JP2007242854A - 基板処理装置の制御装置および基板処理装置の制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】データベース250は,通常モードから省エネモード(節約モード,休眠モード,冬眠モード)への移行時間A,省エネモードから通常モードへの復旧時間BをPM400に設けられたユニット毎に予め記憶している。管理部270は,記憶された各ユニットの省エネ移行時間Aおよび省エネ復旧時間Bに基づき,省エネ開始タイマ285a,省エネ終了タイマ285bを用いて,ユニット毎の省エネモードへの移行開始時刻,省エネモードからの復旧開始時刻を管理する。ユニット制御部260は,移行開始時刻および復旧開始時刻に応じて各ユニットを通常モードから省エネモードまで移行させ,省エネモードから通常モードまで復旧させるように各ユニットを独立してそれぞれ制御する。
【選択図】図13
Description
まず,本発明の第1実施形態にかかる制御装置を用いた基板処理システムについて,図1を参照しながら説明する。なお,本実施形態では,本システムを用いた処理の一例として成膜処理およびエッチング処理を例に挙げて説明する。
まず,基板処理システムの全体構成について,図1を参照しながら説明する。
基板処理システム10は,MES(Manufacturing Execution System)100,EC(Equipment Controller)200,スイッチングハブ650,n個のMC(Module Controller)300a〜300n,DIST(Distribution)ボード750およびPM(Process Module)400a〜400nを有している。
図2に示したように,EC200は,ROM205,RAM210,CPU215,バス220,内部インタフェース(内部I/F)225および外部インタフェース(外部I/F)230を有している。
図3に示したように,PM400(基板処理装置に相当)は,ウエハWを搬入出させる搬送システムHとウエハWに対して成膜処理またはエッチング処理を行う処理システムSとを有している。搬送システムHと処理システムSとは,ロードロック室405(LLM(Load Lock Module)405a,405b)を介して連結されている。
(LLMの内部構成および機能)
つぎに,成膜処理を実行する場合のPMの内部構成および機能について,図5に模式的に示したPMの縦断面図を参照しながら説明する。
つぎに,エッチング処理を実行したウエハWに対してCOR(Chemical Oxide Removal)処理およびPHT(Post Heat Treatment)処理を行う場合のPMの内部構成および機能について,図6,図7に模式的に示したPMの縦断面図を参照しながら説明する。COR処理は,ウエハWをエッチング処理後にエッチングした凹部の内面に付着した自然酸化膜(SiO2膜)と処理ガスのガス分子とを化学反応させ,反応生成物を生成させる処理であり,PHT処理は,COR処理後のウエハWを加熱して,COR処理を示す。
つぎに,EC200の各機能について,各機能をブロックにて示した図8を参照しながら説明する。EC200は,データベース250,入力部255,ユニット制御部260,ユニット選択部265,管理部270,セットアップ実行部275,基板処理制御部280,省エネ開始タイマ285a,省エネ終了タイマ285b,通信部290および出力部295の各ブロックにより示される機能を有している。
つぎに,EC200の動作について,図10〜図12を参照しながら説明する。図10は,EC200が実行する省エネ処理(メインルーチン)を示したフローチャートである。図11は,図10のメインルーチンにて呼び出される省エネモード移行処理(節約モード移行処理,休眠モード移行処理,冬眠モード移行処理)を示したフローチャートである。図12は,図10のメインルーチンにて呼び出される省エネモード復旧処理(節約モード復旧処理,休眠モード復旧処理,冬眠モード復旧処理)を示したフローチャートである。
オペレータが省エネスタートボタンを「ON」すると(または,ロット処理終了後,自動的に),図10のステップ1000から省エネ処理が開始され,ステップ1005に進んで,管理部270は,省エネ開始タイマ285aに「0」を設定する。
各移行処理は,図11のステップ1100から処理が開始され,ステップ1105に進むと,管理部270は,オートセットアップ処理を実行するか否かを判定する。オートセットアップ処理の実行が指定されている場合,セットアップ実行部275は,ステップ1110に進み,一連のセットアップ用レシピにしたがって,オートセットアップ処理を実行した後,ステップ1115に進む。一方,オートセットアップ処理の実行が指定されていない場合,管理部270は,直ちにステップ1115に進む。
各復旧処理は,図12のステップ1200から処理が開始され,ステップ1205に進むと,管理部270は,省エネ終了タイマ285bが省エネモード復旧時間Te以上であるか否かを判定し,省エネモード復旧時間Teを経過したら,ステップ1210に進む。ユニット選択部265は,ステップ1210にて,指定されたユニットを指定された省エネモードから復旧するように制御し,ステップ1215に進む。
つぎに,第2実施形態にかかる基板処理システム10について説明する。第2実施形態にかかる基板処理システム10では,省エネモードへ移行してから省エネモードからの復旧が「終了」するまでの時間を管理する点において,省エネモードへ移行してから省エネモードからの復旧を「開始」するまでの時間を管理する第1実施形態にかかる基板処理システム10と動作上相異する。よって,この相違点を中心に本実施形態にかかる基板処理システム10のEC200の動作について,図14を参照しながら説明する。
図14は,図10の省エネ処理(メインルーチン)のステップ1035,1040,1045にて呼び出される本実施形態の省エネモード復旧処理(節約モード復旧処理,休眠モード復旧処理,冬眠モード復旧処理)を示したフローチャートである。
オペレータが省エネスタートボタンを「ON」すると(または,ロット処理終了後,自動的に),図10のステップ1000から省エネ処理が開始され,ステップ1005,1010に続くステップ1015,1020,1025にて図11の省エネ移行処理が実行され,ステップ1030にて「YES」と判定して,ステップ1035,1040,1045にて省エネ復旧処理が実行される。
各復旧処理は,図14のステップ1400から処理が開始され,ステップ1405に進んで,管理部270は,データベース250に記憶された省エネ復旧時間Bのうち,ユニット選択部265により選択された各ユニットの省エネ復旧時間Bの最大値をThmaxに設定して(図15参照),ステップ1410に進む。
