JP2009158801A - 半導体装置の製造方法および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】多様な半導体チップに対しても共用でき、外部端子を高密度に集約させた配線基板を半導体ウエハに接合し、半導体チップを切り出す半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体ウエハ10を複数の半導体チップ1に分割する際のダイシングライン59に沿って端子部8を形成する工程と、基板本体7を分割するために設定された切断線9の両側に接続パッド35と外部端子部34が配置された分割前配線基板19を用意し、前記ダイシングライン59と前記切断線9とを位置合わせし、前記接続パッド35と前記端子部8とを接続させるように前記分割前配線基板19を前記半導体ウエハ10上に接合する工程と、前記切断線9および前記ダイシングライン59に沿って前記半導体ウエハ10と前記分割前配線基板19とをダイシングして、半導体装置11を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法を用いることにより上記課題を解決できる。
【選択図】図5
Description
たとえば、特許文献1には、半導体装置の新しい構成が開示されている。それは、半導体チップの主面上にエラストマを介してフレキシブル配線基板を配置し、半導体チップの電極パッドと配線基板の開口部に配置された配線のリード部を電気的に接続し、配線基板の他面には外部端子を配し、配線基板の開口部内に配置された半導体チップの電極パッドとリード部を絶縁性樹脂からなる封止体で覆う構成である。
しかしながら、この構成では、半導体チップの電極パッドと配線基板のリードとを配線基板に設けられた開口部で接続するように構成しているので、ランドの位置が電極パッドから遠くなるという問題を生じる。年々、半導体装置の動作速度は高速化されており、ランドまでの配線の引き回し距離が長くなると、動作速度の遅延を生じるおそれを発生させる。
その場合、前記接合領域外に外部端子を配置しなくてはならず、配線基板の面積を大きくする必要が生ずる。配線基板の面積を大きくした場合、半導体装置のパッケージサイズも大型化しなくてはならず、近年の半導体装置の薄型軽量化の流れに適さない。近年、半導体装置で必要とされる外部端子数が増えてきているので、配線基板と半導体チップとの接合領域に配置する配線基板の外部端子数を如何に増やすかがますます課題となってきている。
さらに、配線基板に半導体チップを搭載する構成のため、全ての外部端子が半導体チップの搭載されるエリア内に収まる場合でも、配線基板をチップサイズより大きくしなければならないので、半導体装置のパッケージサイズを大型化しなくてはならず、近年の半導体装置の薄型軽量化の流れに適さない。
さらに、先の構成では、エラストマ(弾性部材)を介して半導体チップを配線基板に搭載するように構成されている。エラストマを介して半導体チップを配線基板に搭載することにより、半導体チップと配線基板の間の熱膨張係数の差による応力は緩和され、2次実装の信頼性は向上される。しかし、エラストマは高価な材料であるため、半導体装置の製造コストが高くなってしまうとともに、エラストマを介して半導体チップを搭載することにより、半導体装置の厚さが厚くなってしまい、薄型軽量化の流れに適さないという問題が発生する。
しかしながら、この方法では、半導体チップと同等サイズの素子単位で個片化した配線基板を、半導体ウエハに隙間無く区画して設けた各半導体チップに搭載し、各半導体チップがその周囲に電極パッドを配置している場合に、隣接する半導体チップに搭載された配線基板同士が接触し、配線基板の搭載位置がズレてしまう場合が発生する。
配線基板の位置ズレが生じた場合には、半導体ウエハを各半導体チップに切断する時の切断精度が悪化することとなり、半導体装置の外形寸法精度が悪化してしまうおそれを生じる。
また、半導体チップと同等サイズの配線基板を搭載する際には、接着材の逃げスペースがなく、隣接する半導体チップに流れ出すおそれも生じる。これにより、隣接する半導体チップに接着剤がはみ出した場合には、隣接する配線基板を正確に搭載することができなくなるとともに、隣接する半導体チップの電極パッドを塞いでしまうおそれも発生する。
しかしながら、ここで記載された半導体装置も、配線基板に開口部を設けているため、先に記載したのと同様に、ランドの位置が電極パッドから遠くなってしまい、動作速度の遅延を生じるおそれがある。また、外部端子を配線基板の半導体チップの搭載されるエリア外に配置する必要が生じ、半導体装置のパッケージサイズを大型化しなければならない場合が発生する。さらにまた、切り落とす無駄なスペースが多くなるので、配線基板の製造における1ショットあたりの取り数が減少し、配線基板のコストアップを生ずる。
また、半導体ウエハへ配線基板を一括搭載する構成のため、配線基板の一端側でのズレが少しであっても配線基板の反対側では大きなズレとなり、配線基板の位置決めを高精度に行うことが必要となる。
さらにまた、半導体ウエハ単位で配線基板のレイアウトを決定しているため、半導体チップのサイズやレイアウトが変わると、配線基板のサイズやレイアウトを合わせて変更する必要が生じている。
