JP5279686B2 - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5279686B2 JP5279686B2 JP2009258192A JP2009258192A JP5279686B2 JP 5279686 B2 JP5279686 B2 JP 5279686B2 JP 2009258192 A JP2009258192 A JP 2009258192A JP 2009258192 A JP2009258192 A JP 2009258192A JP 5279686 B2 JP5279686 B2 JP 5279686B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- liquid
- manufacturing
- mold
- head according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 134
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 128
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M lithium acetate Chemical compound [Li+].CC([O-])=O XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
本発明は、液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
液体を吐出する液体吐出ヘッドの代表例としては、インクを被記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録方式に適用されるインクジェット記録ヘッドを挙げることができる。インクジェット記録ヘッドに代表される液体吐出ヘッドは、一般に、流路と、その流路に設けられた吐出エネルギー発生部と、そこで発生するエネルギーによって液体を吐出するための微細な吐出口と、を備えている。この液体吐出ヘッドの製造には、感光性材料を用いるリソグラフィー法が、微細加工の点からも多く利用されている。
特許文献１に開示されている方法においては、吐出エネルギー発生部を有する基板上に感光性材料を用いて流路の型となるパターン層を形成し、その上に流路壁構成部材となる被覆層を設ける。該被覆層の流路の型となるパターン上で且つエネルギー発生部のエネルギー発生面と対向する位置に、吐出口となる開口を形成した後、パターン層を除去することにより流路となる空間を形成する。
しかしながら、特許文献１の方法を使用して液体吐出ヘッドを製造する場合には以下のことが起こる恐れがある。
例えば、被覆層が流路の型となるパターン層に沿って形成されるため、パターン層の形状の影響を受けやすい。そのため、被覆層のうちパターン層の中央部付近に配される部位と端部付近の部位では、膜厚が異なり、被覆層の厚さに分布が生ずる場合がある。また、液状の感光樹脂をシリコンウェハーにソルベントコートして被覆層を設ける場合、感光性樹脂の溶媒が蒸発しながら、パターン層を乗り越えるように感光性樹脂が広がっていく。このため、被覆層のうちウェハー内側に位置する部分と、外周部に位置する部分とで層の厚さが異なってしまう。
パターン層上の被覆層の厚さは吐出口部の液路長さを規定するため、上述の被覆層の厚さにバラツキが発生すると、吐出口面とエネルギー発生部（素子）のエネルギー発生面との距離にバラツキが生じる。この距離は吐出される液体の吐出量に大きく影響を与える因子であるため、バラツキがあると均一液量の液滴を安定的に吐出するのが困難に成る。このことは、インクジェット記録方式の分野においては、以下の点から深刻なことである。
インクジェット記録方式の分野では、より一層の高画質化の要求が年々高まってきている。そのため、吐出液滴の極小化が求められ、液体吐出ヘッドにもそれに対応する要求が高まってきている。
本発明の目的は、吐出液滴の液量のバラツキが抑止され、均一液量の液滴を安定的に繰り返し吐出することができる液体吐出ヘッドの製造が歩留まりよく出来る液体吐出ヘッドの製造方法を提供することである。
本発明の液体吐出ヘッドの製造方法は、液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通する流路と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法において、第１の層と第２の層とがこの順で積層されている基板を用意するＡ工程と、前記第２の層に、内部に前記吐出口を形成するための部材（Ａ）を形成するＢ工程と、前記第１の層に、前記流路を形成するための型を形成するＣ工程と、前記型の上面以上の厚さで前記型と前記部材（Ａ）とに密接するように第３の層を設けるＤ工程と、前記型を除去して前記流路を形成するＥ工程と、をこの順に有することを特徴とする。
本発明によれば、吐出液滴の液量のバラツキが抑止され、均一液量の液滴を安定的に繰り返し吐出することができる液体吐出ヘッドを歩留まり良く製造することが出来る。
以下、図面を参照して本発明を説明する。
なお、液体吐出ヘッドは、プリンタ、複写機、通信システムを有するファクシミリ、プリンタ部を有するワードプロセッサなどの装置、さらには各種処理装置と複合的に組み合わせた産業記録装置に搭載可能である。例えば、バイオッチップ作成や電子回路印刷、薬物を噴霧状に吐出するなどの用途としても用いることができる。
図７は本発明に係る液体吐出ヘッドの一例を示す模式的斜視図である。
図７に示す本発明の液体吐出ヘッドは、インク等の液体を吐出するために用いられるエネルギーを発生するエネルギー発生素子２が所定のピッチで形成された基板１を有している。基板１には液体を供給する供給口３が、エネルギー発生素子２の２つの列の間に設けられている。基板１上には、エネルギー発生素子２の上方に開口する吐出口５と、供給口３から各吐出口５に連通する個別の液体の流路６が形成されている。
図７に示す本発明の液体吐出ヘッドは、インク等の液体を吐出するために用いられるエネルギーを発生するエネルギー発生素子２が所定のピッチで形成された基板１を有している。基板１には液体を供給する供給口３が、エネルギー発生素子２の２つの列の間に設けられている。基板１上には、エネルギー発生素子２の上方に開口する吐出口５と、供給口３から各吐出口５に連通する個別の液体の流路６が形成されている。
供給口３から各吐出口５に連通する個別の流路６の壁を形成する流路壁部材４は、吐出口５が設けられた吐出口部材と一体的に形成されている。
（第１の実施形態）
