JP2001267205A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2001267205A JP2001267205A JP2000072133A JP2000072133A JP2001267205A JP 2001267205 A JP2001267205 A JP 2001267205A JP 2000072133 A JP2000072133 A JP 2000072133A JP 2000072133 A JP2000072133 A JP 2000072133A JP 2001267205 A JP2001267205 A JP 2001267205A
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- exposure apparatus
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】露光装置の照明光学系において、レチクルの孤
立線幅を任意に制御できるようにする。 【解決手段】照明変形させる種々の光変形パタ−ンをも
つ絞り機構３に加えて光変形パタ−ン毎に光源７の光量
を調節する補正フィルタ１を設けることによって、転写
すべき被露光体の結像面内の照明を均一にできるので、
レチクルのパタ−ンに散在する複数の孤立線を正確な線
幅に転写できる。
立線幅を任意に制御できるようにする。 【解決手段】照明変形させる種々の光変形パタ−ンをも
つ絞り機構３に加えて光変形パタ−ン毎に光源７の光量
を調節する補正フィルタ１を設けることによって、転写
すべき被露光体の結像面内の照明を均一にできるので、
レチクルのパタ−ンに散在する複数の孤立線を正確な線
幅に転写できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に関し、
特に、レチクルの孤立線の線幅を制御できる照明光学系
を備える露光装置に関する。
特に、レチクルの孤立線の線幅を制御できる照明光学系
を備える露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の一例における露光装置を示
す図である。従来、この種の露光装置は、例えば、図４
に示すように、エキシマレ−ザ等の光源７と、光源７の
照明光を入光し射出側から光を投射するフライアイレン
ズ２と、フライアイレンズ２からの光の偏光度を変え
る、例えば、円周上に種々の輪帯照明パタ−ンが形成さ
れた絞り機構３と、絞り機構３によって適切な偏光度の
光をレチクル４のパタ−ン形成面の結像するリレ−レン
ズ系６とを構成する照明光学系を備えている。
す図である。従来、この種の露光装置は、例えば、図４
に示すように、エキシマレ−ザ等の光源７と、光源７の
照明光を入光し射出側から光を投射するフライアイレン
ズ２と、フライアイレンズ２からの光の偏光度を変え
る、例えば、円周上に種々の輪帯照明パタ−ンが形成さ
れた絞り機構３と、絞り機構３によって適切な偏光度の
光をレチクル４のパタ−ン形成面の結像するリレ−レン
ズ系６とを構成する照明光学系を備えている。
【０００３】また、この露光装置は、レチクル４のパタ
−ン、例えば、孤立線像を被露光体８であるウェハのレ
ジスト面に投影する投影レンズ５を備える投影光学系を
備えている。
−ン、例えば、孤立線像を被露光体８であるウェハのレ
ジスト面に投影する投影レンズ５を備える投影光学系を
備えている。
【０００４】この露光装置は、照明光学系に備えてある
輪帯照明法あるいは四開口照明法による絞り機構３によ
って、レチクル４のパタ−ンの孤立線の被露光体８の面
に結像する際に、投影レンズ５のＮＡに伴って焦点深度
が深くなり、被露光体であるウェハ面に段差があっても
解像度良くレジスト面に転写できることを特徴としてい
た。
輪帯照明法あるいは四開口照明法による絞り機構３によ
って、レチクル４のパタ−ンの孤立線の被露光体８の面
に結像する際に、投影レンズ５のＮＡに伴って焦点深度
が深くなり、被露光体であるウェハ面に段差があっても
解像度良くレジスト面に転写できることを特徴としてい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例え
ば、レチクル４のパタ−ン内に散在する孤立線を被露光
体８に転写しようと、リレ−レンズ系６を調節し、絞り
機構３の種々の輪帯パタ−ンを切り替え調節しても、被
露光体８に転写される像面の照明均一性が得られない。
その結果、複数の密集パタ−ン（Ｌｉｎｅ＆Ｓｐａｃ
ｅ）の線幅がバラツクという問題がある。
ば、レチクル４のパタ−ン内に散在する孤立線を被露光
体８に転写しようと、リレ−レンズ系６を調節し、絞り
機構３の種々の輪帯パタ−ンを切り替え調節しても、被
露光体８に転写される像面の照明均一性が得られない。
その結果、複数の密集パタ−ン（Ｌｉｎｅ＆Ｓｐａｃ
ｅ）の線幅がバラツクという問題がある。
【０００６】従って、本発明の目的は、孤立線幅および
密集パタ−ン（Ｌｉｎｅ＆Ｓｐａｃｅ）を任意に制御で
きる露光装置を提供することにある。
密集パタ−ン（Ｌｉｎｅ＆Ｓｐａｃｅ）を任意に制御で
きる露光装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、光源か