(実施形態1)
<半導体装置>
図1、図2は、本発明の実施形態である半導体装置を示す図であって、図1は、平面図であり、図2(a)は図1のA−A’線における断面図であり、図2(b)は図2(a)のF部の拡大断面図である。
配線基板20は、半導体チップ1の対向する2辺に隣接して、その切断辺9’が半導体チップ1のダイシング辺59’に位置合わせされて配置されている。また、配線基板20には、切断辺9’に沿って1列に並べられた複数の接続パッド35が配置されており、切断辺9’と反対側の辺に沿って、接続パッド35の列に平行にされて、2列のボール状端子33からなる外部端子部34が配置されている。また、接続パッド35と外部端子部34は、配線37によって導通が取られている。
配線基板20は、後述する分割前配線基板19を切断線9で分割することにより形成される基板である。切断線9で分割されて形成された辺は、切断辺9’とされる。
半導体チップ1は、拡散や露光等の工程を通じて、半導体ウエハ(シリコン(Si)基板)の一面に、所定の半導体回路を形成して構成されている(図示略)。所定の半導体回路とは、例えば、マイクロプロセッサ等のような論理回路、または、SRAM(Static Randam Access Memory)やDRAM(Dynamic Randam Access Memory)等のような記憶回路等である。
また、半導体チップ1の大きさは、特に限定されるものではなく、例えば、10mm×10mm程度の大きさで形成することができる。
なお、後述するが、半導体チップ1には、半導体回路と接続された電極パッド30がダイシング辺59’に沿って形成されている。また、図2(a)及び図2(b)に示されるように、電極パッド30上にバンプ電極31が形成されて端子部8とされている。
配線基板20は、略矩形状の基板本体7に、接合パッド35と、外部端子部34とが設けられて構成されている。
配線基板20の基板本体7は、フレキシブルなテープ基材であることが好ましい。取り扱いが容易であるとともに、半導体装置を軽量薄型化することができるためである。
配線基板20の基板本体7の材料としては、たとえば、高強度、耐熱性を有し、電気絶縁性も優れたポリイミド樹脂などを挙げることができる。線膨張係数が非常に低く金属に近いため、電子回路の絶縁材料とするときに金属配線との熱膨張によるひずみが生じにくく、高精度で配線加工が可能であるためである。
半導体チップ1より小さい面積の大きさの配線基板20を用いることにより、熱膨張係数の差による応力を低減することができ、半導体装置11の2次実装の信頼性を向上させることができる。また、配線基板20を端子群毎に分割している為、さらに応力を低減でき、半導体装置の2次実装の信頼性をさらに向上できる。
また、このようにすることにより、半導体チップ1の大きさで配線基板20も配置することができ、リアルチップサイズの半導体装置を実現することができる。
具体的には、配線基板20の3辺を半導体チップ1の各辺から50μm以上離間するように配置することが好ましい。配線基板20の3辺の位置を半導体チップ1の各辺から50μm未満とした場合には、製造工程の取り扱いの際に、配線基板20が製造装置の一部に引っかかって、配線基板20の剥がれを引き起こすおそれが生ずる。
配線パッド35は、配線基板20の半導体チップと反対側の面20aに露出された配線部35aと、配線基板20の半導体チップ側の面20bに露出された配線部35bと、それらを連結するビア38とから構成され、配線部35aと配線部35bとの間の導通が取られている。
図2(a)および図2(b)に示すように、半導体チップと反対側の面20aの接続部35aは、配線37を介してランド32に接続され、ランド32でボール状端子33に接続されており、ボール状端子33は外部端子と接続して導通をとることのできる外部端子部34とされている。
このような大きさ及びピッチで、ボール状端子33からなる外部端子部34を配置することにより、半導体チップ1の電極パッド30の近傍にボール状端子33からなる外部端子部34を集約するように配置することができる。
また、電極パッド30と接続パッド35が半導体チップ1の一面1aに略垂直な線上に配置され、電極パッド30から接続パッド35までの長さが最短とされている。また、図1に示すように、ボール状端子33からなる外部端子部34は2列に並べられて配置され、半導体チップ1の電極パッド30の近傍にボール状端子33からなる外部端子部34を集約して配置しているので、接続パッド35から外部端子部34までの配線37の長さを最短にすることができる。
このように半導体チップ1の電極パッド30から配線基板20の外部端子部34までの配線距離が最短となるように、電極パッド30、接続パッド35、配線37、ランド32を配置した場合には、半導体装置11の動作速度の遅延を解消することができ、半導体装置11の処理速度を高速化することができる。また、配線37あるいは貫通孔内配線38の距離が長い場合に生じやすい半導体装置11の電流ノイズを低減することができる。
ボール状端子33からなる外部端子部34を高密度に集約して配置することにより、半導体装置11をより小型化することができ、配線距離が長い場合に生ずる電流ノイズなどを抑制して、良好な電気信号を伝達させることができる。
