JP2007287718A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ゲート電極5は、そのゲート幅方向の両端部が活性領域から平面視的に突出するように配設されている。そして、当該両端部の下部に対応するSOI基板SBの表面内には部分トレンチ分離絶縁膜8が配設され、ゲート電極5のゲート幅方向両端部外方のSOI基板SBの表面内には、それぞれ部分トレンチ分離絶縁膜8に隣接してボディコンタクト領域21が配設されている。ボディコンタクト領域21とボディ領域とは、部分トレンチ分離絶縁膜8下のSOI層(ウエル領域)を介して電気的に繋がる。また、ソース領域31の表面内には、ゲート電極5のゲート幅方向のほぼ中央部近傍に、P型の不純物が比較的高濃度に導入されたソースタイ領域4が配設されている。
【選択図】図1
Description
<A−1.第1の態様>
まず、本発明に係る半導体装置の実施の形態1の第1の態様について、図1に示すMOSトランジスタ100を例として説明する。
図1はMOSトランジスタ100の構成を示す平面図である。
図1に示すようにMOSトランジスタ100は、ゲート電極5のゲート長方向の両側面外方のSOI基板SBの表面内に、N型不純物を比較的高濃度に導入した、電極領域であるソース領域31およびドレイン領域32を有するNチャネル型MOSトランジスタ(NMOSトランジスタ)であり、ソース領域31およびドレイン領域32間のボディ領域(その表面がチャネル領域となるが、何れも図示せず)上にゲート絶縁膜(図示せず)を介してゲート電極5が配設されている。
図2に示すように、SOI基板SBは、シリコン基板1上に埋め込み酸化膜2およびSOI層3が順に積層され、SOI層3の表面内にソース領域31およびドレイン領域32が配設され、ソースタイ領域4はソース領域31のドレイン領域32に対向する側面の先端部に部分的に設けられている。
図3に示すように、ソースタイ領域4が設けられた以外の部分では、ソース領域31およびドレイン領域32の、互いに対向する側面の外側にそれぞれ設けられたN型のLDD(lightly doped drain)領域33に挟まれるようにP型不純物を比較的低濃度に含むボディ領域30が存在しているが、図2に示すようにソースタイ領域4が設けられた部分ではボディ領域30がソースタイ領域4に接触するように延在している。従って、ボディ領域30の電位をソースタイ領域4を通して固定することができる。
図4に示すように、部分トレンチ分離絶縁膜8の底部と埋め込み酸化膜2との間には、ウエル領域9が存在し、ボディコンタクト領域21とボディ領域30とを電気的に接続する構成となっている。なお、ウエル領域9とボディ領域30とは基本的に同じ導電型の不純物を含むので同じ不純物領域と言えるが、役割が異なるので区別している。また、部分トレンチ分離絶縁膜8下のウエル領域9の不純物濃度をボディ領域30よりも高める場合もあり、その場合は明らかに異なった不純物領域となるので区別している。
以上説明したMOSトランジスタ100においては、ゲート電極5のゲート幅方向両端部外方にそれぞれ設けた2つのボディコンタクト領域21を通じてのボディ領域30の電位固定に加えて、さらに、ソースタイ領域4を通じてボディ領域30の電位固定を行うので、どちらか一方だけによる電位固定に比べて、ボディ領域30の電位固定効果をより高めることができる。
以上説明した第1の態様のMOSトランジスタ100においては、図2および図3を用いて説明したように、ソースタイ領域4はソース領域31のドレイン領域32に対向する側面の先端部に部分的に設けられ、ソースタイ領域4がドレイン領域32側のLDD領域33に対面する構成となっていたが、図7に示すように、ソースタイ領域4の前部、すなわちソースタイ領域4のソース領域31とは反対側に、ソースタイ領域4に接するようにソースタイ領域4と同じ導電型(ここではP型)の前部半導体領域10を設けた構成としても良い。
