JP2023083140A - 処理液供給装置及び処理液排出方法 - Google Patents

Abstract

【課題】処理液供給装置のメンテナンスを効率的に行う。【解決手段】処理液供給源１０２からの処理液を収容する第１タンク１０１と、処理液供給源から第１タンクに処理液を導く第１管路１１１と、第１タンクから吐出部に処理液を導く第２管路１１２と、第２管路に設けられたポンプ１２０、フィルタ１２１と、フィルタに接続された排液管路１３１と、第１管路に設けられた第１開閉弁Ｖ１と、第２管路に設けられた第２開閉弁Ｖ２と、第２管路に設けられた第３開閉弁Ｖ３と、排液管路に設けられた第４開閉弁Ｖ４と、気体を供給する第１気体供給路１４１と、第１気体供給路に設けられた第５開閉弁Ｖ５と、制御部Ｍと、を有し、制御部は、処理液が第１タンクに充填されるように、第１及び第２開閉弁を制御する第１制御と、第１気体供給路からの気体により第２管路内の処理液が排出されるように、第３、第４及び第５開閉弁を制御する第２制御と、を並行して実行する。【選択図】図３

Description

本開示は、処理液供給装置及び処理液排出方法に関する。

特許文献１には、処理液を吐出するノズルと、ノズルに処理液を供給する処理液供給部と、コントローラと、を備えた塗布・現像装置が開示されている。上記処理液供給部は、タンクからノズルに処理液を導く送液管と、送液管に設けられたポンプと、送液管においてタンクとポンプとの間に設けられ、タンク側の第一空間、ポンプ側の第二空間、及び濾材を含むフィルタと、を有する。上記コントローラは、ポンプにより、濾材を経て第一空間側から第二空間側に処理液を流すように処理液供給部を制御する第一制御と、第一制御の後、ポンプにより、濾材を経て第二空間側から第一空間側に処理液を流すように処理液供給部を制御する第二制御と、を実行するように構成されている。

特開２０１８－３２６８８号公報

本開示にかかる技術は、処理液供給装置のメンテナンスを効率的に行う。

本開示の一態様は、基板に処理液を吐出する吐出部に処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液供給源からの処理液を収容する第１タンクと、前記処理液供給源から前記第１タンクに処理液を導く第１管路と、前記第１タンクから前記吐出部に処理液を導く第２管路と、前記第２管路に設けられたポンプと、前記第２管路における前記第１タンクと前記ポンプの間に設けられたフィルタと、前記フィルタに接続された排液管路と、前記第１管路に設けられた第１開閉弁と、前記第２管路における前記第１タンクと前記フィルタとの間に設けられた第２開閉弁と、前記第２管路における前記フィルタと前記ポンプとの間に設けられた第３開閉弁と、前記排液管路に設けられた第４開閉弁と、前記第２管路における前記第２開閉弁と前記フィルタとの間に接続され、気体を供給する第１気体供給路と、前記第１気体供給路に設けられた第５開閉弁と、制御部と、を有し、前記制御部は、処理液が前記第１タンクに充填されるように、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する第１制御と、前記第１気体供給路からの気体により前記第２管路内の処理液が排出されるように、前記第３開閉弁、前記第４開閉弁及び前記第５開閉弁を制御する第２制御と、を並行して実行するように構成されている。

本開示によれば、処理液供給装置のメンテナンスを効率的に行うことができる。

レジスト塗布装置の構成の概略を示す縦断面図である。 レジスト塗布装置の構成の概略を示す横断面図である。 本実施形態にかかる液供給装置の構成の概略を示す説明図である。 吐出動作時の液供給装置の状態を示す図である。 ポンプへレジスト液を補充する時の液供給装置の状態を示す図である。 第１タンク内のレジスト液を排出する時の液供給装置の状態を示す図である。 第２管路内からレジスト液を抜き取る時の液供給装置の状態を示す図である。 第２管路内からレジスト液を抜き取る時の液供給装置の状態を示す図である。 第２管路をレジスト液で充填する時の液供給装置の状態を示す図である。 第１気体供給路の他の例を示す図である。 本実施形態にかかる液供給装置の構成の他の例を示す説明図である。

