JP2010103560A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010103560A5
JP2010103560A5 JP2010013501A JP2010013501A JP2010103560A5 JP 2010103560 A5 JP2010103560 A5 JP 2010103560A5 JP 2010013501 A JP2010013501 A JP 2010013501A JP 2010013501 A JP2010013501 A JP 2010013501A JP 2010103560 A5 JP2010103560 A5 JP 2010103560A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
power
supply
power source
exposure apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010013501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5083335B2 (ja
JP2010103560A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010013501A priority Critical patent/JP5083335B2/ja
Priority claimed from JP2010013501A external-priority patent/JP5083335B2/ja
Publication of JP2010103560A publication Critical patent/JP2010103560A/ja
Publication of JP2010103560A5 publication Critical patent/JP2010103560A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5083335B2 publication Critical patent/JP5083335B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (22)

  1. 投影光学系と、前記投影光学系と基板との間の液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、
    前記液体を供給する液体供給機構と、
    第１電源から供給される電力によって駆動する駆動部を有する液体回収機構と、
    前記第１電源とは別の第２電源と、を備え、
    前記第１電源の停電時に、前記液体供給機構による前記液体の供給が停止されるとともに、前記駆動部に対する電力の供給が前記第２電源に切り替わり、前記液体回収機構による液体回収動作が継続される露光装置。
  2. 投影光学系によりパタ−ン像を基板上に露光する露光装置であって、
    前記液体を供給する液体供給機構と、
    前記液体供給機構から供給された液体を、第１電源から供給される電力により回収する液体回収機構と、
    少なくとも前記第１電源の異常時に前記液体回収機構に電力を供給する第２電源と、を備え、
    前記異常時に、前記液体供給機構による前記液体の供給が停止されるとともに、前記第２電源からの電力供給によって前記液体回収機構による液体回収動作が継続される露光装置。
  3. 前記液体回収機構は真空系を備え、
    前記第２電源は、前記真空系の駆動部に電力を供給する請求項１又は２記載の露光装置。
  4. 前記液体回収機構は、前記基板上の液体を回収する請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
  5. 前記液体回収機構は、前記基板の外側に流出した液体を回収する請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
  6. 前記液体回収機構は、前記基板の周囲の隙間に流入した液体を回収する請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
  7. 前記第２電源は、少なくとも液体を回収しきれるまで電力の供給を継続する請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
  8. 前記第２電源から供給される電力によって駆動される、液体を検出するための液体センサを備え、
    前記液体センサの検出結果に基づいて、前記液体回収機構が駆動される請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
  9. 前記停電後に前記液体供給機構の液体供給口から排出される液体量に関する情報に基づいて、前記液体回収機構が駆動される請求項１、及び３〜８のいずれか一項記載の露光装置。
  10. 前記液体供給機構は、液体供給流路を遮断する遮断部を有し、
    前記遮断部で、前記液体供給流路を遮断することによって、前記液体供給機構による前記液体の供給が停止する請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
  11. 前記液体供給機構は、前記液体供給流路に留まっている液体を排出する排出機構を有する請求項１０記載の露光装置。
  12. 前記液体供給機構は、液体供給流路に留まっている液体を排出する排出機構を有する請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
  13. 少なくとも前記投影光学系を収納するチャンバーを備え、
    前記第１電源と第２電源との少なくとも一方を前記チャンバーの外側に配置した請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
  14. 前記第２電源により前記チャンバーに電力を供給する請求項１３記載の露光装置。
  15. 前記第１電源及び前記第２電源とは異なる第３電源により前記チャンバーに電力を供給する請求項１２記載の露光装置。
  16. 請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
  17. 投影光学系と、前記投影光学系と基板との間の液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置で用いられる液体回収装置であって
    前記基板に供給された液体を第１電源から供給される電力により回収する液体回収機構と、
    少なくとも前記第１電源の異常時に前記液体回収機構に電力を供給する第２電源と、を備え、
    前記異常時に、前記第２電源からの電力供給により前記液体回収機構による液体回収を継続する液体回収装置。
  18. 前記第２電源は、前記第１電源とともに前記液体回収機構に電力を供給する請求項１７記載の液体回収装置。
  19. 前記第２電源は、前記第１電源の電圧変動に応じて前記液体回収機構に電力を供給する請求項１８記載の液体回収装置。
  20. 投影光学系と基板との間に液体を供給し、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板にパタ−ンを露光する露光方法であって、
    前記液体を供給することと、
    第１電源から供給される電力を用いて液体回収機構により前記液体を回収することと、
    前記第１電源の異常時に、前記液体の供給を停止するとともに、前記第１電源とは異なる第２電源から供給される電力を用いて前記液体回収機構による前記液体の回収を継続することと、を含む露光方法。
  21. 前記液体回収機構は複数であり、
    前記第２電源は前記複数の液体回収機構に電力を供給する請求項２０記載の露光方法。
  22. 請求項２０又は２１記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
JP2010013501A 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 Expired - Fee Related JP5083335B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010013501A JP5083335B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003307771 2003-08-29
JP2003307771 2003-08-29
JP2004150353 2004-05-20
JP2004150353 2004-05-20
