JP2008501557A - 支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング - Google Patents

支持体上の低屈折率を有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティング Download PDF

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262828A (ja) * 1985-09-13 1987-03-19 Toray Ind Inc 被覆エポキシ系球状微粒子
JP2011048356A (ja) * 2009-07-30 2011-03-10 Canon Inc 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品
WO2012043425A1 (en) 2010-09-30 2012-04-05 Canon Kabushiki Kaisha Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system
JP2017001934A (ja) * 2015-06-09 2017-01-05 中国南玻集団股▲ふん▼有限公司 Ｓｉ−Ｍｇ−Ａｌゾル、それにコアシェル微細球をドープさせた複合塗膜液及びその作製適用
JP2017203007A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 キヤノンファインテックニスカ株式会社 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液
JP2017203910A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 キヤノンファインテックニスカ株式会社 光学膜
WO2018198935A1 (ja) * 2017-04-27 2018-11-01 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付きガラス物品
JP2021012379A (ja) * 2016-05-12 2021-02-04 キヤノン株式会社 光学膜

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080002259A1 (en) * 2004-09-16 2008-01-03 Hitoshi Ishizawa Mgf2 Optical Thin Film Including Amorphous Silicon Oxide Binder, Optical Element Provided With the Same, and Method for Producing Mgf2 Optical Thin Film
FR2893320B1 (fr) * 2005-11-17 2009-05-29 Univ Paris Curie Oxyfluorure poreux nanostructure
JP5029365B2 (ja) * 2005-11-25 2012-09-19 株式会社村田製作所 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置
WO2008001675A1 (en) 2006-06-27 2008-01-03 Nikon Corporation Optical multilayer thin film, optical element and method for manufacturing optical multilayer thin film
DE102006040200B4 (de) * 2006-08-28 2008-09-04 Webasto Ag Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils
FR2907112B1 (fr) * 2006-10-16 2009-10-02 Eurokera S N C Sa Plaque vitroceramique et son procede de fabrication
JP5029818B2 (ja) * 2007-04-24 2012-09-19 日産化学工業株式会社 コーティング組成物及び光学部材
DE102007025590A1 (de) 2007-05-31 2008-12-04 Ferro Gmbh Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas
US8636845B2 (en) 2008-06-25 2014-01-28 L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Metal heterocyclic compounds for deposition of thin films
US20100180939A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Sharma Pramod K Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same
DE102009056933A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit Farbfilter, Wertdokument mit so einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines solchen Sicherheitselementes
JP5683146B2 (ja) 2010-06-24 2015-03-11 キヤノン株式会社 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法
JP2012230968A (ja) * 2011-04-25 2012-11-22 Hitachi Chem Co Ltd 封止材シート及び太陽電池モジュール
WO2013046157A1 (en) 2011-09-27 2013-04-04 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Nickel bis diazabutadiene precursors, their synthesis, and their use for nickel containing film depositions
RU2015146081A (ru) 2013-03-28 2017-05-04 Керамтек-Этек Гмбх Керамический материал с функциональным покрытием
DE102013010105A1 (de) 2013-06-18 2014-12-18 Ferro Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen
AR100953A1 (es) 2014-02-19 2016-11-16 Tenaris Connections Bv Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo
US10295707B2 (en) 2014-02-27 2019-05-21 Corning Incorporated Durability coating for oxide films for metal fluoride optics
JP6746502B2 (ja) * 2014-05-23 2020-08-26 コーニング インコーポレイテッド 引っ掻き傷および指紋の視認性が低下した低コントラストの反射防止物品
CN104118995B (zh) * 2014-08-07 2016-06-22 威海金太阳光热发电设备有限公司 一种适用于集热管的自清洁减反射膜制备方法
DE102015200948A1 (de) 2015-01-21 2016-07-21 Automotive Lighting Reutlingen Gmbh Verfahren zum Beschichten eines Kunststoffteils mit einem Lack, Lackieranlage zur Ausführung des Verfahrens und Abdeckscheibe einer Kraftfahrzeugbeleuchtungseinrichtung, die nach dem Verfahren beschichtet worden ist
CN105198235B (zh) * 2015-10-28 2018-06-26 浙江鼎昇新材料科技股份有限公司 一种憎水疏油自洁玻璃的制备方法
JP2018049074A (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 キヤノンファインテックニスカ株式会社 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
CN108648883B (zh) * 2018-05-15 2020-08-25 华东师范大学 一种双层减反结构与石墨烯复合的透明导电薄膜制备方法
EP3640687B1 (en) 2018-10-18 2024-12-04 Essilor International Optical article having an interferential coating with a high abrasion-resistance
EP3640688B1 (en) 2018-10-18 2022-10-05 Essilor International Optical article having an interferential coating with an improved abrasion-resistance

