JP2008502139A - 半導体構造、メモリ素子構造、及び半導体構造の形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (102)
- 半導体基板を提供するステップと、
前記基板上に、互いに関して選択的なエッチングが可能な第1の材料および第2の材料を形成するステップと、前記第1材料が格子に形成され、前記第2の材料が前記格子のセグメントによって互いに一定間隔で隔離された繰り返し領域に形成され、前記繰り返し領域が第1軸に沿って定義された第1のピッチおよび前記第1軸に関して実質的に直角な第2軸に沿って定義された第2のピッチを有するアレイを形成し、前記第2のピッチが前記第1のピッチの約2倍の大きさを有し、
前記格子の前記第1の材料の少なくとも一部を、ゲート線の1つ以上の導電体に置換するステップと、
前記基板上に上方へ延伸するソース/ドレイン領域を形成するために前記第2の材料の少なくとも一部を、ドープされた半導体材料に置換するステップと、を含む半導体構造の形成方法。 - 前記第1の材料の少なくとも一部を置換する前記ステップが、前記第2の材料の少なくとも一部を置換する前記ステップより先に発生する請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第2の材料の少なくとも一部を置換する前記ステップが、前記第1の材料の少なくとも一部を置換する前記ステップより先に発生する請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1の材料が窒化シリコンを含み、前記第2の材料が二酸化シリコンを含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1の材料が本質的に窒化シリコンからなり、前記第2の材料が本質的に二酸化シリコンからなる請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1の材料が二酸化シリコンを含み、前記第2の材料が窒化シリコンを含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1の材料が本質的に二酸化シリコンからなり、前記第2の材料が本質的に窒化シリコンからなる請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ゲート線の1つ以上の前記導電体が導電的にドープされたシリコンを含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ゲート線の1つ以上の前記導電体が1つ以上の金属を含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ゲート線の1つ以上の前記導電体が1つ以上の合金を含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記基板が単結晶半導体材料を含み、
上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域のドープされた半導体材料の少なくとも一部が、前記基板の前記単結晶半導体材料からエピタキシーによって成長させられた請求項1に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記基板が単結晶半導体材料を含み、
上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の前記ドープされた半導体材料の一部が、前記基板の前記単結晶半導体材料からエピタキシーによって成長させられた単結晶の材料であり、
上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の前記ドープされた半導体材料の一部が、単結晶の材料でない請求項1に記載の半導体構造の形成方法。 - 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の一部の上に、前記一部の領域と電気的に接続するディジットラインを形成するステップをさらに含む請求項1に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ディジットラインが、上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の第1セットの上に位置し、前記第1セットとは電気的に接続し、前記ソース/ドレイン領域の第2セットとは電気的に接続せず、
また前記ソース/ドレイン領域の前記第2セット上に、前記第2セットと電気的に接続するメモリストレージ素子を形成するステップをさらに含む請求項13に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記メモリストレージ素子が、キャパシタである請求項14に記載の半導体構造の形成方法。
- 半導体基板を提供するステップと、
前記基板上に、窒化物含有材料の格子を形成するステップと、前記格子が、前記格子のセグメントによって互いに一定間隔で分離された非窒化物領域のアレイを定義し、
前記格子の前記窒化物含有材料を、ゲート線の1つ以上の導電体に置換するステップと、
上方へ延伸するソース/ドレイン領域を形成するために前記非窒化物領域を、ドープされた半導体材料に置換するステップと、を含む半導体構造の形成方法。 - 前記アレイが、第1軸に沿って定義された第1のピッチ、および前記第1軸に関して実質的に直角な第2軸に沿って定義された第2のピッチを有し、
