JP2008541392A - ガラスセラミック製プレートとその製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、例えば少なくとも１つの加熱要素を覆うか収容するための、特に調理プレートとして使用するためのガラスセラミック製プレートであって、少なくとも２つの対照的な領域を有するコーティングを備えるガラスセラミック製プレートに関する。本発明は、このプレートの製造方法と製造装置、ならびにこのプレートを備える調理装置にも関する。

Description

本発明は、特に加熱要素を覆う、あるいは、収容するためのガラスセラミック製プレート、その中でも特に調理プレートとして使用するためのガラスセラミック製プレートに関する。なおこのプレートに関係する加熱要素は、特に誘導加熱式オーブンである。

数年前からガラスセラミック製調理プレートの販売が着実に増えている。この成功は、特に、このようなプレートの魅力的な外観と、清掃の容易さによって説明できる。

ガラスセラミックは、ガラス前駆体と呼ばれるガラスから生まれることを思い起こそう。このガラス前駆体は特定の化学組成を持つため、セラミック化と呼ばれる適切な熱処理によって結晶化を制御することができる。一部が結晶化したこの特別な構造によってガラスセラミックに独自の性質が付与される。

現在、さまざまなタイプのガラスセラミック製プレートが存在しているが、求める性質に悪影響を及ぼす虞れなしにこうしたプレートおよび／またはその製造法に変更を施すのは非常に難しいため、それぞれのタイプは数多くの研究と多数の試験の結果である。ガラスセラミック製プレートは、調理プレートとして利用できるようにするには、特に、可視領域の波長における透過率が、その下にある停止中の加熱要素の少なくとも一部を隠すのに十分な程度に小さいと同時に、安全のため加熱要素が作動状態にあることを利用者が目で確認できる程度に十分に大きい必要がある。一般に、このプレートは、赤外領域の波長においても透過率が大きい必要がある。

開発された初期のプレートは、例えば暗い色のプレートであった。より最近になり、外観がより明るくて（特に白色で）透過率が例えば（特許文献１に記載されているように）少なくとも５０％である別のプレートが開発されたが、上記の基準（例えば加熱要素が作動状態にあることを目が眩むことなく確認することや、その要素がほとんど美しくないこと）を考慮すると、他の特徴（例えばプレートの下に場合によっては配置される表示板がはっきりと見えること）が損なわれることがある。
フランス国特許第２７６６８１６号 欧州特許出願ＥＰ０４３７２２８号

本発明は、新しいタイプのガラスセラミック製プレート、その中でも特に、施した変更によって通常求められる性質に悪影響をもたらすことなく、より機能的な新しい特徴を有する改良されたガラスセラミック製プレートを開発し、既存の製品の幅を広げることを目指すものである。

本発明による新しいプレートは、例えば少なくとも１つの加熱要素を覆うか収容するためのガラスセラミック製プレート、その中でも特に調理プレートとして使用するためのガラスセラミック製プレートであり、このプレートは、少なくとも２つの対照的な領域を有するコーティングを備えている。

このプレートは透明または半透明なガラスセラミックをベースとしていて、コーティングは、その下にある停止中の要素（例えば加熱要素や、場合によっては存在する表示板）の少なくとも一部を隠すことを目的としているが、その要素が作動中はその要素を検出できるようになっていることが好ましい。上記の領域は、例示した目的に応えられるように選択されており、この目的のために特にコントラストを有する（または並置することで対立を目立たせる）。コントラストは、以下に説明するように、さまざまな方法で実現できる（無光沢効果／光沢効果の並置、厚さの違いなど）。

一般に、上記領域の１つ（または以下に詳しく説明する領域群）が背景領域と呼ばれる領域を構成し、コーティングの表面の大半（一般に５０〜９９％）を占めていて、好ましくはプレートが覆わねばならない加熱構造の重要部を隠すことを目的としている。他方の領域（または背景領域と対照的な他方の領域群）は、信号領域と呼ばれる領域であることが好ましく、背景領域との対照で、装飾、および／または表示（商標、ロゴ、シンボルなど）、および／または機能要素の位置（例えば加熱要素、制御装置、表示板など）を目立たせることができる。この領域により、これらの要素が作動中であるかないかを検出することもできる（この後者の領域で覆われた表面は、一般に、コーティングの表面の１〜５０％である）。今後は、領域という用語は（プレート上に存在しているそれぞれのカテゴリーの領域の数によるが）、はっきりと区画された単一の領域（この領域がそのカテゴリーの中の唯一のものである場合）だけでなく、（領域相互の間、または領域群相互の間に求められるコントラストとの関係で）同じカテゴリーの複数の区画された領域が存在している場合に同じように覆われている領域群、または同じ効果を有する領域群も意味するものとする。

