JP2010084150A - 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 - Google Patents
光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010084150A JP2010084150A JP2009286815A JP2009286815A JP2010084150A JP 2010084150 A JP2010084150 A JP 2010084150A JP 2009286815 A JP2009286815 A JP 2009286815A JP 2009286815 A JP2009286815 A JP 2009286815A JP 2010084150 A JP2010084150 A JP 2010084150A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- carbon atoms
- group
- polymer
- structural unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/045—Light guides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/22—Esters containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D127/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12035—Materials
- G02B2006/12069—Organic material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12166—Manufacturing methods
- G02B2006/1219—Polymerisation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【解決手段】式(1):
(式中、構造単位Mは架橋性環状エーテル構造を側鎖に有する含フッ素有機基に由来する構造単位、構造単位Aは該式(M)で示される含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である)で示され、構造単位Mを0.1〜100モル%および構造単位Aを0〜99.9モル%含み、数平均分子量が500〜1000000である硬化性含フッ素ポリマー(I)を含む、またはさらに光酸発生剤(II)を含む光学材料
【選択図】なし
Description
−(M4)−(B)− (2)
[式中、構造単位M4は式(M4):
−(M4)−(B)− (2−1)
[式中、構造単位M4は式(M4−1):
(i)−1極性基(ただし、Y1が含む架橋性環状エーテル基は除く)を有する含フッ素エチレン性単量体から誘導される構造単位。
CH2=CFCF2ORf4−Z1
(式中、Rf4およびZ1は前記と同じ)から誘導される構造単位が好ましい。
CF2=CFORf4−Z1
(式中、Rf4およびZ1は前記と同じ)から誘導される構造単位も好ましく例示でき、より具体的には、
CF2=CFCF2−O−Rf4−Z1、CF2=CF−Rf4−Z1、
CH2=CH−Rf4−Z1、CH2=CHO−Rf4−Z1
(式中、Rf4およびZ1は前記と同じ)などがあげられ、より具体的には、
この構造単位(ii)は含フッ素ポリマー(I)またはその硬化物の屈折率を低くしかつ透明性をより一層高く維持できる点で好ましい。また単量体を選択することでポリマーの機械的特性やガラス転移温度などを調整でき、特に構造単位Mと共重合してガラス転移点を高くすることができる点で、好ましいものである。
この構造単位(iii)を導入すると、透明性を高くでき、また、より近赤外透明性を高めることが可能となり、さらに高ガラス転移温度の含フッ素ポリマー(I)が得られ、硬化物にさらなる高硬度化が期待できる点で好ましい。
近赤外透明性を悪化させない範囲でフッ素を含まないエチレン性単量体から誘導される構造単位(iv)を導入してもよい。
αオレフィン類:
エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
ビニルエーテル系またはビニルエステル系単量体:
CH2=CHOR、CH2=CHOCOR(R:炭素数1〜20の炭化水素基)など
アリル系単量体:
CH2=CHCH2Cl、CH2=CHCH2OH、CH2=CHCH2COOH、CH2=CHCH2Brなど
アリルエーテル系単量体:
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類のほか、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸エステル類など
などがあげられる。これらの非フッ素系エチレン性単量体の水素原子を重水素原子に置換したものは透明性の点でより好ましい。
構造単位Mの共重合成分として、より好ましくは構造単位Mと前述の含フッ素エチレン性単量体または非フッ素エチレン性単量体(前述の(iii)、(iv))の構造単位に加えて、第3成分として脂環式単量体構造単位(v)を導入してもよく、それによって高ガラス転移温度化や高硬度化が図られる。
(a)Y1を有する単量体を予め合成し、単独重合または共重合して得る方法
(b)一旦、他の官能基を有する重合体を合成し、その重合体に高分子反応により官能基変換し、官能基Y1を導入する方法
のいずれの方法も採用できる。
−(M4)−(B)− (2)
[式中、構造単位M4は式(M4):
−(M4)−(B)− (2−1)
[式中、構造単位M4は式(M4−1):
(a)硬化性含フッ素ポリマー(I)および
(b)光酸発生剤(II)
とからなる。
ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩など
メタロセン系化合物:
鉄アレーン錯体など
スルホン化合物:
β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物など
スルホン酸エステル類:
アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネートなど
その他:
スルホンイミド化合物類、ジアゾメタン化合物類など
などがあげられる。
ベンゾトリフルオライド、パーフルオロベンゼン、パーフルオロ(トリブチルアミン)、ClCF2CFClCF2CFCl2などがあげられる。
(a)グリシジルエーテルタイプ
(b)グリシジルアミンタイプ
(c)グリシジルエステルタイプ
(d)オレフィン酸化(脂環式)タイプ
がある。
[A]2官能繰り返し構造型と
[B]多官能繰り返し構造型と
[C]多官能単量体型
の3種類に大別できる。
ショーウインドーのガラス、ショーケースのガラス、広告用カバー、フォトスタンド用のカバーなどに代表される透明な保護版;
