JP2004311742A - 光学系の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】変倍光学系を含む光学系において、変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正する。
【解決手段】第２変倍光学系（６）を所定の変倍状態に固定し且つ第１変倍光学系（４）を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて第２変倍光学系を経た光束を観測する。この観測結果に基づいて、第１変倍光学系による光束の位置変動を補正する。次いで、第１変倍光学系を所定の変倍状態に固定し且つ第２変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて第２変倍光学系を経た光束を観測する。この観測結果に基づいて、第２変倍光学系による光束の位置変動および第１変倍光学系と第２変倍光学系とによる光束の偏心誤差を補正する。
【選択図】 図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学系の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法に関する。さらに詳細には、本発明は、たとえば半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造する際に使用される露光装置に搭載される照明光学系の光学調整に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光束が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ（またはマイクロレンズアレイ）を介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源を形成する。二次光源からの光束は、フライアイレンズの後側焦点面の近傍に配置された開口絞りを介して制限された後、コンデンサーレンズに入射する。
【０００３】
コンデンサーレンズにより集光された光束は、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介してウェハ上に結像する。こうして、ウェハ上には、マスクパターンが投影露光（転写）される。なお、マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。
【０００４】
そこで、フライアイレンズの後側焦点面に円形状の二次光源を形成し、その大きさを変化させて照明のコヒーレンシィσ（σ値＝開口絞り径／投影光学系の瞳径、あるいはσ値＝照明光学系の射出側開口数／投影光学系の入射側開口数）を変化させる技術が注目されている。また、フライアイレンズの後側焦点面に輪帯状や４極状の二次光源を形成し、投影光学系の焦点深度や解像力を向上させる技術が注目されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
こうして、露光装置では、フライアイレンズに入射する光束の形状や大きさなどを適宜変化させて光量損失を抑えつつ様々な円形照明や変形照明（輪帯照明や４極照明）を行うために、照明光学系の光路中には変倍光学系が配置されている。ここで、変倍光学系の製造誤差や組立誤差などに起因して、その変倍に際してフライアイレンズに入射する光束が位置変動したり光軸に対して偏心したりすると、二次光源を所望の位置に形成することができなくなり、ひいてはマスクのパターンをウェハに対して忠実に転写するために必要な適切な照明条件を実現することができなくなる。
【０００６】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、変倍光学系を含む光学系において、変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正することのできる調整方法を提供することを目的とする。また、本発明は、変倍光学系を含む照明光学系において、変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正して、たとえば二次光源を所望の位置に形成することのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、たとえば二次光源を所望の位置に形成することのできる照明光学装置を用いて、適切な照明条件のもとで忠実な転写露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、変倍光学系を含む光学系の調整方法において、
前記変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記変倍光学系を経た光束を観測する観測工程と、
前記観測工程の観測結果に基づいて、前記変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正する補正工程とを含むことを特徴とする調整方法を提供する。
【０００８】
第１形態の好ましい態様によれば、前記補正工程は、第１の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束と前記第１の倍率状態とは異なる第２の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する位置変動補正工程と、該位置変動補正工程の後に前記変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正する偏心誤差補正工程とを含む。この場合、前記第１の倍率状態は最小倍率状態であり、前記第２の倍率状態は最大倍率状態であることが好ましい。
【０００９】
また、第１形態の好ましい態様によれば、前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系よりも前側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含む。また、前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことが好ましい。また、前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系よりも前側に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことが好ましい。また、前記偏心誤差補正工程は、前記変倍光学系よりも後側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことが好ましい。
【００１０】