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3775161A (en) * 1971-12-23 1973-11-27 Gen Electric Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making
JPS59213643A (ja) * 1983-05-10 1984-12-03 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法
JPH06166501A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Daicel Chem Ind Ltd 酸化物薄膜の作製方法
JPH0769620A (ja) * 1993-08-31 1995-03-14 Nissan Chem Ind Ltd フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法
JPH0959042A (ja) * 1995-06-14 1997-03-04 Toto Ltd 防曇性コーティングを備えた透明基材
JP2000509844A (ja) * 1996-11-12 2000-08-02 矢崎総業株式会社 拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法
JP2001048590A (ja) * 1999-08-04 2001-02-20 Tomoegawa Paper Co Ltd 反射防止材料
JP2001141901A (ja) * 1999-11-12 2001-05-25 Seiko Epson Corp 反射防止膜付き光学部品
JP2003190818A (ja) * 2001-12-18 2003-07-08 Caterpillar Inc 希薄ＮＯｘ排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属または金属酸化物をドープされた酸化物触媒の作成方法
JP2003238894A (ja) * 2002-02-19 2003-08-27 Jsr Corp 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材
JP2004099879A (ja) * 2002-08-21 2004-04-02 Jsr Corp コーティング用組成物
JP2005518272A (ja) * 2002-02-26 2005-06-23 クレアヴィス ゲゼルシャフト フュア テヒノロギー ウント イノヴェイション ミット ベシュレンクテル ハフツング ポリマー繊維又は天然繊維を有する支持体をベースとするセラミック膜、その製造方法及び使用
JP4457557B2 (ja) * 2000-08-30 2010-04-28 株式会社ニコン 光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2869227A (en) * 1955-07-01 1959-01-20 Armour Res Found Process of coating and hot working of metals
US3356523A (en) * 1964-02-10 1967-12-05 Mc Donnell Douglas Corp Polystyrene film containing an antireflection coating
JPS58118602A (ja) * 1982-01-08 1983-07-14 Asahi Optical Co Ltd プラスチツク製光学素材
JPS58208711A (ja) * 1982-05-31 1983-12-05 Shigeo Kubo 多層膜反射鏡
JPH0642003B2 (ja) * 1983-09-20 1994-06-01 オリンパス光学工業株式会社 光学部品の反射防止膜とその形成方法
EP0195493B1 (en) * 1985-03-22 1993-03-24 Toray Industries, Inc. Transparent article and process for preparation thereof
EP0416119A4 (en) * 1989-02-23 1992-08-12 Asahi Glass Company Ltd. Formation of thin magnesium fluoride film and low-reflection film
US5135808A (en) * 1990-09-27 1992-08-04 Diamonex, Incorporated Abrasion wear resistant coated substrate product
DE4212633A1 (de) * 1992-04-15 1993-10-21 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver
US5688608A (en) * 1994-02-10 1997-11-18 Industrial Technology Research Institute High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating
FR2727103B1 (fr) * 1994-11-23 1996-12-27 Kodak Pathe Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel
DE19655363B4 (de) * 1995-03-20 2007-05-24 Toto Ltd., Kitakyushu Verwendung eines Verbundstoffes um ein Beschlagen der Oberflächen zu verhindern
DE19512427A1 (de) * 1995-04-03 1996-10-10 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Kompositklebstoff für optische und optoelektronische Anwendungen
JP4569938B2 (ja) * 1998-12-09 2010-10-27 日産化学工業株式会社 ハードコート剤及びこれを用いたフィルム
WO2002019050A1 (en) * 2000-09-01 2002-03-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Current mirror circuit
TWI249164B (en) * 2001-11-22 2006-02-11 Tdk Corp Optical recording medium
DE10208208B4 (de) * 2002-02-26 2012-03-08 Eaton Industries Gmbh Bausatz aus mehreren Bausatzelementen und einer Welle
US20040006249A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-08 Showa Denko K.K., Nikon Corporation Fluorination treatment apparatus, process for producing fluorination treated substance, and fluorination treated substance
WO2004018579A1 (ja) * 2002-08-21 2004-03-04 Jsr Corporation コーティング用組成物

