JP2006135151A - 配線板の製造法 - Google Patents
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Abstract
【課題】めっきリードを必要とせず高密度微細配線を形成でき、回路の高さを高精度に制御し、接続信頼性に優れた配線板の製造法を提供する。
【解決手段】a:銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあける。b:スルーホールとなる孔の内壁に電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層を形成する。c:スルーホールとなる孔及びその周囲を除いて選択的にめっきレジストを塗布する。d:電解めっき又は無電解めっきによって少なくとも孔内壁にニッケル又はその合金のめっき層を形成する。e:めっきレジストを剥離する。f:スルーホール孔内壁のめっき層を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成する。g:エッチングレジストの形成されていない銅箔部分を選択的にエッチング除去する。h:ニッケル及び金めっきを行なう部分を除いて、配線表面とスルーホール内に保護膜を形成する。i:ニッケル及び金めっきを形成する。
【選択図】図1
【解決手段】a:銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあける。b:スルーホールとなる孔の内壁に電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層を形成する。c:スルーホールとなる孔及びその周囲を除いて選択的にめっきレジストを塗布する。d:電解めっき又は無電解めっきによって少なくとも孔内壁にニッケル又はその合金のめっき層を形成する。e:めっきレジストを剥離する。f:スルーホール孔内壁のめっき層を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成する。g:エッチングレジストの形成されていない銅箔部分を選択的にエッチング除去する。h:ニッケル及び金めっきを行なう部分を除いて、配線表面とスルーホール内に保護膜を形成する。i:ニッケル及び金めっきを形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、配線板の製造法に関する。
配線板は、通常、銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあけ、その孔の内壁と銅箔表面に無電解めっきを行って、スルーホールとして必要な厚さまで電気めっきを行い、そのスルーホールめっきを保護しながら不要な銅を除去するためにエッチングレジストを形成し、例えば塩化第二銅と塩酸からなる化学エッチング液をスプレーで噴霧し、不要な銅を選択的にエッチング除去することによって製造されている。近年では機器の小型化によって、配線板の高密度化が要求され、回路パターンの密度も、導体幅/導体間隔が30μm/30μm迄要求されてきている。この要求に対応する配線板は、前記従来の製造法では非常に困難となってきているため、高密度でありながら経済的に優れた配線板の製造法が、特開平11−54910号公報に提案されている。
近年、実装方式としてチップを直接搭載する基板が要求されてきており、チップとの接続方式としてACF(異方導電性膜)等を用いたフリップチップ方式が高密度実装として採用されてきている。これらの実装方式に対応する基板側への要求としては、これまで以上に高密度であることが要求され、更にチップとの接続ラインに幅の高精度化、チップとの接続面の高さ(厚み)ばらつきの高精度化も必要となる。前記公報に開示された製法は、経済的に優れており、微細配線も従来と比較して格段の向上を図ることができるが更なる高密度化の要求に対しては以下の課題がある。
回路パターンを形成した後、電気めっきでスルーホールを形成することから、ライン及びスルーホールに対して電気めっきリードとなるラインを接続しておかなければならない。そのめっきリードラインのために配線密度が上がらなかったり、スルーホールヘ接続するめっきリード用スルーホールが必要になると共に、スルーホール個数が多く必要となったり、そのためのライン本数が増加する等で、配線密度を向上させるには障害となっていた。また、特にチップ実装部ラインにおいて、めっきリードラインの接続が不可能な場合が発生し易く、その場合は、ラインを削除することが必要なことから、チップとの接続信頼性の低下を招く等の問題があった。また、メッキリードラインを接続しておいて後から孔で切断する等の手法をとる場合もあるが、そのためのスペースが必要になる等、更なる高密度に対しては障害となっていた。
