CN110652751A - 光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法 - Google Patents

Abstract

一种光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法。本揭示描述了一种当光阻剂清洗流过新光阻剂过滤器时，可以用来移除光阻剂中空气微气泡的方法。例如，该方法包括使光阻剂流过光阻剂过滤器以移除捕集在光阻剂通过光阻剂过滤器中产生的空气微气泡；在缓冲槽中收集具有空气微气泡的光阻剂；在缓冲槽中移除光阻剂中的空气微气泡；以及将没有空气微气泡的光阻剂从缓冲槽转移到光刻设备。

Description

光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法

技术领域

本揭露涉及一种光阻剂分配系统及一种光阻剂的回收方法。

背景技术

光阻剂分配系统的光阻剂过滤器替换过程中，使光阻剂流过光阻剂过滤器循环以预润湿过滤器并移除捕集在过滤器中的空气。而循环流过过滤器的光阻剂因具有气泡且无法使用，因此必须被丢弃。废弃的光阻剂增加了半导体制程的制造成本。

发明内容

本揭露提供一种光阻剂分配系统，其包括光阻剂贮存器、光阻剂过滤器、泵、光阻剂回收设备、第一光阻剂通道与第二光阻剂通道。泵被配置为泵送光阻剂穿过光阻剂过滤器并将过滤的光阻剂分配到光刻设备。光阻剂回收设备包括缓冲槽。第一光阻剂通道在泵的出口与缓冲槽之间。第二光阻剂通道在缓冲槽的出口与泵的入口之间。

本揭露提供一种光阻剂的回收方法，其包括使光阻剂流过光阻剂过滤器以移除捕集在光阻剂过滤器中的空气，其中被捕集的空气在光阻剂中形成空气微气泡；在缓冲槽中收集具有空气微气泡的光阻剂；在缓冲槽中从光阻剂移除空气微气泡；以及将没有空气微气泡的光阻剂从缓冲槽转移到光刻设备。

本揭露提供一种光阻剂分配系统，其包括光阻剂贮存器、泵、光阻剂过滤器与光阻剂回收设备。光阻剂贮存器用于储存光阻剂。泵包括进料隔室和分配隔室，其中泵被配置为将光阻剂分配到光刻设备。光阻剂过滤器流体连接到泵的进料隔室和分配隔室。光阻剂回收设备被配置为接收用于清洗光阻剂过滤器的光阻剂，其中光阻剂回收设备包括缓冲槽与四通阀。缓冲槽被配置为移除在接收的光阻剂中捕集的空气，且包括一个或多个光阻剂感测器位于缓冲槽的底面处与光阻剂出口处。四通阀流体连接到缓冲槽和泵。

附图说明

当结合附图阅读时，从以下详细描述可以最好地理解本揭露的各方面。应注意，根据行业中的常规实践，各种特征未按比例绘制。实际上，为了论述的清楚性，可以任意地增大或缩小各种特征的尺寸。

图1是根据本揭示的一些实施例在过滤器替换操作的示例性光阻剂回收过程流程图；

图2是根据本揭示的一些实施例具有光阻剂回收设备的示例性光阻剂分配系统；

图3是根据本揭示的一些实施例的缓冲槽的剖视图；

图4是根据本揭示的一些实施例具有光阻剂回收设备的示例性光阻剂分配系统；

图5是根据本揭示的一些实施例的缓冲槽的剖视图；

图6是根据本揭示的一些实施例的不具有光阻剂回收设备的示例性光阻剂分配系统。

【符号说明】

100 方法

110 操作

120 操作

130 操作

140 操作

200 光阻剂贮存器

210 二级槽

215 四通阀

220 两级泵

220A 进料隔室

220B 分配隔室

225 两级泵入口

230 过滤器

235 两级泵出口

240 排气口

245 缓冲槽

250 缓冲槽收集口

255 缓冲槽入口

260 缓冲槽排放口

265 缓冲槽出口

270 设施排放管

275 光阻剂回收设备

280 用过的光阻剂

285 入口止回阀

290 排放止回阀

300 光阻剂

310 环境空间

400 光刻设备

具体实施方式

以下揭露内容提供了不同特征的许多不同实施例或实例。以下描述了部件和布置的特定实例以简化本揭露内容。当然，这些仅仅是实例，而并且旨在为限制性的。例如，在以下描述中在第二特征上方形成第一特征可以包括第一特征和第二特征形成为直接接触的实施例，并且亦可以包括可以在第一特征与第二特征之间形成额外特征，使得第一特征和第二特征不直接接触的实施例。

