹设于第一转接头12和第一开口11b的内壁之间,用于密封第一转接头12和桶体11的第一开口11b。可以理解的,密封圈13可以是密封垫、密封圈或其他能够起到密封作用的结构,在此不做限定。
为了方便将桶体11容置腔11a内的光阻剂压入第一管路31内,过滤装置100还设置有通气管33,通气管33的一端穿过第一转接头12容纳于容置腔11a内。通过在通气管33的一端连接气泵200,利用气泵200通过通气管33往密封的桶体11容置腔11a内充气,可使得桶体11内的压强增加,从而将光阻剂压入第一管路31内。
可以理解的,通气管33伸入容置腔11a内的部分位于光阻剂的液面以上,如此设置,即可实现将光阻剂压入第一管路31内,也不会对桶体11容置腔11a内的光阻剂造成影响。在本实施例中,气泵200可通过通气管33充入压缩的氮气或压缩的干燥空气,当然,只要是不与光阻剂发生反应的其他气体均可,在此不做限定。
在一实施例中,如图1和图2所示,第一转接头12开设有连通容置腔11a的第一调节孔121,第一管路31的一端穿过第一调节孔121伸入容置腔11a内,且第一管路31通过第一调节孔121可调节伸入容置腔11a内的长度。
可以理解的,通过在第一转接头12设置第一调节孔121,利用第一调节孔121可根据桶体11的大小型号以及桶体11内光阻剂的量,调节第一管路31伸入容置腔11a内的长度,以提高过滤装置100的使用便利性和通用性。
在本实施例中,第一调节孔121可以是螺纹孔或滑孔,当然,第一调节孔121还可以是其他能够实现调节第一管路31伸入容置腔11a内的长度的结构在此不做限定。为了提高桶体11的密封性,还可以在第一调节孔121处设置密封结构,如此可保证在调节第一管路31时,第一管路31与第一调节孔121之间的密封性。
在一实施例中,如图1和图2所示,第一转接头12开设有连通容置腔11a的第二调节孔122,通气管33的一端穿过第二调节孔122伸入容置腔11a内,且通气管33通过第二调节孔122可调节伸入容置腔11a内的长度。
可以理解的,通过在第一转接头12设置第二调节孔122,利用第二调节孔122可根据桶体11的大小型号以及桶体11内光阻剂的量,调节通气管33伸入容置腔11a内的长度,以提高过滤装置100的使用便利性和通用性。可选地,第一调节孔121和第二调节孔122间隔设置于第一转接头12上。
在本实施例中,第二调节孔122可以是螺纹孔或滑孔,当然,第二调节孔122还可以是其他能够实现调节通气管33伸入容置腔11a内的长度的结构在此不做限定。为了提高桶体11的密封性,还可以在第二调节孔122处设置密封结构,如此可保证在调节通气管33时,通气管33与第二调节孔122之间的密封性。
如图1和图2所述,作为本实施例的可选方案,第一管路31伸入容置腔11a内的长度大于通气管33伸入容置腔11a内的长度。如此设置,可保证气泵200通过通气管33充入气体时,可顺利将桶体11内的光阻剂压入第一管路31内。
在一实施例中,如图1和图2所示,第一过滤组件40包括串联设置于第一管路31的第一滤芯41和第二滤芯42,第一滤芯41靠近储液桶10,第二滤芯42靠近搅拌桶21,第一滤芯41的孔径大于或等于第二滤芯42的孔径。
可以理解的,通过串联设置两个滤芯,以保证光阻剂通过第一过滤组件40的过滤效果。在本实施例中,第一滤芯41和第二滤芯42一般包括有:PP棉、颗粒活性炭、RO反渗透膜以及后置活性炭等,用于吸附光阻剂中的固体颗粒等。在本实施例中,为了达到更好的过滤效果,第一滤芯41的孔径大于或等于第二滤芯42的孔径。也即第一管路31内的光阻剂先通过第一滤芯41进行首次吸附过滤,之后在经过第二滤芯42进行二次吸附过滤,以提高过滤装置100过滤光阻剂的过滤效果。由于第二滤芯42的孔径小于或等于第一滤芯41的孔径,在经过第二滤芯42过滤后,光阻剂内的固体颗粒可进一步被吸附和过滤干净。
在一实施例中,如图1和图2所示,第一压力检测组件50包括第一压力检测器51和第二压力检测器52;第一压力检测器51位于储液桶10和第一滤芯41之间,用于检测第一管路31内光阻剂过滤前的压力;第二压力检测器52位于第二滤芯42和搅拌桶21之间,用于检测第一管路31内光阻剂过滤后的压力。
可以理解的,第一压力检测器51和第二压力检测器52分别设于第一过滤组件40的两侧,如此可根据第一压力检测器51和第二压力检测器52检测到的压力值判断,第一过滤组件40是否被堵塞,以判断经过第一过滤组件40的光阻剂是否还存在颗粒等物质,从而提高过滤装置100的过滤性能。
在一实施例中,如图1和图2所述,搅拌桶21设有第二开口21b和盖合于第二开口21b的第二转接头211,第一管路31和第二管路32的一端穿过第二转接头211伸入搅拌桶21内;