一方、チップとの接続をするラインにおいては、電気めっきで形成することから、電気めっき特有の面内厚みばらつきが大きく発生し、チップとの接続面の高さ(厚さ)管理が困難になると共に、接続信頼性が悪化するという課題があった。本発明は、前記公報に開示されている微細配線レベルを損なうことなく、ラインやスルーホールにめっきリードを必要とせず、表面実装部品(例えばチップ等)との接続信頼性を損なうことなく、これまで以上に高密度回路パターンを形成でき、更に回路の高さのばらつき精度を高精度に押さえて、接続信頼性が損なわれない配線板の製造法を提供することを目的とする。
本発明は,次のものに関する。
(1)以下の工程からなることを特徴とする配線板の製造法。
a:銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあける工程
b:スルーホールとなる孔の内壁に電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層を形成する工程
c:スルーホールとなる孔及びその周囲を除いて選択的にめっきレジストを塗布する工程
d:電解めっき又は無電解めっきによって少なくとも孔内壁にニッケル又はその合金のめっき層を形成する工程
e:めっきレジストを剥離する工程
f:スルーホール孔内壁のめっき層を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成する工程
g:エッチングレジストの形成されていない銅箔部分を選択的にエッチング除去する工程
h:ニッケル及び金めっきを行なう部分を除いて、配線表面とスルーホール内に保護膜を形成する工程
i:ニッケル及び金めっきを形成する工程
(2)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性微粒子をスルーホールとなる内壁に付着させたものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(3)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性モノマーを付着させ、その後、その導電性モノマーを酸化重合して導電性を付与したものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(4)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、無電解めっきの触媒によるシーダー処理をしたものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(5)工程dにおけるニッケル又はその合金めっき層の厚さが1〜20μmの範囲である項(1)〜(4)のいずれかに記載の配線板の製造法。
(6)銅張り積層板の基材がフレキシブル基材である項(1)〜(4)いずれかに記載の配線板の製造法。
(7)工程dにおけるニッケル又はその合金めっきを行う範囲が、スルーホールとなる孔の内壁及びスルーホールとなる孔の周囲0.01〜1.0mmの範囲である項(1)〜(4)のいずれかに記載の配線板の製造法。
(1)以下の工程からなることを特徴とする配線板の製造法。
a:銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあける工程
b:スルーホールとなる孔の内壁に電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層を形成する工程
c:スルーホールとなる孔及びその周囲を除いて選択的にめっきレジストを塗布する工程
d:電解めっき又は無電解めっきによって少なくとも孔内壁にニッケル又はその合金のめっき層を形成する工程
e:めっきレジストを剥離する工程
f:スルーホール孔内壁のめっき層を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成する工程
g:エッチングレジストの形成されていない銅箔部分を選択的にエッチング除去する工程
h:ニッケル及び金めっきを行なう部分を除いて、配線表面とスルーホール内に保護膜を形成する工程
i:ニッケル及び金めっきを形成する工程
(2)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性微粒子をスルーホールとなる内壁に付着させたものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(3)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性モノマーを付着させ、その後、その導電性モノマーを酸化重合して導電性を付与したものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(4)電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、無電解めっきの触媒によるシーダー処理をしたものである項(1)に記載の配線板の製造法。