JP2010013501A JP5083335B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005513548A Division JP4492538B2 (ja) 2003-08-29 2004-08-27 露光装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011098569A Division JP5585523B2 (ja) 2003-08-29 2011-04-26 露光装置、液体除去方法、及びデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010103560A JP2010103560A (ja) 2010-05-06
JP2010103560A5 true JP2010103560A5 (ja) 2011-07-21
JP5083335B2 JP5083335B2 (ja) 2012-11-28

Family

ID=34277666

Family Applications (13)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005513548A Active JP4492538B2 (ja) 2003-08-29 2004-08-27 露光装置
JP2010013498A Expired - Fee Related JP4985790B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2010013500A Expired - Fee Related JP4985791B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2010013499A Expired - Fee Related JP5152209B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、液体回収方法、及びデバイス製造方法
JP2010013501A Expired - Fee Related JP5083335B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2011098569A Expired - Fee Related JP5585523B2 (ja) 2003-08-29 2011-04-26 露光装置、液体除去方法、及びデバイス製造方法
JP2012066146A Expired - Fee Related JP5573874B2 (ja) 2003-08-29 2012-03-22 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2013253866A Expired - Fee Related JP5821936B2 (ja) 2003-08-29 2013-12-09 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2014217253A Expired - Fee Related JP5924392B2 (ja) 2003-08-29 2014-10-24 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2015223657A Active JP6115616B2 (ja) 2003-08-29 2015-11-16 露光装置及びこれを用いるデバイス製造方法
JP2016210356A Expired - Fee Related JP6332404B2 (ja) 2003-08-29 2016-10-27 露光装置及びデバイス製造方法
JP2017238608A Pending JP2018041112A (ja) 2003-08-29 2017-12-13 露光装置
JP2018232712A Withdrawn JP2019040217A (ja) 2003-08-29 2018-12-12 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005513548A Active JP4492538B2 (ja) 2003-08-29 2004-08-27 露光装置
JP2010013498A Expired - Fee Related JP4985790B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2010013500A Expired - Fee Related JP4985791B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2010013499A Expired - Fee Related JP5152209B2 (ja) 2003-08-29 2010-01-25 露光装置、液体回収方法、及びデバイス製造方法

Family Applications After (8)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011098569A Expired - Fee Related JP5585523B2 (ja) 2003-08-29 2011-04-26 露光装置、液体除去方法、及びデバイス製造方法
JP2012066146A Expired - Fee Related JP5573874B2 (ja) 2003-08-29 2012-03-22 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2013253866A Expired - Fee Related JP5821936B2 (ja) 2003-08-29 2013-12-09 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2014217253A Expired - Fee Related JP5924392B2 (ja) 2003-08-29 2014-10-24 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2015223657A Active JP6115616B2 (ja) 2003-08-29 2015-11-16 露光装置及びこれを用いるデバイス製造方法
JP2016210356A Expired - Fee Related JP6332404B2 (ja) 2003-08-29 2016-10-27 露光装置及びデバイス製造方法
JP2017238608A Pending JP2018041112A (ja) 2003-08-29 2017-12-13 露光装置
JP2018232712A Withdrawn JP2019040217A (ja) 2003-08-29 2018-12-12 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (7) US7847916B2 (ja)
EP (3) EP1659620A4 (ja)
JP (13) JP4492538B2 (ja)
KR (6) KR101477850B1 (ja)
HK (1) HK1205281A1 (ja)
SG (4) SG10201607457PA (ja)
TW (7) TW201839806A (ja)
WO (1) WO2005022615A1 (ja)

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170018113A (ko) 2003-04-09 2017-02-15 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
JP4837556B2 (ja) 2003-04-11 2011-12-14 株式会社ニコン 液浸リソグラフィにおける光学素子の洗浄方法
TWI503865B (zh) 2003-05-23 2015-10-11 尼康股份有限公司 A method of manufacturing an exposure apparatus and an element
KR101477850B1 (ko) 2003-08-29 2014-12-30 가부시키가이샤 니콘 액체회수장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법
TWI245163B (en) 2003-08-29 2005-12-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1672682A4 (en) * 2003-10-08 2008-10-15 Zao Nikon Co Ltd SUBSTRATE TRANSPORT DEVICE AND METHOD, EXPOSURE DEVICE AND METHOD AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
KR20170024154A (ko) 2003-10-22 2017-03-06 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법, 디바이스의 제조 방법
