JP2006011182A5 - - Google Patents

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本発明にかかるポジ型の感光性樹脂組成物は、少なくとも、下記一般式(1)で示される構造を有するポリアクリレート樹脂と、縮合性の架橋剤と、を含むポジ型の感光性樹脂組成物である。
(式中、Xは水酸基、炭素数2〜4アルキロール基またはメチロールアミノ基を示す。R 1 及びR 2 はそれぞれ独立して水素原子、または炭素数1〜3のアルキル基を示す。R 3 は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、アリール基またはアルキル基の炭素数が1〜2のアラルキル基を示す。nは正の整数、mは0または正の整数である。)
本発明にかかるインクジェットヘッドの製造方法は、インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するインク流路と、インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、を備えるインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記エネルギー発生素子を備える基板を用意する工程と、
前記板上に前記エネルギー発生素子を被覆するように、溶解除去可能な感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層をパターニングすることでインク流路パターンを形成する工程と、
前記インク流路パターン上にインク流路壁を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に吐出口を形成する工程と、
前記インク流路パターンを溶解除去して前記吐出口に連通するインク流路を形成する工程と、
を有し、
前記溶解除去可能な感光性樹脂層として、少なくとも、下記一般式(1)で示される構造を有するポリアクリレート樹脂と、下記一般式(2)で示されるメラミン化合物およびその縮合物の少なくとも1種である縮合性の架橋剤と、を含む、ポジ型の感光性樹脂組成物を用いることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法である。
(式中、Xは水酸基、炭素数2〜4アルキロール基またはメチロールアミノ基を示す。R 1 及びR 2 はそれぞれ独立して水素原子、または炭素数1〜3のアルキル基を示す。R 3 は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、アリール基またはアルキル基の炭素数が1〜2のアラルキル基を示す。nは正の整数、mは0または正の整数である。)
なお、上記式(1)における 1 3 は各単位において独立して上記の意味を示す。
(式中、 1 6 はそれぞれ独立して水素原子、メチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。ただし、 1 6 のうち少なくとも2つはメチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。)
なお、上記式(2)における 1 6 は各単位において独立して上記の意味を示す。

Claims (15)

