JP2006037098A - ポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体、有機半導体共重合体、半導体多層構造、およびポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法 - Google Patents

ポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体、有機半導体共重合体、半導体多層構造、およびポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 p型半導体特性を有するオリゴチオフェンと、電子親和力の大きい、すなわち、n型半導体特性を示す複素芳香族環とを交互に高分子の主鎖に含むことにより、p型とn型の電気的特性を同時に示す有機半導体高分子を提供する。
【解決手段】 式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
Figure 2006037098

1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状または環状アルコキシ基であり、Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ以上含む複素芳香族環またはその複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、xは3〜12、yは1〜4(但し、x>y)、nは4〜200の整数である。
【選択図】なし

Description

本発明は、オリゴチオフェンとn型芳香族化合物を交互に主鎖に含む有機半導体高分子に係り、より詳しくは、p型半導体特性を有するオリゴチオフェンと電子親和力の大きい、すなわちn型半導体特性を示すヘテロ芳香族環を交互に高分子の主鎖に含むことにより、p型とn型の電気的特性を同時に示す有機半導体高分子に関するものである。
一般に、有機薄膜トランジスタ(Organic Thin Film Transistor;OTFT)は、基板、ゲート電極、絶縁層、ソース/ドレイン電極、チャネル層から形成され、ソース/ドレイン電極上にチャネル層が形成されるボトムコンタクト(BC)型と、チャネル層上にマスク蒸着などで金属電極が後ろから形成されるトップコンタクト(TC)型に分けられる。
有機薄膜トランジスタ(OTFT)のチャネル層としてシリコン(Si)などの無機半導体物質が通常使用されてきたが、最近、ディスプレイの大面積化、低価格化および柔軟化傾向により、高価格、高温真空プロセスを必要とする無機系物質から有機系半導体物質に移行している。
また、有機薄膜トランジスタのチャネル層用有機半導体物質が多く研究され、そのトランジスタ特性が報告されている。多く研究される低分子系またはオリゴマー有機半導体物質としては、メロシアニン、フタロシアニン、ペリレン、ペンタセン、C60、チオフェンオリゴマーなどがあり、ルスントテクノロジー社や3M社などでは、ペンタセン単結晶を用いて3.2〜5.0cm2/Vs以上の高い電荷移動度を報告している(非特許文献1参照)。フランスのCNRSもオリゴチオフェン誘導体を用いて0.01〜0.1cm2/Vsの比較的高い電荷移動度と電流点滅比(on/off ratio)を報告しているが(非特許文献2参照)、薄膜の形成を主に真空プロセスに依存している。
高分子系材料としては、チオフェン系高分子を用いた有機薄膜トランジスタ(OTFT)が多く報告されている。なかでも、OTFTの特性には至っていないが、低分子系材料を用いたプリント技術のような溶液加工として低価格で、大面積加工が可能であるという加工性の利点があるといえる。すでに、ケンブリッジ大学およびセイコエプソン社は、F8T2というポリチオフェン系材料を採用した高分子系OTFT素子を試験製作して電荷移動度0.01〜0.02cm2/Vsを報告している(特許文献1、非特許文献3参照)。
前記したように、有機半導体高分子材料は、電荷移動度のようなTFT素子の特性が低分子系材料のペンタセンに比べては劣るが、高い動作周波数を必要とせず且つ低廉にTFTの製造が可能であるという利点がある。
しかし、OTFTを商用化するためには、電荷移動度だけでなく、高い電流点滅比(on/off ratio)という重要なパラメータを満足しなければならない。ところが、このためには、遮断(off)状態における漏れ状態を最大限減らさなければならない。今日、このような特性を改善するためにいろいろの方法が試みられている。
特許文献2では、活性層としてn型無機半導体材料とp型有機半導体材料を共に構成してOTFT素子のパラメータを多少改善させた結果を報告しているが、蒸着を必要とする既存のシリコン基板のTFT工程とは異ならないため、量産性の難しさを持っている。特許文献3では、位置規則的(regioregular)なポリチオフェンP3HTを用いて電荷移動度0.01〜0.04cm2/VsのOTFT素子を製造した。代表的な位置規則性ポリチオフェンP3HTの場合、電子素子への適用が難しい理由は、電荷移動度が0.01cm2/Vsであるが、遮断漏れ電流(10-9A以上)が高くて電流点滅比が400以下と非常に低いためである(特許文献4参照)。
このように高い電荷移動度と低い遮断漏れ電流を同時に満足する高分子系有機薄膜トランジスタ用有機半導体高分子は、未だ報告されていない。
国際公開第WO00/079617号パンフレット 米国特許第5,625,199号明細書 米国特許第6,107,117号明細書 米国特許第6,452,207号明細書 Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, Vol. 771, L6.5.1〜L6.5.11 J. Am. Chem. Soc., 1993, Vol. 115, pp.8716〜8721 Science, 2000, vol. 290, pp. 2132〜2126
そこで、本発明はこのような問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、オリゴチオフェンと電子求引性(electron−withdrawing)イミン窒素原子を含むn型半導体特性を持ったアリーレンを高分子主鎖に交互に含むことにより、素子適用の際に高い電荷移動度および低い遮断漏れ電流を有する有機半導体高分子を提供することにある。
前記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、下記化学式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)(Poly(oligothiophene−arylene))誘導体が提供される。
