CN101329512A - 光阻回收系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光阻回收系统。现有的光阻供应系统存在光阻浪费、没有充分利用的问题。本发明的光阻回收系统,包括一个存储容器,用于存储光阻;一个中间箱,用于从存储光阻容器接收光阻,并具有一个从中间箱排放光阻的排放管;一个过滤器,用于从中间箱接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管;其中该光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器、中间箱的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。采用本发明的光阻回收系统,可以回收利用光阻,提高光阻的利用率。
Description
技术领域
本发明涉及一种供应光阻的系统,特别涉及能有效回收并利用光阻的回收系统。
背景技术
光阻是一种具有特定分子结构的光敏物质,它在入射光的作用下发生变化,是半导体制造工艺中非常重要的材料。一般的半导体制造工艺中通常包括多道工序,其中半导体外部物体如晶圆的布图需要采用光阻并对光阻进行受控的曝光。由于大部分的光阻为液态,因此需要将光阻由一存储器推送至喷嘴以涂布至晶圆上,且还需通过一过滤器,所述过滤器去除杂质。
图1示出了一种用于在半导体制造工艺中供应光阻的传统供应系统。该系统包括:一个存储光阻的容器1;一个中间箱4,它具有一个检测中间箱4中光阻是否存在的传感器和一个用于从此中间箱4排除气泡的瞬间阀2和排放管3;一个泵6,用于从中间箱4抽取光阻;一个过滤器7,用于除去光阻的颗粒杂质,它具有一个用于排除带有气泡的光阻的排放管5;一个气动阀8,控制光阻的输出流量;一个喷嘴9,将光阻均匀涂覆于晶圆上。
在上述系统中,氮气(N2)经由连接器注入存储光阻的容器1中,用以将光阻推进中间箱4中。通过泵6将光阻从中间箱4抽至过滤器7之后,会有2-3毫升的光阻从过滤器7中的排放管5被排除或泄出。此排泄过程能除去光阻中的气泡,如果气泡留在光阻中,半导体晶圆上会产生涂覆缺陷,排出的光阻通常被倒入废料桶中。相似地,当根据中间箱4中的传感器检测系统更换了空的光阻容器1时或中间箱4存储饱和后,从中间箱4排出的光阻通常通过排放管3流入废料桶中。且在定期维护或清洗中,整个光阻供应系统会有100-250毫升的光阻被清洗掉,过滤器7中至少有500毫升光阻由于定期维护被排泄掉。上述三种情况不可避免地浪费了光阻,在大规模生产中,被浪费的光阻可造成严重的资金损耗,增加了生产成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光阻回收系统,该光阻回收系统回收利用被排出的光阻,提高光阻利用率,同时能降低生产成本。
为了达到所述的目的,本发明提供了一种光阻回收系统,包括:一个存储容器,用于存储光阻;一个过滤器,用于从存储容器接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管;其中,光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的光阻回收系统还包括一个中间箱,用于从存储容器中接收光阻;一个泵,用于从中间箱中将光阻抽至过滤器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的光阻回收系统还包括一个喷嘴,用于从过滤器接收光阻,并用于将光阻涂于一外部物体;一个气动阀,它连至喷嘴,以控制光阻的流量。
在上述的光阻回收系统中,所述的回收容器通过回流导管将光阻回流至存储容器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的回流导管插入存储容器中且位于存储容器的底端为齿状。
在上述的光阻回收系统中,如前所述的回收容器为至少是300毫升的容器。
本发明还提供了一种光阻回收系统,包括:一个存储容器,用于存储光阻;一个中间箱,用于从存储容器接收光阻,并具有一个从中间箱排放光阻的排放管;一个过滤器,用于从中间箱接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管;其中,光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器、中间箱的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的光阻回收系统还包括一个泵,用于从中间箱中将光阻抽至过滤器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的光阻回收系统还包括一个喷嘴,用于从过滤器接收光阻,并用于将光阻涂于一外部物体;一个气动阀,它连至喷嘴,以控制光阻的流量。
在上述的光阻回收系统中,所述的回收容器通过回流导管将光阻回流至存储容器中。
在上述的光阻回收系统中,所述的回流导管插入存储容器中且位于存储容器的底端为齿状。
在上述的光阻回收系统中,如前所述的回收容器为至少是300毫升的容器。
本发明由于采用了上述的技术方案,使之与现有技术相比,具有以下的优点和积极效果:
1.回收利用光阻,避免光阻材料的浪费,节约生产成本。
2.减少光阻中的气泡产生,提高光阻的利用率。
附图说明
本发明的光阻回收系统由以下的实施例及附图给出。
图1为一种半导体制造工艺中供应光阻的传统供应系统示意图;
图2为本发明的光阻回收系统示意图;
图3为插入存储光阻容器中的回流导管的局部放大图;
具体实施方式
以下将结合附图对本发明的光阻回收系统作进一步的详细描述。
如图2所示,本发明的光阻回收系统包括:一个存储光阻的容器11;一个中间箱14,它具有一个检测中间箱14中光阻是否存在的传感器(未图示)和用于从此中间箱14排除气泡的瞬间阀12和排放管13;一个泵16,用于从中间箱14抽取光阻;一个过滤器17,用于除去光阻的颗粒杂质,它具有一个用于排除光阻中气泡的排放管15;一个气动阀18,控制光阻的输出流量;一个喷嘴19,将光阻均匀涂覆于外部物体如晶圆上;一个回收容器23,它与排放管13、15连接,将排放管13、15排出的带有气泡的光阻导入到回收容器23中,经过在该回收容器23中回收再利用后,光阻再通过回流导管20被输送回存储光阻的容器11中,它还具有一个排放管24用于排出多余的光阻;一个单向阀22,控制回流导管20中的光阻从回收容器23向存储光阻的容器11单向流通;一个针形阀25,对回收容器23排出的光阻进行流量调整。
本发明光阻回收系统的工作原理如下:氮气(N2)经由连接器注入存储光阻的容器11中,将光阻通过导管21推进中间箱14中。通过泵16将光阻从中间箱14抽至过滤器17之后,其中带有气泡的光阻从过滤器17中的排放管15被排除或定期维护时过滤器17中会有剩余的光阻,上述光阻通过排放管15被排出到回收容器23中,最后过滤器17中剩下的光阻通过气动阀18从喷嘴19射出涂覆于晶圆上。当根据中间箱14中的传感器检测系统更换了空的光阻容器11时或者中间箱14存储饱和后,从中间箱14排出的光阻通常通过排放管13排出。上述排放管13、15排出的光阻被排出到回收容器23中,该回收容器23为至少是300毫升,这样可具有足够的回收空间,且对上述光阻继续回收利用,将上述光阻通过针形阀25和单向阀22排出到存储光阻的容器11中。
图3为插入存储光阻容器中的回流导管的局部放大图。如图3所示,导管21比回流导管20插入存储容器11深,接近于存储容器底部。回流导管20的底端26横截面为齿状,可减少从回收容器23回流到存储容器11的光阻产生气泡。
