JP4761498B2 - 感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法Info
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Description
(1)液体吐出用の熱エネルギーを発生するヒーター及びこれらヒーターを駆動するドライバー回路等を形成した素子基板に、インク供給の為の貫通孔を形成した後、ネガ型レジストにてインク流路の壁となるパターン形成を行い、これに、電鋳法やエキシマレーザー加工によりインク吐出口を形成したプレートを接着して製造する方法、
(2)上記製法と同様に形成した素子基板を用意し、接着層を塗布した樹脂フィルム(通常はポリイミドが好適に使用される)にエキシマレーザーにてインク流路及びインク吐出口を加工し、次いで、この加工したインク流路構造体プレートと前記素子基板とを熱圧を付与して貼り合わせる方法、
等を挙げることができる。
(1)ポジ型感光性樹脂組成物の感度及び感光波長の選択性についての課題
先に挙げた特開2004−42650号公報及び特開2004−46217号公報に開示されるポジ型感光性樹脂組成物に含まれる酸無水物構造を有するアクリル樹脂はカルボニル基により吸収されたエネルギーで分解反応が進行するために、比較的短波長領域の光を用いる必要があり、照射光の波長選択性が狭い。そのために、インク流路となる部分を構成する型を2層構造とする場合に、これと組み合わせるポジ型感光性樹脂組成物の選択範囲が狭く、製造効率の向上や製造コストの低減のための設計の自由度が低い。
(2)基板から吐出口に向けた高さ方向に形状が変化するインク流路の形成におけるプロセス効率について
まず、先に挙げたレーザー加工を用いる方法では、レーザー加工での深さ方向の制御は原理的には可能であるが、これら加工に用いられるエキシマレーザーは、半導体の露光に使用されるエキシマレーザーと異なり、広帯域にて高い輝度のレーザーが使用され、レーザー照射面内での照度のバラツキを抑えてレーザー照度の安定化を実現することは非常に難しい。特に高画質のインクジェットヘッドにおいては、各吐出ノズル相互での加工形状のバラツキによる吐出特性の不均一は画像のムラとなって認識され、加工精度の向上を実現することが大きな課題となる。さらに、レーザー加工面に付くテーパーにより微細なパターン形成ができない場合が多い。
(1)分子中にカルボン酸の無水物構造を有するアクリル樹脂、(2)光照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有し、
前記アクリル樹脂が、前記カルボン酸の無水物構造による分子間架橋構造を有しており、
前記光照射により酸を発生する化合物が、芳香族スルフォニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、トリアジン化合物のいずれかであすることを特徴とするものである。
ポジ型の感光性樹脂組成物を用いて、基板上に段差を有するパターンを形成する方法であって、
(1)前記本発明のポジ型の感光性樹脂組成物の層を基板上に形成する工程と、
(2)第一のフォトリソグラフィー工程により、前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第1のパターンとなる部分以外の部分を膜厚方向における所定の深さまで除去して、該所定の深さよりも突出した部分からなる第1のパターンを形成する工程と、
(3)第二のフォトリソグラフィー工程により、前記第1のパターンが形成された前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第2のパターンとなる部分以外の部分を前記第1のパターンの形状を維持しつつ前記第1のパターンとなる部分以外の部分を前記基板上から除去して、前記第1のパターンが前記第2のパターン上に設けられた段差形状を有するパターンを得る工程と、
を有し、
前記第一のフォトリソグラフィー工程が、露光、露光後の加熱および現像の処理工程を有し、該第一のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂中のカルボン酸無水物の加水分解反応に由来するものであり、かつ、
前記第二のフォトリソグラフィー工程が、露光および現像の処理工程を有し、該第二のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の該感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂の主鎖分解反応に由来するものである
ことを特徴とする。
インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、ポジ型の感光性樹脂組成物の層を設ける工程と、
前記感光性樹脂組成物の層の所定の部位に光を照射する工程と、
前記光が照射された部位を、現像処理により除去することで所望のインク液路パターンを形成する工程と、
前記インク液路パターン上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記インク流路パターンを溶解除去する工程と、
を有し、前記ポジ型の感光性樹脂組成物が、前記本発明のポジ型の感光性樹脂組成物であることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法である。
インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、第一のポジ型感光性樹脂組成物の層を設ける工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層上に、第二のポジ型感光性樹脂組成物の層を形成する工程と、
前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層を反応させ得る波長域の光を、前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層の所定の部位に照射する工程と、
前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層の光照射部位を、現像処理により除去することで第二のインク液路パターンを形成する工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層を反応させ得る波長域の光を、前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層の所定の部位に照射する工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層の光照射部位を、現像処理により除去することで第一のインク流路パターンを形成する工程と、
前記第一および第二のインク液路パターン上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記第一および第二のインク流路パターンを溶解除去する工程と、
を有し、前記第二のポジ型感光性樹脂組成物が、前記本発明のポジ型の感光性樹脂組成物であることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法である。
インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、前記本発明のポジ型の感光性樹脂組成物の層を形成する工程と、
第一のフォトリソグラフィー工程により、前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第1のインク流路パターンとなる部分以外の部分を膜厚方向における所定の深さまで除去して、該所定の深さよりも突出した部分からなる第1のインク流路パターンを形成する工程と、
第二のフォトリソグラフィー工程により、前記第1のインク流路パターンが形成された前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第2のインク流路パターンとなる部分以外の部分を前記第1のインク流路パターンの形状を維持しつつ前記第1のパターンとなる部分以外の部分を前記基板上から除去して、前記第1のインク流路パターンが前記第2のインク流路パターン上に設けられた段差をもつ構造物を得る工程と、
前記段差をもつ構造物上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記段差をもつ構造物を溶解除去する工程と、
を有し、
前記第一のフォトリソグラフィー工程が、露光、露光後の加熱および現像の処理工程を有し、該第一のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂中のカルボン酸無水物の加水分解反応に由来するものであり、かつ、
前記第二のフォトリソグラフィー工程が、露光および現像の処理工程を有し、該第二のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂の主鎖分解反応に由来するものである
ことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法である。
このアクリル樹脂は、無水メタクリル酸モノマーとして、単独あるいはメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル等のメタクリル酸エステルなどの他のアクリル系モノマーと公知の方法によりラジカル重合することにより得ることができる。例えば、無水メタクリル酸とメタクリル酸メチルの共重合物を用いる場合、共重合比および分子量は任意に設定することが可能であるが、無水メタクリル酸の割合が増えると、ラジカル重合中にゲル分が生成しやすくなり、無水メタクリル酸の割合が減るとレジストとしての感度が低下する傾向が観られる。このことから、無水メタクリル酸/メタクリル酸メチル=5mol%/95mol%〜30mol%/70mol%の割合で共重合することが好ましい。また、分子量が低いと成膜性が悪く、分子量が高いと感度が低下する傾向があることから、重量平均分子量(Mw)=20000〜60000程度とすることが好ましい。
図1〜図10は、インクジェットヘッドの構成およびその製造方法の断面図を模式的に示したものである。まず、図1に示されるような、基板1を準備する。このような基板は、インク流路構成部材の一部として機能し、また、後述のインク流路およびインク吐出口を形成する材料層の支持体として機能し得るものであれば、その形状、材質等に特に限定されることなく使用することができるが、本例においては、後述する異方性エッチングにより基板を貫通するインク供給口を形成するため、シリコン基板が用いられる。