次いで、図１を用いて本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の第１の実施形態について説明する。図７は、第１の実施形態で製造される液体吐出ヘッドの一部透しの模式的斜視図である。図１は、図７のＡ−Ａ’を通り、基板１に垂直な位置で切断した場合の各工程での切断面を表わす模式的切断面図である。
次いで、図１を用いて本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の第１の実施形態について説明する。図７は、第１の実施形態で製造される液体吐出ヘッドの一部透しの模式的斜視図である。図１は、図７のＡ−Ａ’を通り、基板１に垂直な位置で切断した場合の各工程での切断面を表わす模式的切断面図である。
図１（ａ）に示されるように、基板１上に第１の層７と第２の層８とが、この順で平坦に積層されている。先ず、この積層状態の基板１を用意する（Ａ工程）。用意の方法については、基板１上に第１の層７を設けた後、第１の層７上に第２の層８を積層してもよいし、基板１上に予めフィルム化した第１の層７と第２の層８との積層物を第１の層が基板１側となるように基板１上に設けてもよい。第２の層８は、第１の層７に流路の型が形成される前に第１の層７上に設けられるので、基板１面上に平坦な状態で形成される。
第１の層７から流路の型１０が形成され、第２の層８から吐出口形成用の部材（Ａ）９が形成される。型１０は最終的に基板１から除去されるものであるので、第１の層７は溶剤を使用して簡単に除去することができる材料から形成されることが好ましい。上述の理由から、第１の層７は、ポジ型感光性樹脂から形成されることが好ましい。吐出口形成用の部材（Ａ）には、吐出口となる貫通口が設けられるが、この貫通口はフォトリソグラフィーの手法によって微小にかつ高い位置精度で設けられることが好ましい。また、吐出口形成用の部材（Ａ）には、構造物としての機械的強度が求められる。上述の理由から、第２の層８はネガ型感光性樹脂から形成されることが好適である。
第１の層に使用されるポジ型感光性樹脂としては、ポリメチルイソプロペニルケトンや、メタクリル酸とメタクリレートとの共重合体が好ましいものとして挙げられる。この理由は、上記化合物は、通常使用される溶媒で簡単に除去することが可能であり、また単純な組成であるので構成成分が第２の層８に対して与える影響が少ないからである。
第２の層８に使用されるネガ型感光性樹脂としては、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基などを含む樹脂と、該当の樹脂に対応する重合開始剤と、を含む組成物が好ましいものとして挙げられる。この理由は、上記の官能基を含む樹脂は、重合反応性が高いので、機械的強度が高い部材（Ａ）が得られるからである。
第１の層７の厚さと第２の層８の厚さと、はそれぞれ適宜設定することができる。数ピコリットルの微小液滴を吐出する吐出口とそれに対応した液体の流路とを形成する場合には、第１の層７は３μｍ以上１５μｍ以下、第２の層８は３μｍ以上１０μｍ以下とすることが好適である。
このとき、吐出口の設けられてある表面に撥液機能を付与する目的で第２の層８上の所定面に感光性の撥液材料を付設してもよい。
次いで、第２の層８に吐出口形成用の部材（Ａ）９を形成する（Ｂ工程）。まず、図１（ｂ）に示されるように、第２の層８に対してパターン露光を行う。この露光は吐出口形成用の部材（Ａ）を形成するために行う。上面が平坦な第１の層７上に積層されている第２の層８に対してマスク２０１を介して露光し、露光が行われた部分２１を硬化させる。必要に応じて加熱を行って、硬化を促進しても良い。次いで、図１（ｃ）に示されるように、第２の層８に対して現像を行って層８の未露光部分を除去し吐出口形成用の部材（Ａ）９を形成する。このとき、図１（ｃ）に示されるように、その一部が吐出口となる開口２３も同時に形成される。開口２３は、吐出口形成用のマスクを使用して、層８の未露光部分を除去して部材（Ａ）を形成した後から形成することも可能である。開口２３はエネルギー発生素子２のエネルギー発生面に対向する位置に形成されるのが望ましいが、これに限定されるものではない。
Ａ工程、Ｂ工程をこの順に実施することで、第１の層が流路の型状に加工される前の表面が平坦な状態の時に、第２の層８から、厚さのばらつきが実質的にない部材（Ａ）９を得ることが出来る。図１に示すように、部材（Ａ）９の形成の際に、開口２３も一括して形成することは工程の簡略化から好適である。一方、このＢ工程で開口２３が形成されない部材（Ａ）を得て、後述する流路の型を得るＣ工程の実施後であり、第３の層を設けるＤ工程より前に、ドライエッチング法などにより、部材（Ａ）に吐出口となる開口２３を形成することも可能である。この場合であっても、Ｂ工程において、部材（Ａ）は平坦に形成され、Ｃ工程実施後もそれは維持されるので、得られる開口２３の（液路）長さ（部材（Ａ）の厚さ方向）は、基板内で均一である。
なお、第２の層８の表面上に撥液材料を付与しておけば、部材（Ａ）９の上面（部材（Ａ）の基板１側と反対側の表面）は撥液性として機能し、部材（Ａ）９の上面にはインク等の液体が付着せず好都合である。吐出液体として顔料、染料を含んだインクを想定した場合は、水の前進接触角が８０度以上となる程度の撥液性を付与すると十分であると考えられる。９０度以上であると、部材（Ａ）への液体の付着をさらに抑止できるので好ましい。
次いで、第１の層７に流路の形状を有する型１０を形成する（Ｃ工程）。図１（ｄ）に示されるように、第１の層７に対して、流路形成用の型を形成するためにマスク２０２を介して露光を行う。露光が行われた部分２２の樹脂は分子量が小さくなり現像液に対して溶解しやすくなる。本形態では、部材（Ａ）９よりも外側にある第１の層７の部分（被露光部分２２）に対して露光を行う。次いで、図１（ｅ）に示されるように、第１の層７に対して、適切な現像液を使用して現像を行うことで、被露光部分２２を除去し、型１０を形成する。第１の層７から複数の型１０を得ることができる。
次いで、図１（ｆ）に示されるように、型１０の上面２４以上の高さに（厚さで）型１０と部材（Ａ）９とに密着して第３の層１１を設ける（Ｄ工程）。第３の層１１は、基板１の上面位置から型１０の厚さより厚く、部材９，１０に密接するように形成される。
上述した理由から第１の層７が３μｍ以上１５μｍ以下、第２の層８が３μｍ以上１０μｍ以下である場合には、第３の層１１はエネルギー発生面から３μｍより大きい厚さで形成される。上記に加えて、第３の層１１内に発生するの応力の大きさを考慮して、第３の層１１の厚さを４０μｍ以下とするのがよい。