TWI573175B (zh) 2003-10-28 2017-03-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造 方法
US7411653B2 (en) 2003-10-28 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
TWI512335B (zh) 2003-11-20 2015-12-11 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
US7394521B2 (en) * 2003-12-23 2008-07-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI505329B (zh) 2004-02-06 2015-10-21 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
US7898642B2 (en) 2004-04-14 2011-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2966670B1 (en) 2004-06-09 2017-02-22 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
JP4543767B2 (ja) * 2004-06-10 2010-09-15 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
JP3977364B2 (ja) 2004-09-03 2007-09-19 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US7180571B2 (en) * 2004-12-08 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and actuator
JP4752473B2 (ja) 2004-12-09 2011-08-17 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP4569291B2 (ja) * 2004-12-24 2010-10-27 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
JP2006222165A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Canon Inc 露光装置
US7324185B2 (en) 2005-03-04 2008-01-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2006101120A1 (ja) * 2005-03-23 2006-09-28 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2006278795A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Nikon Corp 検出装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
EP2527921A3 (en) 2005-04-28 2017-10-18 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
US8248577B2 (en) 2005-05-03 2012-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP3232270A3 (en) 2005-05-12 2017-12-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2006319242A (ja) * 2005-05-16 2006-11-24 Nikon Corp 露光装置
JP2007005525A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
JP2009515677A (ja) * 2005-11-14 2009-04-16 マイデータ オートメーション アクチボラグ 噴射装置と空気流量測定用の流量センサを使用することにより噴射装置の性能を改善する方法
US8125610B2 (en) * 2005-12-02 2012-02-28 ASML Metherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus
US20070182943A1 (en) * 2006-02-06 2007-08-09 Francis Goodwin Debris apparatus, system, and method
US7532309B2 (en) * 2006-06-06 2009-05-12 Nikon Corporation Immersion lithography system and method having an immersion fluid containment plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid
JP2007335476A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
KR100787996B1 (ko) * 2006-06-16 2007-12-21 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 상기 장치로부터 처리액을 회수하는방법
US7826030B2 (en) * 2006-09-07 2010-11-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8634053B2 (en) 2006-12-07 2014-01-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8578953B2 (en) 2006-12-20 2013-11-12 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and computer-readable storage medium
US20080198348A1 (en) * 2007-02-20 2008-08-21 Nikon Corporation Apparatus and methods for minimizing force variation from immersion liquid in lithography systems
EP2023207A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and device manufacturing method
US8681308B2 (en) 2007-09-13 2014-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8451427B2 (en) 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
JP2009094255A (ja) 2007-10-05 2009-04-30 Canon Inc 液浸露光装置およびデバイス製造方法
JP2009094254A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Canon Inc 液浸露光装置およびデバイス製造方法
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
EP2179329A1 (en) 2007-10-16 2010-04-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2009050976A1 (en) 2007-10-16 2009-04-23 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2009260264A (ja) * 2008-03-24 2009-11-05 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP5360057B2 (ja) 2008-05-28 2013-12-04 株式会社ニコン 空間光変調器の検査装置および検査方法、照明光学系、照明光学系の調整方法、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2010140958A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5246174B2 (ja) * 2010-01-25 2013-07-24 株式会社ニコン 流路形成部材、露光装置及びデバイス製造方法