ジエチレングリコールモノブチルエーテル:60vol%
エタノールアミン:5vol%
モルフォリン:20vol%
イオン交換水:15vol%
から成る現像液を用いることが可能である。なお、該現像液の好ましい組成の範囲としては、水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテルが50〜70vol%、含窒素塩基性有機溶剤が20〜30vol%(残分をイオン交換水とする)の範囲において好適に用いることができる。
図11〜図22は、インクジェットヘッドの構成およびその製造方法の断面図を模式的に示したものである。まず、図11に示されるような、基板1を準備する。このような基板は、インク流路構成部材の一部として機能し、また、後述のインク流路およびインク吐出口を形成する材料層の支持体として機能し得るものであれば、その形状、材質等に特に限定されることなく使用することができるが、本例においては、後述する異方性エッチングにより基板を貫通するインク供給口を形成するため、シリコン基板が用いられる。
図23〜図33は、インクジェットヘッドの構成およびその製造方法の断面図を模式的に示したものである。また、図34〜35は、本発明に用いられるポジ型レジストの感度特性を示したものである。
(不図示)が接続されている。また、一般にはこれら吐出圧力発生素子2の耐用性の向上を目的とした保護層(不図示)や、後述するノズル構成部材の基板との密着性の向上を目的とした密着向上層(不図示)等の各種機能層が設けられるが、もちろん本発明においてもこのような機能層を設けることは一向に差し支えない。
(1)無水メタクリル酸/メタクリル酸メチル共重合体の合成
攪拌装置および還流管を備えたフラスコ中にシクロヘキサノン400gを仕込み、オイルバス中で103〜105℃に保持した。該フラスコ中に、
無水メタクリル酸:5.41g(0.053mol)、
メタクリル酸メチル:48.6g(0.468mol)
AIBN:2.40g(0.015mol)及び
シクロヘキサノン:100g、
の混合物を、2時間かけて滴下した後、3時間重合反応を行った。その後、反応溶液をヘキサン中に投入して、無水メタクリル酸/メタクリル酸メチル共重合体の粉末を沈殿回収した。得られた共重合体は、重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=30000
、分散度(Mw/Mn)=3.3であった。
(2)ポジ型レジストの調製
得られた共重合体30gを、シクロヘキサノン70gに溶解し、トリフェニルスルフォニウムアンチモネート(みどり化学製TPS−103)1.5gを添加して溶解した後、0.2μmのメンブレンフィルターにて濾過を行って、ポジ型レジスト溶液を調製した。
(3)インクジェットヘッドの作成
まず、図1に示されるような、基板1を準備する。最も汎用的には、基板1としてはシリコン基板が適用される。一般に、吐出エネルギー発生素子を制御するドライバーやロジック回路等は、汎用的な半導体製法にて生産される為、該基板にシリコンを適用することが好適である。本例においては、インク吐出圧力発生素子2としての電気熱変換素子(材質HfB2 からなるヒーター)と、インク流路およびノズル形成部位にSiN+Taの積層膜(不図示)を有するシリコン基板を準備した(図2)。
エタノールアミン:5vol%
モルフォリン:20vol%
イオン交換水:15vol%
次いで、被処理基板上に以下の組成からなるネガ型感光性樹脂組成物を用いてスピンコートを行い(平板上膜厚15μm)、100℃で2分間(ホットプレート)のプリベークを行い、ノズル構成部材5を形成した(図5)。
1、4HFAB(セントラル硝子製):20重量部
SP−170(旭電化工業製):2重量部
A−187(日本ユニカー製):5重量部
メチルイソブチルケトン:100重量部
ジグライム:100重量部
引き続き、被処理基板上に以下の組成からなる感光性樹脂組成物を用いて、スピンコートにより1μmの膜厚となるように塗布し、80℃で3分間(ホットプレート)のプリベークを行い、撥インク剤層6を形成した(図6)。
2、2―ビス(4―グリシジルオキシフェニル)ヘキサフロロプロパン:25重量部
1、4―ビス(2―ヒドロキシヘキサフロロイソプロピル)ベンゼン:25重量部
3―(2―パーフルオロヘキシル)エトキシー1、2―エポキシプロパン:16重量部
A−187(日本ユニカー製):4重量部
SP―170(旭電化工業製):2重量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル:100重量部
次いで、MPA−600(キヤノン製)を用いて、290〜400nmの波長の光を用いて、400mJ/cm2の露光量にてパターン露光した後、ホットプレートにて120℃で120秒のPEBを行い、メチルイソブチルケトンにて現像することにより、ノズル構成部材5および撥インク剤層6のパターニングを行い、インク吐出口7を形成した(図7)。なお、本実施例ではφ8μmの吐出口パターンを形成した。
ポジ型レジストとして、以下の組成の感光性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。なお、該ポジ型レジストのパターニングに必要な露光量は、150mJ/cm2であった。