層１１の厚みは、その上表面位置が部材（Ａ）９の上面１３の位置よりも高くとも（厚くとも）、同じであっても、低くとも（薄くとも）よい。例えば、図６（ａ）に示すように、部材（Ａ）９の上面１３に対して薄く形成しても差し支えない。図６（ａ）の形態では、第３の層１１が吐出口となる開口２３の一部を埋めている。第３の層１１は、第１の層８と同一の組成のネガ型感光性樹脂で形成されることが好適であり、より好ましくは第３の層と第１の層８とが含んでいる化合物が同じでることがよい。しかし、組成比まで同一である必要はない。
次いで図１（ｇ）に示されるように、第３の層１１に対してマスク２０３を介して露光を行い、第３の層１１の被露光部分２５を硬化させる。第３の層１１のうち、吐出口となる開口２３内の部分２６とその上部２７は除く必要があるため、マスク２０３により遮光される。
次いで図１（ｈ）に示されるように、例えば液体現像法により、露光が行われなかった部分を除去する。除去を溶解により行う場合は、ネガ型感光性樹脂の組成に応じてキシレン等の適切な溶媒を用いればよい。第３の層１１の未露光部分で吐出口となる開口２３内部とその上の部分が除かれる。
次いで、図１（ｉ）に示されるように、基板１にドライエッチング等で供給口３を形成する。これにより型１０が外部と連通する。
次いで、図１（ｊ）に示されるように、流路形成用の型１０を適切な溶剤で溶解させるなどして除去し吐出口５と連通する液体流路６とを形成する（Ｅ工程）。流路壁部材４は吐出口５が開口する面に隣接した壁面１２を有する。吐出用の液体が吐出口５内、つまり開口面１４よりも基板側においてメニスカスを形成することができるように、壁面１２と吐出口５との距離を設定する。例えば、吐出口の径が１５μｍである場合、壁面２３と吐出口５の縁との距離は、８０μｍ以上が好適である。部材（Ａ）の形成以降、その後の工程により、部材（Ａ）の平坦性は損なわれないので、部材（Ａ）９と型１０とが平坦に形成されているので、基板内において、基板１のエネルギー発生面と吐出口５との距離Ｄは、均一となる。よって、複数の吐出口から吐出される液体の量が一定化される。
この後に、吐出口５の開口面１４に撥液機能を付与してもよい。
（第２の実施形態）
図３、図４、図５を参照して本発明の第２の実施形態について説明する。本形態は吐出口面に対して撥液処理を施す形態である。
図３、図４、図５を参照して本発明の第２の実施形態について説明する。本形態は吐出口面に対して撥液処理を施す形態である。
図３は、図１と同様に各工程での切断面を示す切断面図であり、図４、図５は、工程中での状態を説明するための、切断面図である。なお、切断面の位置は図１と同様である。
図１（ａ）に示される工程（Ａ工程）までは第１の実施形態と同様に行う。次いで部材（Ａ）９を形成する工程（Ｂ工程）において、以下を行う。
図３（ａ）に示されるように、第２の層８の上面に撥液性を付与するための撥液用材料１５を提供する。撥液用材料１５の一部または全部を第２の層８に浸透させることも可能である。吐出に用いる液体が水性または油性のインクである場合は、撥液性が付与される部分の基板１に垂直な方向での厚さは、２μｍあれば十分である。第１の層７と第２の層８と同様に、撥液用材料１５は基板に平坦に積層される。感光性のフッ素含有エポキシ樹脂フィルムや、フッ素含有シランと重合基を含有するシランとの縮合物を含む組成物等を撥液用材料１５に用いることが可能である。撥液用材料１５に上記のものを用いた場合は、撥液用材料１５と第２の層８とを一括してフォトリソグラフィーによりパターニングすることができる。
次いで、図３（ｂ）に示されるように、第２の層８と撥液用材料１５に対してマスク１６を介して部材（Ａ）９を形成するための露光を行う。マスクの形状を調整することで、撥液用材料１５の一部が硬化し、他の部は硬化しないように露光を行う。具体的には、マスク１６の開口５０内に、遮光部１６ａを設けることで、第２の層８の開口５０に対応する部分は露光され、撥液処理用材料１５の遮光部１６ａに対応する部分は露光されないようにする。遮光部１６ａの幅は、第２の層８、撥液用材料１５、それぞれの材料の解像性を考慮して設定する。次いで、露光が行われた部分を硬化させた後に現像を行い、第２の層８と撥液用材料１５の未露光部分を除去する。以上により、図３（ｃ）に示されるように、部材（Ａ）９の上面に吐出口となる開口２３の周辺に、撥液性が付与された撥液性部分１７を設けることができる。また、開口２３の周辺以外の部分の撥液性材料を除去すると、その部分には、撥液性は付与されない。また、マスク１６の形状を工夫することで、図４に示されるような、部材（Ａ）９を貫通する孔１８を設けてもよい。このようにすると、部材（Ａ）９の上面に設けられた第３の層１１の一部が孔１８内に入り込んで、孔１８の内壁と第３の層１１とが接する。その結果、部材（Ａ）９と第３の層１１との接合強度を高めることができる。また、マスク１６の形状を工夫することで、図４（ｂ）に示されるように部材（Ａ）９に溝１９を設けて、溝１９の内壁に第３の層１１が接するようにすることもできる。
その後、第１の実施形態の説明において、図１（ｂ）を参照して説明した方法と同様にして型１０を形成し（Ｃ工程）、その後、図３（ｄ）に示すように部材（Ａ）の上面に第３の層１１を設ける（Ｄ工程）。部材（Ａ）の撥液性部分１７では、第３の層１１がはじかれる可能性があるが、部材（Ａ）の上面の撥液性部分１７が設けられていない部分では、第３の層１１ははじかれず、部材（Ａ）の上面に密接する。また、部材（Ａ）９の側面も、撥液性が付与されていないので、第３の層と密接する。その後、基板１に供給口３を形成し、型１０を除去して流路６を形成し（Ｅ工程）、図３（ｅ）に示されるように、液体吐出ヘッドが得られる。
部材（Ａ）９の吐出口５が開口する開口面１４は撥液性が付与されているので、流路に充填された吐出用の液体１８は、開口面１４上には留まらず（図５参照）吐出口５とほぼ等しい位置にメニスカスを確実に形成することができる。また、開口面１４に撥液性を付与することで、吐出された液体の一部がミスト状に浮遊して開口面１４に付着した場合でも、ミストが開口面１４に固定されることはなく、吐出装置に備えられている吸引機構による吸引等で容易に除去することができる。
（第３の実施形態）
図２を参照して本発明の第３の実施形態について説明する。
図２は、図１と同様に各工程での切断面を示す切断面図であり、切断面の位置は図１と同様である。
図２を参照して本発明の第３の実施形態について説明する。
図２は、図１と同様に各工程での切断面を示す切断面図であり、切断面の位置は図１と同様である。
まず第１の実施形態において説明した図１（ａ）〜図１（ｅ）に示される工程までを行う。