CRT、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、背面投写型ディスプレイなどの保護板;
光磁気ディスク、CD・CD−R・CD−RW・LD・DVDなどの光ディスク、PDなどの相転移型光ディスクなどに代表される光記録媒体;
フォトレジスト、フォトマスク、ペリクル、レチクルなどの半導体製造時のフォトリソグラフィー関連部材;
ハロゲンランプ、蛍光灯、白熱電灯などの発光体の保護カバー;
上記物品に貼り付けるためのシートまたはフィルム。
1H−NMR測定条件:300MHz(テトラメチルシラン=0ppm)
19F−NMR測定条件:300MHz(トリクロロフルオロメタン=0ppm)
(2)IR分析:PERKIN ELMER社製フーリエ変換赤外分光光度計1760Xで室温にて測定。
撹拌装置および温度計を備えた500mlのガラス製四ツ口フラスコに、パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)200gと水2ml、エピクロロヒドリン114gを入れ、60℃に加熱した。この溶液にNaOHをペレットで10回に分けて加えた後、反応液を80℃まで加熱し6時間反応させた。
5.15〜4.90(2H,m)、4.05〜3.85(2H,m)、3.85〜3.75(1H,m)、3.38〜3.25(1H,m)、2.98〜2.92(1H,m)、2.68〜2.57(1H,m)、2.45〜2.38(1H,m)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−72.6〜−73.0(2F,m)、−79.4〜−81.6(8F,m)、−124.0〜−124.4(1F,m)、−132.8〜−133.2(1F,m)、−145.1〜−145.6(1F,m)
IR分析データ(cm-1):
1695(υC=C)
撹拌装置と温度計と滴下ロートを備えた500mlのガラス製四ツ口フラスコに、パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)150gと水15g、テトラブチルアンモニウムブロマイド(TBAB)2.9g、3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(BrMMO)72.8gを入れ、75℃に加熱した。この溶液に滴下ロートから45重量%のNaOH溶液36gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応液を90℃まで加熱し5時間反応させた。
5.26〜5.05(2H,m)、4.38(2H,d)、4.25(2H,d)、4.08〜3.96(2H,m)、3.60〜3.58(2H,m)、1.23(3H,s)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−72.4〜−73.2(2F,m)、−79.8〜−81.3(8F,m)、−124.1〜−124.3(1F,m)、−132.3〜−133.4(1F,m)、−145.5〜−145.2(1F,m)
IR分析データ(cm-1):
1695(υC=C)
撹拌装置と温度計を備えた50mlのガラス製四ツ口フラスコに合成例1で合成したグリシジル基含有含フッ素アリルエーテル(m1)10.0gとHFC−365(CF3CH2CF2CH3)8gの溶液に
撹拌装置と温度計を備えた50mlのガラス製四ツ口フラスコに、実施例1で合成したオキセタニル基含有含フッ素アリルエーテル(m2)5.0gとHCFC−141b(CH3CCl2F)1.25gと
バルブ、圧力ゲージおよび温度計を備えた100ml内容量のステンレススチール製オートクレーブに、合成例1で合成したグリシジル基含有含フッ素アリルエーテル(m1)10.0gとHCFC−141b8.0gとジノルマルプロピルパーオキシカーボネート(NPP)の50重量%メタノール溶液0.10gを入れ、ドライアイス/メタノール溶液で冷却しながら系内をチッ素ガスで充分置換した。ついでバルブからテトラフルオロエチレン(TFE)を2.9g仕込み、40℃にて振とうさせながら重合を行なった。
バルブ、圧力ゲージおよび温度計を備えた100ml内容量のステンレススチール製オートクレーブに、合成例2で合成したオキセタニル基含有含フッ素アリルエーテル(m2)10.0gとHCFC−141b8.0gとジノルマルプロピルパーオキシカーボネート(NPP)の50重量%メタノール溶液0.10gを入れ、ドライアイス/メタノール溶液で冷却しながら系内をチッ素ガスで充分置換した。ついでバルブからテトラフルオロエチレン(TFE)を3.0g仕込み、40℃にて振とうさせながら重合を行なった。
(1)反射防止膜用材料の調製
合成例2で得たグリシジル基を有する含フッ素ポリマーのジエチルエーテル溶液にメチルイソブチルケトン(MIBK)を加え希釈し、ポリマー濃度を5.0重量%に調整した。
上記(1)で得た反射防止膜用材料を表面未処理のアクリル板上にスピンコーターにより室温でコートし、室温で5分間真空乾燥した。この際、乾燥後の膜厚が90〜110nmとなるように、スピンコーターの回転数を調整した(1000〜2000回転)。
○:塗布ムラがない。
△:一部に塗布ムラが認められる。
×:塗布できない。
合成例2で得たグリシジル基を有する含フッ素ポリマーのジエチルエーテル溶液をアプリケーターを用いスライドグラス上に乾燥後の膜厚が約50μmとなるように塗布し、室温で30分間真空乾燥後、アッベ屈折率計を用いて25℃で589nmの波長の光について屈折率(硬化前)を測定した。結果を表1に示す。
上記(3)と同様にしてサンプル被膜を作製した後、(2)と同様にして光照射した。得られた硬化被膜について上記(3)と同様にして屈折率(硬化後)を測定した。結果を表1に示す。
上記(2)で得た反射防止膜を施したアクリル板を5°正反射ユニットを装着した可視紫外分光器にセットし、波長589nmの光について反射率を測定した。結果を表1に示す。
上記(2)で得た反射防止膜について以下の表面物性の評価を行なった。結果を表1に示す。
JIS K5400に従って測定した。
酢酸エチルを含浸させた綿布で塗膜表面を擦った後の塗膜表面の状態(溶解または剥離)を目視で観察した。
○:変化なし、
△:一部溶解または剥離あり、
×:溶解または剥離あり
とした。
60℃の2NのKOH水溶液に1分間漬け、そのときの膜の状態を目視で観察し、硬度を(i)の鉛筆硬度で比較した。
○:変化なし、
△:塗膜の劣化および硬度の低下がみられる、
×:膜が剥離し、下地が見えている部分がある
とした。
上記(1)で作製した反射防止膜用材料を縦50.0mm、横10.0mmの型に流し込み、真空下に10時間乾燥して、1.0mm(厚さ)×50mm×10mmのサンプルを作製する。このサンプルについて上記(2)と同様の条件で紫外線を照射して硬化させ、硬化後の寸法を測定して体積を算出し、体積収縮率を求める。
(v)透明性(紫外領域での)
合成例2で得た含フッ素ポリマーの約1mm厚のフィルムを石英ガラス板に挟み、自記分光光度計((株)日立製作所製のU−3310。商品名)を用いて、波長250nmおよび380nmにおける透過率を測定した。結果を表1に示す。