[(モノマー組成比20/80:モル比)、重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=28000、 分散度(Mw/Mn)=3.5]
ジフェニルヨードニウムアンチモネート:0.8g
(みどり化学製MPI−103)
シクロヘキサノン:70g
(実施例3)
ポジ型レジストとして、以下の組成の感光性樹脂組成物を用い、パターニングの際に、MPA−600(キヤノン製)を用い、100mJ/cm2の露光量で露光を行った以外は、実施例1と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。
[(モノマ組成比10/90:モル比)、重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=30000、分散度(Mw/Mn)=3.1]
SP−172(旭電化工業製):2.0g
SP−100(旭電化工業製):1.0g
シクロヘキサノン:70g
(比較例1)
ポジ型レジストとして、トリフェニルスルフォニウムアンチモネート(みどり化学製TPS−103)を添加しないものを用いた以外は、実施例1と同様にして流路パターン4を形成したところ、パターニングには40000mJ/cm2の露光量が必要であった(この場合、PEBは未実施)。
(実施例4)
(1)ポジ型レジストの調製
実施例1で得られた共重合体30gを、シクロヘキサノン70gに溶解し、トリフェニルスルフォニウムアンチモネート(みどり化学製TPS−103)0.9gを添加して溶解した後、0.2μmのメンブレンフィルターにて濾過を行って、ポジ型レジスト溶液を調製した。
(2)インクジェットヘッドの作成
まず、図11に示されるような、基板1を準備する。最も汎用的には、基板1としてはシリコン基板が適用される。一般に、吐出エネルギー発生素子を制御するドライバーやロジック回路等は、汎用的な半導体製法にて生産される為、該基板にシリコンを適用することが好適である。本例においては、インク吐出圧力発生素子2としての電気熱変換素子(材質HfB2 からなるヒーター)と、インク流路およびノズル形成部位にSiN+Taの積層膜(不図示)を有するシリコン基板を準備した(図12)。
第二のポジ型レジストとして、実施例2と同様の組成のポジ型レジストを用いた以外は、実施例4と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。なお、該ポジ型レジストのパターニングに必要な露光量は、150mJ/cm2であった。
第一のポジ型レジストとして、以下の組成の光崩壊型のポジ型レジストを用い、パターニングの際の露光量を40000mJ/cm2とした以外は、実施例1と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。
[(モノマ組成比90/10:モル比)、重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=120000、分散度(Mw/Mn)=1.8]
(比較例2)
第二のポジ型レジストとして、トリフェニルスルフォニウムアンチモネート(みどり化学製TPS−103)を添加しないものを用いた以外は、実施例4と同様にして2層構成の流路パターンを形成したところ、第二のポジ型レジストのパターニングには20000mJ/cm2の露光量が必要であった。このため、第二のポジ型レジスト層の現像時に、第一のポジ型レジスト層の一部が現像される障害が発生した。
(1)ポジ型レジストの調製
得られた共重合体30gを、シクロヘキサノン70gに溶解し、トリフェニルスルフォニウムトリフラート(みどり化学製TPS−105)0.6gを添加して溶解した後、0.2μmのメンブレンフィルターにて濾過を行って、ポジ型レジスト溶液を調製した。
(2)インクジェットヘッドの作成
まず、図23に示されるような、基板1を準備する。最も汎用的には、基板1としてはシリコン基板が適用される。一般に、吐出エネルギー発生素子を制御するドライバーやロジック回路等は、汎用的な半導体製法にて生産される為、該基板にシリコンを適用することが好適である。本例においては、インク吐出圧力発生素子2としての電気熱変換素子(材質HfB2 からなるヒーター)と、インク流路およびノズル形成部位にSiN+Taの積層膜(不図示)を有するシリコン基板を準備した(図24)。
ポジ型レジストとして以下の組成の感光性樹脂組成物を用い、加水分解に由来するポジ化反応をi線対応として、第一のフォトリソグラフィー工程におけるパターニングの際に、i線ステーッパー(キヤノン製:FPA−3000iW)を用い、1000J/m2の露光量で露光を行った以外は、実施例7と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。なお、この時形成された第一の流路パターン16の高さは、5μmであった。
(実施例7と同一のもの)
SP−172(旭電化工業製):2.0g
SP−100(旭電化工業製):1.0g
シクロヘキサノン:70g
(実施例9)
ポジ型レジストとして以下の組成の感光性樹脂組成物を用い、第一のフォトリソグラフィー工程におけるパターニングの際に、PEB条件を110℃で180秒とした以外は、実施例7と同様にしてインクジェットヘッドを作成し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。なお、この時形成された第一の流路パターン16の高さは、4μmであった。
