JP2005536875A5

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Publication number: JP2005536875A5
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Filing date: 2003-08-20
Publication date: 2008-06-05
Anticipated expiration: 2023-08-20

Claims

個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を照射するステップと、
前記空間光変調器の像を基板の感光性表面上に投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記空間光変調器の前記素子をスイッチングし、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーを連続的に受け取ることにより、前記表面上に潜像を形成するステップと、
前記像を不鮮明にするステップであり、前記不鮮明さがサブピクセルの解像度のフィーチャ・エッジの配置を可能にするステップと
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
各空間光変調器のそれぞれが個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の夫々の不鮮明像を投影するように構成された複数の投影レンズ・システムと、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備え、前記空間光変調器の数は前記投影レンズ・システムの数よりも大きいことを特徴とするリソグラフィ・ツール。
空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと、
前記空間光変調器を照射するステップであり、前記空間光変調器はステージ上に設置され、前記ステージは前記基板の露光中にパターニング方向に移動するように制御され、前記空間光変調器は個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイとを備え、前期素子は前記パターニング方向で測定されるようなピッチｐを有しているステップと、
前記基板上を速度ｖで前記パターニング方向に前記空間光変調器を連続的に移動させるステップと、
前記空間光変調器が移動している間に、前記基板上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記像が投影されている間に、前記基板の感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように、時間間隔Ｔ＝ｐ／ｖだけ離れている時間において前記空間光変調器をスイッチングするステップと
から構成されることを特徴とする基板のリソグラフィ方法。
可撓膜基板のリソグラフィ方法であって、
速度ｖでパターニング方向に前記可撓膜基板を移動させるステップと、
空間光変調器を連続的に照射するステップであり、前記空間光変調器は個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備え、前記素子は前記パターニング方向で測定したピッチｐを有しているステップと、
前記可撓膜基板が移動している間に、前記連続的に照射された空間光変調器の像を用いて前記基板を倍率Ｍで照射するステップと、
前記基板が照射されている間に、前記基板の感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように、時間間隔Ｔ＝ｐＭ／ｖだけ離れている時間において前記空間光変調器をスイッチングするステップとから構成され、
前記基板を移動させる前記ステップは回転可能で離間した状態で軸方向に平行なフィルム・ドラムによって実施され、前記基板は前記ドラムの周囲に巻き取られ、かつ前記ドラムの間に引っ張られた状態であることを特徴とする可撓膜基板のリソグラフィ方法。
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の不鮮明像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）前記感光性表面を横切って速度ｖでパターニング方向に前記像を移動させるステップと、
（ｅ）前記像が移動している間に、Ｔ＝ｐＭ／ｖの時間間隔の後に前記空間光変調器をスイッチングするステップであり、ｐは前記パターニング方向において測定された前記素子のピッチであるステップと、
（ｆ）所望の潜像が前記感光性表面上に形成されるまで、前記基板上のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るようにステップ（ｅ）を繰り返すステップと
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
個々にスイッチング可能な素子のアレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップと、
前記像を不鮮明にするステップであって、前記不鮮明さがサブピクセルの解像度のフィーチャ・エッジの配置を可能にするステップと
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップとから構成され、
光の通過が光スイッチング機構により制御され、前記機構は前記空間光変調器の前記素子と同じ周波数で、かつ前記空間光変調器の前記素子と位相をずらして動作させられることを特徴とするリソグラフィ方法。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、ある時間間隔だけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路に沿う光の通過を制御するステップとから構成され、
光の通過は、前記スイッチングの時間間隔の一部であるタイム・スパンで行われ、前記像は前記タイム・スパンの間に前記基板の１つのピクセル長だけ移動することを特徴とするリソグラフィ方法。
個々にスイッチング可能な素子のアレイを備え、光源を用いている複数の空間光変調器を照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記複数の空間光変調器夫々の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記複数の空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップとから構成され、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取ることにより前記表面上に潜像を形成し、且つ前記投影像の少なくとも２つは前記基板上で連続的に重なることを特徴とするリソグラフィ方法。
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている光スイッチング機構と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた第１の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記第１の空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記第１の空間光変調器にわたり、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている第２の空間光変調器と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の不鮮明な像を投影するように構成された結像光学系であり、前記空間光変調器の前記像の少なくとも２つは重なっている結像光学系と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと、