Figure 2006037098
前記化学式(1)中、R1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基であり、複数のR1は同一であっても相違してもよい。Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ以上含む炭素数2〜30の含窒素複素芳香族環、またはその含窒素複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、xは3〜12の整数であり、yは1〜4の整数であり(但し、x>y)、nは4〜200の整数である。
本発明の他の観点によれば、ポリチオフェンと電子吸引性ユニット(electron accepting unit)を含む繰り返し高分子構造(polymeric repeat structure)であって、前記電子吸引性ユニットが複素芳香族環で少なくとも1つ以上の電子求引性イミン窒素原子(electron−withdrawing imine nitrogen atom)を有する少なくとも1つ以上の電子吸引性複素芳香族環を含む繰り返し高分子構造を有する、有機半導体共重合体が提供される。
前記繰り返し高分子構造は、繰り返しユニットのポリチオフェンを含み、前記ポリチオフェンは、C120の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、C120の直鎖状、分枝状または環状アルコキシアルキル基、またはC116の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基から形成される。
なお、前記繰り返し高分子構造の数は、4〜200を用いた。
本発明の別の観点によれば、前記化学式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法が提供される。
ポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法において、Pd錯体およびNi錯体よりなる群から選択された触媒を単量体溶液に加える工程は、前記単量体溶液が下記化学式(2)の第1単量体および下記化学式(3)の第2単量体を含む工程と、重縮合反応によってポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体を製造する工程とを含む。
Figure 2006037098
Figure 2006037098
前記第1単量体は、チオフェン−ジスタンナン、チオフェン−ジボロネート、チオフェン−ジボロン酸およびジハロ−チオフェンよりなる群から選択され、前記第2単量体は、複素芳香族環内に少なくとも一つの電子求引性イミン窒素原子を含むC230の含窒素複素芳香族環および下記化学式(4)で表わされるC230の複素芳香族環よりなる群から選択される。
Figure 2006037098
前記C230の複素芳香族環が、ハロゲン原子よりなる群から選択された末端基を含むヘテロ芳香族環内に少なくとも一つの前記電子求引性イミン窒素原子を含む。
本発明の別の観点によれば、基板、基板上に蒸着されたゲート、絶縁体によってゲートから分離されたソース/ドレイン電極、および前記化学式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体のチャネル層を含む、半導体多層構造が提供される。
この半導体多層構造は、pチャネルOTFTである。
本発明に係る高分子半導体は、既存のp型半導体特性を有するポリチオフェン系誘導体とn型半導体特性を有する複素芳香族環を交互に含むことにより、OTFTのような電子素子において有機活性層として用いられるとき、低い遮断状態の漏れ電流を保つと同時に高い電流点滅比と高い電荷移動度を得ることができる。また、一般有機溶媒に対する溶解性、加工性および優れた薄膜特性を持つ。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、下記化学式(1)で表わされ、オリゴチオフェンとn型特性を示す複素芳香族環が交互に高分子の主鎖に含まれた構造を持っている。
Figure 2006037098
前記化学式(1)中、R1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基であり、複数のR1は同一であっても相違してもよい。Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも一つ以上含む炭素数2〜30の含窒素複素芳香族環、またはその含窒素複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、xは3〜12の整数であり、yは1〜4の整数であり(但し、x>y)、nは4〜200の整数である。
このArで表わされる複素芳香族環は、5員の複素芳香族環および縮合した複素芳香族環よりなる群から選択される。
本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、有機溶媒に対する優れた溶解性、共平面性(Coplanarity)を示し、また有機薄膜トランジスタの活性層として適用される場合、高い電荷移動度、低い遮断漏れ電流を示す。
一方、本発明の前記化学式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、下記化学式(2)と下記化学式(3)で表わされる単量体を共重合して製造される。
Figure 2006037098
前記化学式(2)中、R1は化学式(1)での定義と同じ意味を持ち、A1とA2はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子、トリアルキル錫基またはボラン基であり、aは1〜10の整数である。
Figure 2006037098
前記化学式(3)中、Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ以上含む炭素数2〜30の置換または非置換の含窒素複素芳香族環、またはその含窒素複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、A3とA4はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子またはトリアルキル錫基であり、bは1〜4の整数である。