半導体デバイス等の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板上に所定のレジストパターンを形成するために一連の処理が行われる。上記一連の処理には、例えば、基板上にレジスト液を供給しレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を露光する露光処理、露光されたレジスト膜に現像液を供給して現像する現像処理等が含まれる。

レジスト液や現像液等の処理液の基板への吐出は吐出ノズルを介して行われる。また、吐出ノズルへの処理液の供給は処理液供給装置により行われる。処理液供給装置は、処理液供給源からの処理液を収容するタンクと、タンクから吐出ノズルに処理液を導く送液管路とを有している。また、送液管路にはポンプやフィルタが設けられている。

ところで、処理液供給装置のメンテナンスの際（具体的にはポンプを入れ替える際や処理液の種類を変更する際）には、送液管路から処理液を排出し送液管路内を空の状態にすることが行われている。従来、タンクに気体を送り込み、タンク内の処理液で送液管路内の処理液を押し出し、タンクが空となった後も気体の送り込みを継続することで、送液管路を空の状態にしていた。

しかし、この方法は、送液管路内を処理液で再充填するためには、タンクへの処理液の補充が、送液管路を空の状態にした後に必要となること等から、効率の点で改善の余地がある。

そこで、本開示にかかる技術は、処理液供給装置のメンテナンスを効率的に行う。

以下、本実施形態にかかる処理液供給装置及び処理液排出方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

＜レジスト塗布装置＞
図１及び図２を用いて、本実施形態にかかる処理液供給装置が処理液を供給する吐出部を有する、基板処理装置としてのレジスト塗布装置について説明する。図１及び図２はそれぞれ、レジスト塗布装置の構成の概略を示す縦断面図及び横断面図である。

レジスト塗布装置１は、図１に示すように、内部を閉鎖可能な処理容器１０を有している。処理容器１０の側面には、基板としてのウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成され、搬入出口には、開閉シャッタ（図示せず）が設けられている。

処理容器１０内の中央部には、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２０が設けられている。スピンチャック２０は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハＷを吸引する吸引口（図示せず）が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハＷをスピンチャック２０上に吸着保持できる。

スピンチャック２０は、例えばモータ等を備えたチャック駆動機構２１を有し、そのチャック駆動機構２１により所定の速度に回転できる。また、チャック駆動機構２１には、シリンダ等の昇降駆動源が設けられており、スピンチャック２０は上下動可能である。

スピンチャック２０の周囲には、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するカップ３０が設けられている。カップ３０の下面には、回収した液体を排出する排出管３１と、カップ３０内の雰囲気を排気する排気管３２が接続されている。

図２に示すように、カップ３０のＸ方向負方向（図２の下方向）側には、Ｙ方向（図２の左右方向）に沿って延伸するレール４０が形成されている。レール４０は、例えばカップ３０のＹ方向負方向（図２の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図２の右方向）側の外方まで形成されている。レール４０には、アーム４１が取り付けられている。

アーム４１には、処理液としてのレジスト液を吐出する吐出部としての吐出ノズル４２が支持されている。アーム４１は、ノズル駆動部４３により、レール４０上を移動自在である。これにより、吐出ノズル４２は、カップ３０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部４４からカップ３０内のウェハＷの中心部上方まで移動でき、さらに当該ウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、アーム４１は、ノズル駆動部４３によって昇降自在であり、吐出ノズル４２の高さを調節できる。吐出ノズル４２は、図１に示すようにレジスト液を供給する処理液供給装置としての液供給装置１００に接続されている。

＜液供給装置１００＞
続いて、図３を用いて、液供給装置１００の構成の一例を説明する。図３は、本実施形態にかかる液供給装置１００の構成の概略を示す説明図である。

液供給装置１００は、吐出ノズル４２にレジスト液を供給するものであり、第１タンク１０１を有する。第１タンク１０１は、処理液供給源としての第２タンク１０２からの処理液を収容する。第２タンク１０２は、レジスト液を貯留するものであり、取り替え可能なものである。