(実施例7と同一のもの)
TPS−105(みどり化学製):0.9g
シクロヘキサノン:70g
2 インク吐出圧力発生素子
3、15ポジ型レジスト層
4 流路パターン
5、27ノズル構成部材
6 撥インク剤層
7 インク吐出口
8 エッチングマスク
9 インク供給口
10 インク流路
11 第1のポジ型レジスト層
12 第2のポジ型レジスト層
13、16 第2の流路パターン
14、17 第1の流路パターン
Claims (17)
- (1)分子中にカルボン酸の無水物構造を有するアクリル樹脂、(2)光照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有し、
前記アクリル樹脂が、前記カルボン酸の無水物構造による分子間架橋構造を有しており、
前記光照射により酸を発生する化合物が、芳香族スルフォニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、トリアジン化合物のいずれかであることを特徴とするポジ型の感光性樹脂組成物。 - 前記アクリル樹脂が、側鎖に前記カルボン酸の無水物構造を有することを特徴とする請求項1に記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
- 前記アクリル樹脂が、少なくとも無水メタクリル酸をモノマー成分とする重合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
- 前記アクリル樹脂が、少なくとも無水メタクリル酸とメタクリル酸メチルをモノマー成分とする重合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物。
- ポジ型の感光性樹脂組成物を用いて、基板上に段差を有するパターンを形成する方法であって、
(1)請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物の層を基板上に形成する工程と、
(2)第一のフォトリソグラフィー工程により、前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第1のパターンとなる部分以外の部分を膜厚方向における所定の深さまで除去して、該所定の深さよりも突出した部分からなる第1のパターンを形成する工程と、
(3)第二のフォトリソグラフィー工程により、前記第1のパターンが形成された前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第2のパターンとなる部分以外の部分を前記第1のパターンの形状を維持しつつ前記第1のパターンとなる部分以外の部分を前記基板上から除去して、前記第1のパターンが前記第2のパターン上に設けられた段差形状を有するパターンを得る工程と、
を有し、
前記第一のフォトリソグラフィー工程が、露光、露光後の加熱および現像の処理工程を有し、該第一のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂中のカルボン酸無水物の加水分解反応に由来するものであり、かつ、
前記第二のフォトリソグラフィー工程が、露光および現像の処理工程を有し、該第二のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂の主鎖分解反応に由来するものである
ことを特徴とする段差パターンの形成方法。 - 前記第一のフォトリソグラフィー工程における露光波長が、前記第二のフォトリソグラフィー工程における露光波長よりも長いことを特徴とする請求項6に記載の段差パターンの形成方法。
- 前記ポジ型の感光性樹脂組成物の現像液として、少なくとも
(1)水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテル、
(2)含窒素塩基性有機溶剤、及び
(3)水
を含有する現像液を用いることを特徴とする請求項6または7に記載の段差パターンの形成方法。 - 前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルの少なくとも1種であることを特徴とする請求項8に記載の段差パターンの形成方法。
- 前記含窒素塩基性有機溶剤が、エタノールアミンおよびモルフォリンの少なくとも1種であることを特徴とする請求項8または9に記載の段差パターンの形成方法。
- インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、ポジ型の感光性樹脂組成物の層を設ける工程と、
前記感光性樹脂組成物の層の所定の部位に光を照射する工程と、
前記光が照射された部位を、現像処理により除去することで所望のインク液路パターンを形成する工程と、
前記インク液路パターン上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記インク流路パターンを溶解除去する工程と、
を有し、前記ポジ型の感光性樹脂組成物が、請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物であることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、第一のポジ型感光性樹脂組成物の層を設ける工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層上に、第二のポジ型感光性樹脂組成物の層を形成する工程と、