つぎに,第3実施形態にかかる基板処理システム10について説明する。第3実施形態にかかる基板処理システム10では,所定の条件を満たす場合,選択された各ユニットに対して省エネ処理を実行しない点において,選択された各ユニットに対して必ず省エネ処理を実行する第2実施形態にかかる基板処理システム10と動作上相異する。よって,この相違点を中心に本実施形態にかかる基板処理システム10のEC200の動作について,図16を参照しながら説明する。
図16は,図10の省エネ処理(メインルーチン)にて呼び出される省エネモード移行処理(節約モード移行処理,休眠モード移行処理,冬眠モード移行処理)を示したフローチャートである。
オペレータが省エネスタートボタンを「ON」すると(または,ロット処理終了後,自動的に),図10のステップ1000から省エネ処理が開始され,ステップ1005,1010に続くステップ1015,1020,1025にて図16の省エネ移行処理が実行される。
各移行処理は,図16のステップ1600から処理が開始され,ステップ1105,1110にてオートセットアップ処理が実行され,ステップ1405にて,管理部270は,データベース250に記憶された省エネ復旧時間Bのうち,ユニット選択部265により選択された各ユニットの省エネ復旧時間Bの最大値をThmaxに設定してステップ1605に進む。
200 EC
250 データベース
260 ユニット制御部
260a LLMユニット制御部
260a1 ドライポンプ制御部
260a2 N2パージ制御部
260a3 ヒータ温度制御部
260b PMユニット制御部
260b1 ドライポンプ制御部
260b2 N2パージ制御部
260b3 ヒータ温度制御部
260b4 チラー流量制御部
260b5 PM電源制御部
265 ユニット選択部
270 管理部
275 セットアップ実行部
280 基板処理制御部
285a 省エネ開始タイマ
285b 省エネ終了タイマ
290 通信部
Claims (15)
- 被処理基板を処理する処理室と前記処理室内の状態を整えるために設けられた複数のユニットとを備えた基板処理装置を制御する制御装置であって,
各ユニットの状態が,エネルギーの消費を抑えた省エネモードから被処理基板の処理が可能な通常モードまで復旧するために必要な時間を復旧時間として前記ユニット毎に記憶する記憶部と,
前記記憶部に記憶された各ユニットの復旧時間に基づき,省エネモードから通常モードまで復旧するために要する時間を見込んで省エネモードにあるユニットの復旧を開始する時刻をユニット毎に求める管理部と,
前記管理部により求められたユニット毎の復旧開始時刻に応じて省エネモードにあるユニットを通常モードまで復旧させるように各ユニットを独立してそれぞれ制御するユニット制御部と,を備える基板処理装置の制御装置。 - 前記ユニット制御部は,
前記管理部により求められた復旧開始時刻に応じて各ユニットを制御する代わりに,指定された復旧終了時間までに前記省エネモードからの復旧を完了するように各ユニットをそれぞれ制御する請求項1に記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記ユニット制御部は,
前記処理室内の状態に影響を与えない範囲でエネルギーの消費を抑えながら各ユニットを制御する第1の省エネモード,前記処理室内の状態に影響を与える範囲でエネルギーの消費を抑えながら各ユニットを制御する第2の省エネモードおよび全ユニットを停止する第3の省エネモードのうち,ユーザの選択または自動選択により指定されたいずれかの省エネモードになるように各ユニットをそれぞれ制御する請求項1または請求項2のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記ユニット制御部は,
各ユニットが前記省エネモードの状態に安定する時間の長さに基づいて,第1,第2および第3の省エネモードのうち,いずれかの省エネモードを自動選択する請求項3に記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記記憶部は,
前記各ユニットの状態が,通常モードから省エネモードまで移行するために必要な時間を移行時間として前記ユニット毎に記憶し,
前記管理部は,
通常モードから省エネモードへの移行を開始した後,省エネモードから通常モードへの復旧を完了するまでの時間と,前記記憶部に記憶された移行時間および復旧時間と,から各ユニットが省エネモードの状態に安定している時間を求め,
前記ユニット制御部は,
前記管理部により求められた省エネモードの安定時間が所定時間以下の場合または前記省エネモードの安定時間によっては各ユニットの省エネ効果が得られないと判断した場合の少なくともいずれかの場合には,該当ユニットを指定された省エネモードに制御することなく通常モードのまま制御する請求項3または請求項4のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - さらに,通常モードから省エネモードへの移行開始前および省エネモードから通常モードへの復旧完了後に,前記基板処理装置を自動的にセットアップするセットアップ実行部を備える請求項5に記載された基板処理装置の制御装置。
- 前記ユニット制御部は,
前記第1の省エネモードが選択された場合,排気系ユニットの回転数の制御,ガス供給ユニットから排気系ユニットへ供給するパージガスの供給制御,冷却ユニットから供給される媒質の流量制御,の少なくともいずれかを制御する請求項3〜請求項6のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記ユニット制御部は,
前記第2の省エネモードが選択された場合,前記第1の省エネモードが選択された場合に制御可能な前記ユニットの制御に加え,温度調整ユニットの温度制御,ガス供給ユニットから基板処理装置内へ供給するパージガスの供給制御,排気系ユニットの回転停止および再起動制御,の少なくともいずれかを制御する請求項7に記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記ユニット制御部は,
前記第3の省エネモードが選択された場合,基板処理装置の電源ユニットの切断および投入を制御する請求項3〜請求項8のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記制御装置は,
複数の基板処理装置を制御し,
前記ユニット制御部は,
基板処理装置毎に設けられた複数のユニットを,ユーザの選択または自動選択により基板処理装置単位でそれぞれ指定された省エネモードになるように,基板処理装置毎にそれぞれ制御する請求項3〜請求項9のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記基板処理装置は,
前記処理室に連設される気密室の状態を整えるために設けられた複数のユニットを備え,
前記制御装置のユニット制御部は,
