JP2008529292A - 基板への電子アセンブリの設置方法及び該アセンブリの設置装置 - Google Patents
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Abstract
Description
− 所定の輪郭を有する導体トラックセグメントを形成する工程と、
− トラックセグメントを設置装置に移送する工程と、
− トラックセグメントがチップの少なくとも1つの接点上に設置されるように、前記トラックセグメントを支承する設置装置によりチップを把握する工程と、
− チップ及びトラックセグメントからなる電子アセンブリを基板上の所定の位置に設置する工程と、
− チップ及びトラックセグメントを基板内に押しこむ工程と
を含むことを特徴とする方法により達成される。
− 設置装置(6)により3つの導体セグメント(3,3’,3”)をスタンピングし把握する。
− 設置装置(6)により2つの絶縁セグメント(20,20’)をスタンピングし把握する。
− 先に把握した導体セグメント(3,3’)であって、基板(7)内への押し込み工程において端部が接続される導体セグメントの端部に接点(5,5’)が対向するようチップ(4)を把握する。
− 接点を支承するチップの面並びに導体及び絶縁セグメントが基板表面と同じ高さになるように、基板(7)上の所定の位置に設置し、把握された全ての要素を押し込む。
Claims (34)
- 面のうちの1つに少なくとも1つの電気接点(5, 5')を含むチップ(4)で構成される少なくとも1つの電子アセンブリを、基板(7)と呼ばれる担体に設置する方法において、前記接点(5, 5')が導体トラックセグメント(3, 3')に接続され、前記設置が、前記アセンブリを基板(7)上に保持し位置決めする設置装置(6)を使用して行われる方法であって、
− 所定の輪郭を有する導体トラックセグメント(3, 3')を形成する工程と、
− トラックセグメント(3, 3')を設置装置(6)に移送する工程と、
− トラックセグメント(3, 3')がチップ(4)の少なくとも1つの接点(5, 5')上に設置されるように、前記トラックセグメント(3, 3')を支承する設置装置(6)によりチップ(4)を把握する工程と、
− チップ(4)及びトラックセグメント(3, 3')からなる電子アセンブリを基板(7)上の所定の位置に設置する工程と、
− チップ(4)及びトラックセグメント(3, 3')を基板(7)内に押しこむ工程と
を含むことを特徴とする方法。 - チップ(4)及びトラックセグメント(3, 3')を基板(7)内に押し込むことにより、チップ(4)の接点(5, 5')とセグメント(3, 3')との間の電気接続が保証されることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- チップ(4)の接点(5, 5')へのセグメント(3, 3')のはんだ付け作業が、基板(7)内に電子アセンブリを押し込む最中又は押し込んだ後に設置装置(6)を用いて行われるか、基板(7)内に電子アセンブリを押し込む前の追加工程の時に行われることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 追加工程が、セグメント(3, 3')をチップ(4)の接点(5, 5')にはんだ付けするために、設置装置(6)から分離されたはんだ付け装置を用いることを内容とし、次に、基板(7)に設置し押し込むために、電子アセンブリが設置装置(6)に移送されることを特徴とする、請求項3記載の方法。
- 設置装置(6)によって前記チップ(4)を把握する前に、導体接着剤を接点(5, 5')に塗布する工程を含むことを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 設置装置(6)へ前記セグメント(3, 3')を移送する前に、導体接着剤を、チップ(4)の接点(5, 5')に対向するセグメント(3, 3')の端部に塗布する工程を含むことを特徴とする、請求項1記載の方法。
