JP2006519115A5

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Info

Publication number: JP2006519115A5
Application number: JP2006503709A
Authority: JP
Filing date: 2004-02-19
Publication date: 2007-03-29

Description

有用なポリヒドロキシアルカンのアルキレンオキシド付加物の例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ジヒドロキシプロパン、１，４−ジヒドロキシブタン、１，６−ジヒドロキシヘキサン、グリセロール、１，２，４−トリヒドロキシブタン、１，２，６−トリヒドロキシヘキサン、１，１，１−トリメチロールエタン、１，１，１−トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ポリカプロラクトン、キシリトール、アラビトール、ソルビトール、マンニトールの付加物があげられる。ポリヒドロキシアルカンの他の有用なアルキレンオキシド付加物には、ジヒドロキシ−及びトリヒドロキシアルカンの、プロピレンオキシド付加物及びエチレンオキシド末端閉鎖プロピレンオキシド付加物が含まれる。更に他の有用なアルキレンオキシド付加物には、エチレンジアミン、グリセリン、ピペラジン、水、アンモニア、１，２，３，４−テトラヒドロキシブタン、フルクトース、スクロースの付加物が含まれる。ポリ（オキシプロピレン）グリコール、トリオール、テトロール及びヘキソール及びポリ（オキシプロピレンオキシエチレン）ポリオールを含むエチレンオキシドで末端閉塞されたこれらの任意の化合物が含まれる。存在する場合、オキシエチレン含有量は、全ポリオールの約４０〜約８０重量％を含んでいてよい。使用するときエチレンオキシドは、ポリマー鎖に沿った任意の様式で、例えば、内部ブロック、末端ブロック、ランダムに分布されたブロック又はこれらの任意の組合せとして含有されていてよい。