本发明的光阻回收系统成本较低,回收利用率高,一般情况下,可以回收存储光阻容器中的10%光阻,一台利用本发明回收系统的机台每月至少可以回收整个存储光阻容器中的光阻。十五个这样的机台回收的十三个存储光阻容器中的光阻每月可节省价值六千元的光阻材料。
以上介绍的仅仅是基于本发明的较佳实施例,并不能以此来限定本发明的范围,本发明还可以应用于其它类似液体回收系统。任何对本发明的光阻回收系统作本技术领域内熟知的步骤的替换、组合、分立,以及对本发明实施步骤作本技术领域内熟知的等同改变或替换均不超出本发明的揭露以及保护范围。
Claims (12)
1、一种光阻回收系统,包括:
一个存储容器,用于存储光阻;
一个过滤器,用于从存储容器接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管;
其特征在于:光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。
2、如权利要求1所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的光阻回收系统还包括一个中间箱,用于从存储容器中接收光阻;一个泵,用于从中间箱中将光阻抽至过滤器中。
3、如权利要求2所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的光阻回收系统还包括一个喷嘴,用于从过滤器接收光阻,并用于将光阻涂于一外部物体;一个气动阀,它连至喷嘴,以控制光阻的流量。
4、如权利要求1所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回收容器通过回流导管将光阻回流至存储容器中。
5、如权利要求4所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回流导管插入存储容器中且位于存储容器的底端为齿状。
6、如权利要求1或4所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回收容器为至少是300毫升的容器。
7、一种光阻回收系统,包括:
一个存储容器,用于存储光阻;
一个中间箱,用于从存储容器接收光阻,并具有一个从中间箱排放光阻的排放管;
一个过滤器,用于从中间箱接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管;
其特征在于:光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器、中间箱的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。
8、如权利要求7所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的光阻回收系统还包括一个泵,用于从中间箱中将光阻抽至过滤器中。
9、如权利要求8所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的光阻回收系统还包括一个喷嘴,用于从过滤器接收光阻,并用于将光阻涂于一外部物体;一个气动阀,它连至喷嘴,以控制光阻的流量。
10、如权利要求7所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回收容器通过回流导管将光阻回流至存储容器中。
11、如权利要求10所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回流导管插入存储容器中且位于存储容器的底端为齿状。
12、如权利要求7或10所述的光阻回收系统,其特征在于:所述的回收容器为至少是300毫升的容器。
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CNA2007100424085A CN101329512A (zh) | 2007-06-22 | 2007-06-22 | 光阻回收系统 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102951846A (zh) * | 2011-08-18 | 2013-03-06 | 和舰科技(苏州)有限公司 | 一种用于旋转涂布玻璃的溶剂喷涂装置 |
CN105487338A (zh) * | 2014-10-01 | 2016-04-13 | 力晶科技股份有限公司 | 光致抗蚀剂回收系统及其方法 |
CN107340692A (zh) * | 2016-05-03 | 2017-11-10 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种光阻回收利用装置 |
TWI610969B (zh) * | 2016-03-29 | 2018-01-11 | 鋒霈環境科技股份有限公司 | 一對多光阻回收系統及其控制方法 |
JP2018046269A (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
CN108983551A (zh) * | 2018-08-22 | 2018-12-11 | 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 | 涂布机光阻回收系统 |
TWI687976B (zh) * | 2018-10-08 | 2020-03-11 | 聯華電子股份有限公司 | 光阻供應設備以及其操作方法 |
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- 2007-06-22 CN CNA2007100424085A patent/CN101329512A/zh active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102951846A (zh) * | 2011-08-18 | 2013-03-06 | 和舰科技(苏州)有限公司 | 一种用于旋转涂布玻璃的溶剂喷涂装置 |
CN105487338A (zh) * | 2014-10-01 | 2016-04-13 | 力晶科技股份有限公司 | 光致抗蚀剂回收系统及其方法 |
TWI610969B (zh) * | 2016-03-29 | 2018-01-11 | 鋒霈環境科技股份有限公司 | 一對多光阻回收系統及其控制方法 |
CN107340692A (zh) * | 2016-05-03 | 2017-11-10 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种光阻回收利用装置 |
JP2018046269A (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
CN108983551A (zh) * | 2018-08-22 | 2018-12-11 | 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 | 涂布机光阻回收系统 |
TWI687976B (zh) * | 2018-10-08 | 2020-03-11 | 聯華電子股份有限公司 | 光阻供應設備以及其操作方法 |
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