此外，在此可以使用空间相对术语，诸如“下方”、“以下”、“下部”、“上方”、“上部”等来简化描述，以描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。除了图中所示的取向之外，空间相对术语旨在包括使用或操作中的装置/元件的不同取向。设备可以以其他方式取向(旋转90度或在其他方向上)，并且可以类似地相应解释在此使用的空间相对描述词。

如本文所用的术语“标称”是指在产品或过程的设计阶段期间设定的部件或过程操作的特征或参数的所需值或目标值，以及高于和/或低于所需值的值范围。值的范围通常是由于制造制程或公差的微小变化。

在一些实施例中，术语“约”和“大体上”可以指示在该值的5％(例如，该值的±1％、±2％、±3％、±4％、±5)内变化的给定量的值。

超大型积体电路(VLSI)晶片制造需要大量光刻操作。每个光刻操作使用光化学材料，该光化学材料被称为“光阻剂”。光阻剂是有机化合物，其由于先前暴露于紫外(UV)或极紫外(EUV)光而在显影剂溶液存在下经历溶解度的变化。晶片制造中光阻剂的目的是在晶圆的顶层上转印光掩模或掩模版图案，并在后续处理(例如，蚀刻处理)期间保护下面的材料。将晶片制造中使用的光阻剂作为液体分配到晶圆表面，该液体可经干燥以形成待图案化的固体膜。在使用之前，光阻剂可以储存在贮存器或储槽中，该贮存器或储槽可定位为远离光刻设备。分配系统可用于将储存的光阻剂从贮存器或储槽转移到光刻设备。

为了确保光刻制程的一致性，在光刻操作之间光阻剂质量需要为实质上相同的。为了确保光阻剂不含杂质和粒子，使光阻剂穿过例如位于光阻剂分配系统内各个位置的过滤膜(例如，光阻剂过滤器)而经历过滤过程。举例而言而非限制，可以发现光阻剂过滤器靠近用于将光阻剂分配到光刻设备的泵。光阻剂过滤器可以满足严格的质量要求。例如，光阻剂过滤器不应将粒子、有机材料、金属和/或其他污染物释放到光阻剂中。此外，光阻剂过滤器应该能够在光阻剂可以分配到光刻设备之前从光阻剂中移除杂质。光阻剂过滤器的孔径可以在亚微米范围内；例如，该孔径可小于1微米(例如，<1μm)。

在其使用寿命结束时-例如，在约18个月之后-必须用新的光阻剂过滤器替换光阻剂过滤器。一旦更换了旧的光阻剂过滤器，就必须用光阻剂“清洗”新的光阻剂过滤器，随后才能恢复光刻操作。术语“清洗”是指光阻剂穿过光阻剂过滤器以预润湿该过滤器的过程。光阻剂过滤器的一个关键参数是“临界润湿表面张力”(CWST)，CWST确定液体(例如，光阻剂)可以流过过滤器并润湿过滤器的内部表面和外部表面的难易程度。具有差的润湿性特征的过滤器可阻碍从过滤器进行空气排出(例如，空气移除)。另外，具有差的润湿性特征的光阻剂过滤器可能需要长的清洗时间来确保光阻剂过滤器已经充分预润湿并且已经从光阻剂过滤器移除了任何捕集的空气。作为清洗过程的结果，在清洗过程中使用的光阻剂可以包括以微气泡形式被捕集的空气(例如，空气微气泡)。因为具有空气微气泡的光阻剂由于质量控制要求而不能用于光刻制程，所以该光阻剂必须被丢弃(例如，到设施排放管中)。例如，含有空气微气泡的光阻剂可导致晶圆上的图案化缺陷。在清洗过程期间，由于光阻剂中的空气微气泡，可消耗和丢弃高达约2.5L的光阻剂。因此，光阻剂过滤器替换过程可在半导体制造过程中引入显著的操作成本。