前記処理室に設けられた複数のユニットとともに前記気密室に設けられた複数のユニットを制御する請求項1〜10のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 前記基板処理装置は,
真空系の基板処理装置である請求項1〜11のいずれかに記載された基板処理装置の制御装置。 - 被処理基板を処理する処理室と前記処理室内の状態を整えるために設けられた複数のユニットとを備えた基板処理装置を制御する制御方法であって,
各ユニットの状態が,エネルギーの消費を抑えた省エネモードから被処理基板の処理が可能な通常モードまで移行するために必要な時間を復旧時間として前記ユニット毎に記憶部に記憶し,
前記記憶部に記憶された各ユニットの復旧時間に基づき,省エネモードから通常モードまで復旧するために要する時間を見込んで省エネモードにあるユニットの復旧を開始する時刻をユニット毎に求め,
前記求められたユニット毎の復旧開始時刻に応じて省エネモードにあるユニットを通常モードまで復旧させるように各ユニットを独立してそれぞれ制御する基板処理装置の制御方法。 - 前記求められた復旧開始時刻に応じて各ユニットの制御をそれぞれ開始する代わりに,指定された復旧終了時間までに前記省エネモードからの復旧を完了するように各ユニットをそれぞれ制御する請求項13に記載された基板処理装置の制御方法。
- 前記各ユニットの状態が,通常モードから省エネモードまで移行するために必要な時間を移行時間として前記ユニット毎に前記記憶部に記憶し,
通常モードから省エネモードへの移行を開始した後,省エネモードから通常モードへの復旧を完了するまでの時間と,前記記憶部に記憶された移行時間および復旧時間と,から各ユニットが省エネモードの状態に安定している時間を求め,
前記求められた省エネモードの安定時間が所定時間以下の場合または省エネモードの安定時間によっては各ユニットの省エネ効果が得られないと判断した場合の少なくともいずれかの場合には,該当ユニットを指定された省エネモードに制御することなく通常モードのまま制御する請求項13または請求項14のいずれかに記載された基板処理装置の制御方法。
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US11/683,090 US7681055B2 (en) | 2006-03-08 | 2007-03-07 | Control device and method for a substrate processing apparatus |
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011061045A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Canon Inc | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 |
JP2012253314A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-12-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 稼動状態監視方法、稼動状態監視装置及び基板処理システム |
JP2013045933A (ja) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Spp Technologies Co Ltd | プラズマ基板処理装置、その制御プログラム、これを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
WO2013077191A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置群コントローラ、生産処理システム、処理装置群制御方法、生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法 |
US20140039655A1 (en) * | 2011-04-27 | 2014-02-06 | Edwards Limited | Apparatus and Method for Self-Tuning a Processing System |
JP2014086577A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置、基板処理システム、基板処理装置の制御方法、プログラムおよび記録媒体 |
JP2014135381A (ja) * | 2013-01-10 | 2014-07-24 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR20140102678A (ko) | 2011-12-13 | 2014-08-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 생산 효율화 시스템, 생산 효율화 장치 및 생산 효율화 방법 |
JP2015228410A (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-17 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP2016096357A (ja) * | 2016-01-21 | 2016-05-26 | Sppテクノロジーズ株式会社 | プラズマ基板処理装置、その制御プログラム、これを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
KR20190089229A (ko) * | 2016-12-20 | 2019-07-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 노출 후 처리 장치 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5374039B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2013-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 |
JP2009176982A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2010093125A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Toray Eng Co Ltd | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