図3(a)に示すように、半導体チップ1には、電極パッド30がダイシング辺59’に沿って形成されている。また、電極パッド30上にバンプ電極31が形成されて端子部8とされている。さらにまた、配線基板20は、半導体チップ1のダイシング辺59’に配線基板20の切断辺9’を位置合わせして半導体チップ1に配置される。
そのため、図3(a)に示すような半導体チップ1のために設計した配線基板20を、図3(b)に示すような電極パッドの数や配置が異なる半導体チップ1’や、図3(c)に示すようなチップサイズの異なる半導体チップ1”にも適用することが可能となる。
また、配線基板20として小さな基板を用いた場合には、ダイシングライン59を跨いで1個の半導体チップ1に配置する配線基板の数を複数としてもよい。
さらにまた、ダイシングライン59の直行する部分に4枚の半導体チップ1にまたがるように配線基板を配置して、配線基板が4分割されるようにしてもよい。
本発明の実施形態である半導体装置11は、実装基板40にボール状端子33を介して接合されている。
ボール状端子33は、実装基板40のランド32’に接続されている。また、実装基板40に備えられた別のランド32”には、受動部品41が接続されている。受動部品41は、半導体装置11の中央の空き領域Lに配置されている。中央の空き領域Lは、配線基板20およびボール状端子33をそれぞれの電極パッド30の近傍に集約配置したことで形成することができた領域である。このように、中央の空き領域Lに、チップコン等の受動部品、ベアチップ、小型電子部品などを搭載できるため、半導体装置11の実装効率を向上させることができる。これにより、電子装置などからなる実装基板40の小型化にも寄与することができる。
図5および図6を用いて、本発明の実施形態である半導体装置の製造方法について説明する。
図5は、本発明の実施形態である半導体装置の製造方法の一例を示す工程断面図である。なお、この製造工程は、先に記載した半導体装置11の製造方法を示すものであり、半導体装置11で用いた部材と同じ部材については、同じ符号をつけて示している。
さらにまた、図5(a)〜図5(d)には、半導体ウエハ10から複数の半導体チップ1に分離するダイシングライン59を示されている。
次に、ボンディング装置(図示略)を用いて、電極パッド30上にバンプ電極31を形成する。ボンディング装置では、Au等の材料からなるワイヤを用い、この材料の先端を溶融してボール状にした後、電極パッド30上に超音波熱圧着して、これを接続する。その後、図5(a)に示すように、このワイヤの後端を引きちぎることでバンプ電極31を形成する。電極パッド20上にバンプ電極31が形成されて端子部8とされる。
図5(c)に示すように、吸着コレット53を動かして、分割前配線基板19の切断線9をダイシングライン59に合わせるとともに、分割前配線基板19の切断線9以外の各辺をダイシングラインから50μm以上離間するように配置する。
次に、吸着コレット53を押し下げることにより、分割前配線基板19を、半導体チップ1の電極パッド30に接合パッド35を接合させるように、アンダーフィル材5を介して、半導体ウエハ10に押し付けて固定する。なお、このことにより、アンダーフィル材5は、半導体チップ1よりも小さい分割前配線基板19の一面全面を接合する大きさで形成するが、分割前配線基板19の4辺は、半導体チップ1の各辺から離間して配置されるので、隣接する半導体チップ1にアンダーフィル材5がはみ出ないようにすることができる。
さらに、分割前配線基板19は、半導体チップと反対側の面19aに、ビア38によって接続部35bと連結された別の接続部35aと、別の接続部35aと配線37により連結されたランド32を有する構成なので、先に記載したように接合することにより、半導体チップ1のバンプ電極31は、半導体チップと反対側の面19aのランド32に導通されることとなる。
図5(d)の矢印で示す方向にマウントツール54を押し下げて、分割前配線基板19のランド32にボール状端子33を搭載した後、これをリフローして外部端子部34を形成する。
マウント工程はこれに限られるものではないが、たとえば、このようなマウントツール54を用いて、外部端子部34を形成する。マウントツール54には、分割前配線基板19のランド32の配置に合わせて複数の吸着孔(図示略)が形成された吸着機構が形成されている。そのため、一つの半導体チップ1に搭載する分割前配線基板19のランド32の数および位置に合わせてボール状端子33を一括して保持した後、ボール状端子33にフラックスを転写形成して一括搭載することができる。
このようにして、分割前配線基板19の半導体チップ1の半導体チップと反対側の面19aにボール状端子33からなる外部端子部34を形成することにより、半導体チップ1の電極パッド30は、半導体チップと反対側の面19aのボール状端子33からなる外部端子部34に導通されることとなる。また、半導体チップ1の外形よりはみ出た領域に外部端子を設けなくてもよいので、半導体装置11を薄型化および小型化することができる。