らの照明光の光路に設けられたフライアイレンズと、こ
のフライアイレンズからの前記照明光を変形させる絞り
機構と、この絞り機構からの変形された前記照明光をレ
チクルに投射するリレ−レンズ系と、該レチクルの孤立
線パタ−ンを被露光体面に結像する投影レンズとを備え
る露光装置において、前記フライアイレンズと前記光源
との間に配置されるとともに前記絞り機構によって変形
された前記照明光毎に前記フライアイレンズに入光され
る前記照明光の光量を調節にする補正フィルタを備える
露光装置である。
らの照明光の光路に設けられたフライアイレンズと、こ
のフライアイレンズからの前記照明光を変形させる絞り
機構と、この絞り機構からの変形された前記照明光をレ
チクルに投射するリレ−レンズ系と、該レチクルの孤立
線パタ−ンを被露光体面に結像する投影レンズとを備え
る露光装置において、前記フライアイレンズと前記光源
との間に配置されるとともに前記絞り機構によって変形
された前記照明光毎に前記フライアイレンズに入光され
る前記照明光の光量を調節にする補正フィルタを備える
露光装置である。
【０００８】また、前記補正フィルタは、前記光源から
の照明光が透過する板部材であってかつ前記フライアイ
レンズのそれぞれの眼に対応するそれぞれの該板部材の
面に複数の光不透過部分が散在すること望ましい。さら
に、前記補正フィルタは、前記光不透過部の密度の異な
る複数の前記板部材を有することが望ましい。
の照明光が透過する板部材であってかつ前記フライアイ
レンズのそれぞれの眼に対応するそれぞれの該板部材の
面に複数の光不透過部分が散在すること望ましい。さら
に、前記補正フィルタは、前記光不透過部の密度の異な
る複数の前記板部材を有することが望ましい。
【０００９】そして、望ましくは、前記複数の該板部材
が前記光不透明部分の該密度が粗から密の順に一方向に
並べることである。また、必要に応じて、複数の前記板
部材を順次に前記照明光の光路中に入れる切り替え機構
を設けることである。さらに、切り換えられた前記板部
材と前記フライアイレンズとのアライメントを取る観察
手段を備えることである。
が前記光不透明部分の該密度が粗から密の順に一方向に
並べることである。また、必要に応じて、複数の前記板
部材を順次に前記照明光の光路中に入れる切り替え機構
を設けることである。さらに、切り換えられた前記板部
材と前記フライアイレンズとのアライメントを取る観察
手段を備えることである。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１１】図１は本発明の一実施の形態における露光
装置の照明光学系を示す図である。この発明は、エキシ
マレ−ザである光源７からの照明光量を調節することと
変形照明法と組合せて照明光を調節することにより解像
力が得られるという知見を得てなされたものである。
装置の照明光学系を示す図である。この発明は、エキシ
マレ−ザである光源７からの照明光量を調節することと
変形照明法と組合せて照明光を調節することにより解像
力が得られるという知見を得てなされたものである。
【００１２】すなわち、照明光を変形させる絞り機構３
の他に、図１に示すように、光源７からの照明光の光量
を調節する補正フィルタ１をフライアイレンズ２上に設
けたことである。その他のリレ−レンズ系６は、従来と
同じである。
の他に、図１に示すように、光源７からの照明光の光量
を調節する補正フィルタ１をフライアイレンズ２上に設
けたことである。その他のリレ−レンズ系６は、従来と
同じである。
【００１３】図２（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は図１の
補正フィルタとフライアイレンズを説明するための図で
ある。ここで、各図を説明すると、まず、図２（ａ）は
フライアイレンズを示す上面図である。図２（ｂ）はフ
ライアイレンズ２の上に図１の補正フィルタ板を重ねた
状態を示す図である。図２（ｃ）はフライアイレンズの
一眼に対応する補正フィルタ板の部分を抽出して示す平
面図である。
補正フィルタとフライアイレンズを説明するための図で
ある。ここで、各図を説明すると、まず、図２（ａ）は
フライアイレンズを示す上面図である。図２（ｂ）はフ
ライアイレンズ２の上に図１の補正フィルタ板を重ねた
状態を示す図である。図２（ｃ）はフライアイレンズの
一眼に対応する補正フィルタ板の部分を抽出して示す平
面図である。
【００１４】補正フィルタ１は、例えば、三つの補正フ
ィルタ板９が一方向移動可能な後述するステ−ジ１０に
載置されている。補正フィルタ板９のフライアイレンズ
の一眼に対応する部分は、図２（ｂ）に示すように、濁
点で示す光不透過部分２ｂが面内に散在する。そして、
一つの補正フィルタ板９の一眼２ａに対応する全ての部
分面内は同様のパタ−ンで光不透過部分２ｂが散在して
いる。
ィルタ板９が一方向移動可能な後述するステ−ジ１０に
載置されている。補正フィルタ板９のフライアイレンズ
の一眼に対応する部分は、図２（ｂ）に示すように、濁
点で示す光不透過部分２ｂが面内に散在する。そして、
一つの補正フィルタ板９の一眼２ａに対応する全ての部
分面内は同様のパタ−ンで光不透過部分２ｂが散在して
いる。
【００１５】これら三つ補正フィルタ板９の光不透過部
分２ｂの密度は、それぞれ異なって製作されている。そ