次いで、流路の型を形成する工程（Ｃ工程）において、図２（ａ）に示されるように、部材（Ａ）９を遮光マスクとして利用して、ポジ型感光性樹脂の第１の層７の露光を行う。部材（Ａ）がネガ型感光性樹脂の硬化物で形成される場合、部材（Ａ）は波長２００〜３００ｎｍの範囲の光を吸収することができる。一方、多くのポジ型感光性樹脂の感光波長は、２２０ｎｍ〜３００ｎｍであるため、部材（Ａ）を遮光マスクとして、第１の層７を波長２２０〜３００ｎｍの光で露光し、露光された第１の層７中の樹脂を分解することができる。
第１の層７に現像を行って被露光部を除去すると、図２（ｂ）に示されるように、流路の型１０が得られる。基板１の表面と平行な方向で、流路の型１０の形状が、部材（Ａ）９の形状にならうため、予め部材（Ａ）の外郭を流路の形状に対応した形状に形成しておく必要がある。
第１の層７に接している部材（Ａ）を遮光マスクとして用いることによって、両物体間での位置合わせ精度を向上させることができる。また、遮光マスクを回折した光が第１の層に露光されることを抑制することができる。
次いで、型１０の上面以上の厚さで第３の層１１を設ける（Ｄ工程）。次いで図２（ｄ）に示されるように、マスク２０３を介して第３の層１１に対して露光を行い、第３の層１１の露光が行われた部分２５を硬化させる。次いで図２（ｅ）に示されるように、非露光部分を除去し、開口２３を形成する。次いで、図２（ｆ）に示されるように、基板１に供給口３を形成する。次いで、型１０を除去し、流路６、吐出口５を形成し、図２（ｇ）に示される状態の液体吐出ヘッドを得る（Ｅ工程）。
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）
図１を参照し、基板１を小片状に切断される前の基板の一部分に見立てて実施例１を説明する。
図１を参照し、基板１を小片状に切断される前の基板の一部分に見立てて実施例１を説明する。
まず、第１の層７と第２の層８とが設けられた基板１（６インチウエハ）を用意した（図１（ａ））。第１の層７はポジ型感光性樹脂であるＯＤＵＲ−１０１０（東京応化工業（株）製）をスピンコート法により塗布した後、１２０℃で乾燥して形成した。形成後の第１の層７の厚さの平均値は７μｍで、基板１（６インチウエハ）内での第１の層７の厚さの標準偏差は０．１μｍ以下であった（６インチウェハ内の３５０箇所で測定）。
次いで、表１に示される組成物をスピンコート法を使用して第１の層７上に塗布し、９０℃で３分間乾燥させて第２の層８を形成した。第２の層８の厚さの平均値は５μｍで、基板（６インチウエハ）内での厚さの標準偏差（６インチウェハ内の３５０箇所で測定）は０．２μｍであった。
次に、キヤノン（株）製マスクアライナーＭＰＡ−６００Ｓｕｐｅｒ（製品名）を使用して第２の層８に露光を行った（図１（ｂ））。
次いで、第２の層８に対してポストベークと現像とを行い、部材（Ａ）９を形成した。なお、露光量は、１Ｊ／ｃｍ２であり、現像液は、メチルイソブチルケトン／キシレン＝２／３の混合液を使用し、現像後のリンス液にはキシレンを使用した。
次いで、ウシオ電機（株）製マスクアライナーＵＸ−３０００ＳＣ（製品名）を使用してＤｅｅｐ−ＵＶ光（波長２２０ｎｍ〜４００ｎｍ）を第１の層７に１０Ｊ／ｃｍ２照射した（図１（ｄ））。
次いで、メチルイソブチルケトンを使用して第１の層７に対して現像を行い、次いで、イソプロピルアルコールを使用して第１の層７をリンスし、第１の層７の露光された部分を除去して流路の型１０を形成した（図１（ｅ））。
次いで、表１に示される組成物を部材（Ａ）９、型１０上に塗布して、第３の層１１を形成した（図１（ｆ））。基板１の表面から第３の層の部材（Ａ）上の部分の上面までの厚さが１８μｍとなるように、第３の層１１を形成した。
次いで、ＭＰＡ−６００Ｓｕｐｅｒ（製品名：キヤノン（株）社製）により、第３の層１１に対して露光（露光量＝１Ｊ／ｃｍ２）を行い（図１（ｇ））、ポストベーク、現像、リンスを行って直径１２μｍの開口部２３を設けた（図１（ｈ））。なお、現像液は、メチルイソブチルケトン／キシレン＝２／３の混合液を使用し、現像後のリンス液にはキシレンを使用した。
８０℃の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液をエッチング液として使用して、シリコンの基板１に異方性エッチングを行い、供給口３を形成した（図１（ｉ））。
その後、型１０を乳酸メチルで溶解し、基板１から除去して直径１２μｍの吐出口５を形成した。（図１（ｊ））。
基板（６インチウエハ）内で、距離Ｄの平均値は１２μｍ、距離Ｄの標準偏差は０．２５μｍであった。なお、距離Ｄは、ウェハ内の３５０個の吐出口をウェハ中央から端部まで均一になるように選出し、各吐出口に関して測定して得られた値である。
最後に、６インチウェハーをダイシングソーにより切断し、一つの液体吐出ヘッドを得た。
（実施例２）
図６（ａ）を参照図に加えて、実施例２を説明する。図６は、本発明の実施例に係る液体吐出ヘッドの製造工程中の状態を説明するための切断面図である。なお、切断面の位置は図１と同様である。
図６（ａ）を参照図に加えて、実施例２を説明する。図６は、本発明の実施例に係る液体吐出ヘッドの製造工程中の状態を説明するための切断面図である。なお、切断面の位置は図１と同様である。
実施例１と異なるところは、第２の層８の厚さを第１の層７の上面から１０μｍとし、第３の層１１の第１の層の上に設けられた部分の上面の高さが基板から５μｍとなるように第３の層１１を形成した点である。このようにして、第３の層１１の上面が部材（Ａ）９の上面よりも低くなるように設けた。その他は実施例１と同様に行った。
図６（ｂ）は作成した液体吐出ヘッドを示している。吐出口５は、流路の壁部材４の流路の外壁部分４ａの上面よりも基板から高い位置に設けられている。
基板（６インチウエハ）内で、距離Ｄの平均値は１７μｍ、距離Ｄの標準偏差は０．２５μｍであった。なお、実施例１と同様に、基板（６インチウエハ）ウェハ内の３５０個の吐出口をウェハ中央から端部まで均一になるように選出し、各吐出口に関して距離Ｄを測定した。
（比較例１）
図８を参照して比較例に係る液体吐出ヘッドの作成方法について説明する。
図８を参照して比較例に係る液体吐出ヘッドの作成方法について説明する。
図８は、比較例の液体吐出ヘッドを作成する各工程での断面を表している。
エネルギー発生素子１０２を備えたシリコン基板１０１（６インチウェハー）上に、ＯＤＵＲ−１０１０（商品名 東京応化工業（株）製）を塗布し、乾燥を行って、厚さが７μｍのポジ型感光性樹脂の層１０３を基板１０１上に形成した（図８（ａ））。
次いで、ポジ型感光性樹脂の層１０３に対して、露光とそれに次ぐ現像とを行って、流路の型１０４を形成した（図８（ｂ））。