実施例1の(1)において含フッ素ポリマーとして実施例2で得たオキセタニル基を有する含フッ素ポリマーを使用したほかは同様にして反射防止膜用材料を調製した。ついで実施例4の(2)と同様に反射防止膜を作製し、(3)硬化前の屈折率の測定、(4)硬化膜の屈折率の測定、(5)片面反射率の測定(6)反射防止膜の物性評価を行なった。結果を表1に示す。
実施例4の(1)で得た反射防止膜用材料に架橋剤として式:
撹拌装置、温度計と滴下ロートを備えた100mlのガラス製四ツ口フラスコに、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7、−ドデカフルオロオクタン−1,8−ジオール2.0gとテトラブチルアンモニウムブロマイド(TBAB)0.06g、3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(BrMMO)2.0gを入れ、75℃に加熱した。この溶液に滴下ロートから40重量%のKOH溶液1.7gをゆっくり加えた。滴下後、反応液を90℃まで加熱し、5時間反応させた。
4.48(4H,d)、4.36(4H,d)、3.96(4H,t)、3.66(4H,s)、1.31(6H,s)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−119.5〜−120.3(4F,m)、−122.3〜−123.3(4F,m)、−123.8〜−124.5(4F,m)
実施例4の(1)で得た反射防止膜用材料に架橋剤として実施例9で合成した2官能オキセタン架橋剤2をポリマーに対して0.3当量(実施例10)、0.5当量(実施例11)および1.0当量(実施例12)となるように添加した。それぞれの反射防止膜用材料を用いて、実施例4の(2)と同様に反射防止膜を作製し、(3)硬化前の屈折率の測定、(4)硬化膜の屈折率の測定、(5)片面反射率の測定(6)反射防止膜の物性評価を行なった。結果を表2に示す。
合成例2で合成したグリシジル基を有する含フッ素アリルエーテルポリマーのグリシジル基がα−フルオロアクリロイル基に変わった含フッ素ポリマーのメチルエチルケトン(MEK)溶液に、さらにMEKを加えて希釈しポリマー濃度を5.0重量%に調整した。
カチオン硬化性樹脂であるアデカオプトマーKRM−2410(商品名。旭電化工業(株)製)にMIBKを加え希釈し、ポリマー濃度を10.0重量%に調整した。
(1)光導波路用材料の調製
合成例2で得たグリシジル基を有する含フッ素ポリマーのジエチルエーテル溶液にMIBKを加え希釈し、ポリマー濃度を50重量%に調整した。
上記(1)で調製した光導波路用材料(含フッ素プレポリマーの50%エーテル溶液)をアプリケーターを用いてポリエステルフィルム上に乾燥後膜厚が所定の厚さになるように塗布し、50℃で10分間真空乾燥後、得られたキャスト膜をポリエステルフィルムから剥離し、膜厚が約1mmおよび約100μmの未硬化のフィルムの形で光導波路用材料を作製した。
上記(2)で作製したフィルムを乾燥後、そのフィルムに高圧水銀灯を用い、室温にて1500mJ/cm2の強度で紫外線を照射して、光硬化して硬化フィルムを得た。
得られた硬化フィルムに関して以下の物性の評価を行なった。
自記分光光度計((株)日立製作所製のU−3410)を用いて、波長300〜1700nmにおける約1mm厚のサンプル(硬化フィルム)の分光透過率曲線を測定した。得られたスペクトルより、吸光係数の値を下式に従って算出した。
吸光度係数=吸光度/サンプルの厚さ(mm)
アッベ屈折計を用い約100μm厚のサンプル(硬化前と硬化後フィルム)について25℃で589nmの波長の光における屈折率を測定した。結果を表3に示す。
示差熱熱量計((株)島津製作所製のDSC−50)を用い、昇温速度10℃/分の条件で熱的特性を測定したところ、いずれのフィルムにも明確な結晶融点ピークが観察されず、非晶性であった。
厚さ約1mmの硬化フィルムをアセトン中で室温にて24時間保持した後の状態を目視で観察し、つぎの基準で評価した。結果を表3に示す。
○:外観に変化が認められない。
×:アセトン中に溶解した。
厚さ約1mmの硬化フィルムを150℃にて8時間保持した後の形状変化の有無を目視で観察し、つぎの基準で評価した。結果を表3に示す。
○:外観に変化が認められない。
×:フィルムが最初の形状を維持できなかった。
JIS K6911に準じ、85℃×85%RHでの120時間放置後の吸湿率を求める。
実施例13の(1)において含フッ素ポリマーとして実施例2で得たオキセタニル基を有する含フッ素ポリマーを使用したほかは同様にして光導波路用材料を調製した。ついで、実施例13の(2)〜(4)と同様にして光導波路用材料のフィルム作製、光照射による硬化フィルムの作製および硬化フィルムの物性測定を行なった。結果を表3に示す。
カチオン硬化性樹脂であるアデカオプトマーKRM−2410(商品名。旭電化工業(株)製)にMIBKを加え希釈し、ポリマー濃度を10.0重量%に調整した。
撹拌装置と温度計を備えた30mlのガラス製四ツ口フラスコに、合成例1で合成したグリシジル基含有含フッ素アリルエーテル5.0gとHFC−365(CF3CH2CF2CH3)15gの溶液を入れ、次に、
撹拌装置および温度計を備えた200mlのガラス製四ツ口フラスコに、パーフルオロ−(1,1,6,6−テトラハイドロ−2−トリフルオロメチル−3−オキサヘキサノール)40gと水0.4ml、エピクロロヒドリン38gを入れ、60℃に加熱した。この溶液にNaOH7.3gをペレットで5回に分けて加えた後、反応液を70℃まで加熱し4時間反応させた。
5.15〜4.90(2H,m)、4.05〜3.82(2H,m)、3.82〜3.70(1H,m)、3.38〜3.25(1H,m)、2.98〜2.92(1H,m)、2.68〜2.57(1H,m)、2.45〜2.38(1H,m)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−75.4〜−72.8(2F,m)、−83.2(3F,s)、−123.3〜−122.8(1F,m)、−133.5〜−133.0(1F,m)
IR分析データ(cm-1):
1695(υC=C)
撹拌装置と温度計を備えた10mlのガラス製四ツ口フラスコに、合成例1で合成したグリシジル基含有含フッ素アリルエーテル4.0gとHFC−365(CF3CH2CF2CH3)4gの溶液に
撹拌装置と温度計を備えた50mlのガラス製四ツ口フラスコを用いて、パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)を重合して得た重合物5gを酢酸プロピル13gに溶解させ、窒素置換した。この溶液にピリジン1.2mlを加え、反応器を氷浴で冷やした。この溶液に滴下漏斗から3−シクロヘキセン酸クロライド1.93g/酢酸プロピル3gの混合溶液をゆっくり加えた。滴下後、6.5時間反応させた。反応後、反応液を飽和重曹水中に放ち、飽和重曹水で2回、1N塩酸で2回、飽和食塩水で2回洗浄し、この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過により硫酸マグネシウムを分離した。その結果、12.7wt%のポリマー溶液が40.6g得られた。