して、その配置は、ステ−ジ１０の進行方向に対し先頭
は最も密度が低く、順次密度が高くなるように配置され
ている。すなわち、照明光の光量が順次減少するように
光不透過部分２ｂを増加させている。また、これら補正
フィルタ板９は、波長の短いエキシマレ−ザ光でも透過
する合成石英板を使用し、クロム蒸着してからエッチン
グにより光不透過部分２ｂを残し製作した。
分２ｂの密度は、それぞれ異なって製作されている。そ
して、その配置は、ステ−ジ１０の進行方向に対し先頭
は最も密度が低く、順次密度が高くなるように配置され
ている。すなわち、照明光の光量が順次減少するように
光不透過部分２ｂを増加させている。また、これら補正
フィルタ板９は、波長の短いエキシマレ−ザ光でも透過
する合成石英板を使用し、クロム蒸着してからエッチン
グにより光不透過部分２ｂを残し製作した。
【００１６】このようにリレ−レンズ系６を調節し孤立
線幅を決め、しかる後、補正フィルタ１による光量の調
節と絞り機構３の輪帯や四開口による照明変形を行え
ば、レチクルのパタ−ンに散在する複数の孤立線がその
幅一定に被露光体に転写することができる。
線幅を決め、しかる後、補正フィルタ１による光量の調
節と絞り機構３の輪帯や四開口による照明変形を行え
ば、レチクルのパタ−ンに散在する複数の孤立線がその
幅一定に被露光体に転写することができる。
【００１７】なお、この照明の均一なるか否かの判定に
は、図４の被露光体８の代わりに、複数の光検知素子を
縦横に並べ配置された光検知器（例えば、ＣＣＤカメ
ラ）を置き、各光検知素子の光電流をディスプレイに表
示して判定した。
は、図４の被露光体８の代わりに、複数の光検知素子を
縦横に並べ配置された光検知器（例えば、ＣＣＤカメ
ラ）を置き、各光検知素子の光電流をディスプレイに表
示して判定した。
【００１８】図３は図１の補正フィルタを抽出して示す
図である。補正フィルタは、図３に示すように、ステ−
ジ１０の枠内に三枚の補正フィルタ板９が装填されてい
る。このステ−ジ１０は、図示してないパルスモ−タに
より送りねじ１１の回転によって一方向に移動される。
そして、ステ−ジ１０の移動によって各補正フィルタ板
９が光源の光路中に位置決めされる。
図である。補正フィルタは、図３に示すように、ステ−
ジ１０の枠内に三枚の補正フィルタ板９が装填されてい
る。このステ−ジ１０は、図示してないパルスモ−タに
より送りねじ１１の回転によって一方向に移動される。
そして、ステ−ジ１０の移動によって各補正フィルタ板
９が光源の光路中に位置決めされる。
【００１９】この補正フィルタ板９と図１のフライアイ
レンズ２のアライメント操作は、まず、パルスモ−タの
回転により必要と思われる補正フィルタ板９を光源の光
路内へ位置決めする。次に、図１の光源７と補正フィル
タ板９との間に挿入されたミラ−１２を介して補正フィ
ルタ板９の面をＣＣＤカメラ１３により撮像する。
レンズ２のアライメント操作は、まず、パルスモ−タの
回転により必要と思われる補正フィルタ板９を光源の光
路内へ位置決めする。次に、図１の光源７と補正フィル
タ板９との間に挿入されたミラ−１２を介して補正フィ
ルタ板９の面をＣＣＤカメラ１３により撮像する。
【００２０】次に、ＣＣＤカメラ１３で撮像しながら、
図２で説明したように、フライアイレンズ２の一眼に対
応する補正フィルタ板の部分が一致しているか否か観察
する。もし、Ｘ方向にズレがあるＸ方向に対応する圧電
素子１５に一定電圧を印加し板ばね１４を押し補正フィ
ルタ板９を僅かに移動させズレを無くす。また、Ｙ方向
であれば、Ｙ方向の圧電素子１５と板ばね１４を動作さ
せ同様に補正する。
図２で説明したように、フライアイレンズ２の一眼に対
応する補正フィルタ板の部分が一致しているか否か観察
する。もし、Ｘ方向にズレがあるＸ方向に対応する圧電
素子１５に一定電圧を印加し板ばね１４を押し補正フィ
ルタ板９を僅かに移動させズレを無くす。また、Ｙ方向
であれば、Ｙ方向の圧電素子１５と板ばね１４を動作さ
せ同様に補正する。
【００２１】アライメント操作終了したら、ミラ−１２
を後退させ、光源７を点灯しリレ−レンズ系６を設定
し、絞り機構３の種々の輪帯パタ−ンに切り換えてみ
て、上述した光検知器を用いて孤立線像の照明を均一す
る。もし、得られなかったら、異なる補正フィルタ板９
に切り替え、同様に絞り機構３を調節し照明の均一にす
る。
を後退させ、光源７を点灯しリレ−レンズ系６を設定
し、絞り機構３の種々の輪帯パタ−ンに切り換えてみ
て、上述した光検知器を用いて孤立線像の照明を均一す
る。もし、得られなかったら、異なる補正フィルタ板９
に切り替え、同様に絞り機構３を調節し照明の均一にす
る。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、照明変形
させる絞り機構に加えて光源の光量を調節する補正フィ
ルタを設けることによって、リレ−レンズの位置調整を
行って孤立線幅を均一にした際に生じる照明均一性の悪
化を修正できるので、レチクルのパタ−ンに散在する複
数の孤立線幅、密集パタ−ンを一定に転写でき、パタ−
ン露光の歩留まり向上するという効果がある。
させる絞り機構に加えて光源の光量を調節する補正フィ
ルタを設けることによって、リレ−レンズの位置調整を
行って孤立線幅を均一にした際に生じる照明均一性の悪
化を修正できるので、レチクルのパタ−ンに散在する複
数の孤立線幅、密集パタ−ンを一定に転写でき、パタ−
ン露光の歩留まり向上するという効果がある。
【図１】本発明の一実施の形態における露光装置の照明
光学系を示す図である。
光学系を示す図である。
【図２】図１の補正フィルタとフライアイレンズを説明
するための図である。
するための図である。
【図３】図１の補正フィルタを抽出して示す図である。
【図４】従来の一例における露光装置を示す図である。
１ 補正フィルタ ２ フライアイレンズ ３ 絞り機構 ４ レチクル ５ 投影レンズ ６ リレ−レンズ系 ７ 光源 ８ 被露光体 ９ 補正フィルタ板 １０ ステ−ジ １１ 送りねじ １２ ミラ− １３ ＣＣＤカメラ １４ 板ばね １５ 圧電素子
Claims (6)
- 【請求項１】 光源からの照明光の光路に設けられたフ
ライアイレンズと、このフライアイレンズからの前記照
明光を変形させる絞り機構と、この絞り機構からの変形
された前記照明光をレチクルに投射するリレ−レンズ系
と、該レチクルの孤立線パタ−ンを被露光体面に結像す
る投影レンズとを備える露光装置において、前記フライ
アイレンズと前記光源との間に配置されるとともに前記
絞り機構によって変形された前記照明光毎に前記フライ
アイレンズに入光される前記照明光の光量を調節にする
補正フィルタを備えることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記補正フィルタは、前記光源からの照
明光が透過する板部材であってかつ前記フライアイレン
ズのそれぞれの眼に対応するそれぞれの該板部材の面に
複数の光不透過部分が散在することを特徴とする請求項
１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記補正フィルタは、前記光不透過部の
密度の異なる複数の請求項２記載の板部材を有すること
を特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記複数の該板部材が前記光不透明部分
の該密度が粗から密の順に一方向に並べられることを特
徴とする請求項３記載の露光装置。 - 【請求項５】 複数の前記板部材を順次に前記照明光の
光路中に入れる切り替え機構を備えることを特徴とする
請求項４記載の露光装置。 - 【請求項６】 切り換えられた前記板部材と前記フライ
アイレンズとのアライメントを取る観察手段を備えるこ
とを特徴とする請求項５記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000072133A JP2001267205A (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000072133A JP2001267205A (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001267205A true JP2001267205A (ja) | 2001-09-28 |
Family
ID=18590601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000072133A Pending JP2001267205A (ja) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001267205A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG116490A1 (en) * | 2002-04-23 | 2005-11-28 | Asml Us Inc | System and method for improving line width controlin a lithography device using an illumination system having pre-numerical aperture control. |
| WO2018003418A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置 |
-
2000
- 2000-03-15 JP JP2000072133A patent/JP2001267205A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG116490A1 (en) * | 2002-04-23 | 2005-11-28 | Asml Us Inc | System and method for improving line width controlin a lithography device using an illumination system having pre-numerical aperture control. |
| WO2018003418A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置 |
| JP2018004742A (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021105 |