搅拌组件22包括可转动地穿设于第二转接头211的搅拌杆221、搅拌头222及驱动件223,搅拌头222连接于搅拌杆221伸入搅拌桶21内的端部,驱动件223设于搅拌杆221远离搅拌头222的一端,驱动件223驱动搅拌杆221带动搅拌头222转动,以搅拌搅拌桶21内的光阻剂。
具体地,搅拌桶21具有搅拌腔21a,光阻剂通过第一管路31依次经过第一过滤组件40和第一压力检测组件50后进入搅拌桶21的搅拌腔21a内。通过在搅拌桶21的第二开口21b处设置第二转接头211,可利用第二转接头211安装固定第一管路31和第二管路32,使得第一管路31和第二管路32的一端穿过第二转接头211伸入搅拌桶21内。
为了提高光阻剂的分散性能,搅拌杆221连接有搅拌头222的一端通过第二转接头211伸入搅拌腔21a内,利用驱动件223驱动搅拌杆221带动搅拌头222转动,以搅拌搅拌腔21a内的光阻剂,从而提高光阻剂的分散性能。可以理解的,搅拌杆221与第二转接头211通过轴承等结构实现转动连接,驱动件223也可固定于第二转接头211上,在此不做限定。驱动件223可以是电机、驱动马达等,只要是能够驱动搅拌杆221转动的结构均可,在此不做限定。
在一实施例中,如图1和图2所述,过滤装置100还包括第二过滤组件60,第二过滤组件60包括串联设置于第二管路32的第三滤芯61和第四滤芯62,第三滤芯61和第四滤芯62位于搅拌桶21和涂布装置300之间,第三滤芯61靠近搅拌桶21,第四滤芯62靠近涂布装置300,第三滤芯61的孔径大于或等于第四滤芯62的孔径。
为了进一步提高过滤装置100的过滤性能,在第二管路32上设置第三滤芯61和第四滤芯62,使得经过分散后的光阻剂再次进行过滤,再次过滤后的光阻剂由第二管路32连接到涂布装置300进行产品涂布,从而提高产品的品质,降低产品的不良率。
可以理解的,通过串联设置第三滤芯61和第四滤芯62,以保证光阻剂通过第二过滤组件60的过滤效果。在本实施例中,第三滤芯61和第四滤芯62一般包括有:PP棉、颗粒活性炭、RO反渗透膜以及后置活性炭等,用于吸附光阻剂中的固体颗粒等。在本实施例中,为了达到更好的过滤效果,第三滤芯61的孔径大于或等于第四滤芯62的孔径。也即第二管路32内的光阻剂先通过第三滤芯61进行首次吸附过滤,之后在经过第四滤芯62进行二次吸附过滤,以提高过滤装置100过滤光阻剂的过滤效果。由于第四滤芯62的孔径小于或等于第三滤芯61的孔径,在经过第四滤芯62过滤后,光阻剂内的固体颗粒可进一步被吸附和过滤干净,如此可保证涂布装置300涂布后产品的品质。
在一实施例中,如图1和图2所述,过滤装置100还包括设于第二管路32的第二压力检测组件70,第二压力检测组件70包括第三压力检测器71和第四压力检测器72,第三压力检测器71位于搅拌桶21和第三滤芯61之间,用于检测第二管路32内光阻剂过滤前的压力;第四压力检测器72位于第四滤芯62和涂布装置300之间,用于检测第二管路32内光阻剂过滤后的压力。
可以理解的,第三压力检测器71和第四压力检测器72分别设于第二过滤组件60的两侧,如此可根据第三压力检测器71和第四压力检测器72检测到的压力值判断,第二过滤组件60是否被堵塞,以判断经过第二过滤组件60的光阻剂是否还存在颗粒等物质,从而提高过滤装置100的过滤性能。
在一实施例中,还可在搅拌桶21上设置检测口,通过检测口检测搅拌桶21内光阻剂的过滤效果和分散效果,若检测到搅拌桶21内光阻剂的过滤效果和分散效果较佳,则可直接通过第二管路32将搅拌桶21和涂布装置300连接,此时搅拌桶21内的光阻剂可不经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70过滤。若检测到搅拌桶21内光阻剂的过滤效果和分散效果不佳,此时,第二管路32内的光阻剂则需经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70再次过滤,以保证涂布装置300涂布产品的品质。
在一实施例中,如图1和图2所示,过滤装置100还包括设于第四压力检测器72和涂布装置300之间的取样检测组件80,取样检测组件80包括连接于第二管路32的取样管81、和连接于取样管81的取样阀82。
可以理解地,在第四压力检测器72和涂布装置300之间设置取样检测组件80,通过取样阀82检测经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70后的光阻剂的过滤效果和分散效果,以保证涂布装置300涂布产品的品质。