（コーティング付着前の）プレートを形成するガラスセラミック製土台または裸の基板は、すでに指摘したように透明または半透明であることが好ましく、一般に、（照明Ｄ_６５による可視光の波長領域である０．３８μｍ〜０．７８μｍで積分した）光透過率Ｔ_Ｌは５０％を超える（特に５０〜９０％になる）。コーティング（と、あとで説明する、このコーティングを構成する層）は、コーティングを有する本発明のプレートが、背景領域において非常に小さな光透過率（特に５〜１０％未満であり、ほぼゼロであるか、ゼロのことさえある）を持つように選択することが好ましい。それに対して信号領域のほうは、光透過率を例えば２０％未満（特に０．２〜２０％）、特に１０％未満（特に０．５〜１０％）にすることができる。

対照的な複数の領域を有するコーティングは、主としてプレートの同じ１つの面に（好ましくはその面にだけ）存在していることが望ましい。そしてその面は、作動中の１つまたは複数の加熱要素のほうを向いて（またはその加熱要素と向かい合って）いる面であることが望ましい（一般に下面または内面と呼ばれる面）。

本発明では、対照的な２つの領域は、光沢効果、または反射効果、または鏡面効果を有する少なくとも１つの領域（今後は反射領域と呼ぶ）と、（相対的に）無光沢効果を有する（特に、不透明化効果、または少なくとも一部を隠す効果を有する）少なくとも１つの領域（今後は無光沢領域と呼ぶ）であることが好ましい。同様に好ましい別の一実施態様では、対照的な２つの領域は、コーティングの厚さが異なる領域であり、より厚い領域が例えば上記の無光沢領域の役割を果たし、より薄い領域が上記の反射領域の役割を果たす。

非光沢領域（またはより厚い領域）は、背景領域と呼ばれる領域であることが好ましく、反射領域（またはより薄い領域）のほうは、信号領域と呼ばれる領域を構成することが好ましい。

本発明のプレートは、技術に関しても美観に関しても多数の利点を持っており、その利点は以下の説明にも現われることになろう。このプレートにより、特に、付随する加熱要素、制御装置、表示板が作動していないときにそれらを隠すことと、作動しているときに利用者がまぶしく感じることなくそれらを確認することが可能になる。必要な場合には、停止中の要素を隠して作動中の要素の確認を可能にする反射領域は、赤色の光を出すインディケータを使用できない通常の不透明なプレートまたは暗い色のプレートとは異なり、（期間、強度などの）インディケータ（例えばさまざまな色の発光ダイオード）を利用できるという利点も有する。

本発明のプレートは実用的であり、しかも清掃が簡単である。下面全体にコーティングを配置すると、美しくない光学的効果（例えば二重画像）を必要に応じて避けると同時に、使用位置にあるプレートの露出面（利用者のほうを向いた外面または上面）を清掃したときにコーティングが摩耗するという問題を避けることができる。プレートの構成要素も、機械的抵抗力と熱に対する抵抗力が優れていて、下にある加熱要素（例えば誘導による電気加熱要素、または場合によっては普通のガスバーナなどの他のタイプの要素）とともに使用できるようなものを選択する。

ガラスセラミック製プレートとは、以下の説明では、本来の意味のガラスセラミックからなるプレートだけでなく、高温に耐えられて膨張係数がゼロであるかほぼゼロである（例えば１５×１０^−７／Ｋ）他の同様のあらゆる材料も意味する。しかし本来の意味のガラスセラミックでできたプレートが好ましい。

コーティングは、上記の層を形成するように堆積された少なくとも２つの層で形成されていることが好ましい。一方の層は、高温に耐えられる（一般に樹脂をベースとする）塗料層と呼ばれる層であることが好ましく、一般に背景領域だけを覆っている。他方の層は、反射層、または前者よりも薄い塗料層であることが好ましく、一般に少なくとも信号領域を覆っている。

使用する塗料層を選択するにあたっては、高温に耐えられて、色に関してとプレートへの付着力に関して経時安定性があり、プレートの機械的特性に影響を与えないものを選択することが望ましい。

使用する塗料は、分解温度が３５０℃を超えること、特に３５０℃〜５００℃であることが望ましい。塗料は、一般に樹脂をベースとしており、必要に応じて添加剤（例えば顔料または着色剤）を含んでいるため、ガラスセラミックに付着させるために場合によっては希釈して粘性率を調節する。希釈剤または溶媒（例えばホワイト・スピリット、トルエンなど）は、あとで塗料を加熱するときに必要に応じて除去される。

塗料としては、例えば、少なくとも１種類のシリコーン樹脂（特に少なくとも１種類のアルキド樹脂）を組み込むことによって修飾したシリコーン樹脂をベースとした塗料が可能である。着色剤として顔料を添加することもできる。顔料としては、エナメル処理のための顔料（例えば金属酸化物を含む化合物であるクロム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物、コバルト酸化物、ニッケル酸化物などの中から、またはクロム酸銅、クロム酸コバルトなどの中から選択する）、ＴｉＯ_２などがある。

使用する塗料は、高温に耐えられる（特に分解温度が４００℃を超える）少なくとも１種類の（コ）ポリマーを含んでいること（またはそのような（コ）ポリマーをベースとしていること）が特に好ましい。この塗料は、付着力、および／または機械的補強、および／または着色を確実にするための少なくとも１種類の無機添加剤を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。この（コ）ポリマーまたは樹脂としては、特に、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフッ化樹脂、ポリシロキサン樹脂のうちの１つまたは複数のものが可能である。

ポリシロキサン樹脂が特に好ましい。この樹脂は無色であるため、着色しやすい（例えば添加剤または顔料を用いてこの樹脂を望む色にすることができる）；この樹脂は、（一般に、一般式の中にＳｉＯＨ基および／またはＳｉＯＭｅ基を持っているために（これらの基は、樹脂の全重量の１〜６重量％含まれていることが最も多い））架橋化可能な状態または変換された状態（架橋化または熱分解された状態）で使用できる。この樹脂は、一般式の中に、フェニル単位、エチル単位、プロピル単位、ビニル単位のいずれかを有することが好ましく、フェニル単位および／またはメチル単位を有することが非常に好ましい。この樹脂は、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、フェニルメチルシロキサン・ポリマー、ジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサン・コポリマーの中から選択することが好ましい。

使用するのが好ましい架橋化可能なポリシロキサン樹脂は、一般に平均重量分子量（Ｍｗ）が２，０００〜３００，０００ダルトンである。

例示すると、ダウ・コーニング（登録商標）８０４、８０５、８０６、８０８、８４０、２４９、４０９ Ｈｓ、４１８ Ｈｓ、ロディア社のＲｈｏｄｏｒｓｉｌ（登録商標）６４０５、６４０６、ジェネラル・エレクトリック・シリコーン社のＴｒｉｐｌｕｓ（登録商標）、ヴァッカー・ヘミー社のＳＩＬＲＥＳ（登録商標）６０４といった樹脂を単独で、または混合物として使用したものが完全に適しているが、これですべてではない。

このようにして選択した樹脂（特に上記のポリシロキサン樹脂）は、特に誘導加熱に耐えられ、他のタイプの加熱にも適している。他のタイプの加熱としては、ガスバーナによる加熱のほか、放射熱やハロゲン・ランプによる加熱さえ挙げられる。

塗料は、特に薄いままである場合には無機添加剤を含んでいなくてもよい。しかし一般にはそのような無機添加剤を使用して、堆積された塗料層を機械的に補強したり、この層の付着力を大きくしたり、プレートへの固着力を大きくしたり、内部に亀裂が出現したり伝播したりしないようにする。このような目的で、無機添加剤の少なくとも一部は薄層構造を有することが好ましい。添加剤は、着色にも使用できる。必要な場合には複数のタイプの相補的な添加剤を使用することができる（例えば機械的補強のための着色されていない添加剤や、他の添加剤（着色のための顔料など））。無機添加剤の有効量は、一般に、（添加剤と塗料の全体積に対する割合が）１０〜６０体積％、さらに特定するならば１５〜３０体積％に対応する。

堆積された各塗料層の厚さは１〜１００ミクロン、特に５〜５０ミクロンである。塗料または樹脂は、適切な任意の方法で付着させることができる。例えばブラシを用いた堆積、へらを用いた堆積、吹き付け、静電塗装、浸漬、カーテン・コーティング、セリグラフィによる堆積などの方法があるが、セリグラフィによる堆積（または場合によってはへらを用いた堆積）が好ましい。

堆積の後に熱処理を実施し、堆積された層の乾燥、架橋、熱分解などを場合に応じて確実に実現することができる。

本発明のコーティングは、少なくとも１つの塗料層を含んでいることが好ましい。この層の中では、樹脂の少なくとも一部が、部分的にまたは完全に架橋および／または熱分解している、および／または熱処理されていない（樹脂は、熱処理されていない場所では必要に応じて除去されるようにすることが可能である）。この塗料層は、一部または全体が、ａ）無機添加剤と、ｂ）炭素含有材料の前駆体が（ほとんど）含まれていない少なくとも１種類の架橋可能なポリシロキサン樹脂、および／または炭素含有材料と炭素含有材料の前駆体が（ほとんど）含まれていない少なくとも１種類の架橋したポリシロキサン樹脂、および／またはシリカをベースとしていて炭素含有材料が（ほとんど）含まれていない多孔性無機マトリックス（樹脂は、例えば熱分解されているため無機化された状態で存在している）との混合物からなる。この混合物において、無機添加剤は、樹脂またはマトリックスの中に分散されている。