JP5396357B2 (ja) * | 2010-09-14 | 2014-01-22 | 株式会社アマダ | レーザ加工装置及びその制御方法 |
DE102010048810A1 (de) | 2010-10-20 | 2012-04-26 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | System zur Bedienung mehrerer Plasma- und/oder Induktionserwärmungsprozesse |
DE102010048809A1 (de) | 2010-10-20 | 2012-04-26 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Leistungsversorgungssystem für eine Plasmaanwendung und/oder eine Induktionserwärmungsanwendung |
KR101295794B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2013-08-09 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
WO2013044963A1 (de) * | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur ermittlung von komponentenparametern und vorrichtung |
EP2729853A1 (de) * | 2011-09-29 | 2014-05-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Werkzeug zur unterstützung einer energieeffizienten steuerung und verfahren hierzu |
US10281886B2 (en) | 2012-03-06 | 2019-05-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Method and device for the energy-efficient control of a plant |
JP5689495B2 (ja) * | 2013-04-15 | 2015-03-25 | ファナック株式会社 | 消費電力の削減制御を行うレーザ加工装置 |
JP5717802B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2015-05-13 | ファナック株式会社 | 機械の制御装置 |
GB201316911D0 (en) * | 2013-09-24 | 2013-11-06 | Alan Nuttall Ltd | Energy saving food storage unit |
KR101704403B1 (ko) * | 2014-11-21 | 2017-02-09 | 멜콘 주식회사 | 기판 처리 시스템의 절전 구동 장치 및 방법 |
KR102268279B1 (ko) * | 2018-10-18 | 2021-06-22 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치, 이의 제어 방법 및 기억 매체 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003332405A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2004193401A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11121582A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウェハ製造設備制御方法および半導体ウェハ製造設備 |
US6275740B1 (en) * | 1998-04-23 | 2001-08-14 | Sandia Corporation | Method and apparatus for monitoring plasma processing operations |
JP4545252B2 (ja) * | 1999-09-01 | 2010-09-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置 |
TWI244603B (en) * | 2001-07-05 | 2005-12-01 | Dainippon Screen Mfg | Substrate processing system for managing device information of substrate processing device |
US7280883B2 (en) * | 2001-09-06 | 2007-10-09 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing system managing apparatus information of substrate processing apparatus |
JP4295490B2 (ja) | 2002-11-15 | 2009-07-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置並びに処理装置用のチラー制御方法及びチラー制御装置 |
JP3999649B2 (ja) | 2002-12-19 | 2007-10-31 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置とその動作方法、およびプログラム |
CN100373545C (zh) * | 2004-03-05 | 2008-03-05 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置、基板处理方法及程序 |
JP4393976B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2010-01-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2006
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2007
- 2007-03-07 TW TW096107875A patent/TWI399801B/zh active
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- 2007-03-07 US US11/683,090 patent/US7681055B2/en active Active
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003332405A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2004193401A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9256231B2 (en) | 2009-09-10 | 2016-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Device manufacturing apparatus and device manufacturing method |
JP2011061045A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Canon Inc | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 |
JP2012253314A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-12-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 稼動状態監視方法、稼動状態監視装置及び基板処理システム |
US9423790B2 (en) * | 2011-04-27 | 2016-08-23 | Edwards Limited | Apparatus and method for self-tuning a processing system |
US20140039655A1 (en) * | 2011-04-27 | 2014-02-06 | Edwards Limited | Apparatus and Method for Self-Tuning a Processing System |
JP2013045933A (ja) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Spp Technologies Co Ltd | プラズマ基板処理装置、その制御プログラム、これを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
WO2013077191A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置群コントローラ、生産処理システム、処理装置群制御方法、生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法 |
US10108162B2 (en) | 2011-11-25 | 2018-10-23 | Tokyo Electron Limited | Processing device group controller, manufacturing process system, processing device group control method, manufacturing optimization system, manufacturing optimization device, and manufacturing optimization method |
US10012980B2 (en) | 2011-12-13 | 2018-07-03 | Tokyo Electron Limited | Modifying operational efficiency by repositioning process apparatus |
KR20140102678A (ko) | 2011-12-13 | 2014-08-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 생산 효율화 시스템, 생산 효율화 장치 및 생산 효율화 방법 |
US9389601B2 (en) | 2012-10-24 | 2016-07-12 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus, substrate processing system, control method for substrate processing apparatus and storage medium |
JP2014086577A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置、基板処理システム、基板処理装置の制御方法、プログラムおよび記録媒体 |
JP2014135381A (ja) * | 2013-01-10 | 2014-07-24 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2015228410A (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-17 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP2016096357A (ja) * | 2016-01-21 | 2016-05-26 | Sppテクノロジーズ株式会社 | プラズマ基板処理装置、その制御プログラム、これを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
KR20190089229A (ko) * | 2016-12-20 | 2019-07-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 노출 후 처리 장치 |
JP2020502808A (ja) * | 2016-12-20 | 2020-01-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 露光後処理装置 |
US10845715B2 (en) | 2016-12-20 | 2020-11-24 | Applied Materials, Inc. | Post exposure processing apparatus |
KR102284076B1 (ko) | 2016-12-20 | 2021-07-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 노출 후 처리 장치 |
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