JP5598972B2 (ja) * 2010-07-12 2014-10-01 セイコーエプソン株式会社 表面加工装置
JP2012049437A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板およびその製造方法
JP6171293B2 (ja) * 2012-09-13 2017-08-02 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US9643217B2 (en) * 2013-10-18 2017-05-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. In situ clean apparatus and method thereof
DE102014211567B3 (de) * 2014-06-17 2015-10-29 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Blechbearbeitungsmaschine mit einer Späneabsaugeinrichtung und Verfahren zum Erfassen einer Störung in der Späneabsaugeinrichtung
JP6340277B2 (ja) * 2014-07-18 2018-06-06 株式会社ディスコ 加工装置
JP2016181643A (ja) * 2015-03-25 2016-10-13 株式会社アマダホールディングス 半導体レーザ発振器
CN105824200B (zh) * 2016-05-31 2017-08-29 京东方科技集团股份有限公司 一种基板支撑结构及曝光机
JP6868109B2 (ja) * 2017-01-26 2021-05-12 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及びデバイスを製造する方法
CN113189849B (zh) * 2021-04-22 2023-08-11 中国科学院光电技术研究所 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组
US20230050586A1 (en) * 2021-08-13 2023-02-16 Elemental Scientific, Inc. Systems and methods for determining flow characteristics of a fluid segment for analytic determinations
CN115420751B (zh) * 2022-11-02 2023-02-10 澳诺（中国）制药有限公司 一种口服溶液剂异物自动检查装置及生产工艺

Family Cites Families (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2373642A (en) * 1943-04-28 1945-04-17 Clark Equlpment Company Pump
US4291575A (en) * 1979-06-27 1981-09-29 Allied Chemical Corporation Liquid level monitor
DD221563A1 (de) 1983-09-14 1985-04-24 Mikroelektronik Zt Forsch Tech Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur
JPH01209371A (ja) 1988-02-17 1989-08-23 Hitachi Ltd 洗浄装置
JPH01278240A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置用無停電電源
JPH0297239A (ja) * 1988-09-30 1990-04-09 Canon Inc 露光装置用電源装置
US5298939A (en) * 1991-11-04 1994-03-29 Swanson Paul A Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JPH05176461A (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 Yuasa Corp 交流電源装置
JPH05199680A (ja) * 1992-01-17 1993-08-06 Honda Motor Co Ltd 電源装置
JPH06124873A (ja) 1992-10-09 1994-05-06 Canon Inc 液浸式投影露光装置
JP2753930B2 (ja) * 1992-11-27 1998-05-20 キヤノン株式会社 液浸式投影露光装置
JP3208000B2 (ja) * 1994-03-28 2001-09-10 キヤノン株式会社 基板保持システム
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US5528118A (en) 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US5623853A (en) 1994-10-19 1997-04-29 Nikon Precision Inc. Precision motion stage with single guide beam and follower stage
JPH0921471A (ja) 1995-07-06 1997-01-21 Toyota Motor Corp チェック弁
JP2872637B2 (ja) * 1995-07-10 1999-03-17 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド マイクロ波プラズマベースアプリケータ
JP3433403B2 (ja) * 1995-10-16 2003-08-04 三星電子株式会社 ステッパのインタフェース装置
JPH1095131A (ja) 1996-09-20 1998-04-14 Seiko Epson Corp 不使用ノズルの保護方法およびインクカートリッジ
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
JP4029182B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 露光方法
JP4029183B2 (ja) 1996-11-28 2008-01-09 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
JPH10163009A (ja) 1996-11-29 1998-06-19 Taiyo Yuden Co Ltd 電圧依存非直線抵抗体の製造方法
KR100512450B1 (ko) 1996-12-24 2006-01-27 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 두개의물체홀더를가진이차원적으로안정화된위치설정장치와이런위치설정장치를구비한리소그래픽장치
JPH10211948A (ja) 1997-01-28 1998-08-11 Yoshino Kogyosho Co Ltd 液体噴出ポンプ
JP3951150B2 (ja) 1997-04-09 2007-08-01 Ｓｍｃ株式会社 サックバックバルブ
US6355397B1 (en) * 1997-04-11 2002-03-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method and apparatus for improving resist pattern developing
JP3747566B2 (ja) 1997-04-23 2006-02-22 株式会社ニコン 液浸型露光装置
JP3817836B2 (ja) * 1997-06-10 2006-09-06 株式会社ニコン 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
JP4026943B2 (ja) * 1997-09-04 2007-12-26 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
IL136037A0 (en) * 1997-11-12 2001-05-20 Nikon Corp Exposure apparatus, apparatus for manufacturing devices, and method of manufacturing exposure apparatuses