(5)工程dにおけるニッケル又はその合金めっき層の厚さが1〜20μmの範囲である項(1)〜(4)のいずれかに記載の配線板の製造法。
(6)銅張り積層板の基材がフレキシブル基材である項(1)〜(4)いずれかに記載の配線板の製造法。
(7)工程dにおけるニッケル又はその合金めっきを行う範囲が、スルーホールとなる孔の内壁及びスルーホールとなる孔の周囲0.01〜1.0mmの範囲である項(1)〜(4)のいずれかに記載の配線板の製造法。
本発明によれば、微細配線レベルを損なうことなく、ラインやスルーホールにめっきリードを必要とせず、チップ等の表面実装部品との接続信頼性を損なうことなく、これまで以上に高密度回路パターンを形成でき、更に回路の高さのぱらつき精度を高精度に押さえて、接続信頼性が損なわれない配線板の製造法を提供することができる。
前記スルーホールとして電気的に接続される、電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層には、無電解めっき層、導電性微粒子とその導電微粒子をスルーホールとなる孔内壁に保持するための接着剤成分からなるもの、導電性モノマーを付着させ、その後、その導電性モノマーを酸化重合させて導電性を付与したもの、あるいは無電解めっきのめっき触媒によるシーダー処理を用いることができる。それぞれの実施の形態詳細については、特開平11−54910号公報に示されている。工程cにおけるめっきレジストは、印刷用インク、又は露光現像タイプのドライフィルムを用いることができる。一方、材質としては、次工程のめっき時の耐久性とめっき後の剥離性を兼ね備えている必要がある。工程dにおけるニッケル又はその合金めっき層の厚さは、1〜20μmの範囲であることが好ましく、1μm未満では、はんだなどの熱衝撃に対する強度が不足し、20μmを越えると、その後の回路形成時に大きな段差によって、エッチングレジスト密着時に気泡を巻き込み、その後のエッチングで断線する可能性があり、より好ましくは3〜10μmの範囲である。さらに、ニッケル又はその合金めっきを行う範囲は、スルーホールとなる孔の内壁及びスルーホールとなる孔の周囲0.01〜1.0mmの範囲とする。工程h、工程iについては、保護膜を形成し、電解又は無電解めっきで導体露出部を処理する等の方法が多く用いられるが、本発明の特徴を最大に生かすためには導体露出部に対して、均一な厚みでめっきができる無電解めっきを採用することが好ましい。保護膜としては、ソルダレジストが一般的に用いられ、熱硬化型や紫外線硬化型のものが使用できるが、レジスト形状を精度良く仕上げることができる紫外線硬化型のものが好ましい。保護膜形成は、ワニス状の材料であれば印刷で行うことも可能であるが、より精度を確保するためには、感光性のソルダレジスト、カバーレイフィルム、フィルム状レジストを用いるのが好ましい。材質としては、エポキシ系、ポリイミド系、エポキシアクリレート系、フルオレン系の材料を用いることができる。また、工程iおけるニッケル及び金めっきは、無電解めっきが好ましく、市販品が使用できる。
銅張り積層板の基材には、フレキシブル基材を用いることもできる。基材としては、ポリイミドフイルム、ポリエステルフィルム等を用いることができ、市販のものでは、ポリイミドフイルムではカプトン(東レ・デュポン株式会社製、商品名)ユーピレックス(宇部興産株式会社製、商品名)、エスパネックス(新日鉄化学株式会社製、商品名)、ポリエステルフィルムでは、ルミラー(東レ株式会社製、商品名)を使用することができる。この銅張り積層板の基材には、通常の配線板に用いるガラス布エポキシ樹脂含浸の銅張り積層板、ガラス不織紙エポキシ樹脂含浸銅張り積層板、セラミック表面を粗化し該表面に銅層を形成したセラミック銅張り積層板等を用いることができる。本発明の銅張り積層板の銅箔には、圧延銅箔、電解銅箔いずれの種類でも用いることができ、厚さは薄ければ薄いほど微細な回路を形成することができるが、取り扱い性や価格の面から、好ましい範囲は、5μm〜35μmの範囲である。銅箔の厚さが5μm未満のもので市販されているものはなく、自前で作製するにしてもめっき装置等を必要とし経済的ではなく、取り扱い性も極めて悪い。35μmを越えるものについても本発明の方法を用いることはできるが、微細な回路を形成することは困難でありメリットは少ない。以下本発明を実施例に基づき説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
(工程a)
図1(a)に示すように、両面に厚さ12μmの銅箔1を貼り合わせたガラスエポキシ樹脂含浸銅張り積層板であるMCL−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)の厚さ0.1mmのものに、直径0.2mmのスルーホールとなる孔をあけた。
(工程b)