本揭示的实施例涉及可从已经用于清洗光阻剂过滤器的光阻剂中移除空气微气泡的光阻剂回收设备、系统和方法。因此，光阻剂可以满足质量控制要求，并且可以随后分配到光刻设备以在半导体制造过程期间使用。在一些实施例中，用包括“缓冲”槽的光阻剂回收设备来完成从光阻剂中移除空气微气泡。该缓冲槽可以储存用过的光阻剂(带有空气微气泡)。根据一些实施例，缓冲槽中的光阻剂可以在该槽的环境空间中释放空气微气泡。在完成空气微气泡移除过程之后，可以将光阻剂分配到光刻设备以在半导体制造制程期间使用。在一些实施例中，本文揭示的设备、系统和方法回收将被丢弃的光阻剂。此外，本揭示的实施例可以将过滤器清洗过程的持续时间从约1小时减少到约10分钟，从而显著节省时间(例如，清洗时间改善超过80％)并且提高半导体制造制程中的总生产量。

图1是根据本揭示的一些实施例的方法100的流程图，其描述了在过滤器替换操作之后的示例性光阻剂回收过程。本揭示的实施例不限于该操作描述。相反，其他操作亦在本揭示的精神和范畴内。应了解，可执行额外操作。此外，操作中的一些操作可以同时执行，或者以与图1中所示不同的顺序执行。在一些实施例中，除了当前描述的操作之外或代替当前描述的操作，亦可以执行一个或多个其他操作。出于说明性目的，参考图2的实施例描述方法100。

根据一些实施例，图2是示例性光阻剂分配系统。图2的示例性光阻剂分配系统可包括但不限于以下部件：光阻剂贮存器200、二级槽(Secondary tank)210、光阻剂回收设备275、两级泵(Two stage pump)220、过滤器230，以及设施排放管270。在图2中，光阻剂输送管线连接示例性分配系统的上述部件。

光阻剂可以储存在光阻剂贮存器200中。生产设施可包括若干光阻剂贮存器，如光阻剂贮存器200。根据图2，光阻剂贮存器可以将光阻剂供应到二级槽210，二级槽210是当光阻剂贮存器200经历替换过程时确保不间断地供应光阻剂(例如，在光阻剂分配系统内)的中间槽。二级槽210进一步流体连接到光阻剂回收设备275的所选部件。在一些实施例中，光阻剂回收设备275包括入口止回阀285、四通阀215、缓冲槽245和排放止回阀290。

光阻剂回收设备275可以流体连接到两级泵220和设施排放管270。在一些实施例中，两级泵220是光阻剂分配泵，该光阻剂分配泵可以将光阻剂分配到光阻剂设备(图2中未图示)。光阻剂分配泵可以约0.001ml的增量分配在约0.01ml与约16ml之间的光阻剂。在一些实施例中，两级泵220可以经由进料隔室220A吸取光阻剂并经由分配隔室220B将其分配到光刻设备。被容纳在两级泵220外侧的光阻剂过滤器230插置在两级泵220的进料隔室220A与分配隔室220B之间，使得当光阻剂从进料隔室220A移动到两级泵220的分配隔室220B时光阻剂可被过滤。

在一些实施例中，设施排放管270可以用作缓冲槽245的溢出路径。例如，在缓冲槽245过量填充有光阻剂的情况下，可将过量的光阻剂转移到设施排放管270。此外，设施排放管270亦可以包括已从光阻剂设备丢弃用过的光阻剂280(图2中未示)。

参考图1和图2，方法100开始于操作110，其中可将光阻剂从二级槽210转移到两级泵220。如上所述，光阻剂经由光阻剂输送管线在示例性光阻剂分配系统内流动。在操作110中，光阻剂最初穿过入口止回阀285流到四通阀215，在该四通阀中光阻剂被转移到两级泵220的进料隔室220A的入口225。在一些实施例中，四通阀215是被配置为在三个不同方向上转移进入光阻剂的流动阀。因此，四通阀215可以在光阻剂分配过程的不同阶段将光阻剂从二级槽210转移到不同方向(例如，到示例性光阻剂分配系统的不同部件)。