第１タンク１０１と第２タンク１０２は、第２タンク１０２から第１タンク１０１へレジスト液を導く第１管路１１１により接続されている。第１管路１１１には、当該第１管路１１１を開閉する第１開閉弁Ｖ１が設けられている。

また、第１タンク１０１は、第２管路１１２が接続されている。第２管路１１２は、第１タンク１０１から吐出ノズル４２にレジスト液を導く流路である。すなわち、第２管路１１２は、第１タンク１０１と吐出ノズル４２とを接続する流路である。

第２管路１１２には、ポンプ１２０と、フィルタ１２１と、第２開閉弁Ｖ２と、第３開閉弁Ｖ３、供給制御弁Ｖ１０とが設けられている。

ポンプ１２０は、吐出ノズル４２にレジスト液を送出するものであり、例えばチューブフラムポンプからなる。ポンプ１２０が送出するレジスト液は、ポンプ１２０の貯留室（図示せず）に貯留されている。

フィルタ１２１は、レジスト液中の異物を捕集して除去するものである。フィルタ１２１は、第２管路１１２における第１タンク１０１とポンプ１２０との間に設けられている。

第２開閉弁Ｖ２は、第２管路１１２を開閉するものであり、第２管路１１２における第１タンク１０１とフィルタ１２１との間に設けられている。

第３開閉弁Ｖ３は、第２管路１１２を開閉するものであり、第２管路１１２におけるフィルタ１２１とポンプ１２０との間に設けられている。

供給制御弁Ｖ１０は、吐出ノズル４２から吐出するレジスト液の流量の調整や、第２管路１１２の開閉等を行うものであり、ポンプ１２０と吐出ノズル４２との間に設けられている。一実施形態において、供給制御弁Ｖ１０は、吐出ノズル４２から吐出するレジスト液の流量を調整する弁と、第２管路１１２を開閉する弁とを個別に含む。

また、フィルタ１２１の上部には、第１ドレイン管路１３１が接続されている。第１ドレイン管路１３１は、フィルタ１２１のレジスト液中に発生した気体（気泡）を排出する排気管路や、フィルタ１２１内のレジスト液を排出する排液管路として機能する。
第１ドレイン管路１３１には、当該第１ドレイン管路１３１を開閉する第４開閉弁Ｖ４が設けられている。

さらに、液供給装置１００は、第１気体供給路１４１を有する。
第１気体供給路１４１は、第２管路１１２における第２開閉弁Ｖ２とフィルタ１２１との間に接続され、第２管路１１２に不活性ガス（例えば窒素ガス）等の気体を供給する。
第１気体供給路１４１における第２管路１１２側には、当該第１気体供給路１４１を開閉する第５開閉弁Ｖ５が設けられている。

また、液供給装置１００は、第２ドレイン管路１３２、第２気体供給路１４２及び第３気体供給路１４３を有する。

第２ドレイン管路１３２は、第１タンク１０１に接続されており、第１タンク１０１内の気体を排出する排気管路や、第１タンク１０１内のレジスト液を排出する排液管路として機能する。
第２ドレイン管路１３２には、当該第２ドレイン管路１３２を開閉する第６開閉弁Ｖ６が設けられている。

第２気体供給路１４２は、第１タンク１０１に接続され、当該第１タンク１０１に不活性ガス等の気体を供給する。
第２気体供給路１４２は、気体の供給源１５０と第１タンク１０１とを接続しており、当該第２気体供給路１４２を開閉する第７開閉弁Ｖ７が設けられている。第２気体供給路１４２における第７開閉弁Ｖ７の上流側には圧力調整用の電空レギュレータ（図示せず）が設けられている。

第３気体供給路１４３は、第２タンク１０２に接続され、当該第２タンク１０２に不活性ガス等の気体を供給する。
第３気体供給路１４３は、気体の供給源１５１と第２タンク１０２とを接続しており、当該第３気体供給路１４３を開閉する第８開閉弁Ｖ８が設けられている。第３気体供給路１４３における第８開閉弁Ｖ８の上流側には圧力調整用の電空レギュレータ１５２が設けられている。