JPH11176727A (ja) * 1997-12-11 1999-07-02 Nikon Corp 投影露光装置
WO1999049504A1 (fr) 1998-03-26 1999-09-30 Nikon Corporation Procede et systeme d'exposition par projection
JPH11285167A (ja) 1998-03-27 1999-10-15 Canon Inc 半導体デバイス等の製造装置と製造方法、ならびに電力供給システム
JP2001319871A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Nikon Corp 露光方法、濃度フィルタの製造方法、及び露光装置
JP2002015978A (ja) 2000-06-29 2002-01-18 Canon Inc 露光装置
JP2002091177A (ja) 2000-09-19 2002-03-27 Hitachi Ltd 液体現像装置、そのメンテナンス方法および液体現像装置からの補充液回収方法
JP2002141278A (ja) 2000-11-07 2002-05-17 Canon Inc デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法
EP1265271A4 (en) * 2000-12-06 2006-03-15 Nikon Corp DEVICE AND METHOD FOR X-RAY PROJECTION EXPOSURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
US20020129838A1 (en) * 2001-03-15 2002-09-19 Larry Myland Substrate aspiration assembly
JP2002373852A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Canon Inc 露光装置
WO2003008102A1 (en) 2001-07-18 2003-01-30 The Regents Of The University Of Michigan Microfluidic gravity pump with constant flow rate
JP2003115451A (ja) * 2001-07-30 2003-04-18 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE10141813A1 (de) 2001-08-27 2003-05-08 Siemens Ag Datenübermittlung an Gruppen von Empfängern
AU2003256095A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-16 Bon-Gil Koo Liquid composition for protecting oral cavities and teeth of pet animals and use thereof in plaything for pet animals
US7367345B1 (en) 2002-09-30 2008-05-06 Lam Research Corporation Apparatus and method for providing a confined liquid for immersion lithography
SG121822A1 (en) * 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN101713932B (zh) * 2002-11-12 2012-09-26 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件制造方法
CN100470367C (zh) 2002-11-12 2009-03-18 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件制造方法
WO2004053955A1 (ja) * 2002-12-10 2004-06-24 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2004092830A2 (en) * 2003-04-11 2004-10-28 Nikon Corporation Liquid jet and recovery system for immersion lithography
EP1498778A1 (en) * 2003-06-27 2005-01-19 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP3862678B2 (ja) 2003-06-27 2006-12-27 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
EP1494074A1 (en) 2003-06-30 2005-01-05 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101298864B1 (ko) * 2003-07-28 2013-08-21 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법, 그리고 노광 장치의 제어 방법
US7779781B2 (en) 2003-07-31 2010-08-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101477850B1 (ko) 2003-08-29 2014-12-30 가부시키가이샤 니콘 액체회수장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법
US7411653B2 (en) 2003-10-28 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP5132374B2 (ja) 2008-03-18 2013-01-30 三洋電機株式会社 固体電解コンデンサ及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010103560A5 (ja)
JP2010118680A5 (ja)
JP2010093302A5 (ja)
SG140603A1 (en) Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP2010093298A5 (ja)
JP6266359B2 (ja) インクジェット記録装置及びそのヘッド洗浄方法
JP2010109391A5 (ja)
US9436087B2 (en) Substrate processing apparatus with a cleaning processing section for cleaning a chemical liquid processing section
JP2008262983A (ja) ダイシング方法
CN100565792C (zh) 基板处理装置
WO2015125521A1 (ja) インクジェット記録装置
JP2009042328A5 (ja)
JP2007027764A (ja) フォトスピナー設備の噴射不良制御装置
TW201632267A (zh) 液體輸送方法、液體輸送系統及電腦可讀取的記錄媒體
US20140232781A1 (en) Recording apparatus
US10688539B2 (en) Cleaning device and cleaning method implemented by the same
JP6463656B2 (ja) 水処理システム
WO2012011612A3 (en) Cleaning method, immersion exposure apparatus and device fabricating method
JP2007266211A (ja) 半導体製造装置及び半導体製造方法
JP2008284476A (ja) 異物除去装置
US20120012743A1 (en) Filter device, filter method and trace detector
TW201536582A (zh) 噴墨系統
JP2009260352A5 (ja)
WO2012011613A3 (en) Cleaning method and apparatus, and device fabricating method
JP2003017380A (ja) フォトレジスト吐出し監視装置