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）ある時間間隔Ｔだけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
（ｅ）前記素子がスイッチングしている間に、速度ｖ＝ｎｐＭ／Ｔで前記感光性表面を横切ってパターニング方向に前記像を移動させるステップであり、ｐは前記パターニング方向で測定された前記素子のピッチであり、かつｎは整数であるステップと、
（ｆ）前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わる光路に沿う光の通過を光スイッチング機構によって制御するステップと、
前記機構は前記空間光変調器の前記素子と同じ周波数で、かつ前記空間光変調器の前記素子と共にＴ（１−１／ｎ）のタイム・シフトだけ位相をずらして動作させられるステップと
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
（ａ）空間光変調器の下方に基板を位置決めするステップと、
（ｂ）個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた前記空間光変調器を照射するステップと、
（ｃ）前記基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を倍率Ｍで投影するステップと、
（ｄ）ある時間間隔Ｔだけ離れた時間において前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
（ｅ）前記素子がスイッチングしている間に、速度ｖ＝ｎｐＭ／Ｔで前記感光性表面を横切ってパターニング方向に前記像を移動させるステップであり、ｐは前記パターニング方向で測定された前記素子のピッチであり、かつｎは定数であるステップと、
（ｆ）前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わる光路に沿う光の通過を光スイッチング機構によって制御するステップと、
前記機構はタイム・スパンＴ／ｎの間光の通過を可能にするように動作するステップと
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を光源を用いて照射するステップと、
基板の感光性表面上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させるステップと、
前記像が移動している間に、前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
サブピクセルの解像度のフィーチャー・エッジの配置を可能にするために上記像を不鮮明化するステップとから構成され、
前記像の移動の方向は前記空間光変調器の前記投影像内のピクセルの列に対して平行でないことを特徴とするリソグラフィ方法。
それぞれが個々にスイッチで切り替え可能な素子のアレイを有する複数の空間光変調器を照射するステップと、
基板の感光性の面上に前記複数の空間光変調器の像を投影するステップと、
前記像を前記基板の前記面を横切って移動させるステップと、
前記像が移動している間に、上記複数の空間光変調器の素子をスイッチングし、これにより前記感光性表面上のあるピクセルが前記複数の空間光変調器の複数の素子からエネルギーを受け取り、前記面上の潜像を形成するステップと、
サブピクセルの鮮明度のフィーチャー・エッジの配置を可能にするために上記像を不鮮明化するステップと、
から構成されることを特徴とするリソグラフィ方法。
それぞれが個々にスイッチで切り替え可能な素子のアレイを有する複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成される光源と、
前記基板上の前記複数の空間光変調器のぼやける像に投影するように構成される画像光学系と、
前記像を前記基板の表面を横切るように移動させる像移動機構とから構成されることを特徴とする基板をパターン化するためのリソグラフィ・ツール。
基板をパターニングする、空間光変調器をベースとした光リソグラフィ・ツールの動作方法であって、
サイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応しているピクセルのエリア・アレイを前記基板表面上に決定するステップと、
設計データ・ファイル内のフィーチャ・パターンから算出される線量値を前記基板上の各ピクセルに割り当てるステップと、
少なくとも２つの状態を有する前記空間光変調器の素子であり、第１の状態が前記基板に光を到達させ、第２の状態が前記基板に光が到達するのを止める素子それぞれの状態を表す一連の値へと、前記基板上の各ピクセルに対する前記線量値をクロック周期ごとにデコンプレスするステップと、
前記素子状態の値を空間光変調器メモリへとロードするステップと、
前記空間光変調器を照射するステップと、
前記空間光変調器と前記基板との間に位置する投影光学系によって実施される、前記基板上に前記空間光変調器の像を投影するステップと、
クロック周期ごとに一度、前記空間光変調器メモリ内の前記値に応じて前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップと、
各クロック周期中、前記基板と前記投影される像とを互いに前記ピクセル間の前記間隔に等しい距離だけ変位させるステップとから構成され、
前記基板上のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取ることを特徴とする光リソグラフィ・ツールの動作方法。
前記基板上の前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は１対１であることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記割り当てるステップは、前記算出された線量値を調整することによって前記投影光学系内の歪みと収差を補正するステップを有することを特徴とする請求項１０とする請求項１９に記載の方法。
前記割り当てるステップは、前記算出された線量値を調整することによって前記空間光変調器の照射の不均一性を補正するステップを有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記デコンプレスするステップは、前記基板に対する前記空間光変調器の位置に対応する、１クロック周期中の前記空間光変調器の前記素子すべての前記素子状態の値を規定するのに必要な線量データである１フレームの線量データに対してクロック周期ごとに一度実行されることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記ロードするステップはクロック周期ごとに一度実行されることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
前記基板の露光中、前記空間光変調器は連続的に照射されることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記基板の露光中、前記空間光変調器の前記像は前記基板上に連続的に投影されることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