前述の第１気体供給路１４１は、第３気体供給路１４３から分岐されている。第１気体供給路１４１の下流側端は、第３気体供給路１４３における電空レギュレータ１５２と第８開閉弁Ｖ８との間に接続されている。
なお、第２気体供給路１４２と第３気体供給路１４３とは合流しておらず、第２気体供給路１４２を介して第１タンク１０１に供給する気体の圧力と、第３気体供給路１４３を介して第２タンク１０２に供給する気体の圧力とは、独立して制御可能である。

さらに、液供給装置１００は、制御部Ｍを備える。制御部Ｍは、例えばＣＰＵ等のプロセッサやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、液供給装置１００における処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部Ｍにインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｈは、一時的なものであっても非一時的なものであってもよい。また、プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

なお、液供給装置１００に設けられた各弁には、制御部Ｍにより制御可能な電磁弁や空気作動弁が用いられ、各弁と制御部Ｍは電気的に接続されている。また、制御部Ｍは、ポンプ１２０と電気的に接続されている。この構成により、液供給装置１００における一連の処理は制御部Ｍの制御の下、自動で行うことが可能となっている。
制御部Ｍはさらに各流量計に接続されている。したがって、制御部Ｍは流量計による測定結果に基づいて制御を行うことができる。

＜液供給装置１００の動作＞
次に、図４及び図５に基づいて、液供給装置１００の通常時の動作の一例について説明する。図４は、吐出動作時の液供給装置１００の状態を示す図である。図５は、ポンプ１２０へレジスト液を補充する時の液供給装置１００の状態を示す図である。なお、図４、図５及び後述の図６～図９では、開状態の弁を白塗りで、閉状態の弁を黒塗りで、レジスト液または不活性ガスが流通している管を太線で示すことで、その他の弁の開閉状態については説明を適宜省略する。また、以下の説明では、第ｎ開閉弁Ｖｎ（ｎは1～８の整数）をそれぞれ開閉弁Ｖｎと適宜省略して記載する。

＜吐出＞
吐出ノズル４２からのレジスト液の吐出の際は、例えば、図４に示すように、開閉弁Ｖ１～Ｖ８が閉状態とされ且つ供給制御弁Ｖ１０が開状態とされ、ポンプ１２０が駆動される。これにより、レジスト液が吐出ノズル４２から所定流量で吐出される。

＜ポンプ１２０への補充＞
ポンプ１２０へのレジスト液の補充の際は、例えば、図５に示すように、開閉弁Ｖ２、Ｖ３が開状態とされ、ポンプ１２０が駆動される。これにより、第１タンク１０１内のレジスト液がポンプ１２０に補充される。

続いて、図６～図９に基づいて、液供給装置１００のメンテナンス時の動作の一例について説明する。図６は、第１タンク１０１内のレジスト液を排出する時の液供給装置１００の状態を示す図である。図７及び図８は、第２管路１１２内からレジスト液を排出する時の液供給装置１００の状態を示す図である。図９は、第２管路１１２をレジスト液で充填する時の液供給装置１００の状態を示す図である。メンテナンス時とは、例えばポンプ１２０を交換する時や吐出ノズル４２に供給するレジスト液を変更する時である。

＜ステップＳ１：第１タンク１０１からのレジスト液の排出＞
メンテナンス時は例えばまず第１タンク１０１内のレジスト液が排出される。この際、例えば、図６に示すように、開閉弁Ｖ１、Ｖ３、Ｖ５、Ｖ７等が閉状態とされ且つ開閉弁Ｖ２、Ｖ４、Ｖ７等が開状態とされ、第２気体供給路１４２を介して、供給源１５０からの不活性ガスが第１タンク１０１に供給される。これにより、第１タンク１０１内のレジスト液が第２管路１１２へ押し出され、第２管路１１２内のレジスト液が第１ドレイン管路１３１を介してレジスト液が排出される。第２気体供給路１４２を介した第１タンク１０１への不活性ガスの供給は、第１タンク１０１内が空になるまで行われる。

＜ステップＳ２：第２管路１１２内からのレジスト液の排出＞
続いて、第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りすなわち排出が行われる。本実施形態では、第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りと第１タンク１０１内へのレジスト液の補充が並行して行われる。