撹拌装置と温度計を備えた50mlのガラス製四ツ口フラスコを用いて、パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)を重合して得た重合物5gを酢酸プロピル15gに溶解させ、窒素置換した。この溶液にピリジン1.2mlを加え、反応器を氷浴で冷やした。この溶液に滴下漏斗からジシクロペンタジエンとα−フルオロアクリロイルフルオライドから合成した2−フルオロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2−カルボン酸フルオライド2.1g/酢酸プロピル5gの混合溶液をゆっくり加えた。滴下後、3時間反応させた。反応後、反応液を飽和重曹水中に放ち、飽和重曹水で2回、1N塩酸で2回、飽和食塩水で2回洗浄し、この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過により硫酸マグネシウムを分離した。その結果、16.7wt%のポリマー溶液が32.6g得られた。
撹拌装置および温度計を備えた500mlのガラス製四ツ口フラスコを十分に窒素置換し、THF180mlにNaH7.6gを懸濁させた。この溶液に滴下漏斗よりパーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)71gを入れ、滴下後、室温下で2時間攪拌した。次に、この溶液に3−ブロモシクロヘキセン33.4gを滴下漏斗より加え、24時間反応させた。
5.91〜5.62(2H,m)、5.12〜5.03(2H,m)、4.01〜3.85(3H,m)、2.10〜1.41(4H,m)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−72.4〜−73.0(2F,m)、−79.4〜−81.7(8F,m)、−124.0〜−124.1(1F,m)、−133.4〜−133.9(1F,m)、−145.0〜−145.7(1F,m)
IR分析データ(cm-1):
1695(υC=C)
撹拌装置および温度計を備えた500mlのガラス製四ツ口フラスコを用いて、タングステン酸ナトリウム2水和物1.1gに30%過酸化水素水15.0gを加え、黄色溶液を作成した。この溶液に80%燐酸を加え、pHを約2に調整した。さらに、この溶液に、滴下漏斗より合成例7で合成したシクロヘキセニル基を有するモノマー32gとトリオクチルメチルアンモニウムクロライド1.1gをトルエン90mlに希釈した溶液を滴下した。滴下後、50℃で10時間攪拌した。
5.12〜5.03(2H,m)、4.10〜3.95(2H,m)、3.74〜3.64(1H,m)、3.19〜3.13(1H,m)、3.04〜2.98(1H,m)、2.00〜1.05(6H,m)
19F−NMR分析データ(δ(ppm)CDCl3中、R−11内部標準):
−72.4〜−73.0(2F,m)、−79.4〜−81.7(8F,m)、−124.0〜−124.
IR分析データ(cm-1):
1695(υC=C)
撹拌装置と温度計を備えた50mlのガラス製四ツ口フラスコを用いて、実施例17で合成した7−オキサ−ビシクロ[4.1.0]ヘプタニル基含有含フッ素アリルエーテル5.0gとHFC−365(CF3CH2CF2CH3)5.0gの溶液に
合成例2で得たグリシジル基を有する含フッ素ポリマーの代わりに合成例4および6で得たエポキシ基を有する含フッ素ポリマーを用いた他は実施例4と同様にして(1)反射防止膜用材料の調製を行い、これを用いて(2)反射防止膜の作製、(3)含フッ素硬化性ポリマーの屈折率の測定、(4)硬化膜の屈折率の測定(5)片面反射率の測定(6)反射防止膜の物性評価(体積収縮および透明性を除く)を行った。結果を表4に示す。
合成例2で得たグリシジル基を有する含フッ素ポリマーの代わりに実施例15、16および18で得たエポキシ基を有する含フッ素ポリマー用いた他は実施例4と同様にして(1)反射防止膜用材料の調製を行い、これを用いて(2)反射防止膜の作製、(3)含フッ素硬化性ポリマーの屈折率の測定、(4)硬化膜の屈折率の測定(5)片面反射率の測定(6)反射防止膜の物性評価(体積収縮および透明性を除く)を行った。結果を表4に示す。
実施例20〜23の(1)で得た反射防止膜用材料に架橋剤として式:
実施例20〜23の(1)で得た反射防止膜用材料に架橋剤として実施例9で合成した2官能オキセタン架橋剤2をポリマーに対して0.3当量となるように添加した。それぞれの反射防止膜用材料を用いて、実施例4の(2)と同様に反射防止膜を作製し、(3)硬化前の屈折率の測定、(4)硬化膜の屈折率の測定、(5)片面反射率の測定(6)反射防止膜の物性評価(体積収縮および透明性を除く)を行なった。結果を表6に示す。
コア部用材料として実施例14で調製した光導波路用材料を用い、クラッド部用材料として合成例3で合成した含フッ素ポリマーを用いて光導波路を作製した。
(深紫外レンズ用封止部材(充填材))
実施例4で調製した反射防止膜用材料から、溶媒を40℃にて減圧溜去し、これを封止部材として用いた。レンズ部材としては、図3に示すように、石英ガラスからなるレンズ部材L1およびレンズ部材L2を用いた。レンズ部材L1とレンズ部材L2との間に封止部材8をはさみ、40℃に加温しながら封止部材の厚みが1μmになるようにプレスした。これに、高圧水銀灯を用い室温にて、レンズ面に対して垂直方向から1500mJ/cm2の強度で矢印で示す方向に紫外線照射を行い、封止部材を光硬化させた。
実施例4で調整した反射防止膜用材料から溶媒を40℃にて減圧溜去し、これを封止部材として用いた。図4に示すように、有機EL素子10は透明なガラス基板9上に形成し、その発光面がガラス基板側に向けた状態にある物を用いた。封止用の金属缶11は凹形状をなしており、有機EL素子の本体部の大きさに対応している。窒素を循環させたグローブボックス中で、有機EL素子が形成されたガラス基板9と金属缶11との接着部に本発明の封止部材12を挟み、封止部材の厚みが100μmとなるようにプレスした。これを窒素雰囲気下で透明ガラス基板面の垂直方向からUVを2000mJ/cm2照射して硬化させた。
Claims (4)
- 式(2):
−(M4)−(B)− (2)
[式中、構造単位M4は式(M4):
- 式(2−1):
−(M4)−(B)− (2−1)
[式中、構造単位M4は式(M4−1):
- 式(3):
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009286815A JP5293588B2 (ja) | 2002-08-13 | 2009-12-17 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002235924 | 2002-08-13 | ||
JP2002235924 | 2002-08-13 | ||