次いで、実施例１の表１に記載の組成物を型１０４上にスピンコート法を使用して塗布し、９０℃で３分間乾燥して被覆層１０５を形成した。被覆層１０５の型１０４の上面に設けられた部分の膜厚が７μｍとなるように被覆層１０５を形成した（図８（ｃ））。
次いで、マスク１１０を使用して被覆層１０５に露光を行い、露光が行われた部分１０６を硬化させた（図８（ｄ）。
現像を行って被覆層１０５の未露光部分を除去して流路の壁を形成する部材１１１と、直径１２μｍの吐出口１０７とを形成した（図８（ｅ））。
次いで、基板１０１に供給口１０９を形成した後、型１０４を除去して流路１０８を形成した（図８（ｆ））。
次に、６インチウェハーをダイシングソーにより切断して、一つの液体吐出ヘッドの単位に分離した。
得られた液体吐出ヘッドにおいては、基板１０１のエネルギー発生素子１０２のエネルギー発生面から吐出口１０７までの距離ｈの平均値が１２μｍであった。一方、距離ｈの標準偏差は０．６μｍであった。なお、距離ｈは、ウェハ内の３５０個の吐出口をウェハ中央から端部まで均一になるように選出し、各吐出口に関して測定して得られた値である。
実施例１、２に係る液体吐出ヘッドの距離Ｄの標準偏差と比較例１に係る液体吐出ヘッドの距離ｈの標準偏差とでは、大きく差があることが分かる。
距離Ｄの標準偏差が０．２５μｍと小さかった原因は、平坦に形成された第２の層８から、厚さのばらつきが極めて小さい、部材（Ａ）９を得ることができたためであると考えられる。
一方、距離ｈの標準偏差が０．６μｍと大きかった原因の一つとしては、被覆層１０５の下に型１０４がある部分と、型１０４が無い部分とでは、被覆層１０５の上面の高さに差がでてしまったことが考えられる。また、比較例１においては、６インチウェハーの最外周部分に設けられた型１０４のさらに外側には型１０４が存在ないため、ウェハーの外周部での被覆層１０５の上面の高さは、中央部分と比較して低く形成されてしまったことも他の原因として考えられる。
実施例１、２、比較例１に係る液体吐出ヘッドを使用して試験記録を行った。同じ６インチウェハ内から切り出された複数の液体吐出ヘッドについて記録を行った。なお、純水／ジエチレングリコール／イソプロピルアルコール酢酸リチウム／黒色染料フードブラック２＝７９．４／１５／３／０．１／２．５からなるインク液を使用し、吐出体積Ｖｄ＝１ｐｌ、吐出周波数ｆ＝１５ｋＨｚで記録を行った。
記録により得られた画像を観察したところ、実施例１、２に係る液体吐出ヘッドを使用して記録を行った場合には、非常に高品位な記録画像が得られていた。また、同じ６インチウェハ内から得られた複数の液体吐出ヘッドいずれについても同等に高品位であった。一方、比較例に係る液体吐出ヘッドを使用して記録を行った場合には、実施例に係る記録画像と比較して、記録画像にムラが観られた。また、同じ６インチウェハ内から得られた複数の液体吐出ヘッドを使用して得られた記録画像それぞれについて、ムラの状態がわずかながら異なっていた。この原因は、前述した距離Ｄの標準偏差が、距離ｈの標準偏差より小さいため、実施例に係る液体吐出ヘッドから吐出されるインクの体積のばらつきは、比較例に係る液体吐出ヘッドより吐出されるインクの体積のばらつきより小さいことであると考えられる。
１ 基板
２ エネルギー発生素子
３ 供給口
４ 流路壁部材
５ 吐出口
６ 流路
７ 第１の層
８ 第２の層
９ 部材（Ａ）
１０ 型
１１ 第３の層
２ エネルギー発生素子
３ 供給口
４ 流路壁部材
５ 吐出口
６ 流路
７ 第１の層
８ 第２の層
９ 部材（Ａ）
１０ 型
１１ 第３の層
Claims (15)
- 液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通する流路と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法において、
第１の層と第２の層とがこの順で積層されている基板を用意するＡ工程と、
前記第２の層に、内部に前記吐出口を形成するための部材（Ａ）を形成するＢ工程と、
前記第１の層に、前記流路を形成するための型を形成するＣ工程と、
前記型の上面以上の厚さで前記型と前記部材（Ａ）とに密接するように第３の層を設けるＤ工程と、
前記型を除去して前記流路を形成するＥ工程と、
をこの順に有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記Ａ工程は、露光が行われていない状態のポジ型感光性樹脂からなる前記第１の層を基板の上に設ける工程と、前記第１の層の上に前記第２の層を設ける工程と、を含み、
前記Ｂ工程の後に、前記型を形成するために前記第１の層に露光を行うことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記Ｂ工程において、前記部材（Ａ）に前記吐出口となる開口を形成することを特徴とする請求項１または２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記部材（Ａ）の上面まで前記第３の層を設けることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記Ｄ工程を行う前に、前記部材（Ａ）の前記開口の周辺の部分を撥液性とすることを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記Ｄ工程を行う前に、前記部材（Ａ）の前記基板側と反対側の表面に、撥液性の部分と撥液性を示さない部分とを設けることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記撥液性の部分は、前記部材（Ａ）の前記開口の周辺の部分であり、前記部材（Ａ）は撥液性を示さない部分で前記第３の層と接することを特徴とする請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記Ｂ工程において、前記第２の層の上に撥液性を付与するため材料を提供し、前記開口の周辺の部分に、前記材料により撥液性を付与し、前記周辺以外の部分の前記材料を除去することを特徴とする請求項６乃至７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記Ｂ工程は、前記材料の除去される部分とともに、前記２の層の前記除去される部分の下に位置する部分とを一括して除去することを特徴とする請求項８に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第２の層はネガ型感光性樹脂により形成される請