前記第2のピッチが前記第1のピッチより大きい請求項16に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記第2のピッチが前記第1のピッチの約2倍の大きさを有する請求項17に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記格子の一部のみが、前記ゲート線の1つ以上の前記導電体によって置換され、
前記格子の一部が、前記ゲート線及び縦に延伸する前記ソース/ドレイン領域間に提供された誘電体によって置換される請求項16に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記窒化物含有材料が、窒化シリコンを含む請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有材料が、本質的に窒化シリコンから成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有材料が、窒化シリコンから成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記非窒化物領域を前記ドープされた半導体材料に置換する前に、前記非窒化物領域が二酸化シリコンを含む請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記非窒化物領域を前記ドープされた半導体材料に置換する前に、前記非窒化物領域が本質的に二酸化シリコンから成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記非窒化物領域を前記ドープされた半導体材料に置換する前に、前記非窒化物領域が二酸化シリコンから成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ドープされた半導体材料が、エピタキシーによって成長したシリコンを含む請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ドープされた半導体材料が、ドープされた、エピタキシーによって成長したシリコンから本質的に成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ドープされた半導体材料が、ドープされた、エピタキシーによって成長したシリコンから成る請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の一部の上に、前記一部と電気的に接続するディジットラインを形成するステップをさらに含む請求項16に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記ディジットラインが、上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の第1セットの上に位置し、前記第1セットとは電気的に接続し、前記ソース/ドレイン領域の第2セットとは電気的に接続せず、また、
前記ソース/ドレイン領域の前記第2セット上に、前記第2セットと電気的に接続するメモリストレージ素子を形成するステップをさらに含む請求項29に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記メモリストレージ素子が、キャパシタである請求項30に記載の半導体構造の形成方法。
- 第1の半導体材料を提供するステップと、
前記第1の半導体材料上に酸化物含有材料を形成するステップと、
前記酸化物含有材料を貫通して延伸する開口を形成するステップと、
前記開口を狭くするように前記開口内に窒化物含有スペーサーを形成するステップと、
狭くなった前記開口を前記第1の半導体材料内に延伸させるステップと、狭くなった前記開口が前記第1の半導体材料内で延伸する第1部分、及び前記第1部分上の第2部分を有し、
前記開口の前記第1部分を埋め込み、かつ前記第2部分を埋め込まずに残すように誘電体を提供するステップと、
前記開口の前記第2部分を埋め込むように前記誘電体上に窒化物含有材料を提供するステップと、
上方へ延伸するソース/ドレイン領域を形成するために前記酸化物含有材料を、ドープされた第2の半導体材料に置換するステップと、
前記窒化物含有材料および前記窒化物含有スペーサーを、ゲート線の1つ以上の導電体に置換するステップと、を含む半導体構造の形成方法。 - 前記窒化物含有材料および前記窒化物含有スペーサーが、互いに同じ組成を含む請求項32に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有材料および前記窒化物含有スペーサーが、窒化シリコンを含む請求項32に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有材料および前記窒化物含有スペーサーが、本質的に窒化シリコンから成る請求項32に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有材料および前記窒化物含有スペーサーが、窒化シリコンから成る請求項32に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記誘電体が第1の誘電体であり、
上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域と前記ゲート線との間に第2の誘電体を提供するステップをさらに含む請求項32に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記ソース/ドレイン領域の一部と電気的に接続するディジットラインを形成するステップと、