第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りは、第１ドレイン管路１３１を介したものと、吐出ノズル４２を介したものがある。

第１ドレイン管路１３１を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りの際は、図７に示すように、開閉弁Ｖ２、Ｖ３等が閉状態とされ且つ開閉弁Ｖ４、Ｖ５が開状態とされ、第１気体供給路１４１を介して、供給源１５１からの不活性ガスが第２管路１１２に供給される。これにより、第２管路１１２におけるフィルタ１２１を含む部分が空になるまで、当該部分内のレジスト液が、第１ドレイン管路１３１を介して、排出される。すなわち、第２管路１１２におけるフィルタ１２１を含む部分内のレジスト液が、第１ドレイン管路１３１を介して、抜き取られる。

一方、吐出ノズル４２を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りの際は、図８に示すように、開閉弁Ｖ２、Ｖ４等が閉状態とされ且つ開閉弁Ｖ３、Ｖ５、供給制御弁Ｖ１０が開状態とされ、第１気体供給路１４１を介して、供給源１５１からの不活性ガスが第２管路１１２に供給される。これにより、第２管路１１２におけるポンプ１２０を含む部分が空になるまで、当該部分内のレジスト液が、吐出ノズル４２を介して、排出される。すなわち、第２管路１１２におけるポンプ１２０を含む部分内のレジスト液が、吐出ノズル４２を介して、抜き取られる。なお、吐出ノズル４２を介した抜き取りの際、ポンプ１２０は駆動されない。

一実施形態において、第１ドレイン管路１３１を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りの後に、吐出ノズル４２を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りが行われる。ただし、この順番は逆であってもよい。

本実施形態では、第１ドレイン管路１３１を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りまたは吐出ノズル４２を介した第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取りの少なくともいずれか一方と並行して、第１タンク１０１内へのレジスト液の補充が並行して行われる。
一実施形態において、上述の２種類の抜き取りの両方が行われる間、第１タンク１０１内へのレジスト液の補充は継続される。すなわち、一実施形態において、上述の２種類の抜き取りそれぞれと並行して、第１タンク１０１内へのレジスト液の補充が行われる。

第１タンク１０１内へのレジスト液の補充の際は、図７及び図８に示すように、開閉弁Ｖ７が閉状態とされ且つ開閉弁Ｖ１、Ｖ６、Ｖ８が開状態とされ、供給源１５１からの不活性ガスにより、第２タンク１０２内のレジスト液が、第１管路１１１を介して、第１タンク１０１に供給される。

＜ステップＳ３：第２管路１１２内のレジスト液での充填＞
第２管路１１２内からのレジスト液の抜き取り及び第１タンク１０１内へのレジスト液の補充の完了後、第２管路１１２内がレジスト液で充填される。

第２管路１１２内をレジスト液で充填する際は、例えば、まず、ステップＳ１の第１タンク１０１からのレジスト液の排出時と同様、図６に示すように、開閉弁Ｖ１、Ｖ３、Ｖ５等が閉状態とされ且つ開閉弁Ｖ２、Ｖ４、Ｖ７等が開状態とさる。これにより、第２気体供給路１４２を介して、供給源１５０からの不活性ガスが第１タンク１０１に供給され、その結果、第１タンク１０１内のレジスト液が、第２管路１１２へ押し出され、第２管路１１２のフィルタ１２１より下流側の部分（フィルタ１２１を含む）がレジスト液で充填される。

続いて、図９に示すように、開閉弁Ｖ４が閉状態に切り換えられ、開閉弁Ｖ３、供給制御弁Ｖ１０が開状態に切り換えられる。これにより、第２気体供給路１４２を介して、供給源１５０からの不活性ガスが第１タンク１０１に供給され、その結果、第１タンク１０１内のレジスト液が、第２管路１１２へ押し出され、ポンプ１２０を含む第２管路１１２全体がレジスト液で充填される。なお、この際、ポンプ１２０は駆動されない。