また、本発明において、前記化学式(3)のArで表わされるチオフェンアリーレンは、下記化学式(4)で表わされるC230の複素芳香族環を含む。
Figure 2006037098
前記化学式(4)中、Ar1は電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ含み、炭素数2〜30の置換または非置換の含窒素複素芳香族環であり、A3とA4はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子またはトリアルキル錫基であり、R2およびR3はそれぞれ独立に水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状または環状アルコキシ基であり、複数のR2およびR3は同一であっても相違してもよく、cとeはそれぞれ独立に1〜8の整数であり、dは1〜4の整数である。
前記単量体のうち、化学式(3)で表わされるチオフェン化合物としては、下記化学式(5)で表わされる群から選択される化合物を例示することができるが、これらに限定されない。
Figure 2006037098
前記化学式(5)中、R1とaは、R1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または、炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基であり、複数のR1は同一であっても相違してもよく、aは1〜10の整数である。また、本発明において、前記化学式(3)のArで表わされる含窒素複素芳香族環としては、下記化学式(6)で表わされる群を例示することができるが、これらに限定されない。
Figure 2006037098
前記化学式(6)中、Yは水素、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状アルキル基、アリール基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状または環状アルコキシアルキル基である。
前記含窒素複素芳香族環としては、具体的に、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピリジン、ビピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ナフチリジン、ベンゾイミダゾール、ピリミドピリミジン、ベンゾチアジアゾール、ベンゾセレナジアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、フェナントロリン、フェナジンおよびフェナントリジンなどを例示することができる。
前記単量体のうち、化学式(4)で表わされるチオフェンアリーレン化合物は、有機金属触媒を用いた縮合反応で合成されるが、その一般的な反応の一例は、下記化学式(13)で表わされる通りである。
Figure 2006037098
*(Et2O)PSSH=ジチオリン酸−0,0−ジエチルエーテル
NBS=N−ブロモサクシンイミド
Ni(COD)2=ビス(1,5−シクロオクタジェン)ニッケル
このようなチオフェンアリーレン誘導体の代表的な例としては、下記化学式(7)で表わされる群から選択される化合物を例示することができる。
Figure 2006037098
本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の合成には、Stille et al(Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1986, Vol. 25, pp. 508−524)、Suzuki et al(J. Am. Chem. Soc. 1989, Vol. 111, pp. 314−321)、McCullough et al(米国特許第6,166,172、1999年)、またはYamamoto et al(Macromolecules 1992, Vol. 25, pp. 1214−1226)などによって報告されている下記化学式(8)および化学式(9)で表わされるパラジウムまたはニッケル触媒を用いた合成方法を利用することができる。
PdL4またはPdL2Cl2 ・・・・・・(8)
前記化学式(8)中、Lはトリフェニルホスフィン(PPh3)、トリフェニルアリシン(AsPh3)およびトリフェニルホスファイト(P(OPh)3よりなる群から選択されたリガンドである。
NiL’2またはNiL’Cl2 ・・・・・(9)
前記化学式(9)中、L’は、1,5−シクロオクタジエン、1,3−ジフェニルホスフィノプロパン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンおよび1,4−ジフェニルホスフィノブタンよりなる群から選択されたリガンドである。これらニッケル(0)触媒の具体的な例としては、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)化合物[Ni(COD)2]が挙げられ、ニッケル(II)触媒としては、1,3−ジフェニルホスフィノプロパンニッケル(II)クロライド[Ni(dppp)Cl2]、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンニッケル(II)クロライド[Ni(dppe)Cl2が使用できる。
化学式(13)において合成したチオフェンアリーレン誘導体を単量体として用いた本発明の重合の一例を下記化学式(14)と化学式(15)に示したが、重合方法はこれに限定されない。
Figure 2006037098
前記化学式(14)中、nは6〜100の整数である。
この際、触媒は、好ましくはパラジウム(0)化合物であるテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)[テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、Pd(PPh34]化合物を単量体に対して0.2〜10モル%の範囲で使用する。また、重合溶媒は、トルエン、ジメチルホルムアルデヒド(DMF)、テトラヒドロフラン(THF)、N−メチルピロリジノン(NMP)などを使用することができ、縮合反応は、60〜120℃、窒素雰囲気中で12〜72時間行われる。
前記化学式(14)によって収得されるポリ(オリゴチフェン−アリーレン)誘導体の数平均分子量は約5000〜100000であり、本発明の好適な共重合体の数平均分子量は10000以上である。
Figure 2006037098