Claims

少なくとも１種のポリマー及びポリマー形成性混合物、研磨粒子並びに界面活性剤を含む水性分散液を形成する工程；
前記水性分散液中に起泡剤を注入する工程；
前記水性分散液及び起泡剤を機械的に起泡させて、実質的に均一な泡を形成する工程；
前記泡を硬化させて、相互連結された気泡及び研磨粒子が全体的に実質的に均一に分布しているポリマーマトリックスを有する連続気泡発泡体を形成する工程を含んでなる固定研磨材料の形成方法。
気泡が３００μｍよりも小さい中央値気泡直径を有する請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
研磨粒子が２μｍよりも小さい平均粒子サイズを有する請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
研磨粒子がアルミナ、セリア、シリカ、チタニア及びジルコニアからなる群から選択される少なくとも１種の粒状材料を含む請求項３に記載の固定研磨材料の形成方法。
研磨粒子がポリマーマトリックスの２０重量％〜７０重量％を構成し、泡が５，０００〜１５，０００ｃｐｓの粘度及び５００〜１５００グラム／リットルの密度を有し、そして連続気泡発泡体が２０〜４０％の多孔度及び２００μｍよりも小さい中央値孔径を有する請求項４に記載の固定研磨材料の形成方法。
ポリマーマトリックスがポリウレタンを含む請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
界面活性剤が少なくとも起泡性界面活性剤及びフォーム安定化界面活性剤を含む請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
水性分散液が粘度調節剤を更に含む請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
水性分散液が６０重量％よりも小さい有機含有量、６０重量％よりも小さい無機含有量及び１〜２０重量％の界面活性剤含有量を有する請求項１に記載の固定研磨材料の形成方法。
水性分散液が１〜１０重量％の粘度調節剤含有量を更に有する請求項９に記載の固定研磨材料の形成方法。
界面活性剤がスルホスクシンアミド酸ナトリウム、ステアリン酸アンモニウム及びスルホコハク酸ナトリウム塩の混合物を含む請求項１０に記載の固定研磨材料の形成方法。
スルホスクシンアミド酸ナトリウムが１〜６部の量で存在し、ステアリン酸アンモニウムが３〜１５部の量で存在し、そしてスルホコハク酸ナトリウム塩が１〜６部の量で存在する請求項１１に記載の固定研磨材料の形成方法。
スルホスクシンアミド酸ナトリウム、ステアリン酸アンモニウム及びスルホコハク酸ナトリウム塩が１：３：１の比で存在する請求項１２に記載の固定研磨材料の形成方法。
少なくとも１種のポリマー及びポリマー形成性混合物、２μｍよりも小さい平均粒子サイズを有する研磨粒子及び界面活性剤を含む水性分散液を形成する工程；
水性分散液中に起泡剤を注入する工程；
水性分散液及び起泡剤を機械的に起泡して、実質的に均一な泡を形成する工程；
泡の層を基板材料に適用する工程；
泡の層を硬化させて、相互連結された気泡及び研磨粒子が全体的に実質的に均一に分布しているポリマーマトリックスを含む連続気泡発泡体の層を形成する工程を含んでなる固定研磨材研磨パッドの形成方法。
水性分散液が、少なくとも、アロイ化した脂肪族ポリエステルベースウレタン及びポリアクリレートを第一成分として、そして自己架橋性脂肪族ウレタンを第二成分として含む請求項１４に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
第一成分及び第二成分が水性分散液中に４：１〜１：４の重量比で存在する請求項１５に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
研磨粒子がアルミナ、セリア、シリカ、チタニア及びジルコニアからなる群から選択された、１種又はそれ以上の粒状材料から構成される請求項１４に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
研磨粒子がポリマーマトリックスの２０重量％〜７０重量％を構成する請求項１７に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
界面活性剤が、少なくとも起泡性界面活性剤及びフォーム安定化界面活性剤を含む請求項１４に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
水性分散液が粘度調節剤を更に含む請求項１９に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
水性分散液が６０重量％よりも小さい有機含有量、６０重量％よりも小さい無機含有量及び１〜２０重量％の界面活性剤含有量を有する請求項１４に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
水性分散液が１〜１０重量％の粘度調節剤含有量を更に有する請求項２１に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
界面活性剤がスルホスクシンアミド酸ナトリウム、ステアリン酸アンモニウム及びスルホコハク酸ナトリウム塩の混合物を含む請求項２２に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
スルホスクシンアミド酸ナトリウムが１〜６部の量で存在し、ステアリン酸アンモニウムが３〜１５部の量で存在し、そしてスルホコハク酸ナトリウム塩が１〜６部の量で存在する請求項２３に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
スルホスクシンアミド酸ナトリウム、ステアリン酸アンモニウム及びスルホコハク酸ナトリウム塩が１：３：１の比で存在する請求項２４に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
研磨粒子がポリマーマトリックスの２０重量％〜７０重量％を構成し、泡が５，０００〜１５，０００ｃｐｓの粘度及び５００〜１５００グラム／リットルの密度を有し、そして連続気泡発泡体が５〜４０％の多孔度及び２００μｍよりも小さい中央値細孔直径を有する請求項２５に記載の固定研磨材研磨パッドの形成方法。
請求項１に記載の方法によって形成されている固定研磨材料の層及びその層に固着されているバッキング層を含んでなる固定研磨パッド。
研磨粒子が固定研磨材料の２０重量％〜７０重量％を構成し、その固定研磨材料が０．５〜１．５グラム／ｃｍ ³のフォーム密度及び５〜４０％の多孔度を有する請求項２７に記載の固定研磨パッド。
固定研磨材料の連続起泡フォーム構造が２００μｍよりも小さい中央値孔径を有する請求項２７に記載の固定研磨パッド。
固定研磨材料層がｐＨ７〜１０にコンディショニングされたときに、ポリマーマトリックスから遊離研磨粒子を解放し、そして更に、固定研磨材料層がｐＨ４以下にコンディショニングされたときに、ポリマーマトリックスから遊離研磨粒子を実質的に解放しない請求項２７に記載の固定研磨パッド。
固定研磨材料層が１５ｍｍよりもうすい厚さを有する請求項２７に記載の固定研磨パッド。
バッキング層がポリマー材料であり、そして固定研磨材料層がバッキング層の上に付着させた５，０００〜１５，０００ｃｐｓの粘度及び５００〜１５００グラム／リットルの密度を有する泡の層を硬化させることによって形成される請求項２７に記載の固定研磨パッド。
バッキング層がポリカーボネートであり、そして泡層が７０℃よりも高い温度で硬化される請求項３２に記載の固定研磨パッド。
軟質エラストマーポリウレタン材料の追加のバッキング層がバッキング層の泡層の反対側上に接着されている請求項３３に記載の固定研磨パッド。