- トラックセグメント(3, 3')が導体材料のシート(2)から得られ、次に、トラックセグメントを保持する設置装置(6)に移送されることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 絶縁セグメントが絶縁フィルムから得られ、次に、トラックセグメント(3, 3')を保持する設置装置(6)に移送され、前記絶縁セグメントがトラックセグメント(3, 3')上に絶縁ゾーン(13, 13')を形成することを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 把握時、接点(5, 5')を含むチップ(4)の面が設置装置側に向けられること、及び前記接点(5, 5')が、前記設置装置(6)によって支承されるトラックセグメント(3, 3')の端部に対向して設置されることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 接点(5, 5')を支承するチップ(4)の表面が基板(7)の表面と同じ高さになりかつトラックセグメント(3, 3')が基板(7)の表面に押圧されるようにアセンブリが設置されることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 導体材料のシート(2)が、その下面に押圧される絶縁フィルム(12, 12')を含むことを特徴とする、請求項7記載の方法。
- 基板(7)に押圧されるようになっている下面の中央部分に絶縁ゾーン(13, 13')を含むように、前記シート(2)からセグメント(3, 3')が得られ、前記セグメント(3, 3')の端部が絶縁ゾーン(13, 13')から解放されることを特徴とする、請求項11記載の方法。
- 絶縁フィルム(12, 12')に接着剤が塗布されることを特徴とする、請求項11記載の方法。
- 基板(7)上へのアセンブリの設置時、設置装置(6)が絶縁ゾーン(13, 13')に対向する点(14, 14')でトラックセグメント(3, 3')を加熱し、それにより接着剤の活性化及び基板(7)上でのセグメント(3, 3')の保持が生じることを特徴とする、請求項13記載の方法。
- 電子アセンブリのチップ(4)のハウジング(15)となるための空洞を基板(7)に形成する予備工程を含むことを特徴とする、請求項1記載の方法。
- ハウジング(15)の寸法がチップ(4)の寸法に等しく前記ハウジング(15)の深さがほぼチップ(4)の厚さに相当する方法であって、セグメント(3, 3')を支承するチップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、ハウジング(15)内にチップ(4)を押し込む前に、前記ハウジング(15)のレベルにおいて基板(7)を軟化する工程を含むことを特徴とする、請求項15記載の方法。
- ハウジング(15)の寸法がチップ(4)の寸法より大きく前記ハウジング(15)の深さがほぼチップ(4)の厚さに相当する方法であって、ハウジング(15)内に設置されたチップ(4)を取り囲む自由空間に接着性物質(16)の流動分が充填され、かつセグメント(3, 3')を支承する前記チップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、前記物質(16)内にチップ(4)を押し込む前に、前記ハウジング(15)内に接着性物質(16)を塗布する工程を含むことを特徴とする、請求項15記載の方法。
- ハウジング(15)の寸法がチップ(4)の寸法より大きく前記ハウジング(15)の深さがチップ(4)の厚さより少ない方法であって、セグメント(3, 3')を支承するチップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、ハウジング(15)内にチップ(4)を押し込む前に及び/又はその最中、前記ハウジング(15)のレベルにおいて基板(7)を軟化する工程を含み、ハウジング(15)内に設置されたチップ(4)を囲む空間に基板(7)の材料の流動分(17)が充填されることを特徴とする、請求項15記載の方法。
- 接着性物質(16)によりハウジング(15)内に設置されたチップ(4)を取り囲む空間への充填が補完されるように、チップ(4)の押し込みの前に前記接着性物質(16)がハウジング(15)内に塗布されることを特徴とする、請求項18記載の方法。
- 少なくとも2つの層(7', 7")を上下に重ねることによって形成される基板(7)を構成する予備工程と、上層(7')内に開口部(18)を形成する予備工程とを含み、下層(7")が開口部(18)の下部を閉じ、前記開口部(18)が電子アセンブリのチップ(4)を受け入れるようになっているハウジングを構成することを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 開口部(18)の寸法がチップ(4)の寸法に等しく基板(7)の上層(7')の厚さがほぼチップ(4)の厚さに相当する方法であって、セグメント(3, 3')を支承する前記チップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、開口部(18)内にチップ(4)を押し込む前に及び/又はその最中、前記開口部(18)のレベルにおいて基板(7)を軟化する工程を含むことを特徴とする、請求項20記載の方法。