前記化学式(15)中、R'は炭素数1〜12のアルキル基であり、nは4〜100の整数である。
重合溶媒は、一般に用いられるテトラヒドロフラン(THF)を使用し、触媒の量は、単量体に対して5〜7モル%であることが好ましい。反応は、窒素雰囲気中で75〜80℃を維持しながら48〜72時間行うことが好ましい。
前記化学式(15)によって収得されるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の数平均分子量は3000〜100000であり、本発明の好適な共重合体の数平均分子量は10000以上である。
本発明において前記化学式(14)と化学式(15)で表わされる有機金属化合物を用いた重合法で合成することが可能なポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、下記化学式(10)(11)(12)で表わされる群から選択される化合物を例として挙げることができるが、これらに限定されない。
Figure 2006037098
Figure 2006037098
Figure 2006037098
本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、光起電性素子(Photovoltaic Device)、有機発光素子(LED)、センサなどの電子素子に電荷発生および移動層のような核心素材として利用できるが、これらに限定されない。
すなわち、本発明は、基板、基板上に蒸着されたゲート、絶縁体によってゲートから分離されたソース/ドレイン電極および本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体のチャネル層を含む半導体多層構造に関するものである。
具体的に、本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、活性層を形成する新しい有機半導体材料として用いられ、OTFT素子を製造することができる。この際、有機活性層は、スクリーン印刷法、プリント法、スピンコート法、浸漬(dipping)法、インク噴射法によって形成できるが、これらに限定されない。
このようなOTFT素子は、図1に示すように、通常知られている基板/ゲート電極/ゲート絶縁層/活性層/ソース・ドレイン電極または基板/ゲート電極/ゲート絶縁層/ソース・ドレイン電極/活性層などの構造で形成できるが、これらに限定されない。
この際、前記OTFT素子を構成するゲート絶縁層としては、通常用いられる誘電率の大きい絶縁体を使用することができ、具体的にはBa0.33Sr0.66TiO3(BST:バリウムストロンチウムチタン酸塩)を代表としてAl23、Ta25、La25、Y23、TiO2と強誘電性の絶縁体系列とPbZr0.33Ti0.663(PZT)、Bi4Ti312、BaMgF4、SrBi2(TaNb)29、Ba(ZrTi)O3(BZT)、BaTiO3、SrTiO3、Bi4Ti312、SiO2、SiNx、AlONなどの無機絶縁体(米国特許第5,946,551号参照)とポリイミド(polyimide)、BCB(benzocyclobutane)、パリレン(parylene)、ポリアクリレート(polyacrylate)、ポリビニルアルコール(polyvinylalcohol)、ポリビニルフェノール(polyvinylphenol)などの有機絶縁体(米国特許第6,232,157号参照)を使用することができるが、これらに限定されない。
また、前記OTFT素子を構成するゲートおよびソース/ドレイン電極としては、通常用いられる金属を使用することができ、具体的には金(Au)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、インジウム錫酸化物(ITO)などを使用することができるが、これらに限定されない。
また、前記OTFT素子を構成する基板材料としては、ガラス、ポリエチレンナフタレート(polyethyleneaphthalate:PEN)、ポリエチレンテレフタレート(polyethyleneterephthalate:PET)、ポリカーボネート(polycarbonate)、ポリビニルアルコール(polyvinylalcohol)、ポリアクリレート(polyacrylate)、ポリイミド(polyimide)またはポリノルボルネン(polynorbornene)、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone:PES)などを使用することができるが、これらに限定されない。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は本発明の技術的範囲を制限するものではない。
製造例1:下記化学式(16)に示すように、化学式(13)で表わされるチオフェン−チアゾール誘導体(2)の合成
Figure 2006037098
20.0g(81mmol)の2−ブロモ−3−ヘキシルチオフェン(1)と過量のシアン化銅(CuCN)とを反応させて得られた2−シアノ−3−ヘキシルチオフェン(収率:5.3g、34%)と過量(約2.5当量)のジチオリン酸0,0’−ジエチルエーテル(dithiophosphoric acid 0,0’−diethylether)のTHF溶液を12時間程度加熱反応
させた。得られた2−チオアミノ−3−ヘキシルチオフェン(収率:2.9g、45%)と1.2当量のブロモオクタノンを用いて得られた2−チアゾール(3’−ヘキシル)−3−ヘキシルチオフェン(収率:1.4g、32%)をNBS(N−ブロモスクシニミド)と反応させてチオフェン−チアゾール誘導体(2)を収得した(収率:1.32g、82%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.89 (6H), 1.35 (12H), 1.68 (4H), 2.73 (2H), 2.83 (2H), 6.92 (1H), 7.26 (1H)
製造例2:化学式(13)で表わされるチオフェン−チアゾール誘導体(3)の合成