なお、このダイシング工程では、半導体ウエハ10の裏面をダイシングテープ61に接着し、ダイシングテープ61によって半導体ウエハ10を支持する。そして、半導体ウエハ10は、ダイシング装置(図示略)のダイシングブレード55を高速回転させて、縦横にダイシングライン59を回転研削して半導体チップ1毎に個片化する。
また、半導体チップ1のみをダイシングする際には、分割前配線基板19の4辺がダイシングラインから離間されて配置されているので、ダイシングブレード55が分割前配線基板19と接触することはなく、ダイシングブレード55と分割前配線基板19の接触による配線基板20の剥がれを抑制することができる。
図6に示すように、分割前配線基板19の切断線9と半導体チップ1のダイシングライン59を合わせて、ダイシングライン59を跨ぐようにして、1つの分割前配線基板19が2つの半導体チップ1上に搭載されている。
半導体チップ1ごとに配線基板20を配置した場合には、配線基板20同士が重なる場合が発生するが、このようにすることにより、その様な配線基板20同士の重なりを抑制することができ、精度良くかつ効率よく配線基板20を搭載した半導体チップ1を形成することができる。また、半導体ウエハ10に搭載される分割前配線基板19の搭載数を少なくすることができるので、製造効率を向上させることができる。
また、その際、不良と判断された半導体回路を有する半導体チップ90に隣接し、良と判断された半導体回路を有する半導体チップ1には、不良と判断された半導体回路を有する半導体チップ側のダイシングラインに沿って配線基板を接続する。
このようにすることにより、配線基板20を無駄にすることなく、半導体装置11の製造コストを低減することができる。
また、分割前配線基板19を配置する位置も、ダイシングライン59を跨いで配置できる位置であれば特に限定されず、たとえば、直交する2つのダイシングラインの直交する部分に、4つの半導体チップ1に跨るように分割前配線基板19を配置してもよい。この場合、この分割前配線基板は4つの半導体チップ1に分割される。
また、図6には、接続パッド35、ランド32などの大きさ及びレイアウトが、切断線9で対称となるように設計された分割前配線基板19が示されている。しかし、接続パッド35、ランド32などの大きさ及びレイアウトが切断線9で非対称となるように形成してもよい。このような分割前配線基板19を用いることにより、電極パッドの大きさ、レイアウトが左右非対称となる半導体チップ1に適用することができる。
図7は、本発明の実施形態である半導体装置の別の一例を示す平面図である。
本発明の実施形態である半導体装置12は、略矩形状とされた半導体チップ1のダイシング辺59‘に略台形状の配線基板22の切断辺9’が位置合わせされて配置されて、概略構成されている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
図8に示すように、分割前配線基板21の切断線9と半導体チップ1のダイシングライン59を位置合わせされて、ダイシングライン59を跨ぐようにして、1つの分割前配線基板21が2つの半導体チップ1上に搭載されている。
ダイシングライン59および切断線9を分割することによって、分割前配線基板21は配線基板22とされ、配線基板22を4枚搭載した半導体チップ1からなる半導体装置12が形成される。
なお、配線基板22の形状は、配線基板22が互いに重ならない構成であればどのような形状でもよい。また。配線基板22は面取りをして、搭載した配線基板22が剥がれ難くすることが好ましい。
このような構成でも、実施形態1と同様の構成を有するので、同様の効果を得ることができる。
図9〜図11は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を示す図であって、図9は平面図であり、図10は図9のB−B’線における断面図であり、図11は、図9の要部拡大図である。
本発明の実施形態である半導体装置13は、略矩形状とされた半導体チップ1の2辺に隣接して、半導体装置1のダイシング辺59’に配線基板20の切断辺9’が位置合わせされて、略矩形状の配線基板24が半導体チップ1に配置されて概略構成されている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
このようにガス抜き用開口部24cを設けることにより、分割用配線基板(図示略)を半導体チップ1に搭載する時にガス抜きを行うことができ、分割用配線基板を搭載した際に発生する半導体チップと配線基板との間のボイドを低減することができる。
また、このようにガス抜き用開口部24cをダイシングライン上に設けることにより、半導体ウエハ10をダイシングする時に分割用配線基板を切断する部分は連結部24eのみとなるので、ダイシングにより分割用配線基板が剥がれるリスクを低減することができる。
このような実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
図12、図13は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を示す図であって、図12は平面図であり、図13は図12のC−C’線における断面図である。