前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層を反応させ得る波長域の光を、前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層の所定の部位に照射する工程と、
前記第二のポジ型感光性樹脂組成物の層の光照射部位を、現像処理により除去することで第二のインク液路パターンを形成する工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層を反応させ得る波長域の光を、前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層の所定の部位に照射する工程と、
前記第一のポジ型感光性樹脂組成物の層の光照射部位を、現像処理により除去することで第一のインク流路パターンを形成する工程と、
前記第一および第二のインク液路パターン上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記第一および第二のインク流路パターンを溶解除去する工程と、
を有し、前記第二のポジ型感光性樹脂組成物が、請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物であることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連通するとともに前記インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子を内包するインク流路と、前記エネルギー発生素子が形成された基板と、前記基板と接合して前記インク流路を形成するインク流路形成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記基板上に、請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型の感光性樹脂組成物の層を形成する工程と、
第一のフォトリソグラフィー工程により、前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第1のインク流路パターンとなる部分以外の部分を膜厚方向における所定の深さまで除去して、該所定の深さよりも突出した部分からなる第1のインク流路パターンを形成する工程と、
第二のフォトリソグラフィー工程により、前記第1のインク流路パターンが形成された前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層の第2のインク流路パターンとなる部分以外の部分を前記第1のインク流路パターンの形状を維持しつつ前記第1のパターンとなる部分以外の部分を前記基板上から除去して、前記第1のインク流路パターンが前記第2のインク流路パターン上に設けられた段差をもつ構造物を得る工程と、
前記段差をもつ構造物上に、インク流路形成部材を形成するための被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に、前記吐出口を形成する工程と、
前記段差をもつ構造物を溶解除去する工程と、
を有し、
前記第一のフォトリソグラフィー工程が、露光、露光後の加熱および現像の処理工程を有し、該第一のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂中のカルボン酸無水物の加水分解反応に由来するものであり、かつ、
前記第二のフォトリソグラフィー工程が、露光および現像の処理工程を有し、該第二のフォトリソグラフィー工程における前記ポジ型の感光性樹脂組成物の層でのポジ化反応が、少なくとも前記アクリル樹脂の主鎖分解反応に由来するものである
ことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 前記第一のフォトリソグラフィー工程における露光波長が、前記第二のフォトリソグラフィー工程における露光波長よりも長いことを特徴とする請求項13に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
- 前記ポジ型の感光性樹脂組成物の現像液として、少なくとも
(1)水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテル、
(2)含窒素塩基性有機溶剤、及び
(3)水
を含有する現像液を用いることを特徴とする請求項11〜14のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。 - 前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルの少なくとも1種であることを特徴とする請求項15に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
- 前記含窒素塩基性有機溶剤が、エタノールアミンおよびモルフォリンの少なくとも1種であることを特徴とする請求項15または16に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
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