JP2009286815A JP5293588B2 (ja) | 2002-08-13 | 2009-12-17 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004528850A Division JP4604719B2 (ja) | 2002-08-13 | 2003-08-07 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010084150A true JP2010084150A (ja) | 2010-04-15 |
JP5293588B2 JP5293588B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=31884392
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004528850A Expired - Fee Related JP4604719B2 (ja) | 2002-08-13 | 2003-08-07 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
JP2009286815A Expired - Fee Related JP5293588B2 (ja) | 2002-08-13 | 2009-12-17 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004528850A Expired - Fee Related JP4604719B2 (ja) | 2002-08-13 | 2003-08-07 | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050265685A1 (ja) |
EP (1) | EP1548062B1 (ja) |
JP (2) | JP4604719B2 (ja) |
KR (1) | KR100792096B1 (ja) |
CN (1) | CN100393797C (ja) |
AT (1) | ATE527313T1 (ja) |
AU (1) | AU2003254841A1 (ja) |
TW (1) | TWI250999B (ja) |
WO (1) | WO2004016689A1 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101900941A (zh) * | 2010-08-12 | 2010-12-01 | 吉林大学 | 高含氟负性光刻胶及其在聚合物光波导器件中的应用 |
JP2012215540A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-11-08 | Nitto Denko Corp | Sprセンサセルおよびsprセンサ |
JP2014016357A (ja) * | 2011-03-28 | 2014-01-30 | Nitto Denko Corp | Sprセンサセルおよびsprセンサ |
JP2015092210A (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP2015091910A (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
WO2015079785A1 (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 日東電工株式会社 | 光導波路ならびに該光導波路を用いたsprセンサセルおよび比色センサセル |
WO2020080523A1 (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素エラストマー、架橋性組成物および成形品 |
WO2020230715A1 (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 住友化学株式会社 | 電子部品及びその製造方法 |
JP2020191440A (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-26 | 住友化学株式会社 | 電子部品及びその製造方法 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7561774B2 (en) * | 2003-03-12 | 2009-07-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Optical waveguide |
US7275397B2 (en) * | 2004-05-21 | 2007-10-02 | Corning Incorporated | Method of molding a silica article |
JP4524150B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルムの製造方法 |
JP4600054B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2010-12-15 | 宇部興産株式会社 | ビフェニル誘導体の製法 |
WO2006099380A2 (en) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Photoimageable, thermosettable fluorinated resists |
WO2008123303A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素体積型ホログラム光情報記録材料用組成物およびそれを用いた含フッ素体積型ホログラム光情報記録媒体 |
JPWO2008123302A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2010-07-15 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素体積型ホログラム記録用感光性組成物ならびにそれを用いた含フッ素体積型ホログラム記録用感光性媒体および含フッ素体積型ホログラム |
JP5224130B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-07-03 | ナガセケムテックス株式会社 | 撥液性樹脂組成物 |
JP2010180362A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Asahi Kasei Corp | 多官能エポキシポリマーの製造方法 |
US8512935B2 (en) | 2009-05-08 | 2013-08-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Functionalized perfluoropolyether material as a hydrophobic coating |
CN102482473A (zh) * | 2009-08-20 | 2012-05-30 | 旭硝子株式会社 | 光固化性含氟聚合物组合物 |