窒素雰囲気中で反応器にニッケル(II)化合物(Ni(COD)2)(1.24g、4.52mmol)とビピリジン(0.71g)とシクロオクタジエン(0.60g)と無水DMF(10mL)を仕込んで60℃で30分間攪拌した後、製造例1で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(2)(2.5g、6.03mmol)を仕込んだ後、約80℃で24時間程度攪拌した。反応の後、室温の反応溶液を薄い塩酸水溶液に入れて攪拌した後、エーテルで抽出し、水で3〜4回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧蒸留し、その後8:2のヘキサン/トルエンの混合溶媒にカラムを通過させて精製し、オレンジ色の固体を収得した(収率:1.8g、89%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.88 (6H), 1.29 (10H), 1.33 (2H), 1.70 (4H), 2.69 (2H), 2.92 (2H), 6.97 (1H), 7.29 (1H)
製造例3:化学式(13)で表わされるチオフェン−チアゾール誘導体(4)の合成
製造例2で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(3)(1.82g、2.71mmol)を酢酸とクロロホルムの混合溶液(5/1、50mL)に希釈した後、NBS(1.01g、5.70mmol)を徐々に添加した。攪拌しながら温度を45〜50℃まで徐々に増加させた。20分間反応させた後、炭酸ナトリウム水溶液に徐々に付加して反応を終了させた。クロロホルムで抽出した後、水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧蒸留した後、再結晶して黄色の固体を収得した(収率:1.9g、85%)、収得したチオフェン−チアゾール誘導体(4)のクロロホルム溶液の1H−NMRスペクトルを図2に示した。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.88 (6H), 1.31 (12H), 1.68 (4H), 2.65 (2H), 2.83 (2H), 6.92 (1H)
製造例4:下記化学式(17)に示すように、化学式(7)で表わされるチオフェン−チアゾール誘導体(5)の合成
Figure 2006037098
窒素雰囲気中で反応器に2.47g(5.0mmol)の2,2’−ビチアゾール誘導体(T. Yamamoto, et al. Chem. Mater, 1997, Vol. 9, 1217−1225参照)と過量の4.41g(15.0mmol)の3−ヘキシルチオフェンボラン誘導体を溶解させた無水テトラヒドロフラン(THF、25mL)溶液を攪拌しながら、炭酸カリウム(K2CO3、20g、150mmol)水溶液とパラジウム触媒(Pd(PPh34)を単量体に対して10mol%(578mg、0.5mmol)付加し、80〜85℃で24時間反応させた。反応後、薄い塩酸水溶液で処理し、クロロホルムで抽出した。収得した有機層を減圧蒸留して除去した後、メタノールで軽く洗浄、乾燥して収得したチオフェン−チアゾール四量体をクロロホルム/酢酸の混合液でNBSと反応させ、オレンジ色の固体であるチオフェン−チアゾール誘導体(5)を収得した(収率:3.0g、72%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.89 (6H), 1.34 (12H), 1.60 (2H), 1.76 (2H), 2.59 (2H), 2.88 (2H), 6.87 (1H)
製造例5:化学式(7)で表わされるチオフェン−チアゾール誘導体(6)の合成
2,2’−ビチアゾール誘導体の代わりに製造例3のチオフェン−チアゾール誘導体(4)(2.07g、2.5mmol)を使用する以外は、前記製造例4と同一の方法で行ってチオフェン−チアゾール誘導体(6)を収得した(収率:2.0g、75%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.86 (9H), 1.28 (18H), 1.62 (2H), 1.71 (4H), 2.72 (4H), 2.89 (2H), 6.90 (2H)
製造例6:化学式(7)で表わされるチオフェン−キノキサリン誘導体(9)の合成
2,2’−ビチアゾール誘導体の代わりに2,3−ヘキシルオキシフェニルキノキサリン(0.7g、1.13mmol)を使用する以外は、前記製造例4と同一の方法で行ってチオフェン−キノキサリン誘導体(9)を収得した(収率:0.6g、52%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.90 (6H), 1.37 (10H), 1.35 (2H), 1.67 (2H), 1.83 (2H), 2.62 (2H), 4.01 (2H), 6.92 (2H), 7.50 (1H), 7.69 (2H), 7.99 (1H)
製造例7:下記化学式(18)に示すように、化学式(15)で表わされるチオフェン四量体(10)の合成
Figure 2006037098
2,2’−ビチアゾール誘導体の代わりにビチオフェンを使用する以外は、前記製造例4と同一の方法で行ってチオフェン四量体(10)を収得した(収率:4.01g、92%)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.90 (6H), 1.36 (12H), 1.60 (4H), 2.54 (4H), 6.86 (2H), 6.99 (2H), 7.04 (2H)
製造例8:製造例3で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(4)を用いたポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−1の合成
窒素雰囲気中で反応器に、製造例3で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(4)(0.5g、0.61mmol)と同量のビス(トリメチルステニル)ビチオフェン(C. van Pham, et al. J. Org. Chem, 1984, Vol. 49, 5250参照)(0.3g、0.61mmol)を仕込み、弱く加熱しながら無水DMFに完全溶解させた後、重合触媒としてパラジウム(0)化合物のPd(PPh34(全体単量体に対し7mol%)を仕込み、その後85℃で4〜6時間反応させた。反応の後、室温まで冷えた反応混合液を濾過して収得した高分子固体を塩酸水溶液/クロロホルムで2回、アンモニア水溶液/クロロホルムで2回、水/クロロホルムで1回の順に洗浄した後、メタノールに再沈澱して回収した。これを乾燥させて赤色の高分子Poly−1を収得した(収率:0.3g、数平均分子量=12,000)。Poly−1のクロロホルム溶液の1H−NMRスペクトルを図3に示した。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.92 (12H), 1.30 (20H), 1.44 (4H), 1.74 (8H), 2.72 (4H), 2.87 (4H), 7.05 (2H), 7.12 (2H), 7.18 (2H)