- 開口部(18)の寸法がチップ(4)の寸法より大きく基板(7)の上層(7')の厚さがほぼチップ(4)の厚さに相当する方法であって、開口部内に設置されたチップ(4)を取り囲む自由空間に接着性物質(16)の流動分(17)が充填され、かつセグメント(3, 3')を支承する前記チップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、前記物質(16)内にチップ(4)を押し込む前に、開口部(18)により形成されるハウジング内に接着性物質(16)を塗布する工程を含むことを特徴とする、請求項20記載の方法。
- 開口部(18)の寸法がチップ(4)の寸法より大きく基板(7)の上層(7')の厚さがチップ(4)の厚さより少ない方法であって、セグメント(3, 3')を支承するチップ(4)の面が基板(7)の表面と同じ高さになるように、開口部(18)内にチップ(4)を押し込む前に及び/又はその最中、前記開口部(18)のレベルにおいて基板(7)を軟化する工程を含み、開口部(18)内に設置されたチップ(4)を囲む空間に基板(7)の下層(7")の材料の流動分(17)が充填されることを特徴とする、請求項20記載の方法。
- 前記接着性物質(16)により、前記ハウジングに設置されたチップ(4)を取り囲む空間への充填が補完されるように、チップ(4)の押し込みの前に開口部(18)により形成されたハウジング内に接着性物質(16)が塗布されることを特徴とする、請求項23記載の方法。
- 少なくとも2つの層(7', 7")を上下に重ねることによって形成される基板(7)を構成する予備工程と、下層(7")内に開口部(18)を形成する予備工程とを含み、上層(7')が開口部(18)を閉じ、電子アセンブリが、設置装置(6)により下層(7")の開口部(18)に対向する上層(7')内に押し込まれ、前記設置装置(6)によりもたらされる圧力により、上層(7')の軟化物質が開口部(18)内に流れ、電子アセンブリのセグメント(3, 3')及びチップ(4)が上層(7')の表面と同じ高さであることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 導体トラックセグメント(3, 3')に接続された少なくとも1つの電気接点(5, 5')を具備するチップ(4)を備える電子アセンブリを基板(7)上に設置するための設置装置(6)において、基板(7)上に電子アセンブリを位置決めし押圧する手段を具備する装置であって、少なくとも1つの導体トラックセグメント(3, 3')の保持手段を具備するヘッドを含み、トラックセグメント(3, 3')がチップの(4)の少なくとも1つの接点(5, 5')に接続されるように、前記保持手段がチップ(4)の把握及び固定のための手段に連帯されることを特徴とする装置。
- トラックセグメント(3, 3')の保持手段が、セグメント(3, 3')を前記装置のヘッド上に保持するトラックセグメント(3, 3')の面のうちの1つに真空を発生する吸気オリフィス(10, 10')からなることを特徴とする、請求項26記載の装置。
- チップの把握及び固定のための手段が、対応するオリフィス(10, 10')により保持されるセグメント(3, 3')の端部の近傍の前記装置のヘッドの中央部位内に位置する少なくとも1つの吸気オリフィス(11)を備えることを特徴とする、請求項26記載の装置。
- チップ(4)の把握及び固定のための手段が接着要素を備えることを特徴とする、請求項26記載の装置。
- ヘッドがチップ(4)の接点(5, 5')上への導体トラックセグメント(3, 3')のはんだ付け手段を含むことを特徴とする、請求項26記載の装置。
- 少なくとも1つの接点(5, 5')を具備する面を含む少なくとも1つの電子チップ(4)が材料内に埋め込まれる絶縁基板(7)をその構造の全体又は一部分上に備える携帯対象物であって、前記面が基板(7)の表面と同じ高さであり、基板(7)の表面に貼付された少なくとも1つの導体トラックセグメント(3, 3')がチップ(4)の接点(5, 5')に接続されることを特徴とする、携帯対象物。
- 導体トラックセグメント(3, 3')がチップ(4)の接点(5, 5')及び基板(7)の表面上に配置された導体トラック上に接続されることを特徴とする、請求項31記載の携帯対象物。
- 導体トラックセグメント(3, 3')がチップ(4)の第1接点(5)及び前記チップ(4)の第2接点(5')に接続されることを特徴とする、請求項31記載の携帯対象物。
- 基板(7)の表面の全体又は一部分が絶縁保護シートに覆われることを特徴とする、請求項31記載の携帯対象物。
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