前記基板表面の前記投影された像は不鮮明にされるステップを有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記不鮮明にするステップは、前記空間光変調器と前記感光性コーティングとの間に位置決めされた拡散体によって実施されることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
前記空間光変調器はデジタル・マイクロミラー・デバイスであり、前記素子は個々にスイッチング可能なミラーであることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記基板の歪みを測定するステップと、
前記基板の歪みを説明するために前記設計データ・ファイルを修正するステップとをさらに有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップは、前記基板上の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記基板上のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
前記測定するステップは基板アライメント・システムによって実施されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
前記基板アライメント・システムはマシン・ビジョン・システムを備えることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップは、前記基板上の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記基板上のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記基板表面の前記投影された像は不鮮明にされることを特徴とする請求項３４に記載の方法。
前記スイッチングするステップは、前記基板表面上の感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジは、前記基板上の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
前記空間光変調器の前記素子は矩形格子上で行及び列に配置され、前記基板の移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行であることを特徴とする請求項３４に記載の方法。
前記空間光変調器の前記素子は矩形格子上で行及び列に配置され、前記基板の移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行でも直角でもないことを特徴とする請求項３４に記載の方法。
前記スイッチングするステップは、前記基板表面上の感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジは、前記基板上の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
前記投影するステップの前に、前記基板を前記投影光学系と位置合わせするステップをさらに有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
前記位置合わせするステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている像と比較するステップを有することを特徴とする請求項４０に記載の方法。
前記位置合わせするステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている理想的な像と比較するステップを有することを特徴とする請求項４０に記載の方法。
前記理想的な像は十字及び円からなるグループから選択されることを特徴とする請求項４２に記載の方法。
矩形格子上で行及び列に配置された個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を連続的に照射するステップと、
感光性コーティングを有する基板を前記空間光変調器に対して移動させるステップであり、前記基板の移動の方向が前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行でも直角でもないステップと、
前記基板が移動している間に、前記空間光変調器の像をピクセルのエリア・アレイを含む前記感光性コーティング上に投影するステップであり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応しているステップと、
前記基板が移動している間に、第１の状態が前記基板に光を到達させ、第２の状態が前記基板に光が到達するのを止める少なくとも２つの状態の間で前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップであり、前記感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、これにより前記感光性コーティングに対して前記空間光変調器の前記像が前記感光性コーティングを横切って移動し、前記感光性コーティング内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るステップとから構成され、
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップが、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記感光性コーティング内のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とするリソグラフィ方法。
前記基板の前記移動の方向は、前記空間光変調器の前記素子の前記列に対して４５°であることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記移動ステップは、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジが前記感光性コーティング内の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされるように制御されることを特徴とする請求項４５に記載のリソグラフィ方法。
前記照射ステップはアーク灯を備えたランプ・システムによって実施されることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
照射の不均一性を改善するステップをさらに有することを特徴とする請求項４７に記載のリソグラフィ方法。
前記改善するステップは、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされたライト・パイプによって実施されることを特徴とする請求項４８に記載のリソグラフィ方法。
前記改善するステップは、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされた蝿の目レンズ・アレイによって実施されることを特徴とする請求項４８に記載のリソグラフィ方法。
前記照射ステップは準連続レーザによって実施されることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記ステージが移動している間に、前記感光性コーティングと前記投影光学系との間の距離を一定に保つステップをさらに有し、これにより前記像の焦点が前記感光性コーティングに合うことを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは、前記空間光変調器の不均一な照射を補正するように制御されることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記投影ステップは投影光学系によって実施され、前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは前記投影光学系内の歪みと収差を補正するように制御されることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは、前記基板の不整列と歪みを補正するように制御されることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は１対１であることを特徴とする請求項４４に記載のリソグラフィ方法。
前記投影ステップの前に、
前記基板の歪みを測定するステップと、
前記基板の歪みを説明するために、前記感光性コーティング内に決定される前記フィーチャの位置を決める設計データ・ファイルを修正するステップと
をさらに有することを特徴とする請求項４４に記載の方法。
前記投影ステップの前に、前記基板を投影光学系に対して位置合わせするステップをさらに有し、前記像の前記投影は前記投影光学系によって実施されることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
前記位置合わせステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている像と比較するステップを有することを特徴とする請求項５８に記載の方法。
前記位置合わせステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている理想的な像と比較するステップを有することを特徴とする請求項５８に記載の方法。
前記理想的な像は十字及び円からなる群から選択されることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を連続的に照射するステップと、
感光性コーティングを有する基板を前記空間光変調器に対して移動させるステップと、
前記基板が移動している間に、前記空間光変調器の像をピクセルのエリア・アレイを含む前記感光性コーティング上に投影するステップであり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応しているステップと、
前記基板が移動している間に、第１の状態が前記基板に光を到達させ、第２の状態が前記基板に光が到達するのを止める少なくとも２つの状態の間で前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップであり、前記感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、これにより前記感光性コーティングに対して前記空間光変調器の前記像が前記感光性コーティングを横切って移動し、前記感光性コーティング内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るステップと、
前記像を不鮮明にするステップとから構成され、
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップは、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記感光性コーティング内のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とするリソグラフィ方法。
前記投影ステップは投影光学系によって実施され、前記不鮮明にするステップは、前記感光性コーティングを前記投影光学系の光学軸に沿って所望の焦点ずれの箇所まで移動させることによって実施されることを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
前記ステージが移動している間に、前記感光性コーティングと前記投影光学系との間の距離を一定に保つステップをさらに有し、これにより前記所望の焦点ずれが維持されることを特徴とする請求項６３に記載のリソグラフィ方法。
前記不鮮明にするステップは、前記空間光変調器と前記感光性コーティングとの間に位置決めされた拡散体によって実施されることを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
前記感光性コーティング内の前記フィーチャの瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅は、それに対応する結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅にほぼ等しいことを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
前記瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅と前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、７５％の光強度の箇所から２５％の光強度の箇所まで測定されることを特徴とする請求項６６に記載のリソグラフィ方法。
前記感光性コーティング内の前記フィーチャの瞬間的なエッジの線量プロファイルは、ほぼガウス曲線形であることを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
前記感光性コーティング内の前記フィーチャの前記結果として得られたエッジの線量プロファイルは、ほぼガウス曲線形であることを特徴とする請求項６８に記載のリソグラフィ方法。
前記感光性コーティング内の前記フィーチャの前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、それに対応する瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅にほぼ等しいことを特徴とする請求項６９に記載のリソグラフィ方法。
前記瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅と前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、７５％の光強度の箇所から２５％の光強度の箇所まで測定されることを特徴とする請求項７０に記載のリソグラフィ方法。
前記不鮮明にするステップは、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジが、前記基板上の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトできるように制御されることを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は１対１であることを特徴とする請求項６２に記載のリソグラフィ方法。
矩形格子上で行及び列に配置された個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を連続的に投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応し、前記感光性材料が基板の表面を被覆する、結像光学系と、
第１の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第２の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも２つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記基板の移動の方向が前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行でも直角でもなく、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、前記感光性材料内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
前記基板の前記移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列に対して４５°であることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記感光性材料内のフィーチャ・エッジは、前記感光性材料内の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記光源はアーク灯を備えたランプ・システムであることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記ランプ・システムはさらに、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされたライト・パイプを備えることを特徴とする請求項７７に記載のリソグラフィ・ツール。
前記ランプ・システムはさらに、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされた蝿の目レンズ・アレイを備えることを特徴とする請求項７７に記載のリソグラフィ・ツール。
前記光源は準連続レーザであることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記空間光変調器はデジタル・マイクロミラー・デバイスであることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は１対１であることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
データ・プレコンピュータと、
デコンプレッション電子機器とをさらに備え、
前記データ・プレコンピュータが設計データ・ファイルを前記デコンプレッション電子機器に適した形式に修正するように構成され、前記デコンプレッション電子機器が前記修正された設計データを前記空間光変調器の前記素子それぞれの前記状態を表す値の行列へと変換するように構成されていることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記基板を前記結像光学系に位置合わせするように構成された基板アライメント・システムをさらに備えることを特徴とする請求項７４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記基板アライメント・システムは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている像と比較するように構成されたマシン・ビジョン・システムであることを特徴とする請求項８４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記基板アライメント・システムは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている理想的な像と比較するように構成されたマシン・ビジョン・システムであることを特徴とする請求項８４に記載のリソグラフィ・ツール。
前記理想的な像は十字及び円からなる群から選択されることを特徴とする請求項８６に記載のリソグラフィ・ツール。
前記基板アライメント・システムは前記基板の歪みを測定するようにさらに構成されていることを特徴とする請求項８４に記載のリソグラフィ・ツール。
データ・プレコンピュータと、
デコンプレッション電子機器とをさらに備え、
前記データ・プレコンピュータが（１）設計データ・ファイルを前記デコンプレッション電子機器に適した形式に修正し、（２）前記基板の前記歪みを補正するために設計データを修正するように構成され、前記デコンプレッション電子機器が前記修正された設計データを前記空間光変調器の前記素子それぞれの前記状態を表す値の行列へと変換するように構成されていることを特徴とする請求項８８に記載のリソグラフィ・ツール。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応する、結像光学系と、
第１の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第２の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも２つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記ステージ及び前記結像光学系がさらに、前記感光性材料上に前記空間光変調器の焦点ずれの像をもたらすように構成され、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、前記感光性材料内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
前記結像光学系と前記基板を被覆する前記感光性材料との間の距離を監視するように構成されたギャップ測定システムをさらに備えることを特徴とする請求項９０に記載のリソグラフィ・ツール。
前記感光性材料と前記結像光学系との間の距離を一定に保ち、これにより所望の焦点ずれが維持されるギャップ制御システムをさらに備えることを特徴とする請求項９１に記載のリソグラフィ・ツール。
個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応し、前記感光性材料が基板の表面を被覆する、結像光学系と、
第１の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第２の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも２つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記結像光学系がさらに、前記感光性材料上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成され、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。
前記結像光学系は前記空間光変調器の前記像を不鮮明にするように構成された拡散体を備えることを特徴とする請求項９３に記載のリソグラフィ・ツール。
前記結像光学系は、前記空間光変調器の前記像が不鮮明になるように調整された開口数を有することを特徴とする請求項９３に記載のリソグラフィ・ツール。
前記結像光学系は、前記空間光変調器の前記像を不鮮明にするように構成されたマイクロレンズ・アレイを備えることを特徴とする請求項９３に記載のリソグラフィ・ツール。
前記空間光変調器の前記素子は矩形格子上で行及び列に配置され、前記基板の移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行であることを特徴とする請求項９３に記載のリソグラフィ・ツール。