本発明の第２形態では、第１変倍光学系と該第１変倍光学系よりも後側に配置された第２変倍光学系とを含む光学系の調整方法において、
前記第２変倍光学系を所定の変倍状態に固定し且つ前記第１変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記第２変倍光学系を経た光束を観測する第１観測工程と、
前記第１観測工程の観測結果に基づいて、前記第１変倍光学系による光束の位置変動を補正する第１補正工程と、
前記第１補正工程を経た後に、前記第１変倍光学系を所定の変倍状態に固定し且つ前記第２変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記第２変倍光学系を経た光束を観測する第２観測工程と、
前記第２観測工程の観測結果に基づいて、前記第２変倍光学系による光束の位置変動および前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系とによる光束の偏心誤差を補正する第２補正工程とを含むことを特徴とする調整方法を提供する。
【００１１】
第２形態の好ましい態様によれば、前記第１観測工程は、前記第２変倍光学系を最大倍率状態に固定し且つ前記第１変倍光学系を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる工程を含む。この場合、前記第１補正工程は、前記最小倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束と前記最大倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する第１位置変動補正工程を含むことが好ましい。また、この場合、前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことが好ましい。
【００１２】
また、第２形態の好ましい態様によれば、前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含む。また、前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことが好ましい。
【００１３】
また、第２形態の好ましい態様によれば、前記第２観測工程は、前記第１変倍光学系を最小倍率状態に固定し且つ前記第２変倍光学系を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる工程を含む。この場合、前記第２補正工程は、前記最小倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束と前記最大倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する第２位置変動補正工程と、該第２位置変動補正工程の後に前記第１変倍光学系および前記第２変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正する偏心誤差補正工程とを含むことが好ましい。また、この場合、前記第２位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことが好ましい。
【００１４】
また、第２形態の好ましい態様によれば、前記第２位置変動補正工程は、前記第２変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含む。また、前記第２位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことが好ましい。また、前記偏心誤差補正工程は、前記第２変倍光学系よりも後側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことが好ましい。
【００１５】
本発明の第３形態では、変倍光学系を含み、光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記変倍光学系を経た光束を観測するための観測手段と、
前記観測手段の観測結果に基づいて前記変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正するための補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１６】
第３形態の好ましい態様によれば、前記補正手段は、第１の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束と第２の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束との位置変動を補正するための位置変動補正手段と、前記変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正するための偏心誤差補正手段とを有する。この場合、前記位置変動補正手段は、前記変倍光学系よりも前側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することが好ましい。
【００１７】
また、第３形態の好ましい態様によれば、前記位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記変倍光学系中の固定レンズを有する。また、前記位置変動補正手段は、前記変倍光学系よりも前側に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することが好ましい。また、前記偏心誤差補正手段は、前記変倍光学系よりも後側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することが好ましい。
【００１８】
本発明の第４形態では、第１変倍光学系と該第１変倍光学系よりも後側に配置された第２変倍光学系とを含み、光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記第２変倍光学系を経た光束を観測するための観測手段と、
前記観測手段の観測結果に基づいて前記第１変倍光学系による光束の位置変動を補正するための第１位置変動補正手段と、
前記観測手段の観測結果に基づいて前記第２変倍光学系による光束の位置変動を補正するための第２位置変動補正手段と、
前記観測手段の観測結果に基づいて前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系とによる光束の偏心誤差を補正するための偏心誤差補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１９】