製造例9:製造例3で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(4)を用いたポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−2の合成
窒素雰囲気中で反応器に、製造例3で収得したチオフェン−チアゾール誘導体(4)(0.5g、0.61mmol)を溶解させた無水テトラヒドロフラン(THF、50mL)溶液にドデシルマグネシウムブロマイド(n−Cl225MgBr)のエーテル溶液(1.2mmol)を仕込んで室温で2時間攪拌した。ここに、製造例7で収得したチオフェン四量体(10)(0.4g、0.61mmol)の無水THF溶液25mLとニッケル触媒Ni(dppp)Cl2(20mg、単量体に対し6mol%)を仕込んで攪拌しながら反応温度を徐々に75〜80℃まで増加させた。48〜72時間後、温度を室温まで下降させた後、塩酸水溶液とメタノールの混合溶液に仕込んで反応を終結し、濾過して得た高分子を塩酸水溶液/クロロホルムで2回、アンモニア水溶液/クロロホルムで2回、水/クロロホルムで1回の順に洗浄した後、メタノールに再沈澱して回収した。これを乾燥させて赤色の高分子Poly−2を収得した(収率:0.33g、数平均分子量=15,000)。収得したPoly−2のクロロホルム溶液の1H−NMRスペクトルを図4に示した。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.90 (18H), 1.34 (28H), 1.43 (8H), 1.74 (12H), 2.71 (4H), 2.81 (4H), 2.91 (4H), 7.02 (4H), 7.09 (4H)
製造例10:製造例6で収得したチオフェン−キノキサリン誘導体(9)を用いたポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−3の合成
製造例6で収得したチオフェン−キノキサリン誘導体(9)とビス(トリメチルステニル)ビチフェンを単量体として用いる以外は、前記製造例8と同一の方法で行って濃い赤色のPoly−3を合成した(収率:20%、数平均分子量=8000)。
1H−NMR (300 MHz, CDCl3) d (ppm) 0.87 (12H), 1.47 (24H), 1.78 (8H), 2.84 (4H), 3.99 (4H), 6.88 (4H), 7.14 (4H), 7.70 (6H), 7.89 (2H)
実施例1:ポリ(ポリゴチオフェン−アリーレン)Poly−1を用いた有機薄膜トランジスタの製造
まず、洗浄されたガラス基板にゲート電極として用いられるクロムをスパッタリング法で1000Åに堆積させた後、ゲート絶縁膜として用いられるSiO2をCVD法で1000Åに蒸着した。その上にソース/ドレイン電極として用いられるITOをスパッタリング法で1200Åに堆積させた。基板は、有機半導体材料を蒸着する前、イソプロピルアルコールを用いて10分間洗浄した後、乾燥させて使用した。試料は、クロロホルムに10mMの濃度で希釈させたオクタデシルトリクロロシラン溶液に30秒間浸漬した後、アセトンで洗浄し乾燥させ、その後前記製造例8で合成したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−1をクロロホルムに1wt%の濃度で溶解させて1000rpmで1000Åの厚さに塗布し、100℃のアルゴン雰囲気の下で1時間ベーキングしてOTFT素子を製作した。
実施例2:ポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−2を用いた有機薄膜トランジスタの製造
本実施例では、製造例9で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−2を使用した以外は、実施例1と同様の方法で有機薄膜トランジスタ素子を製造した。
実施例3:ポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−3を用いた有機薄膜トランジスタの製造
本実施例では、製造例10で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−3を使用する以外は、実施例1と同様の方法で有機薄膜トランジスタ素子を製造した。
比較実施例:ポリヘキシルチオフェンHT−P3HTを用いた有機薄膜トランジスタの製造
オリゴチオフェンとn型芳香族化合物を交互に含まずにチオフェンのみから構成され、頭−尾(Head−to−Tail)構造を有するポリヘキシルチオフェンHT−P3HT(Aldrich社)を使用する以外は、実施例1と同一の方法で有機薄膜トランジスタ素子を製造した。
実施例1、実施例2、実施例3および比較実施例で製造された素子に対してKEITHLEY社のSemiconductor Characterization System(4200−SCS)を用いて電流伝達特性曲線を測定した後、それぞれ図5〜図8に示し、これによる電気的特性を表1に示した。
Figure 2006037098
電荷移動度は、下記数式(1)に示す飽和領域(saturation region)電流式から(ISO)1/2とVGを変数としたグラフを得るが、この得られたグラフの傾きから求めた。
Figure 2006037098
式(1)中、ISDはソース/ドレイン電流、μまたはμFETは電荷移動度、C0は酸化膜静電容量、Wはチャネル幅、Lはチャネル長、VGはゲート電圧、VTはしきい値電圧をそれぞれ示す。
遮断漏れ電流Ioffは、オフ状態の際に流れる電流であって、電流比においてオフ状態の最小電流から求めた。
電流点滅比Ion/Ioffは、オン状態の最大電流値とオフ状態の最小電流値との比から求めた。
前記表1の結果から分かるように、実施例1、実施例2および実施例3のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、比較実施例のポリヘキシルチオフェンHT−P3HTに比べてOTFTのオフ状態の漏れ電流が相当減少し、電流点滅比が増加した。