図1(b)に示すように、孔をあけた銅張り積層板を十分に水洗いした後、コンディショナーCLD−100(日立化成工業株式会社製、商品名)に40℃で5分間浸漬して表面処理を行い、続いて、無電解めっき用増感剤であるCUST−201B(日立化成工業株式会社製、商品名)に、液温50℃で40分の条件で浸漬し、無電解めっき液であるL−59めっき液(日立化成工業株式会社製、商品名)を60℃で30分の条件で、厚さ0.5μmの銅めっきを電気めっきを受け入れる層3として形成した。
(工程c)
図1(c)に示すように、スルーホール孔及びその周囲ランドを外しためっきレジスト用ドライフィルムであるフォテックH−N640(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を70mJ/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、めっきレジスト4を形成した。
(工程d)
図1(d)に示すように、以下の電気ニッケルめっきを、液温55℃、時間6分、電流密度4A/dm2の条件で行い、厚さ5μmのニッケルめっき層5を形成した。
(電気ニッケルめっき液の組成)
ニッケル……………60g/l
塩化ニッケル………35g/l
棚酸…………………35g/l
(工程e)
図1(e)に示すように、めっきレジスト4を3%重量の水酸化カリウム溶液で剥離除去した。
(工程f)
図1(f)に示すように、スルーホール孔内壁のめっき層3を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成するために、エッチングレジスト用ドライフィルムであるフォテックH−N920(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を50mJ/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、エッチングレジスト7を形成した。
(工程g)
図1(g)に示すように、エッチングレジスト7の形成されていない銅箔部分を、塩化第二銅/塩酸溶液をスプレー噴霧して、選択的にエッチング除去した。
(工程h)
図1(h)に示すように、エッチングレジスト7を3%重量の水酸化カリウム溶液で剥離除去した。
(工程i)
図1(i)に示すように、液状ソルダレジスト(SR−7000;日立化成工業株式会社製商品名)30gにメチルエチルケトンを30g加えて、25℃における粘度が40mPa・sのソルダレジストインクを調製した。このソルダレジストインクを離型性面としてシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成した。次いで、不要部分を除去した。その後、シリコン樹脂面に残ったレジストインクを、配線板の上に転写した。更に、1J/cm2の紫外線照射後、この配線板を乾燥器を用いて150℃で60分間加熱処理し、保護膜8であるソルダレジストを形成した。
(工程j)
図1(j)に示すように、露出している配線に、置換パラジウムめっき(メルテックス株式会社製メルプレ一トアクチベ−タ350)を、25℃で、5分間処理を行い、その後l分間、流水洗を行い、更に無電解ニッケルめっき(カニゼン株式会社製ブル一シュウマ)を、80℃で、30分間処理を行い、無電解ニッケルめっき層(膜厚5μm)を形成し、さらに無電解金めっき液は、EEJA製の商品名レクトロレスプレップを用い、浴温90℃で10分間めっきを行い、無電解金めっき層(膜厚0.5μm)を順次形成した。
(工程a)
図1(a)に示すように、両面に厚さ12μmの銅箔1を貼り合わせたガラスエポキシ樹脂含浸銅張り積層板であるMCL−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)の厚さ0.1mmのものに、直径0.2mmのスルーホールとなる孔をあけた。
(工程b)
図1(b)に示すように、孔をあけた銅張り積層板を十分に水洗いした後、コンディショナーCLD−100(日立化成工業株式会社製、商品名)に40℃で5分間浸漬して表面処理を行い、続いて、無電解めっき用増感剤であるCUST−201B(日立化成工業株式会社製、商品名)に、液温50℃で40分の条件で浸漬し、無電解めっき液であるL−59めっき液(日立化成工業株式会社製、商品名)を60℃で30分の条件で、厚さ0.5μmの銅めっきを電気めっきを受け入れる層3として形成した。
(工程c)
図1(c)に示すように、スルーホール孔及びその周囲ランドを外しためっきレジスト用ドライフィルムであるフォテックH−N640(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を70mJ/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、めっきレジスト4を形成した。
(工程d)