一実施形態において、上述のステップＳ１～Ｓ３のサイクルは複数回行われる。これにより、例えば交換後のポンプ１２０の清浄度を高めることや、レジスト液種を変更した場合に変更前の液種のレジスト液が第２管路１１２内に残るのを抑制することができる。

＜主な効果＞
以上のように、本実施形態では、液供給装置１００が、第２管路１１２における第２開閉弁Ｖ２とフィルタ１２１との間に接続され、気体を供給する第１気体供給路１４１と、を有している。また、制御部Ｍが、以下の第１制御と第２制御とを並行して実行するように構成されている。第１制御では、レジスト液が第１タンク１０１に充填されるように、第１開閉弁Ｖ１及び第２開閉弁Ｖ２等を制御する。第２制御では、第１気体供給路１４１からの気体により第２管路１１２内の処理液が第１ドレイン管路１３１または吐出ノズル４２の少なくともいずれか一方を介して排出されるように（すなわち抜き取られるように）、第３開閉弁Ｖ３、第４開閉弁Ｖ４及び第５開閉弁Ｖ５等を制御する。このように、本実施形態では、第１タンク１０１へのレジスト液の補充と第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りを並行して行っている。そのため、本実施形態によれば、上記抜き取りと上記補充を伴う液供給装置１００のメンテナンスを、上記抜き取り後に上記補充を行う従来の方法に比べて、短時間で行うことができる。すなわち、本実施形態によれば、液供給装置１００のメンテナンスを効率的に行うことができる。

特に、メンテナンス時に、第１タンク１０１へのレジスト液の補充と第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りとをそれぞれ複数回実行する必要がある場合、時間短縮の効果が大きい。

＜変形例＞
以上の例では、第１気体供給路１４１は、第１タンク１０１へのレジスト液の補充に用いられる第３気体供給路１４３に接続され、すなわち第３気体供給路１４３から分岐されていた。
これに代えて、図１０に示すように、第１気体供給路１４１は、第３気体供給路１４３には接続されず、第１タンク１０１内からのレジスト液の圧送に用いられる第２気体供給路１４２に接続され、すなわち第２気体供給路１４２から分岐されていてもよい。

第１気体供給路１４１が第３気体供給路１４３から分岐されている場合、第１タンク１０１へのレジスト液の補充に用いられる気体の圧力と、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りに用いられる気体の圧力とは、互いに影響を受ける。
それに対し、第１気体供給路１４１が第２気体供給路１４２から分岐されている場合、第１タンク１０１へのレジスト液の補充に用いられる気体の圧力と、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りに用いられる気体の圧力とは、互いに影響を受けない。したがって、第２気体供給路１４２から分岐されている場合、第１タンク１０１へのレジスト液の補充に用いられる気体の圧力と、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りに用いられる気体の圧力とを所望の値にすることができる。よって、所望の速さで、第１タンク１０１へのレジスト液の補充と、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取りとを行うことができる。

また、図１１に示すように、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取り時における、レジスト液の排出流量を調整するため流量調整弁Ｖ２０を設けてもよい。

このように流量調整弁Ｖ２０を設けることにより、制御部Ｍの制御の下、第２管路１１２からのレジスト液の抜き取り時における、レジスト液の排出流量すなわち排出圧力を所望の値で一定にすることができる。

流量調整弁Ｖ２０は、例えば第１ドレイン管路１３１に設けられるが、他の位置に設けられてもよい。ただし、第１ドレイン管路１３１に設けることにより、流量調整弁Ｖ２０から発生したパーティクルが、吐出ノズル４２から製品ウェハＷに吐出されるレジスト液
に混入するのを抑制することができる。

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

４２ 吐出ノズル
１００ 液供給装置
１０１ 第１タンク
１１１ 第１管路
１１２ 第２管路
１２０ ポンプ
１２１ フィルタ
１３１ 第１ドレイン管路
１４１ 第１気体供給路
Ｍ 制御部
Ｖ１ 第１開閉弁
Ｖ２ 第２開閉弁
Ｖ３ 第３開閉弁
Ｖ４ 第４開閉弁
Ｖ５ 第５開閉弁
Ｗ ウェハ

Claims (10)