在一实施例中,如图1和图2所示,过滤装置100还包括设于第二管路32的第一截止阀91,第一截止阀91位于取样管81和涂布装置300之间。可以理解的,第一截止阀91的设置,有利于控制经过过滤装置100后的光阻剂是否继续进入涂布装置300进行涂布。
在一实施例中,如图2所示,过滤装置100还包括第三管路34和设于第三管路34的第二截止阀92,第三管路34的一端与取样管81连通,第三管路34的另一端与搅拌桶21连通。
可以理解的,第三管路34的设置,可实现循环过滤和分散。也即通过取样阀82检测经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70后的光阻剂的过滤效果和分散效果,若光阻剂的过滤效果和分散效果较佳,此时关闭第三管路34上的第二截止阀92,打开第二截止阀92,使得经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70后的光阻剂直接进入涂布装置300进行涂布;若光阻剂的过滤效果和分散效果不佳,此时,打开第三管路34上的第二截止阀92,关闭第二截止阀92,使得经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70后的光阻剂通过第三管路34,再次进入搅拌桶21进行分散,并通过第二过滤组件60和第二压力检测组件70进行过滤。
可以理解的,为了保证由第一管路31进入搅拌桶21的光阻剂不倒流至第一管路31,第一管路31通过第二转接头211伸入搅拌桶21内端部持续处于搅拌桶21内光阻剂的液面上端。为了保证搅拌桶21内的光阻剂顺利进入第二管路32,第二管路32通过第二转接头211伸入搅拌桶21内端部持续处于搅拌桶21内光阻剂的液面下端。
在本实施例中,也可将搅拌桶21的入液口设于搅拌桶21的上端,将搅拌桶21的出液口设于搅拌桶21的底端,如此可通过搅拌桶21内光阻剂的流动性实现自动流动,在此不做限定。当然,也可将入液口和出液口同时设于搅拌桶21的第二开口21b处,如图1和图2所示,通过第二转接头211同时实现第一管路31的入液和第二管路32的出液。此时,搅拌桶21的搅拌腔呈密封状态,还可通过通入气体将搅拌桶21内的光阻剂压入第二管路32,使得光阻剂顺利通过第二管路32经过第二过滤组件60和第二压力检测组件70后进入涂布装置300。
在一实施例中,如图1和图2所示,该过滤装置100包括:
储液桶10,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构20,包括搅拌桶21、及至少部分容纳搅拌桶21内的搅拌组件22;
第一管路31,第一管路31的一端连通储液桶10,第一管路31的另一端连通搅拌桶21;
第一过滤组件40,包括串联设置于第一管路31的第一滤芯41和第二滤芯42,第一滤芯41和第二滤芯42位于储液桶10和搅拌桶21之间;
第一压力检测组件50,设于第一管路31,用于检测第一管路31内光阻剂的压力;
第二管路32,第二管路32的一端连通搅拌桶21,第二管路32的另一端连接于涂布装置300;
第二过滤组件60,包括串联设置于第二管路32的第三滤芯61和第四滤芯62,第三滤芯61和第四滤芯62位于搅拌桶21和涂布装置300之间;
其中,第三滤芯61和第四滤芯62的孔径与第一滤芯41和第二滤芯42的孔径不同。
本发明还提出一种光阻涂布系统包括涂布装置300和过滤装置100,该过滤装置100的具体结构参照前述实施例。由于本光阻涂布系统采用了前述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有前述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。其中,涂布装置300通过第二管路32与搅拌结构20连通。
以上所述仅为本发明的可选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种过滤装置,应用于光阻涂布系统,其特征在于,该过滤装置包括:
储液桶,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构,包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件;
第一管路,所述第一管路的一端连通所述储液桶,所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶;