図1(d)に示すように、以下の電気ニッケルめっきを、液温55℃、時間6分、電流密度4A/dm2の条件で行い、厚さ5μmのニッケルめっき層5を形成した。
(電気ニッケルめっき液の組成)
ニッケル……………60g/l
塩化ニッケル………35g/l
棚酸…………………35g/l
(工程e)
図1(e)に示すように、めっきレジスト4を3%重量の水酸化カリウム溶液で剥離除去した。
(工程f)
図1(f)に示すように、スルーホール孔内壁のめっき層3を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成するために、エッチングレジスト用ドライフィルムであるフォテックH−N920(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を50mJ/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、エッチングレジスト7を形成した。
(工程g)
図1(g)に示すように、エッチングレジスト7の形成されていない銅箔部分を、塩化第二銅/塩酸溶液をスプレー噴霧して、選択的にエッチング除去した。
(工程h)
図1(h)に示すように、エッチングレジスト7を3%重量の水酸化カリウム溶液で剥離除去した。
(工程i)
図1(i)に示すように、液状ソルダレジスト(SR−7000;日立化成工業株式会社製商品名)30gにメチルエチルケトンを30g加えて、25℃における粘度が40mPa・sのソルダレジストインクを調製した。このソルダレジストインクを離型性面としてシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成した。次いで、不要部分を除去した。その後、シリコン樹脂面に残ったレジストインクを、配線板の上に転写した。更に、1J/cm2の紫外線照射後、この配線板を乾燥器を用いて150℃で60分間加熱処理し、保護膜8であるソルダレジストを形成した。
(工程j)
図1(j)に示すように、露出している配線に、置換パラジウムめっき(メルテックス株式会社製メルプレ一トアクチベ−タ350)を、25℃で、5分間処理を行い、その後l分間、流水洗を行い、更に無電解ニッケルめっき(カニゼン株式会社製ブル一シュウマ)を、80℃で、30分間処理を行い、無電解ニッケルめっき層(膜厚5μm)を形成し、さらに無電解金めっき液は、EEJA製の商品名レクトロレスプレップを用い、浴温90℃で10分間めっきを行い、無電解金めっき層(膜厚0.5μm)を順次形成した。
(実施例2)
実施例1における工程bに代えて、以下の工程とした。スルーホールとなる孔の内壁に、電気めっきを受け入れる層3を、以下のようにして形成した。孔をあけた銅張り積層板を十分に水洗いした後、ブラックホールクリーナーSP−6800(メック株式会社製、商品名)に、室温で1分間浸漬けして油脂等を除去し、ブラックホールコンディショナーSP−6560(メック株式会社製、商品名)に室温で3分間浸漬してグラファイト粒子層を形成し、10重量%硫酸で酸洗し、水洗して、均一なグラファイト層を全体に形成し、乾燥して定着し、水洗、乾燥後セパレーターSP−6800(メック株式会社製、商品名)に室温で3分間浸漬し、銅表面の余分なグラファイトを除去した。
実施例1における工程bに代えて、以下の工程とした。スルーホールとなる孔の内壁に、電気めっきを受け入れる層3を、以下のようにして形成した。孔をあけた銅張り積層板を十分に水洗いした後、ブラックホールクリーナーSP−6800(メック株式会社製、商品名)に、室温で1分間浸漬けして油脂等を除去し、ブラックホールコンディショナーSP−6560(メック株式会社製、商品名)に室温で3分間浸漬してグラファイト粒子層を形成し、10重量%硫酸で酸洗し、水洗して、均一なグラファイト層を全体に形成し、乾燥して定着し、水洗、乾燥後セパレーターSP−6800(メック株式会社製、商品名)に室温で3分間浸漬し、銅表面の余分なグラファイトを除去した。
(比較例1)
(工程a)
図2(a)に示すように、両面に厚さ12μmの銅箔1を貼り合わせたガラスエポキシ樹脂含浸銅張り積層板であるMCL−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)の厚さ0.1mmのものに、直径0.2mmのスルーホールとなる孔をあけた。
(工程b)
図2(b)に示すように、孔をあけた銅張り積層板を、十分に水洗いした後、コンディショナーCLD−100(日立化成工業株式会社製、商品名)に40℃で5分間浸漬けして表面処理を行い、続いて、無電解めっき用増感剤であるCUST−201B(日立化成工業株式会社製、商品名)に、液温50℃で40分の条件で浸漬し、無電解めっき液であるL−59めっき液(日立化成工業株式会社製、商品名)を60℃で30分の条件で、厚さ0.5μmの銅めっきを電気めっきを受け入れる層として形成した。
(工程c)