在图1的操作120中，使光阻剂从两级泵220流到光阻剂过滤器230(例如新的光阻剂过滤器)并返回到两级泵220以清洗过滤器(例如，预润湿过滤器并移除被捕集在过滤器中的空气)。更特别地参考图2，光阻剂从进料隔室220A穿过光阻剂过滤器230(例如，新的光阻剂过滤器)流到分配隔室220B。在操作120中，清洗光阻剂过滤器230。亦即，光阻剂过滤器230经历预润湿处理，并移除光阻剂过滤器230中捕集的空气。在一些实施例中，约2.5L的光阻剂体积流过光阻剂过滤器230以从光阻剂过滤器230移除捕集的空气。当光阻剂流过光阻剂过滤器230时，过滤器中的捕集空气溶解/分散在光阻剂中并形成空气微气泡。含有空气微气泡的光阻剂不能在光刻制程中“原样”使用，因为空气微气泡会在晶圆上形成图案化缺陷。因此，在光阻剂可用于下游光刻制程之前，必须移除光阻剂中的空气微气泡。经由排气口240将穿过光阻剂过滤器230的光阻剂引导回两级泵220的分配隔室220B。在一些实施例中，在清洗过程期间，两级泵220以类似于稍后将论述的光阻剂分配操作的泵送速度操作。

在操作130中，从过滤器230收集具有空气微气泡的光阻剂并分配到缓冲槽245中。如图2所示，可以从分配隔室220B的通风口240收集具有空气微气泡的光阻剂，并经由缓冲槽收集口250(为返回入口，Return inlet)分配到缓冲槽245中。在一些实施例中，缓冲槽245的体积大于用于根据操作120来清洗光阻剂过滤器230的光阻剂的体积。换言之，缓冲槽245的体积可为约80cc。然而，此不是限制性的，并且大于或小于80cc的缓冲槽在本揭示的精神和范畴内。

根据一些实施例，图3是缓冲槽245的横截面图。缓冲槽245包括缓冲槽收集口250、缓冲槽入口255和缓冲槽出口265。除了上述入口和出口之外，缓冲槽245亦可以配备有光阻剂液位感测器，该光阻剂液位感测器举例而言而非限制地位于缓冲槽245的侧壁上的位置H和L处。在一些实施例中，位置H朝向缓冲槽245的顶部，而位置L朝向缓冲槽245的底部并且在出口265的上方。如此，缓冲槽245中的光阻剂液位感测器可被配置为监测缓冲槽245内的光阻剂300的相应高(H)和低(L)液位。举例而言而非限制，位置L处的光阻剂感测器可被配置为当光阻剂300的液位较低(例如，低于位置L处的液位；朝向出口265)时提供警告，并且位置H处的光阻剂感测器可被配置为当光阻剂300的液位较高(例如，高于位置H处的液位；朝向缓冲槽245的顶部)时提供警告。在一些实施例中，来自光阻剂感测器的信号可用于控制缓冲槽245内的光阻剂的液位。例如，如果位置H处的光阻剂感测器发信号通知光阻剂的液位较高，则可将过量的光阻剂转移到设施排放管270。另一方面，如果位置L处的光阻剂感测器发信号通知光阻剂液位较低，则光阻剂开始流入缓冲槽245。

如图3所示的缓冲槽245上的缓冲槽收集口250、缓冲槽入口255、缓冲槽排放口260和缓冲槽出口265的位置是示例性的，而非旨在为限制性的。因此，缓冲槽245上的缓冲槽收集口250、缓冲槽入口255、缓冲槽排放口260和缓冲槽出口265的替代位置在本揭示的精神和范畴内。此外，如图3所示，位置L和H亦是示例性的而非旨在为限制性的。例如，缓冲槽245的侧壁上的位置L和H可以彼此更接近或彼此更远离，并且可以取决于缓冲槽245的尺寸以及缓冲槽排放口260和缓冲槽出口265的位置。另外，缓冲槽的形状不限于图3的图解，并且其他形状在本揭示的精神和范畴内。