本発明の実施形態である半導体装置14は、略矩形状とされた半導体チップ1の2辺に隣接して、半導体装置1のダイシング辺59’に配線基板20の切断辺9’が位置合わせされて、略矩形状の配線基板20が半導体チップ1に配置されて概略構成されている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
本発明の実施形態である半導体装置14の製造方法は、実施形態1で示した半導体装置11の製造方法とほぼ同様な工程であり、図14(b)に示すアンダーフィル材5形成工程が、印刷マスクを用いた印刷工程ではなく塗布工程であること、および、この塗布工程によりアンダーフィル材5が保護絶縁膜3全面を覆って形成されていることを除いては、実施形態1で示した半導体装置11の製造工程と同様の構成とされている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
その後、図14(c)に示すように、半導体チップ1のダイシングライン59に分割前配線基板19の切断線9を合わせて、ダイシングライン59を跨ぐように分割前配線基板19を半導体チップ1に搭載する。
このような実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。また、このようにスピンコート法などの塗布工程を用いてアンダーフィル材5を形成することにより、半導体装置14の製造効率を向上させることができる。
図15、図16は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を示す図であって、図15は平面図であり、図16は図15のD−D’線における断面図である。
本発明の実施形態である半導体装置15は、略矩形状とされた半導体チップ1の2辺に隣接して、半導体装置1のダイシング辺59’に配線基板20の切断辺9’が位置合わせされて、略矩形状の配線基板20が半導体チップ1に配置されて概略構成されている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
このように、保護部材29を設けることで、半導体チップ1の一面1aに形成された半導体回路をより安全に保護することができる。
保護部材29としては、絶縁性樹脂を用いることができ、ポッティング等により形成する。また、絶縁性樹脂を配線基板20の側面20eにかかるように形成することで、半導体チップ1と配線基板20との接着強度をより向上させることができる。
このような実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
図17は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を示す要部断面図である。
図17に示すように、本発明の実施形態である半導体装置16は、半導体チップ1と配線基板20とがアンダーフィル材5を介して接合されている。半導体チップ1の一面1aは保護絶縁膜3により覆われており、保護酸化膜3の一部が開口され電極パッド30が形成されるとともに、電極パッド30に接合させたバンプ電極31が形成されている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
また、半導体チップ1のバンプ電極31は、接着剤70を介して、配線基板20の接続パッド35に接続されており、電極パッド30と外部端子部34との導通が取られている。また、接合された部分以外は、ソルダーレジストによって絶縁性が確保されている。ソルダーレジストの材料としては、例えば、エポキシ系の樹脂などを用いることができる。
このような実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
図18、図19は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を示す図であって、図18は平面図であり、図19は図18のE−E’線における断面図である。
図18、図19に示すように、本発明の実施形態である半導体装置17は、アンダーフィル材5を配線基板20の全面を固着するように設けるのではなく、接続パッドの周囲のみ、すなわち、接合パッド35、バンプ電極31および電極パッド30のみを覆うように形成されているほかは、実施形態1と同様の構成とされている。なお、実施形態1と同じ部材については、同じ符号つけて示している。
このような実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
図20は、本発明の実施形態である半導体装置のさらに別の一例を説明する図であって、半導体ウエハに配線基板を搭載した時点の一例を示す平面図である。
図20に示すように、半導体ウエハ10上の半導体チップ1に、実施形態1より小さい分割前配線基板25を、1辺に2つ搭載したことを除いては、実施形態1と同様の構成とされている。
また、実施形態1と同様に、不良判定された半導体回路90に隣接し、良判定された半導体回路には、不良判定された半導体回路90側のダイシングライン59に沿って配線基板26が接続されている。
さらに、このような場合においても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