次に、本発明に係る半導体装置の実施の形態1の第3の態様について、図8に示すMOSトランジスタ100Aを例として説明する。
図8に示すようにMOSトランジスタ100Aは、図1に示したMOSトランジスタ100と基本的には同じであるが、MOSトランジスタ100Aのゲート電極5aは、ゲート電極5よりも長く、それに合わせてソース領域31aおよびドレイン領域32aも、ソース領域31およびドレイン領域32よりも長く形成されている。また、ゲート電極5aに沿って3つのソースタイ領域4が一列に間隔を開けて配設されている。
次に、本発明に係る実施の形態1の第3の態様について、図9に示すMOSトランジスタ100Bを例として説明する。
図9に示すようにMOSトランジスタ100Bは、図1に示したMOSトランジスタ100と基本的には同じであるが、MOSトランジスタ100Aのゲート電極5aは、ゲート電極5よりも長く、それに合わせてソース領域31aおよびドレイン領域32aも、ソース領域31およびドレイン領域32よりも長く形成されている。また、ゲート電極5aに沿って3つのソースタイ領域4が一列に間隔を開けて配設されている。
次に、本発明に係る実施の形態1の第4の態様について、図10に示すMOSトランジスタ100Cを例として説明する。
図10に示すようにMOSトランジスタ100Cは、図1に示したMOSトランジスタ100とは異なり、活性領域から平面視的に突出するように配設されたゲート電極5aのゲート幅方向の両端部のうち、一方の端部の下部に対応するSOI基板SBの表面内に部分トレンチ分離絶縁膜8が配設され、この部分以外の活性領域の周囲の他の部分には、ゲート電極5aの他方の端部の下部を含めて完全トレンチ分離絶縁膜FTが配設されている。
<A−5−1.装置構成>
次に、本発明に係る実施の形態1の第5の態様について、図11に示すMOSトランジスタ100Dを例として説明する。
図11に示すようにMOSトランジスタ100Dは、図1に示したMOSトランジスタ100を2つ、ゲート長方向に平列して配設した構成を有しており、ゲート長方向に並列して配設された2つのゲート電極5を有し、ゲート電極5の間のSOI基板SBの表面内には、N型不純物を比較的高濃度に導入したソース領域31bが配設され、ソース領域31bとは反対側のゲート電極5の側面外方のSOI基板SBの表面内には、N型不純物を比較的高濃度に導入したドレイン領域32bが配設されている。従って、MOSトランジスタ100Dは2つのNMOSトランジスタが並列に接続された構成となるが、便宜的に1つのトランジスタとして扱う。
次に、以上説明した第5の態様のMOSトランジスタ100Dを、半導体集積回路に適用する場合の平面レイアウトの一例について説明する。
すなわち、図14においては、CMOSインバータの平面レイアウトを示しており、ゲート長方向に並列に配設された6個のPMOSトランジスタP1の配列と、同じく、ゲート長方向に並列に配設された6個のNMOSトランジスタN1の配列とが、ゲート幅方向に並列するように配設されている。
次に、本発明に係る実施の形態1の第6の態様について、図15に示すPMOSトランジスタP10およびNMOSトランジスタN10を例として説明する。
以上説明した本発明に係る実施の形態1においては、ソースタイ領域を通じてボディ領域の電位固定を行うことに加え、ゲート電極のゲート幅方向の両端部外方、あるいは一方端部の外方に設けたボディコンタクト領域を通じてのボディ領域の電位固定を行う構成を示したが、ソースタイ領域を通じてのみボディ領域の電位固定を行う構成だけでも、ボディ領域の電位固定効果を奏する。
まず、本発明に係る実施の形態2の第1の態様について、図16に示すMOSトランジスタ200を例として説明する。
