JP2008279334A5

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Publication number: JP2008279334A5
Application number: JP2007124152A
Authority: JP
Filing date: 2007-05-09
Publication date: 2009-09-17
Anticipated expiration: 2027-05-09

Claims

希薄燃焼機関から排出される排気ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を、還元剤のアンモニアまたは尿素によって選択的に還元する機能と、一酸化窒素（ＮＯ）をＮＯ _２に酸化する機能と、余剰のアンモニアを酸化する機能とを有する選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）であって、
一体構造型担体（Ｃ）の表面に下記成分（ｉ）、（ｉｉ）、及び（ｉｉｉ）を含む組成物からなる下層触媒層（Ａ）と、下記成分（ｉ）を含まず成分（ｉｉｉ）を含む上層触媒層（Ｂ）とを被覆していることを特徴とする選択還元型触媒。
（ｉ）白金、
（ｉｉ）アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化タングステン、遷移金属酸化物、希土類酸化物、またはこれらの複合酸化物から選ばれる一種以上、
（ｉｉｉ）ゼオライト
下層触媒層（Ａ）の成分（ｉ）の含有量が、一体構造型担体（Ｃ）の単位体積あたり０．０５〜３ｇ／Ｌであることを特徴とする請求項１に記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）中の成分（ｉｉ）の含有量が、一体構造型担体（Ｃ）の単位体積あたり５〜８０ｇ／Ｌであることを特徴とする請求項１又は２に記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）又は上層触媒層（Ｂ）中の成分（ｉｉｉ）が、ベータ型ゼオライト及び／またはＭＦＩ型ゼオライトを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）又は上層触媒層（Ｂ）中の成分（ｉｉｉ）が、鉄成分またはセリウム成分の少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）中の成分（ｉｉｉ）の含有量が、一体構造型担体（Ｃ）の単位体積あたり５〜８０ｇ／Ｌであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）又は上層触媒層（Ｂ）は、助触媒成分として下記成分（ｉｖ）をさらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の選択還元型触媒。
（ｉｖ）希土類酸化物、遷移金属酸化物、酸化スズまたはこれらの複合酸化物から選ばれる一種以上
下層触媒層（Ａ）及び上層触媒層（Ｂ）の厚さが、いずれも実質的に５〜２００μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の選択還元型触媒。
下層触媒層（Ａ）が一体構造型担体（Ｃ）に被覆され、更にその直上に上層触媒層（Ｂ）が前記排気ガス流に直接接触する最表面層となるように被覆されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の選択還元型触媒。
上層触媒層（Ｂ）中の成分（ｉｉｉ）の含有量が、一体構造型担体（Ｃ）の単位体積あたり１０〜１６０ｇ／Ｌであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の選択還元型触媒。
排気ガス流路に、一酸化窒素、炭化水素の酸化機能を有する酸化触媒（ＤＯＣ）と、その後段に請求項１〜１０のいずれかに記載の酸化機能層を有する選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）を配置した排気ガス浄化触媒装置であって、
前記酸化触媒の下流、かつ前記選択還元型触媒の上流側に、尿素水溶液もしくはアンモニア水溶液を供給するための噴霧手段が配置されていることを特徴とする排気ガス浄化触媒装置。
前記酸化機能層を有する選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）の上流、かつ前記噴霧手段の下流に、さらに実質的に酸化機能層を有さない選択還元触媒（ＳＣＲ）を配置したことを特徴とする請求項１１に記載の排気ガス浄化触媒装置。
請求項１１に記載の排気ガス浄化触媒装置を用いて、希薄燃焼機関から排出される排気ガスを前記酸化触媒（ＤＯＣ）に通過させ、排気ガス中の一酸化窒素を二酸化窒素に転化した後、尿素水溶液またはアンモニア成分を噴霧供給して、前記選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）を通過させることで、排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化することを特徴とする排気ガス浄化方法。
請求項１２に記載の排気ガス浄化触媒装置を用いて、希薄燃焼機関から排出される排気ガスを前記酸化触媒（ＤＯＣ）に通過させ、排気ガス中の一酸化窒素を二酸化窒素に転化した後、尿素水溶液またはアンモニア成分を噴霧供給して、前記選択還元触媒（ＳＣＲ）を通過させることで、排気ガス中の窒素酸化物を還元し、さらに、前記選択還元型触媒（ＳＲＯＣ）を通過させることで、排気ガス中の余剰アンモニアを酸化浄化することを特徴とする排気ガス浄化方法。