前記ソース/ドレイン領域の別の部分と電気的に接続するキャパシタ構造を形成するステップと、をさらに含む請求項32に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記ディジットラインが、前記ソース/ドレイン領域の前記一部の上に形成される請求項38に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1の半導体材料が単結晶シリコンであり、
前記第2の半導体材料が前記第1の半導体材料からエピタキシーによって成長したシリコンである請求項32に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記開口が、定義された水平方向に沿った、縦に延伸するトレンチであり、
前記窒化物含有材料が、第1の窒化物含有材料であり、
前記開口内の前記第1の窒化物含有材料が、前記水平方向において縦に延伸するストリップの形を有し、
さらに、
第2の窒化物含有材料を、定義された垂直方向に沿って延伸するストリップに形成するステップと、前記第1及び第2の窒化物含有材料がともに格子を形成し、前記酸化物含有材料がピラーのアレイの形をし、前記アレイの個々のピラーが前記第1及び第2の窒化物含有材料の前記格子によって囲まれ、
前記第1の窒化物含有材料を置換すると同時に、前記第2の窒化物含有材料を1つ以上の前記導電体に置換するステップと、を含む請求項32に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記第1及び第2の窒化物含有材料が、互いに同じ組成を含む請求項41に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1及び第2の窒化物含有材料が、窒化シリコンを含む請求項41に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1及び第2の窒化物含有材料が、本質的に窒化シリコンから成る請求項41に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記第1及び第2の窒化物含有材料が、窒化シリコンから成る請求項41に記載の半導体構造の形成方法。
- 第1の半導体材料を提供するステップと、
前記第1の半導体材料上に酸化物含有材料を形成するステップと、
前記酸化物含有材料上にハードマスク層を形成するステップと、
定義された水平方向に沿って延伸し、第1のギャップによって一定間隔で分離された複数のラインへ前記ハードマスク層をパターン化するステップと、
前記第1のギャップを狭くするように前記ハードマスクに沿って窒化物含有スペーサーを形成するステップと、
前記酸化物含有材料を貫通するように狭くなった前記第1のギャップを拡張するステップと、
前記窒化物含有スペーサーを残しながら、前記ハードマスク層を除去するステップと、前記スペーサーが、狭くなった前記第1のギャップに沿って延伸するラインペアのセットを形成し、
狭くなった前記第1のギャップを第1の窒化物含有材料で埋め込むステップと、前記第1の窒化物含有材料が前記ラインペアのセット間で上方へ延伸し、前記酸化物含有材料上に窒化物含有ピラーを形成し、前記第1の窒化物含有材料及び前記窒化物含有スペーサーが共に、前記酸化物含有材料上に第2のギャップによって一定間隔で分離されている水平方向に延伸する前記ピラーに組入れられ、
前記酸化物含有材料を貫通するように前記第2のギャップを拡張するステップと、
前記第2のギャップを第2の窒化物含有材料で埋め込むステップと、を含む半導体構造の形成方法。 - 前記酸化物含有材料が、二酸化シリコンを含む請求項46に記載の半導体構造の形成方法。
- 狭くなった前記第1のギャップを前記第1の窒化物含有材料で埋め込む前記ステップが、前記窒化物含有スペーサー上に、及び、最終的に前記第2のギャップとなる、前記窒化物含有スペーサー間の前記酸化物の領域上に前記第1の窒化物含有材料を形成するステップを含み、
前記第1の窒化物含有材料及び前記窒化物含有スペーサーを、一定間隔で分離されている水平方向に延伸する前記ピラーに組入れる前記ステップが、前記第1の窒化物含有材料を異方性的にエッチングして、前記酸化物の前記領域上から前記第1の窒化物含有材料を除去し、これにより、前記第2のギャップを形成するステップを含む請求項46に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記第1及び第2の窒化物含有材料が、互いに同じ組成を有し、
一定間隔で分離された前記ライン及び前記第1のギャップが、垂直方向に沿って繰り返し、ライン/第1のギャップペアに対応する第1の距離を有する第1の垂直ピッチを定義し、
狭くなった前記第1のギャップ内の前記第1の窒化物含有材料及び前記第2のギャップ内の前記第2の窒化物含有材料が、前記酸化物含有材料のラインによって互いから一定間隔で分離された、水平方向に延伸する窒化物含有ラインを形成し、前記酸化物含有材料のライン及び前記窒化物含有材料のラインが、前記垂直方向に沿って繰り返すパターンを形成して、窒化物含有材料ライン/酸化物含有材料ラインペアに対応する第2の距離を有する第2の垂直ピッチを定義し、
前記第2の距離が、前記第1の距離の約半分である請求項46に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記窒化物含有スペーサー、前記第1の窒化物含有材料、及び前記第2の窒化物含有材料がすべて互いに同じ組成を含み、共に窒化物含有格子に組入れられ、
さらに、
前記窒化物含有格子の少なくとも一部を1つ以上の導電ゲート線材料に置換するステップと、
