CN201556028U - 显影设备 - Google Patents

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张万来
李长江
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Abstract

本实用新型提供了一种显影设备,包括:显影液注入器,用于容纳显影液;传感器,位于所述显影液注入器的外侧壁上,用于监控显影液的液面。本实用新型提高了显影设备的耐用性。

Description

显影设备
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种显影设备。
背景技术
在半导体制造中,光刻工艺是非常重要的环节,如何将人眼所能识别的布图(layout)复制到具有微米、纳米等级的线路的组件上,需要依赖光刻工艺的好坏。光刻工艺一般包括一下几个步骤:基板清洗、涂布光刻胶、软烘焙、曝光、显影、硬烘焙、刻蚀、去除光刻胶。
在光刻的工艺过程中,每一个步骤都非常重要,其中一个步骤的失败都可能导致整个光刻步骤的失败。在现有的光刻中,曝光后的显影是利用在放置晶片的基台上方放置显影液注入器,所述显影液注入器具有输入口和输出口,输入口用于向显影液注入器内补充显影液,输出口用于向晶片上滴注显影液。在显影过程中显影液注入器以固定速率由基台的一端向另一端移动,将显影液滴注在晶片上。
但是在现有技术中,通常采用在显影液注入器中设置浮动传感器(floatsensor)来监控显影液注入器中的显影液的液面,当显影液的液面低于预定值时,从输入口向显影液注入器补充显影液。
但是,现有技术中存在的问题是:浮动传感器在使用较长时间后容易内部浸液,导致损坏,并且维修困难。而且浮动传感器的损坏,会导致显影设备停机,从而影响生产制造的效率。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是提高显影设备的耐用性。
为了解决上述问题,本实用新型提供了一种显影设备,包括:显影液注入器,用于容纳显影液;传感器,位于所述显影液注入器的外侧壁上,用于监控显影液的液面。
优选的,至少包括第一传感器和第二传感器;
所述第一传感器位于显影液注入器的外侧壁上,当显影液液面低于所述第一传感器的位置,则开始向显影液注入器内加入显影液;
所述第二传感器位于显影液注入器的外侧壁上的所述第一传感器上方,当显影液液面高于所述第二传感器的位置,则停止向显影液注入器内加入显影液。
优选的,还包括与传感器相连的控制单元,与所述控制单元相连的补液装置。
优选的,还包括第三传感器,其位于显影液注入器的外侧壁上,与第一传感器处于同一水平位置,或者位于第一传感器下方。
优选的,还包括第四传感器,其位于显影液注入器的外侧壁上,与第三传感器处于同一水平位置,或者位于第三传感器下方。
优选的,所述传感器为接近式电容传感器。
优选的,还包括与所述控制单元相连的报警设备。
与现有技术相比,本实用新型主要具有以下优点:
本实用新型通过在所述显影液注入器的外侧壁上设置传感器,来监控显影液注入器内的显影液的剩余量,从而避免也现有技术中设置浮动传感器监控液面而带来的浮动传感器损坏引起显影装置故障的问题。
附图说明
通过附图中所示的本实用新型的优选实施例的更具体说明,本实用新型的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图,重点在于示出本实用新型的主旨。
图1为本实用新型的显影装置第一实施例的结构示意图;
图2为本实用新型的显影装置第二实施例的结构示意图。
具体实施方式
由背景技术可知,通常采用在显影液注入器中设置浮动传感器(floatsensor)来监控显影液注入器中的显影液的液面,当显影液的液面低于预定值时,从输入口向显影液注入器补充显影液。但是,浮动传感器在使用较长时间后容易内部浸液,导致损坏,并且维修困难。而且浮动传感器的损坏,会导致显影设备停机,从而影响生产制造的效率。
因此本实用新型提供了一种显影设备,包括:显影液注入器,用于容纳显影液;传感器,位于所述显影液注入器的外侧壁上,用于监控显影液的液面。本实用新型提高了显影设备的耐用性。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广,因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
图1为本实用新型的显影装置第一实施例的结构示意图。下面结合图1对本实用新型的显影装置进行说明。如图1所示,在本实施例中,显影装置包括:显影液注入器110,用于容纳显影液,在显影液注入器110上具有输入口111和输出口112,输入口111用于当显影液注入器110中的显影液液面到达预定值时,向显影液注入器110中注入显影液,输出口112用于从显影液注入器中向外输出显影液,例如向输出口112中插入输出管(未图示),输出管一端插到显影液注入器110的底部附近,另一端位于待显影的晶片的上方,从而可以借助向显影液注入器110中施压,从而使得显影液从输出管输送到晶片上,实现晶片的显影。
由于,显影液注入器110中的显影液不足时必须及时补充显影液,否则,可能空造成空滴,从而使得待显影晶片不能完全显影,影响待显影晶片的质量。
因此在显影装置中需要安装传感器,来监控显影液的液面。但是,现有的显影装置中都是利用浮动传感器(float sensor)来监控显影液注入器中的显影液的液面,由于浮动传感器容易内部浸液,导致损坏,并且维修困难。而且浮动传感器的损坏,会导致显影设备停机,从而影响生产制造的效率。
本实用新型的显影装置在显影液注入器210的的外侧壁上设置传感器120,所述传感器120设置在预定位置,例如设置在外侧壁的底部,当显影液低于该位置时,也就是显影液不足,传感器120可以监测到,然后向显影液注入器中加入显影液。由于传感器120设置在显影液注入器110的外侧壁上,因此传感器120不容易出现浸液损害,而且设置在显影液注入器110的外侧壁上,在出现故障的时候便于修理。
图2为本实用新型的显影装置第二实施例的结构示意图。下面结合图2对本实用新型的显影装置进行说明。在本实施例中,显影装置包括:显影液注入器210,在显影液注入器210上具有输入口211和输出口212。
显影装置在显影液注入器210的的外侧壁上设置有第一传感器220和第二传感器215。
第一传感器220设置在外侧壁上,例如设置在外侧壁的底部,当显影液液面到达该位置时,也就是显影液不足,第一传感器220可以监测到,然后向显影液注入器中加入显影液。由于第一传感器220设置在显影液注入器210的外侧壁上,因此第一传感器220不容易出现浸液损害,而且设置在显影液注入器210的外侧壁上,在出现故障的时候便于修理。
由于通常显影液注入器210是不透明的材料,因此不能观察到显影液的液位,因此在向显影液注入器210中补充显影液的时候,容易出现溢出。在本实施例中,在显影液注入器的外侧壁的顶部设置第二传感器215,在向显影液注入器内补充显影液的时候,当显影液液面到达第二传感器215的位置时,则第二传感器215可以感知,从而停止补液,这样有效的防止显影液在补液过程中溢出。另外,显影液注入器210也可以是透明的材料。
优选的,还包括第三传感器216,其位于第一传感器215的下方或者与第一传感器215同一水平位置。还包括第四传感器217,其位于第三传感器216下方或者与第三传感器216同一水平位置。第三传感器216和第四传感器217用于测试显影液液面,当显影液液面到达第一传感器220的位置时,如果第一传感器220出现故障,则当显影液液面到达第三传感器216位置时,第三传感器216可以感知,从而第三传感器216可以监测到,然后向显影液注入器中加入显影液。
如果第三传感器216出现故障,则当显影液液面到达第四传感器217位置时,第四传感器217可以感知,从而第四传感器217可以监测到,然后向显影液注入器中加入显影液。
因此,第三传感器216和第四传感器217可以提高监测的精确度,从而避免了由于第一传感器220出现故障而引起的显影液空滴。并且,优选的,第三传感器和第四传感器设置在第一传感器下方,从而使得在滴注的过程不会由于第三传感器或第四传感器的提前报警而减少滴注的时间,也就是前一次补液到后一次补液的时间,相反第三传感器和第四传感器设置在第一传感器下方还可以延长滴注的时间,使显影装置从前一次补液到后一次补液的时间延长。
在本实施例中,优选的所述第一传感器220、第二传感器215、第三传感器216和第四传感器217为接近式电容传感器。
在本实施例中,优选的,还包括与第一传感器220、第二传感器215、第三传感器216和第四传感器217相连的控制单元230,与所述控制单元230相连的补液装置240。所述控制单元230用于处理第一传感器220、第二传感器215、第三传感器216和第四传感器217监测到的信号,从而可以向补液装置240发出信号,控制补液装置的补液和停止。
优选的,还包括与所述控制单元230相连的报警设备250,在需要补液时报警装置250可以发出报警,从而便于工作人员进行监控和操作。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。