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第２の層と前記第３の層とが同一の組成のネガ型感光性樹脂を含むことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記部材（Ａ）を形成する工程において前記部材（Ａ）を前記流路の形状に対応した形状とし、前記部材（Ａ）をマスクとして利用して前記第１の層の前記（Ａ）部材が積層されていない部分を除去することにより前記型を形成することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第１の層がポジ型感光性樹脂からなり、前記部材（Ａ）をマスクとして利用して前記第１の層を露光した後、前記露光が行われた部分を除去することにより前記型を形成することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記Ｅ工程を行った後に、前記部材（Ａ）の前記開口の周辺の部分に撥液性を付与することを特徴する請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第１の層と前記第２の層とは、それぞれ平坦な状態で形成されていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009258192A JP5279686B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US13/505,574 US20120222308A1 (en) | 2009-11-11 | 2010-11-02 | Method for manufacturing liquid ejection head |
| CN201080050773.0A CN102596575B (zh) | 2009-11-11 | 2010-11-02 | 用于制造液体喷出头的方法 |
| KR1020127014169A KR101327674B1 (ko) | 2009-11-11 | 2010-11-02 | 액체 토출 헤드의 제조 방법 |
| PCT/JP2010/006474 WO2011058719A1 (en) | 2009-11-11 | 2010-11-02 | Method for manufacturing liquid ejection head |
| EP20100795781 EP2470372B1 (en) | 2009-11-11 | 2010-11-02 | Method for manufacturing liquid ejection head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009258192A JP5279686B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011102001A JP2011102001A (ja) | 2011-05-26 |
| JP2011102001A5 JP2011102001A5 (ja) | 2012-12-27 |
| JP5279686B2 true JP5279686B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=43528301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009258192A Expired - Fee Related JP5279686B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20120222308A1 (ja) |
| EP (1) | EP2470372B1 (ja) |
| JP (1) | JP5279686B2 (ja) |
| KR (1) | KR101327674B1 (ja) |
| CN (1) | CN102596575B (ja) |
| WO (1) | WO2011058719A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6000715B2 (ja) | 2011-09-29 | 2016-10-05 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2014162038A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Seiko Epson Corp | 流路ユニット、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、流路ユニットの製造方法 |
| US10821729B2 (en) | 2013-02-28 | 2020-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Transfer molded fluid flow structure |
| US9731509B2 (en) | 2013-02-28 | 2017-08-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid structure with compression molded fluid channel |
| US9656469B2 (en) | 2013-02-28 | 2017-05-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded fluid flow structure with saw cut channel |
| JP6068684B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-01-25 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー．Ｈｅｗｌｅｔｔ‐Ｐａｃｋａｒｄ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｌ．Ｐ． | 流体流れ構造の成形 |
| WO2014133517A1 (en) | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded print bar |
| CN105189122B (zh) | 2013-03-20 | 2017-05-10 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 具有暴露的前表面和后表面的模制芯片条 |