第４形態の好ましい態様によれば、前記第１位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有する。また、前記第１位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記第１変倍光学系中の固定レンズを有することが好ましい。また、前記第１位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することが好ましい。
【００２０】
また、第４形態の好ましい態様によれば、前記第２位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有する。また、前記第２位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記第２変倍光学系中の固定レンズを有することが好ましい。また、前記第２位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することが好ましい。また、前記偏心誤差補正手段は、前記第２変倍光学系よりも後側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することが好ましい。
【００２１】
本発明の第５形態では、マスクを照明するための第３形態または第４形態の照明光学装置を備え、前記被照射面に配置された前記マスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００２２】
本発明の第６形態では、第３形態または第４形態の照明光学装置を介して前記被照射面に配置されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。
【００２３】
本発明の第７形態では、マスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、第１形態または第２形態の調整方法を用いて前記マスクを照明する前記光学系を調整する調整工程を含むことを特徴とする露光方法を提供する。
【００２４】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。本実施形態の露光装置は、露光光（照明光）を供給するためのレーザ光源１を備えている。レーザ光源１として、たとえば２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源や１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源などを用いることができる。
【００２５】
レーザ光源１から射出されたほぼ平行な光束は、一対のレンズ２ａおよび２ｂからなるビームエキスパンダ２に入射する。各レンズ２ａおよび２ｂは、図１の紙面内において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。したがって、ビームエキスパンダ２に入射した光束は、図１の紙面内において拡大され、所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。整形光学系としてのビームエキスパンダ２を介したほぼ平行な光束は、回折光学素子３を介して、第１変倍光学系（アフォーカルズームレンズ）４に入射する。
【００２６】
一般に、回折光学素子は、基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、回折光学素子３は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、そのファーフィールド（またはフラウンホーファー回折領域）に円形状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、回折光学素子３を介した光束は、第１変倍光学系４の瞳位置に円形状の光強度分布、すなわち円形状の断面を有する光束を形成する。
【００２７】
回折光学素子３は、照明光路から退避可能に構成されている。第１変倍光学系４は、アフォーカル系（無焦点光学系）を維持しながら所定の範囲で倍率を連続的に変化させることができるように構成されている。第１変倍光学系４を介した光束は、輪帯照明用の回折光学素子５に入射する。第１変倍光学系４は、回折光学素子３の発散原点と回折光学素子５の回折面とを光学的にほぼ共役に配置している。そして、回折光学素子５の回折面またはその近傍の面の一点に集光する光束の開口数は、第１変倍光学系４の倍率に依存して変化する。
【００２８】
輪帯照明用の回折光学素子５は、平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する機能を有する。回折光学素子５は、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ４極照明用の回折光学素子や円形照明用の回折光学素子などと切り換え可能に構成されている。４極照明用の回折光学素子、円形照明用の回折光学素子などの構成および作用については後述する。
【００２９】
回折光学素子５を介した光束は、第２変倍光学系（ズームレンズ）６に入射する。第２変倍光学系６の後側焦点面の近傍には、マイクロレンズアレイ（またはフライアイレンズ）７の入射面が位置決めされている。マイクロレンズアレイ７は、縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子である。一般に、マイクロレンズアレイは、たとえば平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成される。
【００３０】
ここで、マイクロレンズアレイを構成する各微小レンズは、フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また、マイクロレンズアレイは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ（微小屈折面）が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、正屈折力を有するレンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロレンズアレイはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。
【００３１】
上述したように、回折光学素子３を介して第１変倍光学系４の瞳位置に形成される円形状の光強度分布からの光束は、第１変倍光学系４から射出された後、様々な角度成分を有する光束となって回折光学素子５に入射する。一方、回折光学素子５は、平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドにリング状の光強度分布を形成する光束変換素子としての機能を有する。したがって、回折光学素子５を介した光束は、第２変倍光学系６の後側焦点面に（ひいてはマイクロレンズアレイ７の入射面に）、たとえば光軸ＡＸを中心とした輪帯状の照野を形成する。
【００３２】
マイクロレンズアレイ７の入射面に形成される輪帯状の照野の外径は、第２変倍光学系６の焦点距離に依存して変化する。このように、第２変倍光学系６は、回折光学素子５とマイクロレンズアレイ７の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置している。マイクロレンズアレイ７に入射した光束は二次元的に分割され、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面には、入射光束によって形成される照野と同じ輪帯状の多数光源（以下、「二次光源」という）が形成される。
【００３３】
マイクロレンズアレイ７の後側焦点面に形成された輪帯状の二次光源からの光束は、コンデンサー光学系８の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウェハＷ上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内においてウェハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハＷの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。
【００３４】
本実施形態では、第１変倍光学系４の倍率が変化すると、輪帯状の二次光源の中心高さ（円形状の中心線の光軸ＡＸからの距離）が変化することなく、その幅（外径（直径）と内径（直径）との差の１／２）だけが変化する。すなわち、第１変倍光学系４の倍率を変化させることにより、輪帯状の二次光源の大きさ（外径）およびその形状（輪帯比：内径／外径）をともに変更することができる。
【００３５】
また、第２変倍光学系６の焦点距離が変化すると、輪帯状の二次光源の輪帯比が変化することなく、中心高さおよびその幅がともに変化する。すなわち、第２変倍光学系６の焦点距離（倍率）を変化させることにより、輪帯状の二次光源の輪帯比を変更することなくその外径を変更することができる。以上より、本実施形態では、第１変倍光学系４の倍率と第２変倍光学系６の焦点距離とを適宜変化させることにより、輪帯状の二次光源の外径を変化させることなくその輪帯比だけを変更することができる。
【００３６】
なお、輪帯照明用の回折光学素子５に代えて４極照明用の回折光学素子を照明光路中に設定することによって４極照明を行うことができる。４極照明用の回折光学素子は、平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドに４点状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、４極照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロレンズアレイ７の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とした４つの円形状の照野からなる４極状の照野を形成する。その結果、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面にも、その入射面に形成された照野と同じ４極状の二次光源が形成される。
【００３７】
４極照明においても輪帯照明の場合と同様に、第１変倍光学系４の倍率を変化させることにより、４極状の二次光源の外径（４つの円形状の面光源に外接する円の直径）および輪帯比（４つの円形状の面光源に内接する円の直径／４つの円形状の面光源に外接する円の直径）をともに変更することができる。また、第２変倍光学系６の焦点距離を変化させることにより、４極状の二次光源の輪帯比を変更することなくその外径を変更することができる。その結果、第１変倍光学系４の倍率と第２変倍光学系６の焦点距離とを適宜変化させることにより、４極状の二次光源の外径を変化させることなくその輪帯比だけを変更することができる。
【００３８】
また、回折光学素子３を照明光路から退避させるとともに、輪帯照明用の回折光学素子に代えて円形照明用の回折光学素子を照明光路中に設定することによって、通常の円形照明を行うことができる。この場合、第１変倍光学系４には光軸ＡＸに沿って矩形状の断面を有する光束が入射する。第１変倍光学系４に入射した光束は、その倍率に応じて拡大または縮小され、矩形状の断面を有する光束のまま光軸ＡＸに沿って第１変倍光学系４から射出され、円形照明用の回折光学素子に入射する。
【００３９】
ここで、円形照明用の回折光学素子は、回折光学素子３と同様に、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに円形状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、円形照明用の回折光学素子により形成された円形光束は、第２変倍光学系６を介して、マイクロレンズアレイ７の入射面において光軸ＡＸを中心とした円形状の照野を形成する。その結果、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面にも、光軸ＡＸを中心とした円形状の二次光源が形成される。この場合、第１変倍光学系４の倍率や第２変倍光学系６の焦点距離を変化させることにより、円形状の二次光源の外径を適宜変更することができる。
【００４０】
図２は、本実施形態の照明光学装置におけるビームエキスパンダとコンデンサー光学系との間の構成をさらに具体的に示す図である。また、図３は、本実施形態の照明光学装置における光学系の調整手順を概略的に示すフローチャートである。図２を参照すると、ビームエキスパンダ２（図２では不図示）を介したレーザ光源１（図２では不図示）からの光は、第１平面反射鏡Ｍ１で偏向された後、回折光学素子３および第１変倍光学系４を介して、第２平面反射鏡Ｍ２に入射する。
【００４１】
第２平面反射鏡Ｍ２で偏向された光は、回折光学素子５および第２変倍光学系６を介して、第３平面反射鏡Ｍ３に入射する。第３平面反射鏡Ｍ３で偏向された光は、マイクロレンズアレイ７およびコンデンサー光学系８を介して、マスクＭ（図２では不図示）へ導かれる。図２において、光軸ＡＸに沿って第１平面反射鏡Ｍ１に入射した細い光束は、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６の変倍状態に関わらず、マイクロレンズアレイ７の入射面において常に光軸ＡＸの位置に達するように設計されている。
【００４２】
