JP2006047827A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板との間に液晶層を挟持し、前記画素基板の少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子が形成される液晶表示装置の製造方法において、基板上に前記薄膜トランジスタの半導体層、ゲート絶縁膜、ゲート電極、及びソース・ドレイン配線を形成する工程と、前記基板上に端子配線を形成する工程と、前記端子配線の前記外部駆動回路側の領域と表示エリア側の領域上に絶縁性無機膜を形成する工程と、前記絶縁性無機膜上に有機樹脂膜を形成する工程と、前記絶縁性無機膜の少なくとも一部を含む前記端子配線上に導電膜を形成する工程を有し、前記導電膜は前記有機樹脂膜との間に所定の間隔を有するように形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記導電膜が透明性導電膜であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記導電膜が透明性導電膜と金属薄膜との積層膜であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記端子配線の形成は、前記画素基板上の前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン配線と同一の工程で形成されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板との間に液晶層を挟持し、前記画素基板の少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子が形成された液晶表示装置の製造方法において、基板上に前記薄膜トランジスタの半導体層、ゲート絶縁膜、及びゲート電極を形成する工程と、前記基板上に第１の配線を形成する工程と、前記第１の配線上に層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜に前記第１の配線と連通する開口を形成する工程と、前記開口の内部を導電体で満たす工程と、前記開口を含む前記層間絶縁膜上に第２の配線を形成する工程と、前記第２の配線上に透明性導電膜を形成する工程を有し、前記第２の配線と前記透明性導電膜は前記画素基板上の表示エリアに形成された保護膜との間に所定の間隔を有するように形成され、前記第１の配線と前記第２の配線は前記開口内部の前記導電体を介して接続されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. 前記第１の配線の形成は、前記画素基板上の前記薄膜トランジスタのゲート電極と同一の工程で形成されることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 基板上に薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板との間に液晶層を挟持した液晶表示装置において、前記画素基板の少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子が形成され、前記端子は端子配線と前記端子配線上の導電膜から成り、前記端子配線の前記外部駆動回路側の領域と表示パネル側の領域上が絶縁性無機膜と有機樹脂膜が積層された保護膜で覆われ、前記導電膜は前記絶縁性無機膜の少なくとも一部を含む前記端子配線上に形成され、前記導電膜は前記有機樹脂膜との間に所定の間隔を有することを特徴とする液晶表示装置。
8. 前記導電膜が透明性導電膜であることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
9. 前記導電膜が透明性導電膜と金属薄膜との積層膜であることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。