図2(c)に示すように、スルーホール孔内壁のめっき層3を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成するためにエッチングレジスト用ドライフィルムである、フォテックH−N920(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を50mj/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、エッチングレジスト6を形成した。
(工程d)
図2(d)に示すように、エッチングレジスト4の形成されていない胴部分を塩化第二銅/塩酸溶液をスプレー噴霧して、選択的にエッチング除去した。
(工程e)
図2(e)に示すように、以下の電気ニッケルめっきを、液温55℃、時間6分、電流密度4A/dm2の条件で行い、厚さ5μmのニッケルめっき層5を形成した。
(電気ニッケルめっき液の組成)
ニッケル……………60g/l
塩化ニッケル………35g/l
棚酸…………………35g/l
以上に説明した実施例と比較例のパターン配線密度及ぴ配線厚さばらつき精度について表1及び図3、図4に示す。
(工程a)
図2(a)に示すように、両面に厚さ12μmの銅箔1を貼り合わせたガラスエポキシ樹脂含浸銅張り積層板であるMCL−E679(日立化成工業株式会社製、商品名)の厚さ0.1mmのものに、直径0.2mmのスルーホールとなる孔をあけた。
(工程b)
図2(b)に示すように、孔をあけた銅張り積層板を、十分に水洗いした後、コンディショナーCLD−100(日立化成工業株式会社製、商品名)に40℃で5分間浸漬けして表面処理を行い、続いて、無電解めっき用増感剤であるCUST−201B(日立化成工業株式会社製、商品名)に、液温50℃で40分の条件で浸漬し、無電解めっき液であるL−59めっき液(日立化成工業株式会社製、商品名)を60℃で30分の条件で、厚さ0.5μmの銅めっきを電気めっきを受け入れる層として形成した。
(工程c)
図2(c)に示すように、スルーホール孔内壁のめっき層3を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成するためにエッチングレジスト用ドライフィルムである、フォテックH−N920(日立化成工業株式会社製、商品名)をロール温度100℃、ロール送り速度1.0m/分の条件でラミネートし、フォトマスクを介して紫外線を50mj/cm2条件で露光し、1.1重量%の炭酸ナトリウム溶液で噴霧して現像し、エッチングレジスト6を形成した。
(工程d)
図2(d)に示すように、エッチングレジスト4の形成されていない胴部分を塩化第二銅/塩酸溶液をスプレー噴霧して、選択的にエッチング除去した。
(工程e)
図2(e)に示すように、以下の電気ニッケルめっきを、液温55℃、時間6分、電流密度4A/dm2の条件で行い、厚さ5μmのニッケルめっき層5を形成した。
(電気ニッケルめっき液の組成)
ニッケル……………60g/l
塩化ニッケル………35g/l
棚酸…………………35g/l
以上に説明した実施例と比較例のパターン配線密度及ぴ配線厚さばらつき精度について表1及び図3、図4に示す。
以下に本発明の実施例に用いた測定方法と試験方法について述べる。
試料の作製試料は、大きさ500mm×500mmとし、20枚の試料を作製した。配線は図5に示す30μm/30μmのラインに全てめっきリードを取ったものをパネルに均等に9個面付け配置し、それぞれの方法で製作した。
(測定方法)
導体厚みの測定には、触針式の表面粗さ測定器を用いて、基材と導体の接着されている面から導体表面迄の高さを測定した。表1に示すように、比較例の厚みは最大5μmものばらつきが見られるが、実施例の場合は最大でも1μmのばらつき範囲内で製作可能である。
試料の作製試料は、大きさ500mm×500mmとし、20枚の試料を作製した。配線は図5に示す30μm/30μmのラインに全てめっきリードを取ったものをパネルに均等に9個面付け配置し、それぞれの方法で製作した。
(測定方法)
導体厚みの測定には、触針式の表面粗さ測定器を用いて、基材と導体の接着されている面から導体表面迄の高さを測定した。表1に示すように、比較例の厚みは最大5μmものばらつきが見られるが、実施例の場合は最大でも1μmのばらつき範囲内で製作可能である。