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3775161A (en) * 1971-12-23 1973-11-27 Gen Electric Electric lamp envelope having clear protective coating and method of making
JPS59213643A (ja) * 1983-05-10 1984-12-03 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法
JPH06166501A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Daicel Chem Ind Ltd 酸化物薄膜の作製方法
JPH0769620A (ja) * 1993-08-31 1995-03-14 Nissan Chem Ind Ltd フッ化ナトリウムマグネシウムゾル、微粉末及びその製造法
JPH0959042A (ja) * 1995-06-14 1997-03-04 Toto Ltd 防曇性コーティングを備えた透明基材
JP2000509844A (ja) * 1996-11-12 2000-08-02 矢崎総業株式会社 拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法
JP2001048590A (ja) * 1999-08-04 2001-02-20 Tomoegawa Paper Co Ltd 反射防止材料
JP2001141901A (ja) * 1999-11-12 2001-05-25 Seiko Epson Corp 反射防止膜付き光学部品
JP4457557B2 (ja) * 2000-08-30 2010-04-28 株式会社ニコン 光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子
JP2003190818A (ja) * 2001-12-18 2003-07-08 Caterpillar Inc 希薄ＮＯｘ排気ガス後処理システムに高脱硝選択性を有する金属または金属酸化物をドープされた酸化物触媒の作成方法
JP2003238894A (ja) * 2002-02-19 2003-08-27 Jsr Corp 摺動部材用コーティング組成物および摺動部材
JP2005518272A (ja) * 2002-02-26 2005-06-23 クレアヴィス ゲゼルシャフト フュア テヒノロギー ウント イノヴェイション ミット ベシュレンクテル ハフツング ポリマー繊維又は天然繊維を有する支持体をベースとするセラミック膜、その製造方法及び使用
JP2004099879A (ja) * 2002-08-21 2004-04-02 Jsr Corp コーティング用組成物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IAN M.THOMAS, APPLIED OPTICS, vol. V27 N16, JPN5007013997, 15 August 1998 (1998-08-15), pages 3356 - 3358, ISSN: 0001791393 *

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262828A (ja) * 1985-09-13 1987-03-19 Toray Ind Inc 被覆エポキシ系球状微粒子
JP2011048356A (ja) * 2009-07-30 2011-03-10 Canon Inc 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品
WO2012043425A1 (en) 2010-09-30 2012-04-05 Canon Kabushiki Kaisha Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system
US9359511B2 (en) 2010-09-30 2016-06-07 Canon Kabushiki Kaisha Coating solution for producing optical film, method for producing the coating solution, method for manufacturing optical component, and imaging optical system
JP2017001934A (ja) * 2015-06-09 2017-01-05 中国南玻集団股▲ふん▼有限公司 Ｓｉ−Ｍｇ−Ａｌゾル、それにコアシェル微細球をドープさせた複合塗膜液及びその作製適用
JP2017203007A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 キヤノンファインテックニスカ株式会社 トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液
JP2017203910A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 キヤノンファインテックニスカ株式会社 光学膜
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