Claims (7)

1.一种显影设备,其特征在于,包括:
显影液注入器,用于容纳显影液;
传感器,位于所述显影液注入器的外侧壁上,用于监控显影液的液面。
2.根据权利要求1所述的显影设备,其特征在于,至少包括第一传感器和第二传感器;
所述第一传感器位于显影液注入器的外侧壁上,当显影液液面低于所述第一传感器的位置,则开始向显影液注入器内加入显影液;
所述第二传感器位于显影液注入器的外侧壁上的所述第一传感器上方,当显影液液面高于所述第二传感器的位置,则停止向显影液注入器内加入显影液。
3.根据权利要求2所述的显影设备,其特征在于,还包括与传感器相连的控制单元,与所述控制单元相连的补液装置。
4.根据权利要求3所述的显影设备,其特征在于,还包括与所述控制单元相连的报警设备。
5.根据权利要求2所述的显影设备,其特征在于,还包括第三传感器,其位于显影液注入器的外侧壁上,与第一传感器处于同一水平位置,或者位于第一传感器下方。
6.根据权利要求5所述的显影设备,其特征在于,还包括第四传感器,其位于显影液注入器的外侧壁上,与第三传感器处于同一水平位置,或者位于第三传感器下方。
7.根据权利要求1所述的显影设备,其特征在于,所述传感器为接近式电容传感器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102096342A (zh) * 2009-12-09 2011-06-15 无锡华润上华半导体有限公司 显影装置
CN102539448A (zh) * 2010-12-08 2012-07-04 无锡华润上华科技有限公司 显影残留检测方法
CN103576466A (zh) * 2012-07-24 2014-02-12 无锡华润上华半导体有限公司 光刻方法

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