Claims (16)
- 半導体回路が形成された半導体ウエハを複数の半導体チップに分割する際のダイシングラインに沿って前記ダイシングラインの両側の前記半導体ウエハ上に端子部を形成する工程と、
基板本体、前記基板本体の一面に形成された接続パッドおよび前記基板本体の他面に形成されて前記接続パッドと接続される外部端子部とを具備してなり、前記基板本体を分割するために設定された切断線の両側にそれぞれ前記接続パッドと前記外部端子部が配置された分割前配線基板を用意し、前記ダイシングラインと前記切断線とを位置合わせしつつ、前記接続パッドと前記端子部とを接続させるように、前記分割前配線基板を前記半導体ウエハ上に接合する工程と、
前記切断線および前記ダイシングラインに沿って、前記半導体ウエハと前記分割前配線基板とをダイシングして、前記分割前配線基板を分割してなる配線基板が前記半導体チップ上に接合されてなる半導体装置を形成する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記分割前配線基板を前記半導体チップに接合させる際に、前記半導体回路の良/不良を判断し、良判定された半導体回路を有する半導体チップのみに前記分割前配線基板を接合することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記分割前配線基板を前記半導体チップに接合させる際に、前記半導体回路の良/不良を判断し、不良判定された半導体回路に隣接する、良判定された半導体回路に、前記配線基板を接続する工程を行うことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 電極パッド上にバンプ電極を形成して前記端子部を形成した後、前記端子部を覆うようにアンダーフィル材を形成し、前記アンダーフィル材を介して、分割前配線基板と前記半導体ウエハとを接合することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アンダーフィル材を形成する工程が、印刷マスクを用いた印刷工程により行われることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アンダーフィル材を形成する工程が、塗布工程により行われることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 略矩形状とされた半導体チップの一面に配線基板が重ねられ、前記配線基板の切断辺が前記半導体チップのダイシング辺に位置合わせされて配置された半導体装置であって、
前記半導体チップの一面には半導体回路が形成されており、前記半導体回路と接続された端子部が前記ダイシング辺に沿って形成されており、
前記配線基板は、基板本体、前記基板本体の一面に形成され、前記切断辺に沿って配置された接続パッドおよび前記基板本体の他面に形成されて前記接続パッドと接続される外部端子部とを具備してなり、
前記端子部が前記接続パッドに接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記外部端子部が、前記配線基板に備えられたランドであることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
- 前記外部端子部が、前記配線基板に備えられたランド上に配置されたボール状端子であることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
- 前記配線基板に、接続部用凹部が設けられ、前記接続部用凹部の内壁面にメッキ膜が形成されていることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記配線基板が、半導体チップより小さいことを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記配線基板に、ガス抜き用開口部が設けられていることを特徴とする請求項7〜11のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記配線基板が、面取りされていることを特徴とする請求項7〜12のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記半導体回路を覆うように保護絶縁膜が形成されていることを特徴とする請求項7〜13のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記保護絶縁膜の露出面を覆うように保護部材が形成されていることを特徴とする請求項7〜14のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記アンダーフィル材が、前記配線基板の接続パッドの周囲のみに形成されていることを特徴とする請求項7〜15のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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