図16に示すようにMOSトランジスタ200は、ゲート電極5aのゲート長方向の両側面外方のSOI基板SBの表面内に、N型不純物を比較的高濃度に導入した、ソース領域31aおよびドレイン領域32aを有するNMOSトランジスタであり、ソース領域31aおよびドレイン領域32a間のボディ領域(図示せず)上にゲート絶縁膜(図示せず)を介してゲート電極5aが配設されている。
次に、本発明に係る実施の形態2の第2の態様について、図17に示すMOSトランジスタ200Aを例として説明する。
図17に示すようにMOSトランジスタ200Aは、MOSトランジスタを2つ、ゲート長方向に平列して配設した構成を有しており、ゲート長方向に並列して配設された2つのゲート電極5を有し、ゲート電極5の間のSOI基板SBの表面内には、N型不純物を比較的高濃度に導入したソース領域31bが配設され、ソース領域31bとは反対側のゲート電極5の側面外方のSOI基板SBの表面内には、N型不純物を比較的高濃度に導入したドレイン領域32bが配設されている。従って、MOSトランジスタ200Aは2つのNMOSトランジスタが並列に接続された構成となるが、便宜的に1つのトランジスタとして扱う。
次に、本発明に係る実施の形態2の第3の態様について、図18に示すPMOSトランジスタP20およびNMOSトランジスタN20を例として説明する。
次に、本発明に係る実施の形態1および2において説明したソースタイ領域の形成方法について、工程を順に示す断面図である図19〜図27を用いて説明する。
Claims (10)
- 半導体基板、前記半導体基板上に形成された埋め込み酸化膜および前記埋め込み酸化膜上に配設された第1導電型のSOI層を有するSOI基板と、
前記SOI層上に配設される少なくとも1つのMOSトランジスタとを備え、
前記少なくとも1つのMOSトランジスタは、
前記SOI層の表面内に選択的に配設された第2導電型の第1の電極領域および第2の電極領域と、
前記第1の電極領域と前記第2の電極領域とで挟まれた前記SOI層の領域に相当する第1導電型のボディ領域と、
前記ボディ領域上に配設されるゲート電極と、
前記第1の電極領域、前記第2の電極領域および前記ボディ領域で構成される活性領域の周辺領域のうち、前記ゲート電極のゲート幅方向の両端部のうち少なくとも一方の端部の下部に対応する前記SOI層表面内に選択的に配設された部分分離絶縁膜と、
前記部分分離絶縁膜に隣接するように、前記SOI層の表面内に配設された半導体領域と、
前記ゲート電極近傍の前記第1の電極領域の表面内に選択的に配設され、前記ボディ領域に電気的に接続される第1導電型の少なくとも1つの電極領域内半導体領域と、を備え、
前記部分分離絶縁膜は、その下部に前記ボディ領域から連続する前記SOI層を有し、
前記半導体領域は、前記部分分離絶縁膜下の前記SOI層に接触し、
前記活性領域の周辺領域のうち、部分分離絶縁膜の配設領域以外の領域は、前記SOI層を貫通して前記埋め込み酸化膜に達する完全分離絶縁膜で囲まれる、半導体装置。 - 半導体基板、前記半導体基板上に形成された埋め込み酸化膜および前記埋め込み酸化膜上に配設された第1導電型のSOI層を有するSOI基板と、
前記SOI層上に配設される少なくとも1つのMOSトランジスタとを備え、
前記少なくとも1つのMOSトランジスタは、
前記SOI層の表面内に選択的に配設された第2導電型の第1の電極領域および第2の電極領域と、
前記第1の電極領域と前記第2の電極領域とで挟まれた前記SOI層の領域に相当する第1導電型のボディ領域と、
前記ボディ領域上に配設されるゲート電極と、
前記ゲート電極近傍の前記第1の電極領域の表面内に、前記ゲート電極に沿って間隔を開けて配列され、前記ボディ領域に電気的に接続される第1導電型の複数の電極領域内半導体領域と、を備え、
前記第1の電極領域、前記第2の電極領域および前記ボディ領域で構成される活性領域の周辺領域は、前記SOI層を貫通して前記埋め込み酸化膜に達する完全分離絶縁膜で囲まれ、