本発明で必要な場合に用いられる反射層に関しては、例えば、複数の薄い層、または複数の薄い層の積層体をベースとするか、効果をもたらす顔料を含むことで鏡面効果またはキラキラ光る効果を有する層にすることができる。

特に好ましい第１の実施態様によれば、金属タイプの少なくとも１つの（下）層および／または誘電性材料をベースとした少なくとも１つの（下）層で形成された少なくとも１つの反射層を使用する。この反射層は、一般に鏡面効果を有することが好ましい。

したがってこの層は、例えば少なくとも１つの単なる金属層または金属が主体の層（例えばＡｇ、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｆｅ、またはこれら金属のうちのいくつかをベースとした合金からなる薄い層、またはステンレス鋼をベースとした薄い層など）にするか、１つまたは複数の金属層を含む複数の（下）層からなる積層体にすることができる。その金属層（または金属が主体の層）は、例えば誘電性材料をベースとした少なくとも１つの層（例えば、Ｓｉ_３Ｎ_４（特にＳｉ_３Ｎ_４／金属／Ｓｉ_３Ｎ_４積層体）またはＳｉＯ_２からなる少なくとも１つの保護層で覆われた、銀またはアルミニウムからなる少なくとも１つの層）によって（少なくとも１つの面、好ましくは互いに反対側の２つの面が覆われて）保護されていることが望ましい。

あるいは屈折率ｎが大きくて１．８を超える（１．９５よりも大きいことが好ましく、２を超えることが特に好ましい）誘電性材料をベースとした単層のコーティングも可能である。例として、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＴｉＮ、ＳｎＯ_２などからなる単層がある。

好ましい別の一実施態様では、反射層は、屈折率が大きな（すでに説明したように１．８を超えることが好ましく、１．９５、あるいは２達することもある）誘電性材料と、屈折率が小さな（１．６５未満が好ましい）誘電性材料を交互にしたものがベースとなった複数の薄い（下）層の積層体で形成される。このような材料は特に金属酸化物（または金属窒化物または金属オキシナイトライド）のタイプの材料であり、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、酸化物の混合物（スズ−亜鉛、亜鉛−チタン、ケイ素−チタンなど）、合金などが挙げられる。必要な場合に最初に堆積されるためにプレートの内面に存在する（下）層は、屈折率の大きな層である。

（下）層のための屈折率の大きな材料としては、例えばＴｉＯ_２や、場合によってはＳｎＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｎ_ｘＺｎ_ｙＯ_ｚ、ＴｉＺｎＯ_ｘ、Ｓｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５などが挙げられる。（下）層のための屈折率の小さな材料としては、例えばＳｉＯ_２や、場合によってはケイ素オキシナイトライドおよび／またはケイ素オキシカーバイド、ケイ素酸化物とアルミニウム酸化物の混合物、ＭｇＦ_２やＡｌＦ_３などのフッ化化合物が挙げられる。

積層体は、例えば少なくとも３つの（下）層を含んでいることが望ましく、望ましい反射は、その積層体のさまざまな層を組み合わせた作用によって生じる。基板に最も近い層は屈折率が大きな層であり、中間層は屈折率が小さな層であり、外側層は、屈折率が大きな層である（例えば以下の酸化物層を交互に含む積層体：（基板）− ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２）。

堆積された各反射層の（幾何学的）厚さは一般に１５〜１０００ｎｍであり、その中でも特に２０〜１０００ｎｍである（基板の厚さは一般に数ｍｍであり、約４ｍｍであることが最も多い）。複数の（下）層によって（一般に層の積層体の形態に）形成された反射層の場合、その積層体の各（下）層の厚さは５〜１６０ｎｍ、一般には２０〜１５０ｎｍの範囲で変えることができる（例えばＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２積層体の場合、望む外観をどちらか言うと銀にするか金にするかに応じ、ＴｉＯ_２層とＳｉＯ_２層それぞれの厚さを数十ｎｍのオーダー（例えば６０〜８０ｎｍのオーダー）にするか、ＴｉＯ_２層に関しては厚さを６０〜８０ｎｍのオーダーにし、ＳｉＯ_２層に関しては厚さを１３０〜１５０ｎｍにするとよい）。

反射層は、一般に、セラミック化した後のプレートに（例えばそのプレートを切断および／または加工した後）、一回で、または繰り返して付着させることができる。反射層は、特に、熱分解によって（粉末、液体、気体の場合）、または蒸着によって、またはスパッタリングによって付着させることができる。反射層は、スパッタリングおよび／または真空蒸着法および／またはプラズマ支援法によって堆積させることが好ましい。その中でも、特に磁場（と直流または交流）を利用した陽極スパッタリング（例えばマグネトロン陽極スパッタリング）による層の堆積法が利用される。酸化物または窒化物は、必要な場合には酸化環境または窒化環境（必要な場合にはアルゴン／酸素混合物、またはアルゴン／窒素混合物）のもとで、金属、合金、シリカ、セラミックなどからなる適切なターゲットから堆積される。例えば酸化物層は酸素の存在下にて、窒化物は窒素の存在下にて、問題の金属の反応性スパッタリングによって堆積させることができる。ＳｉＯ_２またはＳｉ_３Ｎ_４にするには、十分に導電性にするためアルミニウムなどの金属をわずかにドープしたシリカからなるターゲットから出発するとよい。本発明で選択した（下）層は基板の表面に非常に一様に凝縮し、分離や剥離は起こらない。

本発明の別の一実施態様では、反射層は、効果をもたらす顔料（金属的な顔料、真珠光沢の顔料、干渉性の顔料など）を含む層にすることができる。顔料は、必要な場合には適切な媒体に溶かしたものを用いる。この層は、一般に、キラキラした効果を呈する。この層は、溶融シリカ、フリット、融解ガラス（一般に、エナメル処理のためのフリットで使用される酸化物の中から選択した酸化物（例えばケイ素酸化物、亜鉛酸化物、ナトリウム酸化物、ホウ素酸化物、リチウム酸化物、カリウム酸化物、カルシウム酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物、バリウム酸化物、ストロンチウム酸化物、アンチモン酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物など）を含むガラス化可能な混合物）のいずれかをベースとしていることが好ましく、効果をもたらすのに用いる顔料は、金属酸化物で覆われたアルミニウム酸化物（Ａｌ_２Ｏ_３）の薄片の形態であることが望ましい。例えば、メルク社が“Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）”という商標で市販している顔料が挙げられる。それは、顔料または干渉性顔料ＴｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３（Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−５０−１０ＳＷクリスタル・シルバー、Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−６０−２０ＳＷサンビーム・ゴールド、Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−６０−２１ＳＷソラリス・レッド、Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−６０−２３ＳＷギャラクシー・ブルー、Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−６０−２４ＳＷステラー・グリーン）や、顔料Ｆｅ_２Ｏ_３／Ａｌ_２Ｏ_３（Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｔ−６０−５０ＳＷファイアサイド・カッパー、Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）Ｆ−６０−５１ラジアント・レッド）などである。

効果をもたらす使用可能な他の顔料は、例えば、酸化物（例えばＴｉＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３などの中から選択される）または酸化物の組み合わせで被覆されたマイカ粒子をベースとした真珠光沢の顔料であり、例えばメルク社がＩＲＩＯＤＩＮ（登録商標）という商標で市販しているものがある。従来からある着色用の添加剤または他の顔料も、効果をもたらす上記の顔料に組み込むことができる。効果をもたらす顔料の割合は、例えば、その顔料を組み込むことになるベース（溶融シリカ、フリット、融解ガラス）に対して約１〜３０重量％にすることができる。層は、特にセリグラフィによって堆積させるとよい（必要な場合には、あとの焼成段階で一般に除去される適切な媒体の中で、ベースと顔料を懸濁液にする。この媒体は、特に、溶媒、希釈液、油、樹脂などを含むことができる）。層の厚さは、例えば１〜６μｍである。

すでに指摘したように、本発明のプレートは、透明または半透明なガラスセラミックをベースとしていて、無光沢効果を有する上に定義した塗料から形成した背景領域を有するとともに、鏡面効果のある上に定義した反射層から形成されている信号領域か、場合によっては背景領域よりも薄くて上に定義した塗料で形成されている信号領域を有するコーティングを下面に備えることが好ましい。

本発明のプレートは、一般に、滑らかな２つの面を持っていて下面に突起がないプレートである。

本発明のプレートは、必要な場合には機能要素または補助的付属物（枠、コネクタ、ケーブル、制御要素、表示板（例えば“７セグメント”発光ダイオード）、タッチ式電子制御パネル、ディジタル・ディスプレイなど）を備えること（または付随させること）ができ、場合によっては、上記の互いに対照的な領域に加え、特に装飾用、補助用の１つまたは複数の領域を備えることができる。しかしその領域のサイズは限られていることが好ましい。

コーティングは、プレート上で見分けることのできるそれぞれの領域において一般に連続だが、堆積がより薄くなった（例えば斑点部、メッシュ部といったタイプの）場所がいくつか存在していてもよい。しかしこのような場所の被覆率は大きいままであることが好ましい（ほぼ１００％）。

本発明のプレートは、その下にある誘導加熱要素と組み合わされることが好ましい。誘導加熱による調理オーブンは公知であり、一般に、導電線からなるコイルで構成された自己インダクタンス装置（または電磁石）に接続された変換器（または発電機）からなる。変換器が発生させる高周波電流が通過することによって生じる電磁場が、プレートの上に置かれた道具の金属製底部にフーコー電流を発生させるため、その道具を素早く加熱することができる。プレートの温度変化と最高温度は、他の加熱要素（例えばハロゲン・ランプや放射熱による加熱要素）で観察されるよりも小さい。そのため本発明のプレートはこの加熱方式に特に適しており、コーティングが受ける熱衝撃はより小さく、長期の間にコーティングが損傷する可能性もより小さい。

本発明のプレートは、光学的特性と安全性に関する条件を満たしており、熱衝撃などに対する抵抗力が優れている。本発明のプレートは、好ましいことに、内部に１つまたは複数の加熱要素（例えば電磁石）が配置された絶縁性支持体に、利用者から見える装置内部を隠すことを目的とした複雑な介在物なしに取り付けることができる。

本発明は、本発明のプレート（例えばレンジ、嵌め込み式調理プレート）を少なくとも１つ備える調理装置および／または高温維持装置にも関する。本発明には、プレートを１枚だけ備える調理装置や、複数のプレートを備えていて、それぞれのプレートに火口が１つだけ、または火口が複数ある装置も含まれる。“火口”という用語は、調理がなされる位置を意味する。本発明は、調理プレートが複数のタイプの火口を備える複合調理装置にも関する。

さらに、本発明の基本的な問題は調理プレートへの応用に関係しているとしても、本発明がレンジまたは調理テーブルのための調理プレートの製造法に限定されることはない。本発明に従って製造したプレートは、温度変化をほとんど受けてはならない他のプレートとしても使用できる。

本発明は、本発明のプレートの製造方法も目的とする。

ガラスセラミック製プレートの製造は、一般に、以下のようにしてなされる。選択した組成のガラスを融解炉の中で融解させてガラスセラミックを形成し、次いでその融解したガラスを圧延ロールの間を通過させることによって圧延して標準的なストリップまたは薄片にし、そのガラス製ストリップを望むサイズに切断する。次に、このようにして切断したプレートを公知の方法でセラミック化する。セラミック化は、プレートを選択した熱プロファイルに従って焼成してそのガラスを“ガラスセラミック”と呼ばれる多結晶材料にすることからなる。ガラスセラミックは、膨張係数がゼロであるかほぼゼロであり、７００℃までの熱衝撃に耐える。セラミック化は、一般にガラス転移領域に近い核化領域まで温度を徐々に上昇させるステップと、数分間で核化領域を通過させるステップと、安定したセラミック化温度になるまで新たに温度を徐々に上昇させるステップと、その安定したセラミック化温度を数分間にわたって維持するステップと、その後周囲温度まで急速に冷却するステップを一般に含んでいる。

この方法は、一般に、例えば水の噴流によって切断する操作の後、必要に応じて加工する操作（研削、面取りなど）を含んでいる。

本発明によるプレートの製造方法は、裸のガラスセラミック製プレートの１つの面（作動中に下面となる面が好ましい）に、少なくとも１つの第１の領域を形成する少なくとも１つの第１の層（または（下）層群）を付着させ、その中に１つまたは複数のエナメルなしの部分（または除外部）を設け、そのエナメルなしの部分を、第１の領域とは対照的な少なくとも１つの第２の領域を形成する少なくとも１つの第２の層（または（下）層群）で覆うことを特徴とする。

特に、形成する層の組成に応じ、当業者に知られている公知の任意の方法で層を付着させる。可能なさまざまな付着法の例はすでに示した。堆積は、層のタイプに応じ、セラミック化の前（例えばセラミック化の間に焼成できる層の場合）または後（塗料と、すでに説明した、金属タイプの層、または誘電性材料をベースとした層の場合に好ましい）に、（例えばプレートの切断および／または加工の後に）一回だけまたは反復して実施することができる。

エナメルなしの部分を形成するには、（堆積させる層のタイプと、堆積手段の精度に応じ）さまざまな手段を利用できる。エナメルなしの部分は、堆積法（セリグラフィ）によって残すこと、または（例えば鋼板などからなる）十分なマスクを取り付けて残すことができる。エナメルなしの部分に層を堆積させた後、洗浄、切除、研磨などによって除去することもできる。例えば塗料を堆積させて望む部分だけを硬化または架橋させ、残りの部分を洗浄によって除去することや、金属タイプまたは誘電性材料をベースとした層を堆積させた後、レーザー切除や研磨などの手段によってその層にエナメルなしの部分を形成することができる。

第２の層の堆積に関しては、（例えば適切な堆積手段またはマスクを用いて）除外部またはエナメルなしの部分にだけ堆積させること、またはプレートの非常に広い部分、特にプレート全体に堆積させることができる。

例えば本発明の方法の好ましい一実施態様によれば、例えばセリグラフィによって（１回または数回の操作により、すなわち１つまたは複数の下層として、エナメルなしの部分を設けつつ）塗料の第１の層、その中でもすでに挙げた（無光沢の）塗料の層を付着させ、次いでその塗料を熱処理または焼成処理し、必要に応じてプレートを洗浄した後、第２の層（または（下）層群）を付着させ、すでに覆われている領域とエナメルなしの部分の全体を、陽極スパッタリング（マグネトロン陽極スパッタリングの場合には、プレート全体への堆積が実際にはより容易である）により、鏡面効果を有する少なくとも１つの反射層で覆う。

別の一実施態様では、堆積の順序を逆転させることができる。例えば、プレートの下面で選択的にエナメルなしの部分が設けられた位置にマスクを取り付けた後、そのプレートの下面に少なくとも１つの連続した反射層を堆積させ、マスクを除去し、必要な場合には他のマスクですでに覆われている部分を再び覆い、次いで塗料を付着させる。塗料は、得られる最終的なプレート上で反射層によって覆われていない領域だけを覆うことが望ましい。

本発明は、上に規定したガラスセラミック製プレートを製造するため、セリグラフィによる少なくとも１つのコーティング装置と、少なくとも１つの陽極スパッタリング装置とを備える装置も目的とする。

以下の実施例は添付の図面と合わさって本発明を示しているが、本発明の範囲がこの実施例に限定されることはない。

２つの滑らかな面を持つ透明なガラスセラミック製プレートを、例えば特許文献２に記載されている組成のガラスから製造する。

このガラスを約１６００℃で融解させ、ガラス製ストリップを圧延できる量にする。このストリップから、最終サイズが５６．５ｃｍ×５６．５ｃｍ×０．４ｃｍのガラス・プレートを複数切り出す。

これらガラス・プレートを、セラミック焼成装置の上で、以下のステップを含むセラミック化サイクルに従ってセラミック化する。
ａ）温度を、一般にガラス転移領域に近い核形成領域まで、３０〜８０℃／分の速度で上昇させる；
ｂ）２０分間ほどで核形成の温度区間（６７０〜８００℃）を通過させ、数分間にわたって温度を維持する；
ｃ）１５〜３０分間かけて温度を約９３０℃という安定なセラミック化温度Ｔまで上昇させる；
ｄ）セラミック化温度Ｔを約２０分間という時間ｔにわたって維持する；
ｅ）周囲温度まで急速に冷却する。

得られたプレートの下面全体を、（例えばシリコーン・ポリマーとシリコーン溶液を混合して得られる）少なくとも１種類のポリシロキサン樹脂と添加剤（例えば灰色にするため濃い色の複数の顔料を混合した物など）をベースとした塗料で覆う。ただし覆われないままにするのは、
− プレートが使用位置にあるときに４つの誘導加熱式オーブンの上方に位置する場所を規定する４つの円形クラウン２ａによって構成される場所すなわちエナメルなしの部分と、
− シンボル（＋、−と、作動していることを示すシンボル）、ならびに（期間、強度などの）表示要素またはインディケータの上方に位置する領域を規定する７つの長方形を形成する領域２ｂと；
− 主として装飾用の表示２ｃ（ここでは単語“ＩＮＤＵＣＴＩＯＮ”の最初の６文字と、最後の３文字ＩＯＮがネガになった長方形）である。

次に、塗料を炉またはトンネルの中で焼成または重合する。得られる層の厚さは、例えば１５〜１００ミクロンである。すると透明であることにより、このプレートを通し、例えばエナメルなしの部分を境界とする複数の小さな領域３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄで形成された無光沢の灰色の背景領域を見ることができる。

塗料で覆われたこのプレートを必要に応じて洗浄した後、すでに塗料で覆われているこのプレートの下面全体に、例えばＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ（それぞれの比率は例えば約６８％／２２％／１０％である）をベースとした反射層を、マグネトロン陽極スパッタリングにより、（この層において、消えた状態の表示を隠すことと、その表示が点灯しているときにはっきりと見えることをうまくバランスさせることができる）約２２．５ｎｍの厚さに堆積させる。非常に細かいこの反射層による鏡面効果は、塗料層内に設けたエナメルなしの部分の位置にしか及ばず、ガラスセラミックが透明であるためにプレートの上方から見える背景領域の不透明な無光沢の灰色の外観にマイナスの効果が及ぶことはない。