JP5425141B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2014-02-26 | 日東電工株式会社 | Sprセンサセルおよびsprセンサ |
FR2973367B1 (fr) * | 2011-03-30 | 2020-02-21 | Saint Gobain Technical Fabrics Europe | Fil de verre pourvu d'un revetement a base de polymere et ecran contenant ledit fil. |
US11635688B2 (en) | 2012-03-08 | 2023-04-25 | Kayaku Advanced Materials, Inc. | Photoimageable compositions and processes for fabrication of relief patterns on low surface energy substrates |
JP5905325B2 (ja) * | 2012-04-25 | 2016-04-20 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用エポキシ樹脂組成物および光導波路形成用硬化性フィルム、ならびに光伝送用フレキシブルプリント基板、およびその製法 |
JP2014052525A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Nitto Denko Corp | ポリマー光導波路の製造方法 |
CN104813232A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-07-29 | 纳幕尔杜邦公司 | 包含具有其上设置可成像的可交联含氟聚合物膜的基板的可成像制品,以及由其制备的成像制品 |
CN103013287B (zh) * | 2012-11-23 | 2015-04-22 | 中科院广州化学有限公司 | 一种含氟环氧型复合阳离子光固化涂料及制备方法和应用 |
JP5737466B1 (ja) * | 2013-08-02 | 2015-06-17 | ダイキン工業株式会社 | 重合性官能基及び架橋性官能基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する含フッ素重合体を含む組成物及び塗装物品 |
EP3152620B1 (en) | 2014-06-03 | 2018-08-01 | The Chemours Company FC, LLC | Passivation layer comprising a photocrosslinked fluoropolymer |
KR102237112B1 (ko) | 2014-07-30 | 2021-04-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 이를 구비한 광원 모듈 |
JPWO2016035823A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2017-06-15 | 国立大学法人九州大学 | 低抵抗クラッド材料及び電気光学ポリマー光導波路 |
CN106397649A (zh) * | 2015-07-28 | 2017-02-15 | 上海交通大学 | 含氟共聚物及其组合物、具有微棱镜阵列的聚合物的制备方法 |
CN106187953B (zh) * | 2016-07-29 | 2018-06-29 | 湖北固润科技股份有限公司 | 一种阳离子聚合单体及合成和应用 |
CN109581586B (zh) * | 2019-01-10 | 2021-03-23 | 上海理工大学 | 一种结构紧凑型氮化硅波分复用光子芯片 |
JP7315695B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2023-07-26 | 三井化学株式会社 | 積層体、積層体の製造方法、防曇膜形成用組成物、防曇膜及び防曇膜形成用組成物セット |
CN114907290B (zh) * | 2021-02-07 | 2023-11-28 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种低折射率的含氟环氧树脂及其合成方法和应用 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002018457A1 (fr) * | 2000-08-29 | 2002-03-07 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymère durcissable, composition de résine durcissable le contenant, et film antireflet |
JP3291733B2 (ja) * | 1994-06-09 | 2002-06-10 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィン,含フッ素重合体,およびその重合体を用いた熱可塑性樹脂組成物 |
WO2011065154A1 (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
WO2011065155A1 (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
JP2012214754A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Daikin Industries Ltd | 光学素子封止用含フッ素樹脂組成物、及び、硬化物 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09157578A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-06-17 | Daikin Ind Ltd | 含フッ素塗料用材料およびそれを用いた被覆方法 |
DE19542501A1 (de) * | 1995-11-15 | 1997-05-22 | Bayer Ag | Peroxidisch vernetzbare Fluorkautschuke, ein Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
JP4378786B2 (ja) * | 1998-04-30 | 2009-12-09 | Jsr株式会社 | 反射防止膜 |
DE69941954D1 (de) * | 1998-07-09 | 2010-03-11 | Jsr Corp | Oxetanderivate, oxetancopolymer, und verfahren zur herstellung von oxetanderivaten |