しかしながら、実際には、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６の製造誤差や組立誤差などにより、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６の変倍に際してマイクロレンズアレイ７の入射面に達する光の位置が変動したり光軸ＡＸに対して偏心したりする。この場合、前述したように、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面において二次光源を所望の位置に形成することができなくなり、ひいてはマスクＭのパターンをウェハＷに対して忠実に転写するために必要な適切な照明条件を実現することができなくなる。
【００４３】
そこで、本実施形態では、入射光のうち僅かな光だけを透過させる特性を有するビームスプリッターとしての第３平面反射鏡Ｍ３の透過側に、ＣＣＤまたはラインセンサを有する観測ユニット１１を配置している。こうして、第３平面反射鏡Ｍ３を透過した光は、観測ユニット１１に入射する。ここで、観測ユニット１１の光検出面は、マイクロレンズアレイ７の入射面と光学的にほぼ共役に位置決めされている。観測ユニット１１の出力は、制御系１２へ供給される。
【００４４】
本実施形態では、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６を経た光束を観測ユニット１１で観測し、その観測手段の観測結果に基づく光学系の調整により、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６による光束の位置変動および偏心誤差を補正する。以下、図２および図３を参照して、本実施形態における照明光学系（２〜８）の調整方法の手順を説明する。
【００４５】
本実施形態の調整方法では、制御系１２からの指令により動作する駆動系１４の作用により、第２変倍光学系６を最大倍率状態に設定する（Ｓ１）。そして、第２変倍光学系６を最大倍率状態に固定したまま、制御系１２からの指令により動作する駆動系１３の作用により、第１変倍光学系４を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる。このとき、観測ユニット１１および制御系１２を用いて、最小倍率状態の第１変倍光学系４および最大倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束と、最大倍率状態の第１変倍光学系４および最大倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束との観測ユニット１１の光検出面における位置変動を測定する（Ｓ２）。
【００４６】
次いで、制御系１２からの指令により動作する駆動系１５の作用により、第１平面反射鏡Ｍ１を光軸ＡＸに対して所定方向に所定角度だけ傾斜させて、第１変倍光学系４の変倍に際して光検出面において発生する光束の位置変動、すなわちマイクロレンズアレイ７の入射面において発生する光束の位置変動を補正する（Ｓ３）。次いで、駆動系１３の作用により、第１変倍光学系４を最小倍率状態に設定する（Ｓ４）。そして、第１変倍光学系４を最小倍率状態に固定したまま、駆動系１４の作用により第２変倍光学系６を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる。
【００４７】
このとき、観測ユニット１１および制御系１２を用いて、最小倍率状態の第１変倍光学系４および最小倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束と、最小倍率状態の第１変倍光学系４および最大倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束との光検出面における位置変動を測定する（Ｓ５）。次いで、制御系１２からの指令により動作する駆動系１６の作用により、第２平面反射鏡Ｍ２を光軸ＡＸに対して所定方向に所定角度だけ傾斜させて、第２変倍光学系６の変倍に際して光検出面（マイクロレンズアレイ７の入射面）において発生する光束の位置変動を補正する（Ｓ６）。
【００４８】
次いで、観測ユニット１１および制御系１２を用いて、第２変倍光学系６の変倍に際して発生する光束の位置変動を補正した後における光軸ＡＸからの光束の偏心誤差を測定する（Ｓ７）。最後に、制御系１２からの指令により動作する駆動系１７の作用により、第３平面反射鏡Ｍ３を光軸ＡＸに対して所定方向に所定角度だけ傾斜させて、第１変倍光学系４と第２変倍光学系６とにより光検出面（マイクロレンズアレイ７の入射面）において発生する光束の偏心誤差を補正する（Ｓ８）。すなわち、第２変倍光学系６よりもマスク側（後側）に配置された第３平面反射鏡Ｍ３は、第１変倍光学系４と第２変倍光学系６とによる光束の偏心誤差を補正するための偏心誤差補正手段を構成している。
【００４９】
以上のように、本実施形態では、上述のＳ１〜Ｓ８の調整工程を行うことにより、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６の製造誤差や組立誤差などに起因する、第１変倍光学系４および第２変倍光学系６による光束の位置変動および偏心誤差を補正することができる。その結果、マイクロレンズアレイ７の後側焦点面において二次光源を常に所望の位置に形成することができ、ひいてはマスクＭのパターンをウェハＷに対して忠実に転写するために必要な適切な照明条件を実現すること、すなわち適切な照明条件のもとで忠実な転写露光を行うことができる。
【００５０】
なお、上述の実施形態では、第２変倍光学系６を最大倍率状態に固定して、第１変倍光学系４による光束の位置変動を測定している。しかしながら、これに限定されることなく、最小倍率状態を含む任意の変倍状態に第２変倍光学系６を固定して、第１変倍光学系４による光束の位置変動を測定することもできる。ただし、第２変倍光学系６を最大倍率状態に固定した方が、第１変倍光学系４による光束の位置変動が最も大きく発生するので、位置変動の補正が容易になる。
【００５１】
また、上述の実施形態では、第２変倍光学系６を最大倍率状態に固定して、最小倍率状態の第１変倍光学系４を経た光束と最大倍率状態の第１変倍光学系４を経た光束との位置変動を測定している。しかしながら、これに限定されることなく、第１変倍光学系４を互いに異なる変倍状態の間で変化させて、第１変倍光学系４による光束の位置変動を測定することもできる。ただし、第１変倍光学系４を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる方が、第１変倍光学系４による光束の位置変動が最も大きく発生するので、位置変動の補正が容易になる。
【００５２】
