JP2006037227A - ウィスカ形成傾向の少ないスズ被覆プリント配線基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (i)少なくとも1つの非導電性基層、(ii)少なくとも1つの銅および/または銅合金層、および(iii)スズ含有層を持つ被覆品において、層(ii)は層(i)と層(iii)との間に位置する被覆品。この被覆品は、スズ含有層(iii)が、少なくとも1種の他の金属を含有する。
【選択図】なし
Description
(i) 少なくとも1つの非導電性基層、
(ii) 少なくとも1つの銅および/または銅合金層、および
(iii) スズ含有層。
層(iii)は好ましくは以下を含有し:
スズ 20〜99.5重量%、
他の金属 0.01〜80重量%、
錯化剤 0〜80重量%、および
導電性重合体 0〜80重量%、
それぞれの比率は層(iii)の総質量を基準とする。
(1) 銅または銅含有合金の層を基層の表面に適用し、
(2) 工程(1)で製造した層を構造化し、
(3) その後、構造化した銅または銅合金層にスズ含有層を適用する。
エポキシ樹脂複合体プリント配線基板を、洗浄浴において45℃で2分間硫酸およびクエン酸をベースにした通常の市販洗浄剤(ACL7001,オルメコン社)を用いて洗浄・脱脂した。用いたプリント配線基板の試験設計は、試験機関およびプリント配線基板メーカのものと一致し、実際のプリント配線基板構造を模したものであった。これらの基板は、はんだ付け性が測定可能で、評価可能であった。次に、プリント配線基板を室温の水道水で水洗いし、その後、H2O2含有エッチング液(エッチ7000,オルメコン社)で2分間30℃で処理した。エッチング後、基板を再び室温の水道水で水洗いした。水洗い後、プリント配線基板を、チオ尿素(30g/l)、硫酸(20g/l)、硫酸銀として銀200mg/l、ポリアニリンの4%水分散液1g/lを含有する40℃の温水溶液または分散液に45秒間浸漬した。均一な銀半透明層が沈着した。次に、プリント配線基板をSn2+含有浴を用いて従来通りスズめっきした。
実施例1と同様に、プリント配線基板を通常の市販品によりそれぞれの取扱説明書にしたがいスズめっきした。用いた市販品は、オルメコンCSN(オルメコン社,アムメルスベック,実施例2)、オルメコンCSN FF(オルメコン社,アムメルスベック,実施例3)、シプリィ ツィンポジット LT34(実施例4)、ウニクロンG2(ウニクロン社,キルヒハイムボランデン;実施例5)、オミクロン(サーテック社,フロリダ,米国;実施例6)、スタンナテック(アトテック社,ベルリン;実施例7)であった。
実施例1〜7で製造されたプリント配線基板を室温で7週間および14週間貯蔵した。次に、光学顕微鏡により基板のウィスカ形成を調べ、該当する場合、ウィスカのサイズを決定した。背景が暗いとウィスカが発見しやすかったので、直径1mmのドリル穴を観察した。結果を表1に示す。
Claims (31)
- (i) 少なくとも1つの非導電性基層、
(ii) 少なくとも1つの銅および/または銅合金層、および
(iii) スズ含有層
を持つ被覆品であって、前記層(ii)は前記層(i)と前記層(iii)との間に位置する被覆品において、
前記スズ含有層(iii)が、少なくとも1種の他の金属を含有する
ことを特徴とする被覆品。 - 請求項1において、
前記層(iii)が、他の金属として、Mg、Ca、Zr、Mn、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Ga、In、Ge、SbおよびBiから選ばれる少なくとも1種の金属を含有している
被覆品。 - 請求項2において、
前記他の金属が、銀、プラチナ、金、ニッケル、ビスマス、銅、またはこれらの金属の2種以上の組み合わせである
被覆品。 - 請求項1〜3のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、スズと少なくとも1種の他の金属との合金を含有する
被覆品。 - 請求項1〜4のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、スズと少なくとも1種の他の金属との微粉または多相混合物を含有する
被覆品。 - 請求項5において、
金属粒子または金属相が、1〜500nmの大きさを持つ
被覆品。 - 請求項1〜6のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、さらに少なくとも1種の有機系添加剤を含有する
被覆品。 - 請求項7において、
前記有機系添加剤が、炭素、硫黄および/または窒素元素の少なくとも1つを含有する
被覆品。 - 請求項7〜8のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、さらに錯化剤および/または導電性重合体を含有する
被覆品。 - 請求項9において、
前記有機添加剤が、銅との錯体を形成できる
被覆品。 - 請求項9又は10において、
前記添加剤が、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリピロール類、チオ尿素、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、尿素、クエン酸、イミダゾール−チオン類、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる
被覆品。 - 請求項1〜12のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、前記層(iii)の総質量を基準として
スズ 20〜99.5重量%、
他の金属 0.01〜80重量%、
錯化剤 0〜80重量%、および
導電性重合体 0〜80重量%、
を含有する
被覆品。 - 請求項7〜12のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、1ppb〜5重量%の有機系添加剤を含有する
被覆品。 - 請求項1〜13のいずれかにおいて、
前記層(i)が、0.1〜3mmの層厚さを持つ
被覆品。 - 請求項1〜14のいずれかにおいて、
前記層(ii)が、5〜210μmの層厚さを持つ
被覆品。 - 請求項1〜15のいずれかにおいて、
前記層(iii)が、50nm〜4μmの層厚さを持つ
被覆品。 - 請求項1〜16のいずれかにおいて、
前記他の金属の濃度が、前記層(iii)の厚さ方向に変動している
被覆品。 - 請求項1〜17のいずれかにおいて、
前記層(iii)の外側300nm〜3μmにおけるスズ濃度が、50モル%より大である
被覆品。 - 請求項1〜18のいずれかにおいて、
前記層の上部0.5〜5%における前記他の金属の濃度が、前記層の次の2〜10%における濃度より低く、この次層での濃度はそれより下層となる前記層の5〜95%における濃度より高い
被覆品。 - 請求項1〜19のいずれかにおいて、
プリント配線基板の形態にある
被覆品。 - 請求項1〜20のいずれかの被覆品を製造する方法であって、
(1) 銅または銅含有合金の層を基層の表面上に適用し、
(2) 工程(1)で製造した前記層を構造化し、
(3) 前記構造化した銅または銅合金層上にスズ含有層を適用する
方法。 - 請求項21において、
工程(3)において、スズイオンおよび前記他の金属のイオンを含有する浴から錯体形成および酸化還元法の実施により、工程(2)で形成された前記層上にスズおよび前記他の金属を化学的に沈着させて、前記スズ含有層を適用する
方法。 - 請求項21において、
スズイオンおよび/または前記他の金属のイオンを含有する2種以上の異なった浴から錯体形成および酸化還元法の実施により、工程(2)で形成された前記層上にスズおよび前記他の金属を化学的に沈着させる
方法。 - 請求項23において、
はじめに前記他の金属、および必要に応じ1種または数種の有機添加剤の層を工程(2)で形成された前記層上に沈着させ、次に前記他の金属および前記必要に応じ添加する有機添加剤または添加剤類の層上にスズ層を沈着させる
方法。 - 請求項24において、
前記他の金属および前記必要に応じ添加する有機添加剤または添加剤類の前記層を3〜100nmの厚さで沈着させる
方法。 - 請求項24又は25において、
前記スズを100nm〜3μmの層厚さで沈着させる
方法。 - 請求項24〜26のいずれかにおいて、
前記他の金属および前記必要に応じ添加する有機添加剤または添加剤類の層を、前記金属のイオンを0.003〜1重量%の濃度で含有し、必要に応じ1種または数種の有機添加剤を各0.001〜25重量%の濃度で含有する水性浴から沈着させる
方法。 - 請求項27において、
前記浴が、0.1〜5重量%の銅用錯化剤を含有する
方法。 - 請求項27又は28において、
前記浴が、0.001〜0.1重量%の導電性重合体を含有する
方法。 - 請求項21〜29のいずれかにおいて、
前記他の金属が、銀、プラチナ、金、ニッケル、ビスマス、銅、またはこれらの金属の2種以上の組み合わせである
方法。 - 請求項21〜30のいずれかの方法で得られる被覆品。
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