したがって満足のゆく美しい外観のオリジナルなガラスセラミック製プレートが得られる。このプレートは、（領域３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄの全体で形成されていて）調理装置の下にある構造要素を隠す例えば無光沢の不透明なグレーおよび／またはメタリック・グレーの背景領域と、（領域２ａ、２ｂ、２ｃの全体で形成されていて）停止中に下にある要素をやはり隠すと同時に、作動中はその要素が見えるようにするキラキラした外観のモチーフを有する信号領域を有する。コーティングは完全に下面にあるため、画像が二重になる問題も、装飾が（例えば片手鍋の摩擦によって）摩耗するという問題もない。このプレートは、調理装置などの中に嵌め込まれた枠４に取り付けることができる。

本発明のプレートは、特にレンジまたは調理テーブルのための新しい一連の調理プレートを実現するのに利用すると有利である。

実施例に従って製造した本発明のプレートを上方から見た斜視図（写真を元にした部分図）である。

Claims (13)

1. 例えば少なくとも１つの加熱要素を覆う、あるいは、収容するための、特に調理プレートとして使用するためのガラスセラミック製プレートであって、
   少なくとも２つの対照的な領域を有するコーティングを備える、
   ことを特徴とするガラスセラミック製プレート。
2. 透明または半透明なガラスセラミックをベースとしていること、及び、
   上記コーティングが、その下にある停止中の要素の少なくとも一部を隠すが、加熱要素と、表示板が作動中はそれらを確認できるようにすること、
   を特徴とする請求項１に記載のガラスセラミック製プレート。
3. 上記領域の一方は、好ましくは、背景領域を構成してコーティングの表面の５０〜９９％を占め、プレートが覆わねばならない加熱構造の大部分をマスクし、
   他方の領域は、好ましくは、上記背景領域に対して装飾および／または表示および／またはその機能要素の位置を目立つようにしつつ、これら要素が作動中であるかないかも検出できる信号領域であり、
   後者の領域によって覆われる表面は、コーティングの表面の１〜５０％である、
   ことを特徴とする請求項１または２に記載のガラスセラミック製プレート。
4. 対照的な複数の領域を有する上記コーティングが、主としてプレートの唯一の同一の面上に存在していて、その面は、好ましくは、使用位置にある加熱素子の方に向けられている、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレート。
5. 上記２つの対照的な領域が、少なくとも１つの無光沢領域と、少なくとも１つの反射領域である、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレート。
6. 上記２つの対照的な領域が、厚さの異なるコーティングからなる領域である、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレート。
7. 上記コーティングが、上記領域を形成するように堆積された少なくとも２つの層で形成されていて、
   一方の層は、好ましくは、塗料層であって上記背景領域を覆っており、
   他方の層は、好ましくは、反射層または上記一方の層よりも薄い塗料層であって少なくとも１つの信号領域を覆っている、
   ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレート。
8. 前記塗料が、３５０℃よりも高い分解温度を持ち、少なくとも１種類のシリコーン樹脂および／または高温に耐えられる少なくとも１種類の（コ）ポリマーをベースとしており、該（コ）ポリマーは、特に、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフッ化樹脂、ポリシロキサン樹脂の中から選択され、
   該塗料は、オプションで、少なくとも１種類の無機添加剤を含有し得る、
   ことを特徴とする請求項７に記載のガラスセラミック製プレート。
9. 上記反射層が、鏡面効果またはキラキラ光る効果を有する層であり、
   この層は、例えば金属タイプの少なくとも１つの（下）層および／または誘電性材料をベースとした少なくとも１つの（下）層で形成されているか、あるいは、
   溶融シリカ、フリット、融解ガラスいずれかの中に効果をもたらす顔料も含まれたもので形成されている、
   ことを特徴とする請求項７に記載のガラスセラミック製プレート。
10. 下にある誘導加熱要素と協働するようにされている、ことを特徴とする、請求項１から９のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレート。
11. 請求項１から１０のいずれか１項に記載のプレートを製造する方法であって、
    裸のガラスセラミック製プレートの１つの面に、少なくとも１つの第１の領域を形成する少なくとも１つの第１の層を付着させ、
    その中に１つまたは複数のエナメルなしの部分を用意するか設け、
    該エナメルなしの部分を、第１の領域とは対照的な、少なくとも１つの第２の領域を形成する少なくとも１つの第２の層で覆う、
    ことを特徴とする方法。
12. 請求項１から１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレートと、１つまたは複数の加熱要素、特に誘導加熱要素とを備える、ことを特徴とする調理装置および／または高温維持装置。
13. 請求項１から１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック製プレートを製造するための装置であって、
    少なくとも１つのスクリーン印刷によるよるコーティング装置と、少なくとも１つの陽極スパッタリング装置とを備える、ことを特徴とする装置。

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