在图1的操作140中，经由脱气或脱气泡制程移除光阻剂中的空气微气泡。例如，空气微气泡“移除制程”可以基于空气微气泡朝向收集的光阻剂300的表面移动并逸出到周围环境中的自然趋势。参考图3，光阻剂300内的空气微气泡经由光阻剂的顶表面释放到缓冲槽245的环境空间310内，该环境空间在光阻剂300上方。因此，经由缓冲槽出口265从缓冲槽245的底部吸出的光阻剂300是无气泡的。在一些实施例中，缓冲槽245可以耦接到真空泵，该真空泵有助于经由上述脱气或脱气泡过程移除在缓冲槽245中释放的空气。根据一些实施例，在操作140期间，缓冲槽245内的光阻剂液位保持高于位置L并且低于位置H。举例而言而非限制，光阻剂300的液位可以低于位置H并且略高于位置L，如图3所示。在一些实施例中，光阻剂300上方的大环境空间310可以防止在空气从光阻剂300释放的过程期间产生压力。出于此原因，缓冲槽245可以大于用于根据操作120清洗光阻剂过滤器230的光阻剂300的量。举例而言而非限制，缓冲槽245可以大于2.5L。在一些实施例中，从光阻剂300释放的空气可以从缓冲槽245穿过缓冲槽排放口260和排放止回阀290逸出到设施排放管270，如图2所示。根据一些实施例，在操作140结束时(或期间)，光阻剂300可以穿过缓冲槽出口265分配到光刻设备以用于光刻操作。

在一些实施例中，方法100可以是自动化方法，该自动化方法简化过滤器清洗过程、降低成本并提高生产率。例如，由于在过滤器清洗过程中使用的光阻剂可以回收并随后用于后续光刻操作中，因此可以使用较大量的光阻剂以确保光阻剂过滤器已经被充分润湿并且已经移除了捕集的空气。如果不使用方法100，则过滤器润湿过程可能涉及额外的耗时步骤，例如对二级槽210加压并降低两级泵220的泵送速度以缓慢地迫使光阻剂穿过光阻剂过滤器230。在一些实施例中，方法100可以将过滤器清洗过程的持续时间从约1小时减少到约10分钟，从而显著节省时间(例如，清洗时间改善超过80％)并且提高半导体制造制程中的总生产量。

根据一些实施例，光阻剂回收设备275的使用不限于方法100。例如，在完成方法100的操作140之后，缓冲槽245中的光阻剂没有空气微气泡，可以用于光阻剂分配操作，在所述光阻剂分配操作中光阻剂被分配到光刻设备。举例而言而非限制，图4是光阻剂回收设备275作为将光阻剂分配到光刻设备的光阻剂分配系统的一部分的示例性连接图。

参考图4并且根据一些实施例，使光阻剂从二级槽210流到光阻剂回收设备275。例如，光阻剂从二级槽210经由入口止回阀285流到四通阀215，其中光阻剂被转移到缓冲槽245的缓冲槽入口255以填充缓冲槽245，如图5所示。如上所述，缓冲槽245中的光阻剂300没有空气微气泡，因此，允许来自二级槽210的光阻剂流入缓冲槽245。参考图4，光阻剂可随后从缓冲槽245的缓冲槽出口265流回到四通阀215。四通阀215将光阻剂转移到两级泵220的进料隔室220A的两级泵入口225。光阻剂从该入口处穿过光阻剂过滤器230，该光阻剂过滤器现被预润湿并且不包含空气，并且流向两级泵220的分配隔室220B的出口235。从出口235将光阻剂分配到光刻设备400。

出于说明的目的，图4包括光阻剂分配系统的选定部分，并且亦可以包括其他部分(未图示)。未图示的图4的光阻剂分配系统的部分可包括但不限于额外的光阻剂输送管线、额外的阀、液位感测器、气泡感测器、电子设备、控制器、额外泵送系统等。例如，将缓冲槽245的缓冲槽出口265连接到四通阀215的输送管线可以配备有气泡感测器，该气泡感测器为简单起见而在图4中未图示。气泡感测器可以被配置为侦测在光阻剂分配操作期间穿过输送管线的光阻剂中空气微气泡的存在。因此，在离开缓冲槽245的光阻剂中侦测到空气微气泡的情况下，可以中断光阻剂分配操作。

