JP2003213439A - 配線基板の無電解めっき方法 - Google Patents
配線基板の無電解めっき方法Info
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- JP2003213439A JP2003213439A JP2002007540A JP2002007540A JP2003213439A JP 2003213439 A JP2003213439 A JP 2003213439A JP 2002007540 A JP2002007540 A JP 2002007540A JP 2002007540 A JP2002007540 A JP 2002007540A JP 2003213439 A JP2003213439 A JP 2003213439A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フレキシブル配線基板の折れ曲がり不良、配
線基板のめっきムラ、めっき液分解等の不具合を発生さ
せない無電解めっき方法を提供し、これによりビアホー
ル接続信頼性に優れた配線基板を製造することを目的と
する。 【解決手段】 配線基板に無電解めっきを施す方法にお
いて、無電解めっき時の配線基板の固定に磁石固定方式
治具を用いて無電解めっきをすることで課題を解決し
た。
線基板のめっきムラ、めっき液分解等の不具合を発生さ
せない無電解めっき方法を提供し、これによりビアホー
ル接続信頼性に優れた配線基板を製造することを目的と
する。 【解決手段】 配線基板に無電解めっきを施す方法にお
いて、無電解めっき時の配線基板の固定に磁石固定方式
治具を用いて無電解めっきをすることで課題を解決し
た。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、配線基板の無電解
めっき方法、特にフレキシブル配線基板の無電解めっき
に好適な無電解めっき方法に関する。
めっき方法、特にフレキシブル配線基板の無電解めっき
に好適な無電解めっき方法に関する。
【0002】
【従来の技術】各種電子機材の小型化に伴って、高密度
実装技術の要求が強くなってきた。このために、半導体
チップを配線基板に直接実装するチップオンボードやマ
ルチチップパッケージ用配線基板が提案されている。ま
た、多くの入出力端子数を有する半導体パッケージのB
GAやCSPに使用される中間板としての配線基板が提
案されている。これらの配線基板は、いずれも高密度配
線が必要なため、貫通ビアホールだけでなく非貫通ビア
ホールを設けている。さらに、配線数を増加するために
半導体チップを搭載するエリアにも非貫通ビアホールを
設けた配線パターンを有する配線板も増加している。
実装技術の要求が強くなってきた。このために、半導体
チップを配線基板に直接実装するチップオンボードやマ
ルチチップパッケージ用配線基板が提案されている。ま
た、多くの入出力端子数を有する半導体パッケージのB
GAやCSPに使用される中間板としての配線基板が提
案されている。これらの配線基板は、いずれも高密度配
線が必要なため、貫通ビアホールだけでなく非貫通ビア
ホールを設けている。さらに、配線数を増加するために
半導体チップを搭載するエリアにも非貫通ビアホールを
設けた配線パターンを有する配線板も増加している。
【0003】例えば、特開昭60−17644号公報で
示されているように、銅張フレキシブル配線基板に非貫
通や貫通のビアホールを形成した後、無電解銅めっき被
膜により層間接続し、ビアホールに樹脂を埋め、ドライ
フィルム、焼付、現像、エッチングにより回路を形成
し、ソルダーレジスト印刷をして製品としている。
示されているように、銅張フレキシブル配線基板に非貫
通や貫通のビアホールを形成した後、無電解銅めっき被
膜により層間接続し、ビアホールに樹脂を埋め、ドライ
フィルム、焼付、現像、エッチングにより回路を形成
し、ソルダーレジスト印刷をして製品としている。
【0004】さらに、必要に応じて、複数の内層板と絶
縁層を重ね合わせ、層間接続のために非貫通や貫通のビ
アホールを形成した後、無電解めっきを施し、多層化す
る。そして、無電解めっき時のフレキシブル配線基板の
固定には、通常、めっきテープによる固定方法が用いら
れている。
縁層を重ね合わせ、層間接続のために非貫通や貫通のビ
アホールを形成した後、無電解めっきを施し、多層化す
る。そして、無電解めっき時のフレキシブル配線基板の
固定には、通常、めっきテープによる固定方法が用いら
れている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなめっきテープによりフレキシブル配線基板を固定
する場合、めっきテープ剥離時に折れ曲がり不良が生じ
うる。また、無電解めっき液が一般的にアルカリ性であ
るため、めっきテープと配線基板の密着強度が低下し、
めっきムラ、または無電解めっき液の液分解等が生じる
という不具合も発生する。その結果、配線基板のビアホ
ール接続信頼性が低下することになる。
ようなめっきテープによりフレキシブル配線基板を固定
する場合、めっきテープ剥離時に折れ曲がり不良が生じ
うる。また、無電解めっき液が一般的にアルカリ性であ
るため、めっきテープと配線基板の密着強度が低下し、
めっきムラ、または無電解めっき液の液分解等が生じる
という不具合も発生する。その結果、配線基板のビアホ
ール接続信頼性が低下することになる。
【0006】本発明は、上記のような不具合を防止する
無電解めっき方法を提供し、これによりビアホール接続
信頼性に優れた配線基板を提供することを目的とする。
無電解めっき方法を提供し、これによりビアホール接続
信頼性に優れた配線基板を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、配線基板に無
電解めっきを施す方法において、無電解めっき時の配線
基板の固定に磁石固定方式治具を用いる無電解めっき方
法をその特徴としている。すなわち、本発明の方法は、
無電解めっきを施す配線基板を磁石固定方式治具で挟ん
で固定した後、これを無電解めっき液中に浸漬させてめ
っきを行い、めっき完了後にこれを引き上げ、固定治具
からめっき被膜が施された配線基板を外す、という工程
を経るものである。
電解めっきを施す方法において、無電解めっき時の配線
基板の固定に磁石固定方式治具を用いる無電解めっき方
法をその特徴としている。すなわち、本発明の方法は、
無電解めっきを施す配線基板を磁石固定方式治具で挟ん
で固定した後、これを無電解めっき液中に浸漬させてめ
っきを行い、めっき完了後にこれを引き上げ、固定治具
からめっき被膜が施された配線基板を外す、という工程
を経るものである。
【0008】また、本発明の方法は、配線基板がフレキ
シブル配線基板である場合に特に好適である。
シブル配線基板である場合に特に好適である。
【0009】さらに、本発明の方法は、配線基板が非貫
通ビアホールを有する場合に特に好適である。
通ビアホールを有する場合に特に好適である。
【0010】したがって、本発明によれば、上記のよう
な課題を解決することができ、ビアホール接続信頼性に
優れた配線基板を提供することが可能となる。さらに、
本発明で用いる磁石固定方式治具は、めっきテープと違
い何度でも使用することが可能であり、かつ基板との着
脱作業が容易であるため、高効率、低コストで配線基板
の製造を行うことが可能である。
な課題を解決することができ、ビアホール接続信頼性に
優れた配線基板を提供することが可能となる。さらに、
本発明で用いる磁石固定方式治具は、めっきテープと違
い何度でも使用することが可能であり、かつ基板との着
脱作業が容易であるため、高効率、低コストで配線基板
の製造を行うことが可能である。
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明によるフレキシブル配線基
板の無電解めっき方法を、図5に示す製造工程に基づい
て説明する。ただし、以下の説明は、本発明の範囲を制
限するものではなく、当業者であれば本発明の範囲を逸
脱することなく多種多様の基板、条件等での実施が可能
であることが理解されよう。
板の無電解めっき方法を、図5に示す製造工程に基づい
て説明する。ただし、以下の説明は、本発明の範囲を制
限するものではなく、当業者であれば本発明の範囲を逸
脱することなく多種多様の基板、条件等での実施が可能
であることが理解されよう。
【0013】まず、図5(a)のように、フレキシブル
銅張絶縁基板6、銅箔5に公知のエッチングドライフィ
ルム法でエッチングホール7を形成する。ここで用いる
ことのできる絶縁基板としては、ポリイミド樹脂やエポ
キシ樹脂等のプラスチックフィルムやガラス布、ガラス
不織布にポリイミドやエポキシ、ポリエステル樹脂を含
浸・硬化したものが使用できるが、好ましくは、耐熱性
が高く、板厚の薄い材料を用いる。
銅張絶縁基板6、銅箔5に公知のエッチングドライフィ
ルム法でエッチングホール7を形成する。ここで用いる
ことのできる絶縁基板としては、ポリイミド樹脂やエポ
キシ樹脂等のプラスチックフィルムやガラス布、ガラス
不織布にポリイミドやエポキシ、ポリエステル樹脂を含
浸・硬化したものが使用できるが、好ましくは、耐熱性
が高く、板厚の薄い材料を用いる。
【0014】次に、図5(b)のように、エッチングホ
ール7にエキシマレーザ、炭酸ガスレーザ等のレーザー
を照射し、非貫通ビアホール9を形成する。絶縁基材が
ポリイミドフィルムの場合、アルカリ性のヒドラジン/
トリエタノールアミン水溶液に浸漬することによって穴
開けすることもできる。
ール7にエキシマレーザ、炭酸ガスレーザ等のレーザー
を照射し、非貫通ビアホール9を形成する。絶縁基材が
ポリイミドフィルムの場合、アルカリ性のヒドラジン/
トリエタノールアミン水溶液に浸漬することによって穴
開けすることもできる。
【0015】その後、図1、図2のように、本発明の磁
石固定方式治具に基板を挟んで固定し、非貫通ビアホー
ル9内壁に無電解めっき被膜8を形成する(図5
(c))。無電解めっき被膜を施す方法としては、固定
治具に固定された基板を無電解めっき液に浸漬させるこ
とが好ましいが、特に制限されない。また、浸漬時間、
めっき液のpH、温度等の条件は、めっき液の種類、所
望のめっき被膜の厚さ等によって適宜決定されることが
好ましい。また、このような磁石固定式治具を用いて無
電解めっきを行うことのできる金属としては、例えば、
銅、ニッケル、金等が挙げられるが、特に制限されな
い。
石固定方式治具に基板を挟んで固定し、非貫通ビアホー
ル9内壁に無電解めっき被膜8を形成する(図5
(c))。無電解めっき被膜を施す方法としては、固定
治具に固定された基板を無電解めっき液に浸漬させるこ
とが好ましいが、特に制限されない。また、浸漬時間、
めっき液のpH、温度等の条件は、めっき液の種類、所
望のめっき被膜の厚さ等によって適宜決定されることが
好ましい。また、このような磁石固定式治具を用いて無
電解めっきを行うことのできる金属としては、例えば、
銅、ニッケル、金等が挙げられるが、特に制限されな
い。
【0016】本発明で用いる磁石固定方式治具は、治具
枠および磁石からなり、これらを公知の接着剤により接
着することで形成される。この接着部位である基板固定
部(以下スペーサ部)の位置、数などは、無電解めっき
中に基板が固定されるように適宜決定すればよく、制限
されないが、使用時に上下2つの治具で基板を挟んで固
定することを考慮すると、それぞれの固定治具の同位置
に同数形成されることが好ましい。また、スペーサ部に
使用される磁石の材質については、特に制限はなく、従
来公知の磁石が使用されるが、作業性の面から樹脂コー
ティングされたものを用いることが好ましく、樹脂コー
ティング皮膜の厚さは、作業性の面から0.05〜1.
0mm程度であることが好ましい。また、治具枠に関し
て、その材質は、制限されないが、作業性の面からエポ
キシ板、ポリプロピレン板を用いることが好ましく、さ
らに、その大きさ、形は、磁石および基板の大きさ、形
に合わせてローター等により適宜作成される。
枠および磁石からなり、これらを公知の接着剤により接
着することで形成される。この接着部位である基板固定
部(以下スペーサ部)の位置、数などは、無電解めっき
中に基板が固定されるように適宜決定すればよく、制限
されないが、使用時に上下2つの治具で基板を挟んで固
定することを考慮すると、それぞれの固定治具の同位置
に同数形成されることが好ましい。また、スペーサ部に
使用される磁石の材質については、特に制限はなく、従
来公知の磁石が使用されるが、作業性の面から樹脂コー
ティングされたものを用いることが好ましく、樹脂コー
ティング皮膜の厚さは、作業性の面から0.05〜1.
0mm程度であることが好ましい。また、治具枠に関し
て、その材質は、制限されないが、作業性の面からエポ
キシ板、ポリプロピレン板を用いることが好ましく、さ
らに、その大きさ、形は、磁石および基板の大きさ、形
に合わせてローター等により適宜作成される。
【0017】無電解めっき被膜形成後、磁石固定方式治
具に固定された配線基板を無電解めっき液から引き上
げ、固定治具から外した後は、従来公知の方法により、
無電解めっき被膜上に感光性レジストを形成し、導体回
路パターンの露光、現像を行った後、不要な銅被膜をエ
ッチングし、感光性レジストを除去することにより、図
5(d)のような導体回路を形成する。
具に固定された配線基板を無電解めっき液から引き上
げ、固定治具から外した後は、従来公知の方法により、
無電解めっき被膜上に感光性レジストを形成し、導体回
路パターンの露光、現像を行った後、不要な銅被膜をエ
ッチングし、感光性レジストを除去することにより、図
5(d)のような導体回路を形成する。
【0018】また、必要に応じ第2導体及び第3導体と
してニッケル、金等のめっき皮膜を形成してもよく、こ
の場合、再度、上記と同様にして磁石固定方式治具を用
いて、ニッケル、金等のめっき皮膜を形成する。
してニッケル、金等のめっき皮膜を形成してもよく、こ
の場合、再度、上記と同様にして磁石固定方式治具を用
いて、ニッケル、金等のめっき皮膜を形成する。
【0019】また、一度使用した固定治具は、同じサイ
ズ、もしくは固定可能なサイズの配線基板であれば繰り
返し使用することができる。
ズ、もしくは固定可能なサイズの配線基板であれば繰り
返し使用することができる。
【0020】最後に、図5(e)のように、熱硬化性樹
脂あるいは光熱硬化性樹脂等の硬化樹脂を充填した後、
硬化させてフレキシブル配線基板を得ることができる。
脂あるいは光熱硬化性樹脂等の硬化樹脂を充填した後、
硬化させてフレキシブル配線基板を得ることができる。
【0021】以下、実施例により本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
【0022】
【実施例】(実施例1)12μm銅箔を用いた厚さ0.
1mmの両面銅張りガラスエポキシ積層板であるMCL
−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)に、エ
ッチングドライフィルム法により、φ0.1mmのエッ
チングホール7を形成した後、そこにレーザーを照射し
て、φ0.1mmの非貫通ビアホール9を作成した。次
に作成した基板を図1、図2に示したような状態で磁石
固定方式治具にセットした。
1mmの両面銅張りガラスエポキシ積層板であるMCL
−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)に、エ
ッチングドライフィルム法により、φ0.1mmのエッ
チングホール7を形成した後、そこにレーザーを照射し
て、φ0.1mmの非貫通ビアホール9を作成した。次
に作成した基板を図1、図2に示したような状態で磁石
固定方式治具にセットした。
【0023】本実施例において使用した治具枠は、エポ
キシ基板(日立化成工業株式会社製、MCL−E−6
7、1.6mmt)の銅を公知の塩鉄系エッチング液で
溶解除去した後、ルータ(日立ビアメカニクス製、NR
−4E型)で加工して縦500mm×横400mmの寸
法に作製されたものであり、治具スペーサ部は、コーテ
ィング済ボタン型磁石(コクヨ製、商品名マクーB71
8)を、エポキシ系接着材(ユニバーサル社製、商品名
アラルダイト)にて治具枠に接着したものである。
キシ基板(日立化成工業株式会社製、MCL−E−6
7、1.6mmt)の銅を公知の塩鉄系エッチング液で
溶解除去した後、ルータ(日立ビアメカニクス製、NR
−4E型)で加工して縦500mm×横400mmの寸
法に作製されたものであり、治具スペーサ部は、コーテ
ィング済ボタン型磁石(コクヨ製、商品名マクーB71
8)を、エポキシ系接着材(ユニバーサル社製、商品名
アラルダイト)にて治具枠に接着したものである。
【0024】この後、基板を洗浄し、70℃の無電解銅
めっき液L−59(日立化成工業株式会社製、商品名)
に5時間浸漬して、図5の(c)に示すように厚さ10
μmの無電解銅めっき皮膜8を形成した。次に、従来公
知の方法により、無電解銅めっき被膜上に感光性ドライ
フィルムであるフォテックH−W440(日立化成工業
株式会社製、商品名)を形成し、導体回路パターンの露
光、現像を行った後、不要な銅被膜を塩化第二鉄系エッ
チング液にてエッチングし、濃度5重量%の水酸化ナト
リウム溶液で感光性ドライフィルムを剥離し、純水で洗
浄、乾燥して図5(d)に示すような導体回路を有する
非貫通ビアホール付きフレキシブル配線基板を得た。
めっき液L−59(日立化成工業株式会社製、商品名)
に5時間浸漬して、図5の(c)に示すように厚さ10
μmの無電解銅めっき皮膜8を形成した。次に、従来公
知の方法により、無電解銅めっき被膜上に感光性ドライ
フィルムであるフォテックH−W440(日立化成工業
株式会社製、商品名)を形成し、導体回路パターンの露
光、現像を行った後、不要な銅被膜を塩化第二鉄系エッ
チング液にてエッチングし、濃度5重量%の水酸化ナト
リウム溶液で感光性ドライフィルムを剥離し、純水で洗
浄、乾燥して図5(d)に示すような導体回路を有する
非貫通ビアホール付きフレキシブル配線基板を得た。
【0025】実施例1で得られたフレキシブル配線基板
20個についてリフロー炉(アサヒエレクトロニクス
製、卓上型窒素リフロー炉Ba300N2II型)にて
260℃、1分間のリフローテストを5サイクル行った
結果、クラック、膨れは発生しなかった。
20個についてリフロー炉(アサヒエレクトロニクス
製、卓上型窒素リフロー炉Ba300N2II型)にて
260℃、1分間のリフローテストを5サイクル行った
結果、クラック、膨れは発生しなかった。
【0026】また、実施例1で得られたフレキシブル配
線基板20個についてホットオイル試験機にて260℃
のフュージングオイル(ヤコー株式会社製、商品名FO
−101)中に10秒間浸漬して引き上げた後、20℃
の純水に10秒間浸漬するという工程を100回繰り返
して断面の観察を行ったが、ビアホール壁面の導体にク
ラック、膨れは見られなかった。
線基板20個についてホットオイル試験機にて260℃
のフュージングオイル(ヤコー株式会社製、商品名FO
−101)中に10秒間浸漬して引き上げた後、20℃
の純水に10秒間浸漬するという工程を100回繰り返
して断面の観察を行ったが、ビアホール壁面の導体にク
ラック、膨れは見られなかった。
【0027】さらに、フレキシブル配線板の折れ曲がり
不良、めっきムラ、めっき液分解等の不具合は観察され
なかった。
不良、めっきムラ、めっき液分解等の不具合は観察され
なかった。
【0028】(実施例2)実施例1と同様の工程を経て
得られたフレキシブル配線基板を再度図1、図2に示し
たように磁石固定式治具にセットして、85℃、pH
5.0の無電解ニッケルめっき液(奥野製薬工業株式会
社製、商品名ICPニコロンU)に25分浸漬して、厚
さ5.0μmの無電解ニッケルめっき皮膜を施し、さら
に90℃、pH4.5の無電解金めっき液(日本高純度
化学製、商品名IM−GOLD)に15分浸漬して、厚
さ0.1μmの無電解金めっき皮膜を施すことで、実施
例2のフレキシブル配線基板を得た。
得られたフレキシブル配線基板を再度図1、図2に示し
たように磁石固定式治具にセットして、85℃、pH
5.0の無電解ニッケルめっき液(奥野製薬工業株式会
社製、商品名ICPニコロンU)に25分浸漬して、厚
さ5.0μmの無電解ニッケルめっき皮膜を施し、さら
に90℃、pH4.5の無電解金めっき液(日本高純度
化学製、商品名IM−GOLD)に15分浸漬して、厚
さ0.1μmの無電解金めっき皮膜を施すことで、実施
例2のフレキシブル配線基板を得た。
【0029】ここで得られたフレキシブル配線板の外観
を確認したところ配線端子上にめっきムラ、変色等外観
上の問題は無かった。
を確認したところ配線端子上にめっきムラ、変色等外観
上の問題は無かった。
【0030】また、実施例2で得られたフレキシブル配
線板20個の銅とニッケル、金界面のめっき密着強度を
測定するため、公知のセロハンテープ密着試験を実施し
たが、めっきはがれ発生は無かった。さらに、めっき後
にニッケル、金めっき液の液分解の発生も無かった。
線板20個の銅とニッケル、金界面のめっき密着強度を
測定するため、公知のセロハンテープ密着試験を実施し
たが、めっきはがれ発生は無かった。さらに、めっき後
にニッケル、金めっき液の液分解の発生も無かった。
【0031】(比較例1)実施例1における磁石固定式
治具に代えて、耐めっきテープ(アイディアル社製 品
名#9190)を用いた以外は、実施例1と同様の工程
を経てフレキシブル配線基板を得た。
治具に代えて、耐めっきテープ(アイディアル社製 品
名#9190)を用いた以外は、実施例1と同様の工程
を経てフレキシブル配線基板を得た。
【0032】得られたフレキシブル配線基板のパターン
面を観察すると、めっきムラ、ザラが発生していた。
面を観察すると、めっきムラ、ザラが発生していた。
【0033】また、得られたフレキシブル配線基板を実
施例1と同様の方法でリフローテストを行い、断面観察
を行ったところ12個/20個に膨れが発生していた。
施例1と同様の方法でリフローテストを行い、断面観察
を行ったところ12個/20個に膨れが発生していた。
【0034】実施例1と同様のホットオイル試験は、め
っき外観ムラ、及び膨れが発生していたために行わなか
った。
っき外観ムラ、及び膨れが発生していたために行わなか
った。
【0035】さらに、使用した無電解銅めっき液に、液
分解が発生してめっき液中に銅粉が浮遊していた。
分解が発生してめっき液中に銅粉が浮遊していた。
【0036】(比較例2)実施例2における磁石固定式
治具に代えて、耐めっきテープ(アイディアル社製 品
名#9190)を用いた以外は、実施例2と同様の無電
解ニッケル、金めっき工程を経てフレキシブル配線板を
得た。
治具に代えて、耐めっきテープ(アイディアル社製 品
名#9190)を用いた以外は、実施例2と同様の無電
解ニッケル、金めっき工程を経てフレキシブル配線板を
得た。
【0037】得られた配線板の外観を確認したところ配
線端子上にめっきムラ、変色等が発生していた。
線端子上にめっきムラ、変色等が発生していた。
【0038】また、めっき外観ムラ、及び変色が発生し
ていたため、実施例2と同様のセロハンテープ密着試験
は行わなかった。
ていたため、実施例2と同様のセロハンテープ密着試験
は行わなかった。
【0039】さらに、使用したニッケルめっき液に液分
解が生じ、めっき液中にニッケル粉が浮遊していた。
解が生じ、めっき液中にニッケル粉が浮遊していた。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、フレキシブル配線基板
の折れ曲がり不良、配線基板のめっきムラ、めっき液分
解等の不具合を発生させない無電解めっき方法を提供
し、これによりビアホール接続信頼性に優れた配線基板
を、高効率、低コストで製造することが出来る。
の折れ曲がり不良、配線基板のめっきムラ、めっき液分
解等の不具合を発生させない無電解めっき方法を提供
し、これによりビアホール接続信頼性に優れた配線基板
を、高効率、低コストで製造することが出来る。
【図1】本発明の磁石固定式治具にフレキシブル基板を
セットした状態の概念の一例を示す断面図である。
セットした状態の概念の一例を示す断面図である。
【図2】本発明の磁石固定式治具にフレキシブル基板を
セットした状態の概念の一例を示す正面図である。
セットした状態の概念の一例を示す正面図である。
【図3】従来の治具の構造を示す断面図である。
【図4】従来の治具上にフレキシブル基板をセットした
状態の概念を示す正面図である。
状態の概念を示す正面図である。
【図5】本発明の実施例におけるフレキシブル配線基板
の製造工程の概略を示す断面図である。
の製造工程の概略を示す断面図である。
1 フレキシブル配線基板
2 治具枠
3 めっき基板保持用テープ
4 スペーサ部(磁石)
5 銅箔
6 銅張フレキシブル絶縁基板
7 エッチングホール
8 無電解めっき被膜
9 非貫通ビアホール
10 パターン
11 硬化性樹脂
─────────────────────────────────────────────────────
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(72)発明者 川崎 良次
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館事業所内
(72)発明者 坪松 良明
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館事業所内
(72)発明者 津山 宏一
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館事業所内
Fターム(参考) 4K022 AA02 AA42 BA08 CA08 DA03
DB15
Claims (3)
- 【請求項1】 配線基板に無電解めっきを施す方法にお
いて、無電解めっき時の前記配線基板の固定に磁石固定
方式治具を用いることを特徴とする無電解めっき方法。 - 【請求項2】 前記配線基板がフレキシブル配線基板で
あることを特徴とする請求項1記載の無電解めっき方
法。 - 【請求項3】 前記配線基板が非貫通ビアホールを有す
ることを特徴とする請求項1または2記載の無電解めっ
き方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002007540A JP2003213439A (ja) | 2002-01-16 | 2002-01-16 | 配線基板の無電解めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002007540A JP2003213439A (ja) | 2002-01-16 | 2002-01-16 | 配線基板の無電解めっき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003213439A true JP2003213439A (ja) | 2003-07-30 |
Family
ID=27646037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002007540A Pending JP2003213439A (ja) | 2002-01-16 | 2002-01-16 | 配線基板の無電解めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003213439A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006037227A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Ormecon Gmbh | ウィスカ形成傾向の少ないスズ被覆プリント配線基板 |
KR101785563B1 (ko) | 2016-04-08 | 2017-10-18 | 크루셜머신즈 주식회사 | 외장형 반도체 패키지 제조장치용 지그 조립체 |
-
2002
- 2002-01-16 JP JP2002007540A patent/JP2003213439A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006037227A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Ormecon Gmbh | ウィスカ形成傾向の少ないスズ被覆プリント配線基板 |
JP4647412B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2011-03-09 | オルメコン・ゲーエムベーハー | ウィスカ形成傾向の少ないスズ被覆プリント配線基板 |
KR101785563B1 (ko) | 2016-04-08 | 2017-10-18 | 크루셜머신즈 주식회사 | 외장형 반도체 패키지 제조장치용 지그 조립체 |
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