前記酸化物含有材料の少なくとも一部を、導電的にドープされたソース/ドレイン構造に置換するステップと、を通じて複数のトランジスター構造を形成するステップを含む請求項46に記載の半導体構造の形成方法。 - 前記窒化物含有スペーサー、前記第1の窒化物含有材料、及び前記第2の窒化物含有材料の組成が、窒化シリコンを含む請求項50に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有スペーサー、前記第1の窒化物含有材料、及び前記第2の窒化物含有材料の組成が、本質的に窒化シリコンから成る請求項50に記載の半導体構造の形成方法。
- 前記窒化物含有スペーサー、前記第1の窒化物含有材料、及び前記第2の窒化物含有材料の組成が、窒化シリコンから成る請求項50に記載の半導体構造の形成方法。
- 半導体基板と、
前記基板上の窒化物含有材料の格子と、
前記格子のセグメントによって互いから一定間隔で分離された非窒化物領域のアレイと、を備え、
前記アレイが、第1軸に沿って定義された第1のピッチおよび前記第1軸に関して実質的に直角な第2軸に沿って定義された第2のピッチを有し、
前記第2のピッチが前記第1のピッチの約2倍の大きさを有する半導体構造。 - 前記窒化物含有材料が、窒化シリコンを含む請求項54に記載の半導体構造。
- 前記窒化物含有材料が、本質的に窒化シリコンから成る請求項54に記載の半導体構造。
- 前記窒化物含有材料が、窒化シリコンから成る請求項54に記載の半導体構造。
- 前記非窒化物領域が、二酸化シリコンを含む請求項54に記載の半導体構造。
- 前記非窒化物領域が、本質的に二酸化シリコンから成る請求項54に記載の半導体構造。
- 前記非窒化物領域が、二酸化シリコンから成る請求項54に記載の半導体構造。
- 半導体基板と、
前記基板上のゲート線の格子と、
前記格子のセグメントによって互いから一定間隔で分離された非ゲート線領域のアレイと、を備え、
前記アレイが、第1軸に沿って定義された第1のピッチおよび前記第1軸に関して実質的に直角な第2軸に沿って定義された第2のピッチを有し、
前記第2のピッチが、前記第1のピッチの約2倍の大きさを有し、
前記非ゲート線領域が、上方へ延伸するソース/ドレイン領域を含み、
前記ゲート線格子及び前記ソース/ドレイン領域がともに、前記ソース/ドレイン領域のペアが前記ゲート線格子によって互いにゲート的に接続される複数のトランジスター構造を形成する半導体構造。 - 前記ゲート線格子が、少なくとも1つの金属を含む請求項61に記載の半導体構造。
- 前記ゲート線格子が、少なくとも1つの合金を含む請求項61に記載の半導体構造。
- 前記ゲート線格子が、導電的にドープされたシリコンを含む請求項61に記載の半導体構造。
- 前記ゲート線格子が本質的に、導電的にドープされたシリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 前記ゲート線格子が、導電的にドープされたシリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンを含む請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が本質的に、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が、導電的にドープされた多結晶シリコンを含む請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が本質的に、導電的にドープされた多結晶シリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の少なくとも一部が、導電的にドープされた多結晶シリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域の一部が本質的に、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンから成り、別の部分が本質的に、導電的にドープされた多結晶シリコンからなる請求項61に記載の半導体構造。
- 導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンから本質的に成る前記ソース/ドレイン領域が、導電的にドープされた多結晶シリコンから本質的になる前記ソース/ドレイン領域とゲート的に接続される請求項73に記載の半導体構造。
- 前記非ゲート線領域が、上方へ延伸する前記ソース/ドレイン領域を前記ゲート線格子から隔離する誘電体を含む請求項61に記載の半導体構造。
- 半導体基板と、
前記基板上のゲート線と、
前記基板上の、前記ゲート線によって少なくとも部分的に囲まれている上方へ延伸するソース/ドレイン領域のペアと、前記ソース/ドレイン領域のうちの1つが、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンから本質的に成る第1のソース/ドレイン領域であり、もう1つの前記ソース/ドレイン領域が、導電的にドープされた非エピタキシーャルのシリコンから本質的に成る第2ソース/ドレイン領域であり、前記第1および第2ソース/ドレイン領域が、前記ゲート線によって互いにゲート的に接続され、
前記第1のソース/ドレイン領域あるいは前記第2のソース/ドレイン領域のいずれかに電気的に接続されるメモリストレージ素子と、
前記メモリストレージ素子に電気的に接続されていない前記第1および前記第2ソース/ドレイン領域のいずれかに電気的に接続されるディジットラインと、を備えるメモリ素子構造。 - 前記メモリストレージ素子が、前記第1のソース/ドレイン領域に電気的に接続される請求項76に記載のメモリ素子構造。
- 前記メモリストレージ素子が、前記第2のソース/ドレイン領域に電気的に接続される請求項76に記載のメモリ素子構造。
- 前記ディジットラインおよび前記メモリストレージ素子が、前記第1および前記第2ソース/ドレイン領域の上にある請求項76に記載のメモリ素子構造。