1. 基板に処理液を吐出する吐出部に処理液を供給する処理液供給装置であって、
   処理液供給源からの処理液を収容する第１タンクと、
   前記処理液供給源から前記第１タンクに処理液を導く第１管路と、
   前記第１タンクから前記吐出部に処理液を導く第２管路と、
   前記第２管路に設けられたポンプと、
   前記第２管路における前記第１タンクと前記ポンプの間に設けられたフィルタと、
   前記フィルタに接続された排液管路と、
   前記第１管路に設けられた第１開閉弁と、
   前記第２管路における前記第１タンクと前記フィルタとの間に設けられた第２開閉弁と、
   前記第２管路における前記フィルタと前記ポンプとの間に設けられた第３開閉弁と、
   前記排液管路に設けられた第４開閉弁と、
   前記第２管路における前記第２開閉弁と前記フィルタとの間に接続され、気体を供給する第１気体供給路と、
   前記第１気体供給路に設けられた第５開閉弁と、
   制御部と、を有し、
   前記制御部は、
   処理液が前記第１タンクに充填されるように、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する第１制御と、
   前記第１気体供給路からの気体により前記第２管路内の処理液が排出されるように、前記第３開閉弁、前記第４開閉弁及び前記第５開閉弁を制御する第２制御と、を並行して実行するように構成されている、処理液供給装置。
2. 前記処理液供給源は、処理液を貯留する第２タンクである、請求項１に記載の処理液供給装置。
3. 前記第１タンクに接続され、当該第１タンクに気体を供給する第２気体供給路と、
   前記第２タンクに接続され、当該第２タンクに気体を供給する第３気体供給路と、をさらに有する、請求項２に記載の処理液供給装置。
4. 前記第１気体供給路は、前記第３気体供給路に接続されず、前記第２気体供給路に接続されている、請求項３に記載の処理液供給装置。
5. 前記制御部は、前記第２制御として、
   前記第１気体供給路からの気体により前記第２管路内の処理液が前記排液管路を介して排出されるように、前記第３開閉弁、前記第４開閉弁及び前記第５開閉弁を制御する制御と、前記第１気体供給路からの気体により前記第２管路内の処理液が前記吐出部を介して排出されるように、前記第３開閉弁、前記第４開閉弁及び前記第５開閉弁を制御する制御との両方を実行する間、前記第１制御の実行を継続するように構成されている、請求項１～４のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
6. 基板に処理液を吐出する吐出部に処理液を供給する処理液供給装置からの処理液の排出方法であって、
   前記処理液供給装置は、
   処理液供給源からの処理液を収容する第１タンクと、
   前記処理液供給源から前記第１タンクに処理液を導く第１管路と、
   前記第１タンクから前記吐出部に処理液を導く第２管路と、
   前記第２管路に設けられたポンプと、
   前記第２管路における前記第１タンクと前記ポンプの間に設けられたフィルタと、
   前記フィルタに接続された排液管路と、
   前記第１管路に設けられた第１開閉弁と、
   前記第２管路に接続され、気体を供給する第１気体供給路と、
   前記第１気体供給路に設けられた第５開閉弁と、を有し、
   前記第１タンクへの処理液の充填と、前記第１気体供給路からの気体による前記第２管路内の処理液の排出と、を並行して行う、処理液排出方法。
7. 前記処理液供給源は、処理液を貯留する第２タンクである、請求項６に記載の処理液排出方法。
8. 前記第１タンクに接続され、当該第１タンクに気体を供給する第２気体供給路と、
   前記第２タンク内に気体を供給する第３気体供給路と、をさらに有する、請求項７に記載の処理液排出方法。
9. 前記第１気体供給路は、前記第３気体供給路に接続されず、前記第２気体供給路に接続されている、請求項８に記載の処理液排出方法。
10. 前記第１タンクへの処理液の充填を継続しながら、
    前記第１気体供給路からの気体による前記第２管路内の処理液の前記排液管路を介した排出と、前記第１気体供給路からの気体による前記第２管路内の処理液の前記吐出部を介した排出との両方を行う、請求項６～９のいずれか１項に記載の処理液排出方法。
    
    

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