| KR102030735B1 (ko) | 2018-01-26 | 2019-10-11 | 광주과학기술원 | 분광장치 및 분광방법 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3143307B2 (ja) * | 1993-02-03 | 2001-03-07 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| JPH08174833A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-09 | Canon Inc | インクジェット記録装置の記録ヘッドおよびその基板端面への酸化皮膜形成方法 |
| EP0734866B1 (en) * | 1995-03-31 | 1999-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for the production of an ink jet head |
| JP3343875B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2002-11-11 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
| US6137510A (en) * | 1996-11-15 | 2000-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head |
| CN1289298C (zh) * | 2001-09-06 | 2006-12-13 | 株式会社理光 | 液滴喷射头及其制造方法、微型器件、喷墨头、墨盒以及喷墨打印设备 |
| US6986982B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-01-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Resist material and method of manufacturing inkjet recording head using the same |
| US6869541B2 (en) * | 2002-02-21 | 2005-03-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Epoxy resin composition, surface treating method, ink-jet recording head, and ink-jet recording apparatus |
| JP2005074747A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Canon Inc | インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド |
| US7322104B2 (en) * | 2004-06-25 | 2008-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing an ink jet head |
| JP4533256B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | 微細構造体の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP4484774B2 (ja) | 2004-06-28 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| EP1768847B1 (en) * | 2004-06-28 | 2009-08-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method |
| JP4761498B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2011-08-31 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 |
| JP2006069009A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Canon Inc | インクジェットヘッドの製造方法 |
| JP4614383B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2011-01-19 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法、及びインクジェット記録ヘッド |
| KR100657334B1 (ko) * | 2005-09-13 | 2006-12-14 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여제조된 잉크젯 프린터 헤드 |
| US7985532B2 (en) | 2005-12-02 | 2011-07-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head producing method |
| JP2008046584A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法 |
| US7909428B2 (en) * | 2006-07-28 | 2011-03-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection devices and methods of fabrication |
| JP4480182B2 (ja) | 2007-09-06 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基板及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| KR20090030111A (ko) * | 2007-09-19 | 2009-03-24 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여제조된 잉크젯 프린터 헤드 |