パターン配線密度において、特開平11−54910号公報記載の方法では、電気めっきのために、めっきリードが必要であることと、配線形成後にめっきをつけることから、図3に示すような設計となった場合、部品搭載ランドが近くに存在するチップ搭載エリア内接続ラインのなかには、図に示すようなメッキリード接続不可能ラインが発生し、このラインにはめっきがつかない。この場合、このままめっきをつけない方法を採るか、または、ラインを削除するかのいずれかの方法で製作せざるを得ないこととなる。なお、無電解めっきで後からめっきすることも考えられるが、めっきが2重になり、めっきが剥がれやすくなるという問題がある。このままめっきがつかないラインを残して、チップとの接続を行えば、接続性が極度に悪化するラインとなり、このラインを削除すれば、バランスが悪化するために、接続信頼性が悪化する。本発明の方法によれば、無電解めっきを配線形成後に処理することによって、めっきが2重にならずにつけることができる。また、図4(a)に示すような設計の場合、中にあるスルーホールは表面配線側からも裏面配線からもメッキリードラインを引き延ばすことができないため、配線間隔を広げてメッキリード用スルホールを別に設置しなければなない箇所が発生する。従って図4(b)に示すように、配線密度を損なうことがあったが、本発明の方法なら、配線形成前にスルーホールを形成してしまうことから、このようなめっきリード用スルーホールは必要が無く、図4(a)のままで製作可能である。
1.銅箔
2.基材
3.めっきを受け入れる層
4.めっきレジスト
5.ニッケルめっき層
6.孔
7.エッチングレジスト
8.保護膜
9.ニッケル/金めっき層
2.基材
3.めっきを受け入れる層
4.めっきレジスト
5.ニッケルめっき層
6.孔
7.エッチングレジスト
8.保護膜
9.ニッケル/金めっき層
Claims (7)
- 以下の工程からなることを特徴とする配線板の製造法。
a:銅張り積層板にスルーホールとなる孔をあける工程
b:スルーホールとなる孔の内壁に電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層を形成する工程
c:スルーホールとなる孔及びその周囲を除いて選択的にめっきレジストを塗布する工程
d:電解めっき又は無電解めっきによって少なくとも孔内壁にニッケル又はその合金のめっき層を形成する工程
e:めっきレジストを剥離する工程
f:スルーホール孔内壁のめっき層を保護するとともに、必要な配線を形成するためのエッチングレジストを形成する工程
g:エッチングレジストの形成されていない銅箔部分を選択的にエッチング除去する工程
h:ニッケル及び金めっきを行なう部分を除いて、配線表面とスルーホール内に保護膜を形成する工程
i:ニッケル及び金めっきを形成する工程 - 電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性微粒子をスルーホールとなる内壁に付着させたものである請求項1に記載の配線板の製造法。
- 電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、導電性モノマーを付着させ、その後、その導電性モノマーを酸化重合して導電性を付与したものである請求項1に記載の配線板の製造法。
- 電解めっき又は無電解めっきを受け入れる層が、無電解めっきの触媒によるシーダー処理をしたものである請求項1に記載の配線板の製造法。
- 工程dにおけるニッケル又はその合金めっき層の厚さが1〜20μmの範囲である請求項1〜4のいずれかに記載の配線板の製造法。
- 銅張り積層板の基材がフレキシブル基材である請求項1〜4いずれかに記載の配線板の製造法。
- 工程dにおけるニッケル又はその合金めっきを行う範囲が、スルーホールとなる孔の内壁及びスルーホールとなる孔の周囲0.01〜1.0mmの範囲である請求項1〜4のいずれかに記載の配線板の製造法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004323561A JP2006135151A (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 配線板の製造法 |
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Cited By (3)
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CN102427673A (zh) * | 2011-09-01 | 2012-04-25 | 广州杰赛科技股份有限公司 | 盲孔pcb板的加工方法 |
US9035191B2 (en) | 2012-12-04 | 2015-05-19 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Printed circuit board and method for manufacturing the same |
CN113543501A (zh) * | 2021-07-14 | 2021-10-22 | 加宏科技(无锡)股份有限公司 | 一种电镀通孔的碳墨线路板正负片生产方法 |
-
2004
- 2004-11-08 JP JP2004323561A patent/JP2006135151A/ja active Pending
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