また、上述の実施形態では、第１変倍光学系４を最小倍率状態に固定して、第２変倍光学系６による光束の位置変動を測定している。しかしながら、これに限定されることなく、最大倍率状態を含む任意の変倍状態に第１変倍光学系４を固定して、第２変倍光学系６による光束の位置変動を測定することもできる。ただし、第１変倍光学系４を最小倍率状態に固定した方が、第１変倍光学系４を経て第２変倍光学系６に入射する光束の光軸ＡＸに対する角度が最も小さくなるので、位置変動の測定および補正が容易になる。
【００５３】
また、上述の実施形態では、第１変倍光学系４を最小倍率状態に固定して、最小倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束と最大倍率状態の第２変倍光学系６を経た光束との位置変動を測定している。しかしながら、これに限定されることなく、第２変倍光学系６を互いに異なる変倍状態の間で変化させて、第２変倍光学系６による光束の位置変動を測定することもできる。ただし、第２変倍光学系６を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる方が、第２変倍光学系６による光束の位置変動が最も大きく発生するので、位置変動の補正が容易になる。
【００５４】
また、上述の実施形態では、第１変倍光学系４による光束の位置変動の補正に際して、第１変倍光学系４よりも光源側（前側）に配置された第１平面反射鏡Ｍ１を光軸ＡＸに対して傾斜させている。しかしながら、これに限定されることなく、第１変倍光学系４による光束の位置変動を補正するための第１位置変動補正手段として、第１変倍光学系４中の固定レンズ（変倍に際して光軸ＡＸに沿って移動しないレンズ）、または第１変倍光学系４よりも光源側に配置された適当なレンズを光軸ＡＸと交差する方向に沿って移動させてもよい。
【００５５】
また、上述の実施形態では、第２変倍光学系６による光束の位置変動の補正に際して、第１変倍光学系４と第２変倍光学系６との光路中に配置された第２平面反射鏡Ｍ２を光軸ＡＸに対して傾斜させている。しかしながら、これに限定されることなく、第２変倍光学系６による光束の位置変動を補正するための第２位置変動補正手段として、第２変倍光学系６中の固定レンズ、または第１変倍光学系４と第２変倍光学系６との光路中に配置された適当なレンズを光軸ＡＸと交差する方向に沿って移動させてもよい。
【００５６】
また、上述の実施形態では、第２変倍光学系６を経た光束を観測するための観測手段としての観測ユニット１１を、第３平面反射鏡Ｍ３の透過側に常設している。しかしながら、観測ユニット１１を露光装置に搭載することなく、本実施形態にかかる調整方法の実施に際して、マイクロレンズアレイ７の位置に観測ユニット１１を一時的に設置することもできる。このとき、観測ユニット１１の光検出面は、マイクロレンズアレイ７の入射面とほぼ一致するように位置決めされる。
【００５７】
また、上述の実施形態では、２つの変倍光学系（４，６）を含む光学系に対して本発明を適用しているが、１つまたは３つ以上の変倍光学系を含む光学系に対しても同様に本発明を適用することができる。たとえば、図２において、第２変倍光学系６が唯一の変倍光学系である場合、第２変倍光学系６を互いに異なる２つの変倍状態の間（好ましくは最小倍率状態と最大倍率状態との間）で変化させて、第２変倍光学系６による光束の位置変動を測定する。
【００５８】
次いで、第２変倍光学系６よりも光源側に配置された第２平面反射鏡Ｍ２または第１平面反射鏡Ｍ１を光軸ＡＸに対して傾斜させて、あるいは第２変倍光学系６中の固定レンズまたは第２変倍光学系６よりも光源側に配置された適当なレンズを光軸ＡＸと交差する方向に沿って移動させて、第２変倍光学系６による光束の位置変動を補正する。次いで、第２変倍光学系６の変倍に際して発生する光束の位置変動を補正した後における光軸ＡＸからの光束の偏心誤差を測定し、第２変倍光学系６よりもマスク側に配置された第３平面反射鏡Ｍ３を光軸ＡＸに対して傾斜させて、第２変倍光学系６による光束の偏心誤差を補正する。
【００５９】
ところで、本実施形態の調整方法は、照明光学系の製造（ひいては露光装置の製造）に際して実施することもできるし、必要に応じて製造済みの露光装置における照明光学系の光学調整に際して実施することもできる。すなわち、後者の場合、マスクＭに形成されたパターンのウェハＷ上への露光工程中に、あるいは露光工程に先立って、本実施形態の調整方法を用いて照明光学系を調整することができる。
【００６０】
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図４のフローチャートを参照して説明する。
【００６１】
先ず、図４のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、そのｌロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
【００６２】
また、上述の実施形態の露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図５のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図５において、パターン形成工程４０１では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【００６３】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００６４】
その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【００６５】
なお、上述の実施形態では、コンデンサー光学系８によって二次光源からの光を集光して重畳的にマスクＭを照明している。しかしながら、これに限定されることなく、コンデンサー光学系８とマスクＭとの間の光路中に、照明視野絞り（マスクブラインド）と、この照明視野絞りの像をマスクＭ上に形成するリレー光学系とを配置しても良い。この場合、コンデンサー光学系８は、二次光源からの光を集光して重畳的に照明視野絞りを照明することになり、リレー光学系は照明視野絞りの開口部（光透過部）の像をマスクＭ上に形成することになる。
【００６６】
また、上述の実施形態では、露光光としてＫｒＦエキシマレーザ光（波長：２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ光（波長：１９３ｎｍ）を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長１５７ｎｍのレーザ光を供給するＦ_２レーザ光源や、レーザ光源以外の光源、例えばｉ線やｇ線、ｈ線等の紫外光を供給するランプ光源に対して本発明を適用することもできる。
【００６７】