  1. 少なくとも、下記一般式(1)で示される構造を有するポリアクリレート樹脂と、縮合性の架橋剤と、を含むポジ型の感光性樹脂組成物。
    Figure 2006011182
    (式中、Xは水酸基、炭素数2〜4アルキロール基またはメチロールアミノ基を示す。R 1 及びR 2 はそれぞれ独立して水素原子、または炭素数1〜3のアルキル基を示す。R 3 は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、アリール基またはアルキル基の炭素数が1〜2のアラルキル基を示す。nは正の整数、mは0または正の整数である。)
  2. 前記縮合性の架橋剤が、下記一般式(2)で示されるメラミン化合物およびその縮合物の少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
    Figure 2006011182
    (式中、 1 6 はそれぞれ独立して水素原子、メチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。ただし、 1 6 のうち少なくとも2つはメチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。)
  3. 前記感光性樹脂組成物は、加熱により前記縮合性の架橋剤を介した分子間架橋反応が進行し、の照射により主鎖分解型分子崩壊反応が進行するものであることを特徴とする請求項1または2に記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
  4. 前記感光性樹脂組成物が光酸発生剤を更に含み、の照射による主鎖分解型分子崩壊反応と、の照射によって発生した酸による架橋部位の分解反応が同時に進行するものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
  5. 前記光酸発生剤が、芳香族スルフォニウム塩および芳香族ヨードニウム塩およびトリアジン化合物から選択された少なくとも1種であることを特徴とする請求項4に記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
  6. インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するインク流路と、インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、を備えるインクジェットヘッドの製造方法であって、
    前記エネルギー発生素子を備える基板を用意する工程と、
    前記板上に前記エネルギー発生素子を被覆するように、溶解除去可能な感光性樹脂層を形成する工程と、
    前記感光性樹脂層をパターニングすることでインク流路パターンを形成する工程と、
    前記インク流路パターン上にインク流路壁を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
    前記被覆樹脂層に吐出口を形成する工程と、
    前記インク流路パターンを溶解除去して前記吐出口に連通するインク流路を形成する工程と、
    を有し、
    前記溶解除去可能な感光性樹脂層として、少なくとも、下記一般式(1)で示される構造を有するポリアクリレート樹脂と、下記一般式(2)で示されるメラミン化合物およびその縮合物の少なくとも1種である縮合性の架橋剤と、を含む、ポジ型の感光性樹脂組成物を用いることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
    Figure 2006011182
    (式中、Xは水酸基、炭素数2〜4アルキロール基またはメチロールアミノ基を示す。R 1 及びR 2 はそれぞれ独立して水素原子、または炭素数1〜3のアルキル基を示す。R 3 は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、アリール基またはアルキル基の炭素数が1〜2のアラルキル基を示す。nは正の整数、mは0または正の整数である。)
    Figure 2006011182
    (式中、 1 6 はそれぞれ独立して水素原子、メチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。ただし、 1 6 のうち少なくとも2つはメチロール基または炭素数1〜4のアルコキシ基が結合したアルコキシメチル基を示す。)
  7. 前記ポジ型の感光性樹脂組成物が、光酸発生剤を更に含むことを特徴とする請求項6に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  8. 前記光酸発生剤が、芳香族スルフォニウム塩および芳香族ヨードニウム塩およびトリアジン化合物から選択された少なくとも1種であることを特徴とする請求項7に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  9. 前記インク流路パターンを形成する工程において用いる、前記ポジ型の感光性樹脂組成物の現像液として、少なくとも
    (1)水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテルと、
    (2)含窒素塩基性有機溶剤と、
    (3)水と、
    を含有する現像液を用いることを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  10. 前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルの少なくとも1種であることを特徴とする請求項9に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  11. 前記含窒素塩基性有機溶剤が、エタノールアミンおよびモルホリンの少なくとも1種であることを特徴とする請求項9または10に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  12. 前記被覆樹脂が、硬化可能なエポキシ化合物を少なくとも含有することを特徴とする請求項6〜11のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  13. 前記被覆樹脂層が、光カチオン重合開始剤を含むことを特徴とする請求項6〜12のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  14. 前記エネルギー発生素子が、電気熱変換素子であることを特徴とする請求項6〜13のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  15. 請求項6〜14のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法により製造されたインクジェットヘッド。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4761498B2 (ja) * 2004-06-28 2011-08-31 キヤノン株式会社 感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法
JP4241605B2 (ja) * 2004-12-21 2009-03-18 ソニー株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法
JP5288828B2 (ja) * 2008-02-25 2013-09-11 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法
JP2010240873A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Canon Inc インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド
JP5520590B2 (ja) 2009-10-06 2014-06-11 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
US20110123932A1 (en) * 2009-11-20 2011-05-26 Yimin Guan Method for forming a fluid ejection device
CN102147568A (zh) * 2010-02-09 2011-08-10 台湾积体电路制造股份有限公司 光刻图案化方法及双重图案化方法
KR101249723B1 (ko) * 2011-10-28 2013-04-02 전자부품연구원 액적 토출용 노즐 제조 방법 및 이를 이용해 제조된 노즐을 이용한 정전식 액적 토출 장치
JP6193715B2 (ja) * 2013-10-08 2017-09-06 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド
JPWO2016043162A1 (ja) * 2014-09-18 2017-07-06 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターン付き基板の製造方法及びプリント配線板の製造方法
JPWO2023286763A1 (ja) * 2021-07-14 2023-01-19
WO2023210579A1 (ja) * 2022-04-26 2023-11-02 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
WO2024116797A1 (ja) * 2022-11-30 2024-06-06 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4450455A (en) 1981-06-18 1984-05-22 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet head
JPS60161073A (ja) 1984-01-30 1985-08-22 株式会社日立製作所 締結用ねじの自動締緩装置
JPH0645242B2 (ja) 1984-12-28 1994-06-15 キヤノン株式会社 液体噴射記録ヘツドの製造方法
JPH07119269B2 (ja) 1986-08-26 1995-12-20 ダイセル化学工業株式会社 エポキシ樹脂
JPH0725864B2 (ja) 1987-03-09 1995-03-22 ダイセル化学工業株式会社 エポキシ樹脂
JPH0822902B2 (ja) 1988-11-21 1996-03-06 ダイセル化学工業株式会社 エポキシ樹脂の製造方法
JPH0631444B2 (ja) 1989-06-07 1994-04-27 東洋鋼板株式会社 半田用複層めっき鋼板
US5314945A (en) * 1990-12-03 1994-05-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Waterbased coating compositions of methylol(meth)acrylamide acrylic polymer, polyurethane and melamine crosslinking agent
DE69127801T2 (de) 1990-12-19 1998-02-05 Canon Kk Herstellungsverfahren für flüssigkeitsausströmenden Aufzeichnungskopf
JPH05124199A (ja) 1991-11-06 1993-05-21 Canon Inc インクジエツトヘツドのノズル面撥水処理方法、撥水処理したインクジエツトヘツドおよび該ヘツドを具備する記録装置
JP2960608B2 (ja) 1992-06-04 1999-10-12 キヤノン株式会社 液体噴射記録ヘッドの製造方法
TW417034B (en) * 1993-11-24 2001-01-01 Canon Kk Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel
JP3524258B2 (ja) 1995-03-31 2004-05-10 キヤノン株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
US6461798B1 (en) 1995-03-31 2002-10-08 Canon Kabushiki Kaisha Process for the production of an ink jet head
US5919601A (en) * 1996-11-12 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation-sensitive compositions and printing plates
JP3852867B2 (ja) 1996-11-22 2006-12-06 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
EP0913253B1 (en) * 1997-10-28 2002-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming an image thereon
US6630285B2 (en) 1998-10-15 2003-10-07 Mitsui Chemicals, Inc. Positive sensitive resin composition and a process for forming a resist pattern therewith
JP3775078B2 (ja) 1998-11-17 2006-05-17 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
TWI289238B (en) 2000-01-13 2007-11-01 Fujifilm Corp Negative resist compositions using for electronic irradiation
JP3801832B2 (ja) * 2000-02-08 2006-07-26 日本プラスト株式会社 車両用エアバッグ装置
JP4532785B2 (ja) * 2001-07-11 2010-08-25 キヤノン株式会社 構造体の製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法
KR100824356B1 (ko) * 2002-01-09 2008-04-22 삼성전자주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 사용한 패턴의 형성방법
JP4298414B2 (ja) * 2002-07-10 2009-07-22 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法

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