- 前記第1および前記第2のソース/ドレイン領域が、第1の水平方向の横断面の幅及び第2の水平方向の横断面の幅をそれぞれ有し、
前記第1及び第2の水平方向の横断面の幅が、互いにほぼ同じである請求項76に記載のメモリ素子構造。 - 前記第1および前記第の2ソース/ドレイン領域が、第1の水平方向の横断面の幅及び第2の水平方向の横断面の幅をそれぞれ有し、
前記第1及び第2の水平方向の横断面の幅が、互いに同じではない請求項76に記載のメモリ素子構造。 - 前記第2の水平方向の横断面の幅が、前記第1の水平方向の横断面の幅より小さい請求項81に記載のメモリ素子構造。
- 前記第1の水平方向の横断面の幅が、前記第2の水平方向の横断面の幅より小さい請求項81に記載のメモリ素子構造。
- 前記メモリストレージ素子が、キャパシタである請求項81に記載のメモリ素子構造。
- 前記メモリストレージ素子および前記ゲート線が、DRAMセルにともに含まれる請求項81に記載のメモリ素子構造。
- 請求項85に記載の構造を含む電子システム。
- 半導体基板、
前記基板上のゲート線と、
前記基板上の、前記ゲート線によって少なくとも部分的に囲まれている上方へ延伸するソース/ドレイン領域のペアと、前記ソース/ドレイン領域のうちの1つが第1のソース/ドレイン領域であり、もう1つの前記ソース/ドレイン領域が第2のソース/ドレイン領域であり、
前記第1のソース/ドレイン領域に電気的に接続されるメモリストレージ素子と、
前記第2のソース/ドレイン領域に電気的に接続されるディジットラインと、を備え、
前記第1のソース/ドレイン領域が、第1の導電タイプにドープされた最上部の領域と前記第1の導電タイプに相反する第2の導電タイプにドープされた残りの部分とを有し、第1の導電的にドープされた半導体材料から本質的に成り、
前記第1のソース/ドレイン領域が、前記第1の導電タイプにドープされた最上部の領域と前記第2の導電タイプにドープされた残りの部分とを有し、第2の導電的にドープされた半導体材料から本質的に成り、
前記基板が、前記第1及び前記第2のソース/ドレイン領域の間に延伸し、前記第2の導電タイプにドープされたセグメントを含むメモリ素子構造。 - 前記第1の導電タイプがnタイプであり、前記第2の導電タイプがpタイプである請求項87に記載のメモリ素子構造。
- 前記第1の導電タイプがpタイプであり、前記第2の導電タイプがnタイプである請求項87に記載のメモリ素子構造。
- 前記ディジットラインが、前記第2のソース/ドレイン領域上にある請求項87に記載のメモリ素子構造。
- 前記第1及び前記第2の導電的にドープされた半導体材料のうちの1つが、導電的にドープされたエピタキシーャル半導体材料から本質的に成り、
もう1つが、導電的にドープされた非エピタキシーャルの半導体材料から本質的に成る
請求項87に記載のメモリ素子構造。 - 前記第1の導電的にドープされた半導体材料が、導電的にドープされたエピタキシーャル半導体材料から本質的に成る請求項91に記載のメモリ素子構造。
- 前記第2の導電的にドープされた半導体材料が、導電的にドープされたエピタキシーャル半導体材料から本質的に成る請求項91に記載のメモリ素子構造。
- 前記メモリストレージ素子および前記ゲート線が、DRAMセルによってともに含まれる請求項87に記載のメモリ素子構造。
- 請求項94に記載の構造を含む電子システム。
- 半導体基板と、
前記基板上のゲート線と、
前記基板上の、前記ゲート線によって少なくとも部分的に囲まれている上方へ延伸するソース/ドレイン領域のペアと、前記ソース/ドレイン領域のうちの1つが第1のソース/ドレイン領域であり、もう1つの前記ソース/ドレイン領域が第2のソース/ドレイン領域であり、
前記第1のソース/ドレイン領域に電気的に接続されるメモリストレージ素子と、
前記第2のソース/ドレイン領域に電気的に接続されるディジットラインと、を備え、
前記第1のソース/ドレイン領域が、n+にドープされた最上部の領域とn−にドープされた残りの部分とを有する、第1の導電的にドープされた半導体材料から本質的に成り、
前記第2のソース/ドレイン領域が、n+にドープされた最上部の領域とpにドープされた残りの部分とを有する、第2の導電的にドープされた半導体材料から本質的に成り、
前記基板が、
前記第1のソース/ドレイン領域にオーム接続され、n−にドープされた第1の導電的にドープされた拡散領域と、
前記第2のソース/ドレイン領域にオーム接続され、p−にドープされた第2の導電的にドープされた拡散領域と、
前記第1の導電的にドープされた拡散領域から前記第2のの導電的にドープされた拡散領域まで延伸し、p−−にドープされたセグメントと、を含むメモリ素子構造。 - 前記第1及び第2の導電的にドープされた半導体材料が、エピタキシーャルシリコンから本質的に成る請求項96に記載のメモリ素子構造。
- 前記第1及び第2の導電的にドープされた半導体材料のうちの一方が、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンから本質的に成り、
他方が、導電的にドープされた非エピタキシーャルのシリコンから本質的に成る請求項96に記載のメモリ素子構造。 - 前記導電的にドープされた非エピタキシーャルのシリコンが、導電的にドープされた多結晶シリコンである請求項98に記載のメモリ素子構造。
- 前記第2の導電的にドープされた半導体材料が、導電的にドープされたエピタキシーャルシリコンから本質的になる請求項98に記載のメモリ素子構造。
- 前記メモリストレージ素子および前記ゲート線が、DRAM単位セルにともに含まれる
請求項98に記載のメモリ素子構造。 - 請求項101に記載の構造を含む電子システム。
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