JP4200548B2 (ja) * | 1998-07-09 | 2008-12-24 | Jsr株式会社 | オキセタン化合物およびその製造方法 |
US6790587B1 (en) * | 1999-05-04 | 2004-09-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated polymers, photoresists and processes for microlithography |
AU2001244719A1 (en) * | 2000-04-04 | 2001-10-15 | Daikin Industries Ltd. | Novel fluoropolymer having acid-reactive group and chemical amplification type photoresist composition containing the same |
TW588221B (en) * | 2000-09-07 | 2004-05-21 | Shinetsu Chemical Co | Polymers, resist compositions and patterning process |
CN1216304C (zh) * | 2001-03-08 | 2005-08-24 | 大金工业株式会社 | 含氟光导用材料 |
JP2002372601A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルムおよび画像表示装置と含フッ素共重合体 |
KR100486245B1 (ko) * | 2001-12-19 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 하이드레이트 구조를 가지는 플루오르 함유 감광성 폴리머및 이를 포함하는 레지스트 조성물 |
US6911509B1 (en) * | 2004-02-17 | 2005-06-28 | The Penn State Research Foundation | Functional fluoropolymers and process therefor |
-
2003
- 2003-08-07 US US10/524,259 patent/US20050265685A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-07 KR KR1020057002232A patent/KR100792096B1/ko active IP Right Grant
- 2003-08-07 WO PCT/JP2003/010038 patent/WO2004016689A1/ja active Application Filing
- 2003-08-07 JP JP2004528850A patent/JP4604719B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-07 AU AU2003254841A patent/AU2003254841A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-07 AT AT03788052T patent/ATE527313T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-08-07 EP EP03788052A patent/EP1548062B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-08-07 CN CNB038192632A patent/CN100393797C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-12 TW TW092122168A patent/TWI250999B/zh not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-12-17 JP JP2009286815A patent/JP5293588B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3291733B2 (ja) * | 1994-06-09 | 2002-06-10 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィン,含フッ素重合体,およびその重合体を用いた熱可塑性樹脂組成物 |
WO2002018457A1 (fr) * | 2000-08-29 | 2002-03-07 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymère durcissable, composition de résine durcissable le contenant, et film antireflet |
WO2011065154A1 (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
WO2011065155A1 (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
JP2012214754A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Daikin Industries Ltd | 光学素子封止用含フッ素樹脂組成物、及び、硬化物 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101900941A (zh) * | 2010-08-12 | 2010-12-01 | 吉林大学 | 高含氟负性光刻胶及其在聚合物光波导器件中的应用 |
JP2012215540A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-11-08 | Nitto Denko Corp | Sprセンサセルおよびsprセンサ |
JP2014016357A (ja) * | 2011-03-28 | 2014-01-30 | Nitto Denko Corp | Sprセンサセルおよびsprセンサ |
US9696621B2 (en) | 2013-11-08 | 2017-07-04 | Nitto Denko Corporation | Optical waveguide photosensitive resin composition including a diaryliodonium cation-based photoacid generator, photocurable film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide using same, and mixed flexible printed circuit board for optical/electrical transmission |