前記複数の電極領域内半導体領域は、
配列の両端のそれぞれから、最も近い前記活性領域の端縁部までの第1の長さが、電極領域内半導体領域間の第2の長さの半分になるように配列される、半導体装置。 - 前記部分分離絶縁膜は、
前記ゲート電極のゲート幅方向の両端部の下部に対応する前記SOI層表面内に選択的に配設され、
前記少なくとも1つの電極領域内半導体領域は、前記ゲート電極に沿って間隔を開けて配列された複数の電極領域内半導体領域を含み、
前記複数の電極領域内半導体領域は、
電極領域内半導体領域間の長さと、配列の両端から最も近い前記活性領域の端縁部までの長さとが、同じになるように配列される、請求項1記載の半導体装置。 - 前記部分分離絶縁膜は、
前記ゲート電極のゲート幅方向の両端部の下部に対応する前記SOI層表面内に選択的に配設され、
前記少なくとも1つの電極領域内半導体領域は、前記ゲート電極に沿って間隔を開けて配列された複数の電極領域内半導体領域を含み、
前記複数の電極領域内半導体領域は、
配列の両端のそれぞれから、最も近い前記活性領域の端縁部までの第1の長さが、電極領域内半導体領域間の第2の長さよりも短くなるように配列される、請求項1記載の半導体装置。 - 前記第1の長さが、前記第2の長さの半分に設定される、請求項2または請求項4記載の半導体装置。
- 前記部分分離絶縁膜は、
前記ゲート電極のゲート幅方向の両端部のうち、一方の端部の下部に対応する前記SOI層表面内に選択的に配設され、
前記少なくとも1つの電極領域内半導体領域は、前記ゲート電極に沿って間隔を開けて配列された複数の電極領域内半導体領域を含み、
前記複数の電極領域内半導体領域は、
前記部分分離絶縁膜が配設された側の配列の端部から、最も近い前記活性領域の端縁部までの第1の長さが、前記電極領域内半導体領域間の第2の長さよりも短く、
前記部分分離絶縁膜が配設された側とは反対の配列の端部から、最も近い前記活性領域の端縁部までの第3の長さが、前記第1の長さよりも短くなるように配列される、請求項1記載の半導体装置。 - 前記少なくとも1つのMOSトランジスタは、
それぞれのゲート電極がゲート長方向に並列して配設された複数のMOSトランジスタを含み、
前記複数のMOSトランジスタは、隣り合うMOSトランジスタにおいて前記第1の電極領域を互いに共有するように配設される、請求項1または請求項2記載の半導体装置。 - 前記隣り合うMOSトランジスタの、互いに共有する前記第1の電極領域に設けられた前記電極領域内半導体領域は、前記ゲート電極間に連続して延在するように配設される、請求項7記載の半導体装置。
- 前記少なくとも1つのMOSトランジスタは、
前記第1導電型がP型で、前記第2導電型がN型のNチャネル型MOSトランジスタと、
前記第1導電型がN型で、前記第2導電型がP型のPチャネル型MOSトランジスタとを含み、
前記Nチャネル型MOSトランジスタおよび前記Pチャネル型MOSトランジスタの前記少なくとも1つの電極領域内半導体領域は、前記ゲート電極に沿って間隔を開けて配列された複数の電極領域内半導体領域を含み、
前記Nチャネル型MOSトランジスタにおける前記電極領域内半導体領域の配設間隔は、前記Pチャネル型MOSトランジスタにおける前記電極領域内半導体領域の配設間隔よりも狭く設定される、請求項1または請求項2記載の半導体装置。 - 前記SOI層の表面内に選択的に配設され、前記電極領域内半導体領域の、前記第2の電極領域側側面から前記ゲート電極下部まで延在する第1導電型の前部半導体領域をさらに備え、
前記前部半導体領域の不純物濃度は、前記SOI層よりも高く、前記電極領域内半導体領域よりも低く設定される、請求項1または請求項2記載の半導体装置。
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