また、上述の実施形態では、マスクを照明するための照明光学系の調整方法を説明したが、変倍光学系を含む一般の光学系の調整方法に対して本発明を適用することができる。また、上述の実施形態では、照明光学装置を備えた露光装置を例にとって本発明を説明したが、マスク以外の被照射面を照明するための一般的な照明光学装置に対して本発明を適用することができることは明らかである。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、変倍光学系の製造誤差や組立誤差などに起因する、変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正することにより、二次光源を常に所望の位置に形成することができ、ひいてはマスクのパターンをウェハＷに対して忠実に転写するために必要な適切な照明条件を実現することができる。したがって、本発明では、適切な照明条件のもとで忠実な転写露光を行うことにより、良好なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】本実施形態の照明光学装置におけるビームエキスパンダとコンデンサー光学系との間の構成をさらに具体的に示す図である。
【図３】本実施形態の照明光学装置における光学系の調整手順を概略的に示すフローチャートである。
【図４】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートである。
【図５】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである。
【符号の説明】
１ レーザ光源
３，５ 回折光学素子
４ 第１変倍光学系（アフォーカルズームレンズ）
６ 第２変倍光学系（ズームレンズ）
７ マイクロレンズアレイ（フライアイレンズ）
８ コンデンサー光学系
１１ 観測ユニット
１２ 制御系
１３〜１７ 駆動系
Ｍ マスク
ＰＬ 投影光学系
Ｗ ウェハ

Claims (36)

1. 変倍光学系を含む光学系の調整方法において、
   前記変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記変倍光学系を経た光束を観測する観測工程と、
   前記観測工程の観測結果に基づいて、前記変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正する補正工程とを含むことを特徴とする調整方法。
2. 前記補正工程は、第１の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束と前記第１の倍率状態とは異なる第２の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する位置変動補正工程と、該位置変動補正工程の後に前記変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正する偏心誤差補正工程とを含むことを特徴とする請求項１に記載の調整方法。
3. 前記第１の倍率状態は最小倍率状態であり、前記第２の倍率状態は最大倍率状態であることを特徴とする請求項２に記載の調整方法。
4. 前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系よりも前側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の調整方法。
5. 前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の調整方法。
6. 前記位置変動補正工程は、前記変倍光学系よりも前側に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の調整方法。
7. 前記偏心誤差補正工程は、前記変倍光学系よりも後側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の調整方法。
8. 第１変倍光学系と該第１変倍光学系よりも後側に配置された第２変倍光学系とを含む光学系の調整方法において、
   前記第２変倍光学系を所定の変倍状態に固定し且つ前記第１変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記第２変倍光学系を経た光束を観測する第１観測工程と、
   前記第１観測工程の観測結果に基づいて、前記第１変倍光学系による光束の位置変動を補正する第１補正工程と、
   前記第１補正工程を経た後に、前記第１変倍光学系を所定の変倍状態に固定し且つ前記第２変倍光学系を互いに異なる２つの変倍状態の間で変化させて前記第２変倍光学系を経た光束を観測する第２観測工程と、
   前記第２観測工程の観測結果に基づいて、前記第２変倍光学系による光束の位置変動および前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系とによる光束の偏心誤差を補正する第２補正工程とを含むことを特徴とする調整方法。
9. 前記第１観測工程は、前記第２変倍光学系を最大倍率状態に固定し且つ前記第１変倍光学系を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の調整方法。
10. 前記第１補正工程は、前記最小倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束と前記最大倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する第１位置変動補正工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の調整方法。
11. 前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の調整方法。
12. 前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項１０または１１に記載の調整方法。
13. 前記第１位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の調整方法。
14. 前記第２観測工程は、前記第１変倍光学系を最小倍率状態に固定し且つ前記第２変倍光学系を最小倍率状態と最大倍率状態との間で変化させる工程を含むことを特徴とする請求項７乃至１３のいずれか１項に記載の調整方法。
15. 前記第２補正工程は、前記最小倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束と前記最大倍率状態において前記第２変倍光学系を経た光束との位置変動を補正する第２位置変動補正工程と、該第２位置変動補正工程の後に前記第１変倍光学系および前記第２変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正する偏心誤差補正工程とを含むことを特徴とする請求項１４に記載の調整方法。