JP2015091910A (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
WO2015068592A1 (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
WO2015068594A1 (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP2015092210A (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
US9857504B2 (en) | 2013-11-08 | 2018-01-02 | Nitto Denko Corporation | Optical waveguide photosensitive resin composition, photocurable film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide using same, and mixed flexible printed circuit board for optical/electrical transmission |
WO2015079785A1 (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 日東電工株式会社 | 光導波路ならびに該光導波路を用いたsprセンサセルおよび比色センサセル |
WO2020080523A1 (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素エラストマー、架橋性組成物および成形品 |
JPWO2020080523A1 (ja) * | 2018-10-18 | 2021-09-02 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素エラストマー、架橋性組成物および成形品 |
CN115449008A (zh) * | 2018-10-18 | 2022-12-09 | 大金工业株式会社 | 含氟弹性体、交联性组合物和成型品 |
JP7235989B2 (ja) | 2018-10-18 | 2023-03-09 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素エラストマー、架橋性組成物および成形品 |
CN115449008B (zh) * | 2018-10-18 | 2023-10-24 | 大金工业株式会社 | 含氟弹性体、交联性组合物和成型品 |
WO2020230715A1 (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 住友化学株式会社 | 電子部品及びその製造方法 |
JP2020191440A (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-26 | 住友化学株式会社 | 電子部品及びその製造方法 |
JP6998362B2 (ja) | 2019-05-16 | 2022-01-18 | 住友化学株式会社 | 電子部品及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004016689A1 (ja) | 2004-02-26 |
TW200417556A (en) | 2004-09-16 |
KR100792096B1 (ko) | 2008-01-04 |
JP4604719B2 (ja) | 2011-01-05 |
JP5293588B2 (ja) | 2013-09-18 |
CN100393797C (zh) | 2008-06-11 |
EP1548062A4 (en) | 2008-09-24 |
EP1548062B1 (en) | 2011-10-05 |
KR20050073444A (ko) | 2005-07-13 |
US20050265685A1 (en) | 2005-12-01 |
JPWO2004016689A1 (ja) | 2005-12-02 |
AU2003254841A1 (en) | 2004-03-03 |
TWI250999B (en) | 2006-03-11 |
CN1675303A (zh) | 2005-09-28 |
ATE527313T1 (de) | 2011-10-15 |
EP1548062A1 (en) | 2005-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5293588B2 (ja) | 光硬化性含フッ素ポリマーを含む光学材料および光硬化性含フッ素樹脂組成物 | |
JP4760868B2 (ja) | 反射防止処理物品の製造方法 | |
JPWO2002077116A1 (ja) | 無機・有機複合材料からなる表面処理剤 | |
KR100647159B1 (ko) | 경화성 표면 개질제 및 이를 이용한 경화성 표면 개질용조성물 | |
KR100874307B1 (ko) | 가수분해성 금속 알콕시드 부위를 갖는 불소 함유 화합물,상기 화합물로부터 얻어지는 경화성 불소 함유 중합체 및상기 중합체를 포함하는 경화성 불소 함유 수지 조성물 | |
JPWO2003022906A1 (ja) | 含フッ素不飽和化合物、含フッ素重合体、およびそれらを用いた硬化性組成物 | |
JP2009167354A (ja) | 多官能アクリレートを含む硬化性組成物 | |
JP5556665B2 (ja) | 含フッ素重合体、該含フッ素重合体よりなる硬化性樹脂組成物および反射防止膜 | |
JP2005336484A (ja) | 硬化性含フッ素ポリマー、それを用いた硬化性樹脂組成物および反射防止膜 | |
JP4179306B2 (ja) | 硬化性含フッ素ポリマー、それを用いた硬化性樹脂組成物および反射防止膜 | |
JP4983605B2 (ja) | α,β−不飽和エステル基を含有する含フッ素ノルボルネン誘導体または含フッ素ノルボルナン誘導体を含む硬化性含フッ素ポリマー組成物 | |
JP4192600B2 (ja) | 含フッ素光導波路用材料 | |
JP4442533B2 (ja) | 含フッ素不飽和化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100517 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20120611 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130527 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5293588 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |