JP2006309028A5 - - Google Patents
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 22
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 19
- 230000001681 protective Effects 0.000 claims 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N Silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 2
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 claims 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 1
Claims (20)
- 周辺部に別の半導体集積回路を直接接続するCOG端子部を有するアクティブマトリクス型の表示装置であって、
前記COG端子部は、
周辺部に配置されたアルミニウムまたはアルミニウム合金の層を含む導電体で形成された接続配線と、
前記接続配線を覆う配線保護膜と、
前記配線保護膜の端子部に該当する箇所に形成された開口部と、
前記開口部の前記接続配線の表面を覆う透明導電体層と、
前記接続配線の下方に形成され前記接続配線と接続される別の配線と、
を有することを特徴とする表示装置。 - 請求項1に記載の表示装置であって、
前記COG端子部は、前記別の半導体集積回路からの信号を受け入れる信号受け入れ用COG端子部と、前記別の半導体集積回路へ信号を供給する信号供給用COG端子部の2つを含み、
前記2つのCOG端子部は、それぞれが前記接続配線と、前記配線保護膜と、前記開口部と、前記透明導電体層と、前記別の配線を有し、
前記信号受け入れ用COG端子部における前記接続配線は、前記別の配線を介し、表示装置内部における画素へ接続される内部配線と接続され、前記信号供給用COG端子部における前記接続配線は、前記別の配線を介し、外部からの信号受け入れ用に別に設けられたOLB端子部に接続されることを特徴とする表示装置。 - 請求項2に記載の表示装置において、
前記OLB端子部も、
アルミニウムまたはアルミニウム合金の層を含む導電体で形成された接続配線と、
前記接続配線を覆う配線保護膜と、
前記配線保護膜の端子部に該当する箇所に形成された開口部と、
前記開口部の前記接続配線の表面を覆う透明導電体層と、
前記接続配線の下方に形成され前記接続配線と接続される別の配線と、
を有することを特徴とする表示装置。 - 請求項3に記載の表示装置において、
前記表示装置の表示部の各画素には、その表示を制御するための薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、前記半導体層を覆うゲート絶縁膜と、半導体層のチャネル領域の上方に当たるゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極と、ゲート電極およびゲート絶縁膜を覆う層間絶縁膜と、を有し、
前記信号受け入れ用COG端子部の接続配線と前記内部配線を接続する前記別の配線および前記信号供給用COG端子部の接続配線と前記OLB端子部を接続する前記別の配線は、前記ゲート電極と同一のプロセスで形成されたものであることを特徴とする表示装置。 - 請求項2または3に記載の表示装置において、
前記接続配線と前記内部配線を接続する前記別の配線および前記接続配線と前記OLB端子部に接続される前記別の配線は、モリブデン配線であることを特徴とする表示装置。 - 請求項3〜5のいずれか1つに記載の表示装置において、
前記表示装置の表示部の各画素には、透明導電体を電極として利用する表示素子がそれぞれ設けられており、
前記信号受け入れ用COG端子部または信号供給用COG端子部またはOLB端子部における前記透明導電体層と、各画素の透明導電体の電極は、同一のプロセスで形成されたものであることを特徴とする表示装置。 - 請求項3〜6のいずれか1つに記載の表示装置において、
前記信号受け入れ用COG端子部または信号供給用COG端子部またはOLB端子部における前記透明導電体層は、前記開口周辺の配線保護膜も覆うように形成されていることを特徴とする表示装置。 - 請求項3〜7のいずれか1つに記載の表示装置において、
前記信号受け入れ用COG端子部または信号供給用COG端子部またはOLB端子部における透明導電体層は、ITOで形成されることを特徴とする表示装置。 - 請求項3〜8のいずれか1つに記載の表示装置において、
前記内部配線は、表示装置内部の各画素へデータ信号を供給するデータラインであり、
各画素は、
一端が前記データラインに接続された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを覆うトランジスタ保護膜と、
を含み、
前記信号受け入れ用COG端子部または信号供給用COG端子部またはOLB端子部における配線保護膜と、前記トランジスタ保護膜は同一のプロセスで形成されたものであることを特徴とする表示装置。 - 請求項1〜9のいずれか1つに記載の表示装置において、
前記配線保護膜は、窒化シリコン膜であることを特徴とする表示装置。 - 周辺部に別の半導体集積回路を直接接続するCOG端子部を有するアクティブマトリクス型の表示装置の製造方法であって、
パネル周辺部に配置される接続配線を、アルミニウムまたはアルミニウム合金の層を含む導電体で形成するステップと、
前記接続配線を覆う配線保護膜を形成するステップと、
前記配線保護膜の端子部に該当する箇所に開口部を形成するステップと、
前記開口部の前記接続配線の表面を覆う透明導電体層を形成するステップと、
前記接続配線の形成に先立って別の配線を形成するステップと、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11に記載の表示装置の製造方法において、
前記COG端子部は、前記別の半導体集積回路からの信号を受け入れる信号受け入れ用COG端子部と、前記別の半導体集積回路へ信号を供給する信号供給用COG端子部の2つを含み、
前記2つのCOG端子部は、それぞれが前記接続配線と、前記配線保護膜と、前記開口部と、前記透明導電体層と、前記別の配線を有し、同一のプロセスで形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11に記載の表示装置の製造方法において、
前記信号受け入れ用COG端子部における前記接続配線は、接続配線の形成に先立って形成された前記別の配線を介し、表示装置内部における画素へ接続される内部配線と接続され、
前記信号供給用COG端子部における前記接続配線は、接続配線の形成に先立って形成された別の配線を介し、外部からの信号受け入れ用OLB端子部に接続されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項13に記載の表示装置の製造方法において、
前記OLB端子部も、
アルミニウムまたはアルミニウム合金の層を含む導電体で形成された接続配線と、
前記接続配線を覆う配線保護膜と、
前記配線保護膜の端子部に該当する箇所に形成された開口部と、
前記開口部の前記接続配線の表面を覆う透明導電体層と、
前記接続配線の下方に形成された前記接続配線と接続させる別の配線と、
を有し、
前記OLB端子部も前記2つのCOG端子部と同一プロセスで形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項14に記載の表示装置の製造方法において、
前記表示装置の表示部の各画素には、その表示を制御するための薄膜トランジスタが設けられ、
前記薄膜トランジスタは、半導体層と、前記半導体層を覆うゲート絶縁膜と、半導体層のチャネル領域の上方に当たるゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極と、ゲート電極およびゲート絶縁膜を覆う層間絶縁膜と、を有し、
前記信号受け入れ用COG端子部の接続配線と前記内部配線を接続する別の配線および前記信号供給用COG端子部の接続配線と前記OLB端子部を接続する別の配線は、前記ゲート電極と同一のプロセスで形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11〜15のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法において、
前記表示装置の表示部の各画素には、透明導電体を電極として利用する表示素子がそれぞれ設けられており、
前記透明導電体層と、各画素の透明導電体の電極は、同一のプロセスで形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11〜16のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法において、
前記透明導電体層は、前記開口周辺の配線保護膜も覆うように形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11〜17のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法において、
前記透明導電体層は、ITOで形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11〜18のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法において、
前記内部配線は、表示装置内部の各画素へデータ信号を供給するデータラインであり、
各画素は、
一端が前記データラインに接続された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを覆うトランジスタ保護膜と、
を含み、
前記配線保護膜と、前記トランジスタ保護膜とを同一のプロセスで形成することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項11〜19のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法において、
前記配線保護膜は、窒化シリコン膜であることを特徴とする表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005133638A JP2006309028A (ja) | 2005-04-28 | 2005-04-28 | 表示装置および表示装置の製造方法 |
TW095114645A TWI344573B (en) | 2005-04-28 | 2006-04-25 | Display apparatus and manufacturing method of display apparatus |
KR1020060037998A KR100806997B1 (ko) | 2005-04-28 | 2006-04-27 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
CNB2006100781478A CN100510861C (zh) | 2005-04-28 | 2006-04-28 | 显示装置及其制造方法 |
US11/413,306 US7599038B2 (en) | 2005-04-28 | 2006-04-28 | Display apparatus and manufacturing method of display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005133638A JP2006309028A (ja) | 2005-04-28 | 2005-04-28 | 表示装置および表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006309028A JP2006309028A (ja) | 2006-11-09 |
JP2006309028A5 true JP2006309028A5 (ja) | 2008-02-28 |
Family
ID=37195111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005133638A Pending JP2006309028A (ja) | 2005-04-28 | 2005-04-28 | 表示装置および表示装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7599038B2 (ja) |
JP (1) | JP2006309028A (ja) |
KR (1) | KR100806997B1 (ja) |
CN (1) | CN100510861C (ja) |
TW (1) | TWI344573B (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4662350B2 (ja) * | 2005-07-21 | 2011-03-30 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR20080001110A (ko) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
US7433009B2 (en) * | 2006-07-20 | 2008-10-07 | Wintek Corporation | Array substrate of thin film transistor liquid crystal display and method for fabricating the same |
US7796224B2 (en) | 2006-12-26 | 2010-09-14 | Sony Corporation | Liquid crystal display device |
JP4501933B2 (ja) * | 2006-12-26 | 2010-07-14 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置 |
TWI369556B (en) | 2007-03-27 | 2012-08-01 | Sony Corp | Electro-optic device |
JP5131525B2 (ja) * | 2007-11-16 | 2013-01-30 | Nltテクノロジー株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
CN101236313B (zh) * | 2008-02-28 | 2010-08-11 | 友达光电股份有限公司 | 显示器及其制造方法 |
JP4775408B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2011-09-21 | ソニー株式会社 | 表示装置、表示装置における配線のレイアウト方法および電子機器 |
US8314916B2 (en) * | 2008-12-08 | 2012-11-20 | Lg Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
TWI392948B (zh) * | 2009-04-22 | 2013-04-11 | Au Optronics Corp | 主動元件陣列基板 |
CN107886916B (zh) * | 2009-12-18 | 2021-09-21 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示装置及其驱动方法 |
KR20130031559A (ko) | 2011-09-21 | 2013-03-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 |
TWI531835B (zh) * | 2011-11-15 | 2016-05-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板 |
CN102709237B (zh) * | 2012-03-05 | 2014-06-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜场效应晶体管阵列基板及其制造方法、电子器件 |
KR101984989B1 (ko) | 2012-05-07 | 2019-06-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 표시 장치 |
KR101998713B1 (ko) * | 2013-03-12 | 2019-07-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
JP6184268B2 (ja) * | 2013-09-18 | 2017-08-23 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタアレイ基板およびその製造方法 |
JP6324098B2 (ja) * | 2014-02-06 | 2018-05-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及びその製造方法 |
KR102411327B1 (ko) * | 2015-01-02 | 2022-06-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN105093748A (zh) * | 2015-08-13 | 2015-11-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶面板及其阵列基板 |
KR102490891B1 (ko) | 2015-12-04 | 2023-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
JP6663249B2 (ja) * | 2016-02-26 | 2020-03-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
KR102408164B1 (ko) | 2017-10-31 | 2022-06-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그의 제조방법 |
JP7046351B2 (ja) | 2018-01-31 | 2022-04-04 | 三国電子有限会社 | 接続構造体の作製方法 |
JP7185252B2 (ja) | 2018-01-31 | 2022-12-07 | 三国電子有限会社 | 接続構造体の作製方法 |
JP7160302B2 (ja) * | 2018-01-31 | 2022-10-25 | 三国電子有限会社 | 接続構造体および接続構造体の作製方法 |
US11217557B2 (en) * | 2019-05-14 | 2022-01-04 | Innolux Corporation | Electronic device having conductive particle between pads |
KR20210060718A (ko) | 2019-11-18 | 2021-05-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
US11978743B2 (en) * | 2020-12-01 | 2024-05-07 | Everdisplay Optronics (Shanghai) Co., Ltd | TFT array substrate and display panel including the same |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06180460A (ja) | 1992-12-15 | 1994-06-28 | Seiko Epson Corp | 半導体チップ接続用基板構造 |
TW340192B (en) * | 1993-12-07 | 1998-09-11 | Sharp Kk | A display board having wiring with three-layered structure and a display device including the display board |
JP3281167B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2002-05-13 | 富士通株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPH10133216A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-22 | Hitachi Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
KR100715943B1 (ko) * | 2001-01-29 | 2007-05-08 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR100737896B1 (ko) * | 2001-02-07 | 2007-07-10 | 삼성전자주식회사 | 어레이 기판과, 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR100813019B1 (ko) | 2001-10-19 | 2008-03-13 | 삼성전자주식회사 | 표시기판 및 이를 갖는 액정표시장치 |
JP2004247533A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Casio Comput Co Ltd | アクティブマトリックスパネル |
-
2005
- 2005-04-28 JP JP2005133638A patent/JP2006309028A/ja active Pending
-
2006
- 2006-04-25 TW TW095114645A patent/TWI344573B/zh active
- 2006-04-27 KR KR1020060037998A patent/KR100806997B1/ko active IP Right Grant
- 2006-04-28 CN CNB2006100781478A patent/CN100510861C/zh active Active
- 2006-04-28 US US11/413,306 patent/US7599038B2/en active Active
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