16. 前記第２位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項１５に記載の調整方法。
17. 前記第２位置変動補正工程は、前記第２変倍光学系中の固定レンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項１５または１６に記載の調整方法。
18. 前記第２位置変動補正工程は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されたレンズを光軸と交差する方向に沿って移動させる工程を含むことを特徴とする請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の調整方法。
19. 前記偏心誤差補正工程は、前記第２変倍光学系よりも後側に配置された平面反射鏡を光軸に対して傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項１５乃至１８のいずれか１項に記載の調整方法。
20. 変倍光学系を含み、光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
    前記変倍光学系を経た光束を観測するための観測手段と、
    前記観測手段の観測結果に基づいて前記変倍光学系による光束の位置変動および偏心誤差を補正するための補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
21. 前記補正手段は、第１の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束と第２の倍率状態において前記変倍光学系を経た光束との位置変動を補正するための位置変動補正手段と、前記変倍光学系を経た光束の偏心誤差を補正するための偏心誤差補正手段とを有することを特徴とする請求項２０に記載の照明光学装置。
22. 前記位置変動補正手段は、前記変倍光学系よりも前側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することを特徴とする請求項２１に記載の照明光学装置。
23. 前記位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記変倍光学系中の固定レンズを有することを特徴とする請求項２１または２２に記載の照明光学装置。
24. 前記位置変動補正手段は、前記変倍光学系よりも前側に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することを特徴とする請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
25. 前記偏心誤差補正手段は、前記変倍光学系よりも後側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することを特徴とする請求項２１乃至２４のいずれか１項に記載の照明光学装置。
26. 第１変倍光学系と該第１変倍光学系よりも後側に配置された第２変倍光学系とを含み、光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
    前記第２変倍光学系を経た光束を観測するための観測手段と、
    前記観測手段の観測結果に基づいて前記第１変倍光学系による光束の位置変動を補正するための第１位置変動補正手段と、
    前記観測手段の観測結果に基づいて前記第２変倍光学系による光束の位置変動を補正するための第２位置変動補正手段と、
    前記観測手段の観測結果に基づいて前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系とによる光束の偏心誤差を補正するための偏心誤差補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
27. 前記第１位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することを特徴とする請求項２６に記載の照明光学装置。
28. 前記第１位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記第１変倍光学系中の固定レンズを有することを特徴とする請求項２６または２７に記載の照明光学装置。
29. 前記第１位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系よりも前側に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することを特徴とする請求項２６乃至２８のいずれか１項に記載の照明光学装置。
30. 前記第２位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することを特徴とする請求項２６乃至２９のいずれか１項に記載の照明光学装置。
31. 前記第２位置変動補正手段は、光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成された前記第２変倍光学系中の固定レンズを有することを特徴とする請求項２６乃至３０のいずれか１項に記載の照明光学装置。
32. 前記第２位置変動補正手段は、前記第１変倍光学系と前記第２変倍光学系との間に配置されて光軸と交差する方向に沿って移動可能に構成されたレンズを有することを特徴とする請求項２６乃至３１のいずれか１項に記載の照明光学装置。
33. 前記偏心誤差補正手段は、前記第２変倍光学系よりも後側に配置されて光軸に対して傾斜可能に構成された平面反射鏡を有することを特徴とする請求項２６乃至３２のいずれか１項に記載の照明光学装置。
34. マスクを照明するための請求項２０乃至３３のいずれか１項に記載の照明光学装置を備え、前記被照射面に配置された前記マスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
35. 請求項２０乃至３３のいずれか１項に記載の照明光学装置を介して前記被照射面に配置されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。
36. マスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
    請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の調整方法を用いて前記マスクを照明する前記光学系を調整する調整工程を含むことを特徴とする露光方法。

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