图5是在到上述光刻设备400的光阻剂分配操作期间的缓冲槽245的横截面图。举例而言而非限制，在光阻剂分配操作期间，缓冲槽245可以填充有光阻剂300。例如，缓冲槽245中的光阻剂300的液位可以在位置H与位置L之间，但是更接近位置H，如图5所示。在光阻剂300的液位下降到低于位置L的情况下，位置L处的相应感测器将被触发，并且额外光阻剂可以从二级槽210流入缓冲槽245，如上所述。类似地，在光阻剂300的液位上升到高于位置H的情况下，将触发位置H处的相应感测器，并且过量的光阻剂300可以经由排放止回阀290转移到设施排放管270(在图4中图示)以防止缓冲槽245过满。

图2和图4中的示例性光阻剂分配系统具有优于其他光阻剂分配系统(例如图6所示的光阻剂分配系统)的优点。这些优点包括但不限于光阻剂成本节省和系统效率。图6的光阻剂分配系统包括光阻剂贮存器200、二级槽210、具有光阻剂过滤器230(例如，新的光阻剂过滤器)的两级泵220，以及设施排放管270。与图2和图4中描述的光阻剂分配系统不同，图6中的光阻剂分配系统不包括光阻剂回收设备，诸如光阻剂回收设备275。因此，图6的光阻剂分配系统-不同于图2和图4中所示的光阻剂分配系统-不能回收已经在新的过滤器替换过程中用过的光阻剂。

举例而言而非限制，在新光阻剂过滤器清洗过程期间，图6中的光阻剂分配系统的操作可以解释如下。二级槽210填充有来自贮存器200的光阻剂。如上所述，二级槽210是中间槽，该中间槽确保在例如填充光阻剂贮存器200被填充时不间断地供应光阻剂(例如，在光阻剂分配系统内)。光阻剂可以穿过光阻剂输送管线从二级槽210流到两级泵220的两级泵入口225。在一些情况下，将二级贮存器200用氮气加压以迫使光阻剂穿过两级泵220。该过程可能是耗时的，因为两级泵220不在光阻剂分配操作下运转，且其泵送速度被降低。如上所述，两级泵220是可以以约0.001ml的增量向光阻剂设备(在图2中未图示)分配在约0.01ml与约16ml之间的光阻剂的光阻剂分配泵。在一些实施例中，两级泵220可以经由进料隔室220A吸取光阻剂并经由分配隔室220B将该光阻剂分配到光刻设备。被容纳在两级泵220外侧的光阻剂过滤器230插置在两级泵220的两个隔室之间，使得光阻剂在从进料隔室220A移动到分配隔室220B时可被过滤或者可以清洗光阻剂过滤器230。

随后，光阻剂通过穿过在两级泵220的两个隔室(例如，220A和220B)之间的光阻剂过滤器230来清洗替换的光阻剂过滤器230。作为清洗过程的结果，光阻剂可以包含以空气微气泡形式被捕集的空气。由于下游光刻设备无法使用具有空气微气泡的光阻剂，因此必须将该光阻剂丢弃在设施排放管270中。举例而言而非限制，设施排放管270包含来自光刻设备和/或其他源(在图6中未图示)的废弃光阻剂280。例如，经由两级泵220的排气口240将用于清洗光阻剂过滤器230的光阻剂丢弃到设施排放管270。在上述新光阻剂过滤器230的清洗过程中，所使用的光阻剂的量可达约2.5L的量。此种光阻剂的使用量可不利地影响光刻成本，因为光阻剂过滤器可能需要每18个月或者甚至更短的时间更换一次，并且半导体制造设置可具有多个光阻剂过滤器要替换。

本揭示的实施例涉及可用于从用于清洗新光阻剂过滤器(例如，在两级泵中)的光阻剂中移除空气微气泡的光阻剂回收设备和方法。随后可将回收的光阻剂分配到光刻设备中。在一些实施例中，本文使用的方法可以简化过滤器清洗过程，并通过节省已经在新的过滤器清洗过程中使用的光阻剂来降低光刻成本。在一些实施例中，由于在过滤器清洗过程中使用的光阻剂可以被回收并随后用于下游光刻操作，因此可以使用较大量的光阻剂(例如，大于2.5L)来确保光阻剂过滤器已被充分调节，并且所有被捕集的空气都已被移除。根据一些实施例，本文所述的光阻剂回收设备和方法可将过滤器清洗过程的持续时间从约1小时减少至约10分钟，此在清洗时间方面改善了超过80％。

