JP2006500778A - ウェハ用二層lto背面シール - Google Patents
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Abstract
Description
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はウェハの1つの主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO層、この場合、高応力LTO層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含有することを特徴とする、第一の主要面と第二の主要面とを有するウェハ用二層LTO背面シールを含む。
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層を形成し、第一の主要面をウェハの1つの主要面上に形成する工程;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO層を、低応力LTO層の第二の主要面上に形成する工程;
を含むことを特徴とする、2つの主要面を有するウェハ用二層LTO背面シールを形成する方法を含む。
p+基板 第一の主要面及び第二の主要面、
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はp+基板の第一の主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO酸化ケイ素層、この場合、高応力LTO酸化ケイ素層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含むことを特徴とする、pp+シリコンエピタキシャルウェハに関する。
n+基板 第一の主要面及び第二の主要面、
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はn+基板の第一の主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO酸化ケイ素層、この場合、高応力LTO酸化ケイ素層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含むことを特徴とする、nn+シリコンエピタキシャルウェハに関する。
図1は二層LTO背面シールを有するシリコンウェハを示し;かつ
図2はエピタキシャル層をウェハ正面上に堆積させた後の、二層LTO背面シールを有するシリコンウェハを示す。
Claims (46)
- 第一の主要面と第二の主要面とを有するウェハ用二層LTO背面シールにおいて、以下:
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はウェハの1つの主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO層、この場合、高応力LTO層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含有することを特徴とする、第一の主要面と第二の主要面とを有するウェハ用二層LTO背面シール。 - ウェハと低応力層との間に、更にポリシリコンの層が含まれている、請求項1記載のウェハ。
- 2つの主要面を有するウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法において、以下の工程:
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層を形成し、第一の主要面をウェハの1つの主要面上に形成する工程;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO層を形成し、高応力LTO層の1つの主要面を低応力LTO層の第二の主要面に隣接させる工程;
を含むことを特徴とする、2つの主要面を有するウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。 - 更に、高周波RF電力を用いて低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高周波RFの電力が200〜1600ワットである、請求項4記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高周波RFの電力が300〜1200ワットである、請求項4又は5記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層の形成において使用する高周波数が約13.56MHzである、請求項4から6までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、低圧を用いて低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から7までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層を形成するために使用する圧力が200〜467Paである、請求項8記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、高シラン流動速度を用いて低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から9までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層を形成するために使用するシランフローが50〜1000sccmである、請求項10記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層を形成するために使用するシランフローが100〜600sccmである、請求項10又は11記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、250〜600℃の温度を用いて低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から12までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層を形成するために使用する温度が300〜450℃である、請求項13記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、N2の存在下で800〜7000sccmの流動速度で低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から14までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層の形成において使用するN2流動速度が1000〜4000sccmである、請求項15記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、N2Oの存在下で2000〜18000sccmの流動速度で低応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から16までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層の形成において使用するN2O流動速度が3000〜15000sccmである、請求項17記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、高出力で高周波RF電力を用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から18までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高周波RFの電力が200〜1600ワットである、請求項19記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高周波RFの電力が300〜1200ワットである、請求項19又は20記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層の形成において使用する高周波数が13.56MHzである、請求項19から21までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、高出力で低周波RFを用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から22までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 0〜800ワットの電力で低周波RFを用いて高応力LTO層を形成する、請求項23記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 100〜600ワットの電力で低周波RFを用いて高応力LTO層を形成する、請求項23又は24記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を形成する際に使用する低周波数が100〜600kHzである、請求項22から25までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を形成する際に使用する低周波数が200kHzである、請求項26記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、高圧を用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から27までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、低応力LTO層を形成するために使用する圧力よりも高い圧力を用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項28記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を形成するために使用する圧力が200〜467Paである、請求項28又は29記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、低シランフローを用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から30までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を50〜1000sccmのシランフローを用いて形成する、請求項31記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を100〜600sccmのシランフローを用いて形成する、請求項31又は32記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を、低高応力LTO層を形成する工程において使用する流動速度よりも緩慢な流動速度のシランフローを用いて形成する、請求項31から33までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、250〜600℃の少なくとも1つの温度を用いて高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から34までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層を形成するために使用する温度が300〜450℃である、請求項35記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、N2の存在下で800〜7000sccmの流動速度で高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から20までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層の形成において使用するN2流動速度が1000〜4000sccmである、請求項37記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 更に、N2Oの存在下で2000〜18000sccmの流動速度で高応力LTO層を形成する工程を含む、請求項3から38までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 高応力LTO層の形成において使用するN2O流動速度が3000〜15000sccmである、請求項39記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 低応力LTO層と高応力LTO層とを形成する工程が、低応力層と高応力層との間にネットワークを形成する工程を含む、請求項3から40までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- ウェハがp型シリコンウェハである、請求項3から41までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- ウェハがn型シリコンウェハである、請求項3から41までのいずれか1項記載のウェハ上の二層LTO背面シールを形成する方法。
- 請求項3から43までのいずれか1項記載の方法を用いて形成されたウェハ。
- pp+シリコンエピタキシャルウェハにおいて、以下:
p+基板 第一の主要面及び第二の主要面、
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はp+基板の第一の主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO酸化ケイ素層、この場合、高応力LTO酸化ケイ素層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含むことを特徴とする、pp+シリコンエピタキシャルウェハ。 - nn+シリコンエピタキシャルウェハにおいて、以下:
n+基板 第一の主要面及び第二の主要面、
第一の主要面と第二の主要面とを有する低応力LTO層、この場合、低応力LTO層の第一の主要面はn+基板の第一の主要面に隣接している;及び
第一の主要面と第二の主要面とを有する高応力LTO酸化ケイ素層、この場合、高応力LTO酸化ケイ素層の第一の主要面は低応力LTO層の第二の主要面に隣接している;
を含むことを特徴とする、nn+シリコンエピタキシャルウェハ。
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