また、電荷移動度もチオフェンの割合に応じて増加する傾向を示し、位置規則的なHT−P3HTよりは大きくは3order以上増加した。このように本発明のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体は、新しい構造のp型高分子有機半導体であって、低い漏れ電流、高い電荷移動度、および優れた安定性を持つのでOTFT素子用活性層として提供することができる。
本発明の実施例1で収得した有機薄膜トランジスタ素子の概略断面図である。 本発明の製造例3で収得したチオフェン−チアゾール誘導体の1H−NMRスペクトルである。 本発明の製造例8で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−1の1H−NMRスペクトルである。 本発明の製造例9で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−2の1H−NMRスペクトルである。 本発明の製造例8で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−1の電流伝達特性曲線である。 本発明の製造例9で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−2の電流伝達特性曲線である。 本発明の製造例10で収得したポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)Poly−3の電流伝達特性曲線である。 比較実施例によるポリヘキシルチオフェンHT−P3HTの電流伝達特性曲線である。
符号の説明
1 基板
2 ゲート電極
3 ゲート絶縁層
4 ソース電極
5 ドレイン電極
6 有機活性層

Claims (26)

  1. 下記化学式(1)で表わされるポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
    Figure 2006037098
    (式(1)中、R1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基であり、複数のR1は同一であっても相違してもよい。Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも一つ含む炭素数2〜30の複素芳香族環、またはその複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、xは3〜12の整数であり、yは1〜4の整数であり(但し、x>y)、nは4〜200の整数である。)
  2. 前記複素芳香族環が、5員の複素芳香族環および縮合した複素芳香族環よりなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  3. 前記5員の複素芳香族環が、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾールおよびテトラゾールよりなる群から選択されることを特徴とする請求項2に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  4. 前記縮合した複素芳香族環が、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ナフチリジン、ベンゾイミダゾール、ピリミドピリミジン、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、フェナントリジン、フェナントロリンおよびフェナジンよりなる群から選択されることを特徴とする請求項2に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  5. 前記複素芳香族環が、ピリダジン、ピリミジン、ピラジンおよびトリアジンよりなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  6. 前記複素芳香族環がビピリジンであることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  7. 前記yが偶数であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  8. 前記yが4であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体。
  9. ポリチオフェンと電子吸引性ユニットとを含む繰り返し高分子構造であって、前記電子吸引性ユニットが複素芳香族環に少なくとも1つの電子求引性イミン窒素原子を有する少なくとも1つの電子吸引性複素芳香族環を含む繰り返し高分子構造を有することを特徴とする有機半導体共重合体。
  10. 前記繰り返し高分子構造が、少なくとも3つの繰り返しユニットのポリチオフェンを含むことを特徴とする請求項9に記載の有機半導体共重合体。
  11. 前記繰り返し高分子構造が、3〜12個のポリチオフェンを含むことを特徴とする請求項10に記載の有機半導体共重合体。
  12. 前記電子吸引性ユニットが、1〜4個の前記電子吸引性複素芳香族環を含むことを特徴とする請求項9〜請求項11のいずれか1項に記載の有機半導体共重合体。
  13. 前記電子吸引性ユニットが、前記複素芳香族環内に少なくとも1つの前記電子求引性イミン窒素原子を有する電子吸引性複素芳香族環を含むことを特徴とする請求項9〜請求項11のいずれか1項に記載の有機半導体共重合体。
  14. 前記電子吸引性複素芳香族環が、前記複素芳香族環内に少なくとも1つの前記電子求引性イミン窒素原子を含むC230の複素芳香族環であるか、前記電子吸引性複素芳香族環が、C230の複素芳香族環を含むチオフェン−アリーレンであるか、のうち少なくともどちらか1つであることを特徴とする請求項9〜請求項13のいずれか1項に記載の有機半導体共重合体。
  15. 前記ポリチオフェンが、C120の直鎖状、分枝状または環状アルキル基、C120の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシアルキル基、または、C116の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基を含むことを特徴とする請求項9〜請求項13のいずれか1項に記載の有機半導体共重合体。
  16. 前記繰り返し高分子構造の数が4〜200であることを特徴とする請求項9〜請求項13のいずれか1項に記載の有機半導体共重合体。
  17. Pd錯体およびNi錯体よりなる群から選択された触媒を単量体溶液に加える工程であって、前記単量体溶液が下記化学式(2)の第1単量体および下記化学式(3)の第2単量体を含む工程と、