在一些实施例中，光阻剂分配系统包括光阻剂贮存器；光阻剂过滤器；以及泵，该泵被配置为将光阻剂泵送穿过光阻剂过滤器并将过滤的光阻剂分配到光刻设备。光阻剂分配系统亦包括一种光阻剂回收设备，该光阻剂回收设备包括缓冲槽；第一光阻剂通道，该第一光阻剂通道在泵的出口与缓冲槽之间；以及第二光阻剂通道，该第二光阻剂通道在缓冲槽的出口与泵的入口之间。在一些实施例中，光阻剂分配系统亦包括四通阀，四通阀被配置为将光阻剂从光阻剂贮存器转移到缓冲槽并从缓冲槽转移到泵。在一些实施例中，四通阀流体连接到光阻剂贮存器、缓冲槽和泵。在一些实施例中，光阻剂分配系统亦包括与缓冲槽流体连接的排放管。在一些实施例中，泵包括进料隔室和分配隔室。在一些实施例中，进料隔室和分配隔室各自流体连接到光阻剂过滤器。在一些实施例中，缓冲槽包括多个感测器，感测器被配置为监测缓冲槽内的光阻剂的液位。在一些实施例中，缓冲槽被配置为移除溶解在过滤的光阻剂中的空气微气泡。

在一些实施例中，一种方法包括使光阻剂流过光阻剂过滤器以移除捕集在光阻剂过滤器中的空气，其中被捕集的空气在光阻剂中形成空气微气泡；在缓冲槽中收集具有空气微气泡的光阻剂；在缓冲槽中从光阻剂移除空气微气泡；以及将没有空气微气泡的光阻剂从缓冲槽转移到光刻设备。在一些实施例中，移除空气微气泡包括使光阻剂脱气以释放光阻剂中的空气微气泡。在一些实施例中，转移没有空气微气泡的光阻剂包括：将没有空气微气泡的光阻剂从缓冲槽转移到泵；使没有空气微气泡的光阻剂再流动穿过光阻剂过滤器；以及将没有空气微气泡的光阻剂从该泵分配到光刻设备。在一些实施例中，转移没有空气微气泡的光阻剂包括使没有微气泡的光阻剂流过微气泡感测器。

在一些实施例中，一种系统包括光阻剂贮存器，该光阻剂贮存器被配置为储存光阻剂；泵，该泵被配置为将光阻剂分配到光刻设备并且包括进料隔室和分配隔室。该系统亦包括光阻剂过滤器，该光阻剂过滤器与泵的进料隔室和分配隔室流体连通；以及光阻剂回收设备，该光阻剂回收设备被配置为接收用于清洗光阻剂过滤器的光阻剂。此外，光阻剂回收设备包括缓冲槽，该缓冲槽被配置为移除所接收的光阻剂中的捕集空气；一个或多个光阻剂感测器；以及光阻剂出口，该光阻剂出口在缓冲槽的底面处。另外，光阻剂回收设备包括四通阀，该四通阀流体连接到缓冲槽和泵。在一些实施例中，光阻剂转移到泵并从缓冲槽的底面处的光阻剂出口分配到光刻设备。在一些实施例中，光阻剂回收设备亦包括真空泵，真空泵耦接到缓冲槽并且被配置为从缓冲槽中的接收的光阻剂中移除捕集的空气。在一些实施例中，一个或多个光阻剂感测器被配置为确定缓冲槽中的光阻剂的液位。在一些实施例中，一个或多个光阻剂感测器中的第一感测器位于缓冲槽的顶部部分上，并且一个或多个光阻剂感测器中的第二感测器位于缓冲槽的底部部分上。在一些实施例中，第一感测器被配置为侦测缓冲槽的上半部分的光阻剂的液位。在一些实施例中，第二感测器被配置为侦测缓冲槽的下半部分的光阻剂的液位。在一些实施例中，缓冲槽的容量为约80cc。