第一过滤组件,设于所述第一管路,并位于所述储液桶和所述搅拌桶之间;
第一压力检测组件,设于所述第一管路,用于检测所述第一管路内光阻剂的压力;及
第二管路,所述第二管路的一端连通所述搅拌桶,所述第二管路的另一端连接于涂布装置。
2.如权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,所述储液桶包括桶体和第一转接头,所述桶体具有盛放光阻剂的容置腔,所述桶体设有连通所述容置腔的第一开口,所述第一转接头安装于所述第一开口处,所述第一管路的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内;
所述过滤装置还包括通气管,所述通气管的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内,所述通气管的另一端连接有气泵。
3.如权利要求2所述的过滤装置,其特征在于,所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第一调节孔,所述第一管路的一端穿过所述第一调节孔伸入所述容置腔内,且所述第一管路通过所述第一调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第二调节孔,所述通气管的一端穿过所述第二调节孔伸入所述容置腔内,且所述通气管通过所述第二调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述第一管路伸入所述容置腔内的长度大于所述通气管伸入所述容置腔内的长度;
且/或,所述储液桶还包括设于所述第一开口处的密封圈,所述密封圈夹设于所述第一转接头和所述第一开口的内壁之间,用于密封所述第一转接头和所述桶体的第一开口。
4.如权利要求1至3中任一项所述的过滤装置,其特征在于,所述第一过滤组件包括串联设置于所述第一管路的第一滤芯和第二滤芯,所述第一滤芯靠近所述储液桶,所述第二滤芯靠近所述搅拌桶,所述第一滤芯的孔径大于或等于所述第二滤芯的孔径;
所述第一压力检测组件包括第一压力检测器和第二压力检测器;所述第一压力检测器位于所述储液桶和所述第一滤芯之间,用于检测所述第一管路内光阻剂过滤前的压力;第二压力检测器位于所述第二滤芯和所述搅拌桶之间,用于检测所述第一管路内光阻剂过滤后的压力。
5.如权利要求1至3中任一项所述的过滤装置,其特征在于,所述搅拌桶设有第二开口和盖合于所述第二开口的第二转接头,所述第一管路和第二管路的一端穿过所述第二转接头伸入所述搅拌桶内;
所述搅拌组件包括可转动地穿设于所述第二转接头的搅拌杆、搅拌头及驱动件,所述搅拌头连接于所述搅拌杆伸入所述搅拌桶内的端部,所述驱动件设于所述搅拌杆远离所述搅拌头的一端,所述驱动件驱动所述搅拌杆带动所述搅拌头转动,以搅拌所述搅拌桶内的光阻剂。
6.如权利要求1至3中任一项所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤装置还包括:
第二过滤组件,包括串联设置于所述第二管路的第三滤芯和第四滤芯,所述第三滤芯和第四滤芯位于所述搅拌桶和所述涂布装置之间,所述第三滤芯靠近所述搅拌桶,所述第四滤芯靠近所述涂布装置,所述第三滤芯的孔径大于或等于所述第四滤芯的孔径;
第二压力检测组件,设于所述第二管路,所述第二压力检测组件包括第三压力检测器和第四压力检测器,所述第三压力检测器位于所述搅拌桶和所述第三滤芯之间,用于检测所述第二管路内光阻剂过滤前的压力;所述第四压力检测器位于所述第四滤芯和所述涂布装置之间,用于检测所述第二管路内光阻剂过滤后的压力。
7.如权利要求6所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤装置还包括设于所述第四压力检测器和所述涂布装置之间的取样检测组件,所述取样检测组件包括连接于所述第二管路的取样管、和连接于所述取样管的取样阀。
8.如权利要求7所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤装置还包括设于所述第二管路的第一截止阀,所述第一截止阀位于所述取样管和所述涂布装置之间;
且/或,所述过滤装置还包括第三管路和设于第三管路的第二截止阀,所述第三管路的一端与所述取样管连通,所述第三管路的另一端与所述搅拌桶连通。
9.一种过滤装置,应用于光阻涂布系统,其特征在于,该过滤装置包括:
储液桶,用于盛放待过滤光阻剂;
搅拌结构,包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件;
第一管路,所述第一管路的一端连通所述储液桶,所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶;
第一过滤组件,包括串联设置于所述第一管路的第一滤芯和第二滤芯,所述第一滤芯和第二滤芯位于所述储液桶和所述搅拌桶之间;
第一压力检测组件,设于所述第一管路,用于检测所述第一管路内光阻剂的压力;
第二管路,所述第二管路的一端连通所述搅拌桶,所述第二管路的另一端连接于涂布装置;及
第二过滤组件,包括串联设置于所述第二管路的第三滤芯和第四滤芯,所述第三滤芯和第四滤芯位于所述搅拌桶和所述涂布装置之间;
其中,所述第三滤芯和第四滤芯的孔径与所述第一滤芯和第二滤芯的孔径不同。
10.一种光阻涂布系统,其特征在于,包括:
权利要求1至9中任一项所述的过滤装置;和
涂布装置,所述涂布装置通过所述第二管路与所述搅拌结构连通。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811478710.XA CN109569081B (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 过滤装置和光阻涂布系统 |
US17/043,634 US11609500B2 (en) | 2018-12-04 | 2018-12-19 | Filter device and photoresist coating system |
PCT/CN2018/121893 WO2020113680A1 (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-19 | 过滤装置和光阻涂布系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811478710.XA CN109569081B (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 过滤装置和光阻涂布系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109569081A true CN109569081A (zh) | 2019-04-05 |
CN109569081B CN109569081B (zh) | 2021-02-26 |
Family
ID=65927408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811478710.XA Active CN109569081B (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 过滤装置和光阻涂布系统 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11609500B2 (zh) |
CN (1) | CN109569081B (zh) |
WO (1) | WO2020113680A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2018
- 2018-12-04 CN CN201811478710.XA patent/CN109569081B/zh active Active
- 2018-12-19 US US17/043,634 patent/US11609500B2/en active Active
- 2018-12-19 WO PCT/CN2018/121893 patent/WO2020113680A1/zh active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109569081B (zh) | 2021-02-26 |
WO2020113680A1 (zh) | 2020-06-11 |
US20210033976A1 (en) | 2021-02-04 |
US11609500B2 (en) | 2023-03-21 |
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PB01 | Publication | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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