    重縮合反応によってポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体を製造する工程と、
    を含むことを特徴とするポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
    Figure 2006037098
    (式(2)中、R1は水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または、炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基であり、複数のR1は同一であっても相違してもよい。A1とA2はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子、トリアルキル錫基またはボラン基であり、aは1〜10の整数である。)
    Figure 2006037098
    (式(3)中、Arは電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ含む炭素数2〜30の置換もしくは非置換の含窒素複素芳香族環、または、その含窒素複素芳香族環を含むチオフェンアリーレンであり、A3とA4はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子またはトリアルキル錫基であり、bは1〜4の整数である。)
  18. 前記チオフェンアリーレンが、下記化学式(4)で表わされるC230の複素芳香族環を含むことを特徴とする請求項17に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
    Figure 2006037098
    (式(4)中、Ar1は電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ含み、炭素数2〜30の置換または非置換の含窒素複素芳香族環であり、A3とA4はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子またはトリアルキル錫基であり、R2およびR3はそれぞれ独立に水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状または環状アルコキシ基であり、複数のR2およびR3は同一であっても相違してもよい。cとeはそれぞれ独立に1〜8の整数であり、dは1〜4の整数である。)
  19. 前記複数のR2およびR3が同一であることを特徴とする請求項18に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
  20. 前記Pd錯体が下記化学式(8)で表わされることを特徴とする請求項17〜請求項19のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
    PdL4またはPdL2Cl2 ・・・・・・(8)
    (式(8)中、Lはトリフェニルホスフィン(PPh3)、トリフェニルアリシン(AsPh3)およびトリフェニルホスファイト(P(OPh)3)よりなる群から選択されたリガンドである。)
  21. 前記Ni錯体が下記化学式(9)で表わされることを特徴とする請求項17〜請求項20のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
    NiL’2またはNiL’Cl2 ・・・・・・(9)
    (式(9)中、L’は、1,5−シクロオクタジエン、1,3−ジフェニルホスフィノプロパン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンおよび1,4−ジフェニルホスフィノブタンよりなる群から選択されたリガンドである。)
  22. 前記ハロゲン原子が、Br、ClおよびIよりなる群から選択されることを特徴とする請求項17〜請求項21のいずれか1項に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
  23. 基板、基板上に蒸着されたゲート、絶縁体によってゲートから分離されたソース/ドレイン電極、および請求項1に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体のチャネル層を含むことを特徴とする半導体多層構造。
  24. 前記半導体多層構造がpチャネルOTFTであることを特徴とする請求項23に記載の半導体多層構造。
  25. Pd錯体およびNi錯体よりなる群から選択された触媒を単量体溶液に加える工程であって、前記単量体溶液が第1単量体および第2単量体を含む工程と、
    重縮合反応によってポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体を製造する工程とを含み、
    前記第1単量体は、チオフェン−ジスタンナン、チオフェン−ジボロネート、チオフェン−ジボロン酸およびジハロ−チオフェンよりなる群から選択され、
    前記第2単量体は、複素芳香族環内に少なくとも一つの電子求引性イミン窒素原子を含むC230の含窒素複素芳香族環および下記化学式(4)で表わされるC230の複素芳香族環よりなる群から選択されることを特徴とするポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
    Figure 2006037098
    (式(4)中、Ar1は電子求引性イミン窒素原子を少なくとも1つ含み、炭素数2〜30の置換または非置換の複素芳香族環であり、A3とA4はそれぞれ独立にBr、ClまたはIのようなハロゲン原子またはトリアルキル錫基であり、R2およびR3はそれぞれ独立に水素、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数1〜16の直鎖状、分枝状もしくは環状アルコキシ基である。複数のR2およびR3は同一であっても相違してもよく、cとeはそれぞれ独立に1〜8の整数であり、dは1〜4の整数である。)
  26. 前記C230の複素芳香族環が、ハロゲン原子よりなる群から選択された末端基を含むヘテロ芳香族環内に少なくとも一つの前記電子求引性イミン窒素原子を含むことを特徴とする請求項25に記載のポリ(オリゴチオフェン−アリーレン)誘導体の製造方法。
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