应当理解，具体实施方式部分而不是本揭示的摘要部分，旨在用于解释权利要求。本揭示的摘要部分可以阐述发明人所预期的本揭示的一个或多个但不是所有可能的实施例，因此并不旨在以任何方式限制所随附的权利要求。

前述揭示内容概述了若干实施例的特征，使得本领域技艺人士可以更好地理解本揭露的各方面。本领域技艺人士应当理解，他们可以容易地使用本揭露作为设计或修改其他制程和结构的基础，以实现与本文介绍的实施例相同的目的及/或实现与本文介绍的实施例相同的优点。本领域技艺人士亦应当认识到，此类等同构造不脱离本揭露的精神和范畴，并且在不脱离本揭露的精神和范畴的情况下，他们可以在本文中进行各种改变、替换和变更。

Claims (10)

1.一种光阻剂分配系统，其特征在于，所述光阻剂分配系统包括：

一光阻剂贮存器；

一光阻剂过滤器；

一泵，该泵被配置为泵送一光阻剂穿过该光阻剂过滤器并将该过滤的光阻剂分配到光刻设备；

一光阻剂回收设备，该光阻剂回收设备包括一缓冲槽；

一第一光阻剂通道，该第一光阻剂通道在该泵的一出口与该缓冲槽之间；以及

一第二光阻剂通道，该第二光阻剂通道在该缓冲槽的一出口与该泵的一入口之间。

2.根据权利要求1所述的光阻剂分配系统，其特征在于，该光阻剂分配系统亦包括一四通阀，该四通阀被配置为将该光阻剂从该光阻剂贮存器转移到该缓冲槽并从该缓冲槽转移到该泵。

3.根据权利要求2所述的光阻剂分配系统，其特征在于，该四通阀流体连接到该光阻剂贮存器、该缓冲槽和该泵。

4.根据权利要求1所述的光阻剂分配系统，其特征在于，该泵包括一进料隔室和一分配隔室。

5.根据权利要求4所述的光阻剂分配系统，其特征在于，该进料隔室和该分配隔室各自流体连接到该光阻剂过滤器。

6.一种光阻剂的回收方法，其特征在于，该方法包括：

使光阻剂流过一光阻剂过滤器以移除捕集在该光阻剂过滤器中的空气，其中该被捕集的空气在该光阻剂中形成多个空气微气泡；

在一缓冲槽中收集该具有所述多个空气微气泡的该光阻剂；

在该缓冲槽中从该光阻剂移除所述多个空气微气泡；以及

将没有空气微气泡的该光阻剂从该缓冲槽转移到一光刻设备。

7.根据权利要求6所述的光阻剂的回收方法，其特征在于，移除所述多个空气微气泡包括：使该光阻剂脱气以释放该光阻剂中的所述多个空气微气泡。

8.根据权利要求6所述的光阻剂的回收方法，其特征在于，转移没有空气微气泡的该光阻剂包括：

将没有空气微气泡的该光阻剂从该缓冲槽转移到一泵；

使没有空气微气泡的该光阻剂再流动穿过该光阻剂过滤器；以及

将没有空气微气泡的该光阻剂从该泵分配到该光刻设备。

9.根据权利要求6所述的光阻剂的回收方法，其特征在于，转移没有空气微气泡的该光阻剂包括：使没有微气泡的该光阻剂流过一微气泡感测器。

10.一种光阻剂分配系统，其特征在于，该系统包括：

一光阻剂贮存器，该光阻剂贮存器用于储存光阻剂；

一泵，该泵包括一进料隔室和一分配隔室，其中该泵被配置为将该光阻剂分配到一光刻设备；

光阻剂过滤器，该光阻剂过滤器流体连接到该泵的该进料隔室和该分配隔室；以及

一光阻剂回收设备，该光阻剂回收设备被配置为接收用于清洗该光阻剂过滤器的光阻剂，其中该光阻剂回收设备包括：

一缓冲槽，该缓冲槽被配置为移除接收的该光阻剂中捕集的空气，且包括一个或多个光阻剂感测器和位于该缓冲槽的一底面处的一光阻剂出口；以及

一四通阀，该四通阀流体连接到该缓冲槽和该泵。

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