| US20090162797A1 (en) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid ejection head |
| KR101452705B1 (ko) * | 2008-01-10 | 2014-10-24 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여제조된 잉크젯 프린터 헤드 |
| JP5094519B2 (ja) | 2008-04-14 | 2012-12-12 | オリンパス株式会社 | 走査型レーザ顕微鏡 |
| KR20090117010A (ko) * | 2008-05-08 | 2009-11-12 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여제조된 잉크젯 프린터 헤드 |
| JP5312202B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
| US8262199B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-09-11 | Fujifilm Corporation | Droplet jetting head, method of manufacturing droplet jetting head, and droplet jetting apparatus equipped with droplet jetting head |
| US8844123B2 (en) * | 2009-12-03 | 2014-09-30 | Chin-Chi Yang | Method of manufacturing a hollow surface mount type electronic component |
-
2009
- 2009-11-11 JP JP2009258192A patent/JP5279686B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-11-02 EP EP20100795781 patent/EP2470372B1/en not_active Not-in-force
- 2010-11-02 CN CN201080050773.0A patent/CN102596575B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-02 WO PCT/JP2010/006474 patent/WO2011058719A1/en active Application Filing
- 2010-11-02 KR KR1020127014169A patent/KR101327674B1/ko active IP Right Grant
- 2010-11-02 US US13/505,574 patent/US20120222308A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2011058719A1 (en) | 2011-05-19 |
| CN102596575A (zh) | 2012-07-18 |
| EP2470372A1 (en) | 2012-07-04 |
| KR20120079171A (ko) | 2012-07-11 |
| KR101327674B1 (ko) | 2013-11-08 |
| CN102596575B (zh) | 2014-08-27 |
| JP2011102001A (ja) | 2011-05-26 |
| US20120222308A1 (en) | 2012-09-06 |
| EP2470372B1 (en) | 2015-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5279686B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP5814747B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| US20090291398A1 (en) | Liquid discharge head producing method | |
| JP6000715B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP5653181B2 (ja) | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド | |
| US8741549B2 (en) | Method of manufacturing a liquid ejection head and liquid ejection head | |
| US8622516B2 (en) | Ink jet recording head and method of producing ink jet recording head | |
| JP5697406B2 (ja) | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド | |
| JP5743637B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| US8444253B2 (en) | Inkjet head and method of manufacturing inkjet head | |
| KR20120056206A (ko) | 액체 토출 헤드의 제조 방법 | |
| JP6071560B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP5553538B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121109 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121109 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130424 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130521 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5279686 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |