JP2005276325A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】その表面と磁気ヘッドとの接触に起因する両者の摩耗を低減し、かつ固着に起因する両者の破損の発生率を低減し得る情報記録媒体を提供する。
【解決手段】基材１１の少なくとも一面側に所定の凹凸パターンに形成された磁性層１４の各凹部２２に非磁性材料が埋め込まれると共に、磁性層１４の各凸部２１における各上面２１ａの少なくとも一部の領域に非磁性材料によって非磁性層１５が形成され、非磁性層１５は、その一部が他の部分よりも凸部２１の突出方向と同じ方向に突出するように形成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、基材の少なくとも一面側に磁性層が形成された情報記録媒体に関するものである。

従来より、ハードディスク等の磁気記録媒体（情報記録媒体）に対する面記録密度の高密度化は、線記録密度の高密度化、およびトラック密度の高密度化の双方によって達成されてきた。今後においても、面記録密度の一層の高密度化を図るためには、これらの双方をさらに高密度化させることが必須の要件となっている。この場合、線記録密度の高密度化のための手法としては、磁気ヘッドの記録分解能の向上や、磁気記録媒体の高保磁力化および低ノイズ化などがあり、さらに磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の低スペーシング化が図られている。

一方、トラック密度の高密度化においては、ヘッドの小形化の限界や、ヘッド磁界の拡がりに起因するサイドフリンジおよびクロストークの発生等の諸問題が顕在化しており、従来の手法では、トラック密度の高密度化ひいては面記録密度の高密度化が限界となっている。このような状況下において、面記録密度の一層の高密度化を実現可能な磁気記録媒体として、所定の凹凸パターンに形成した記録層を有するディスクリートトラックタイプの磁気記録媒体が提案されている。この場合、この種のディスクリートトラックタイプの磁気記録媒体では、凹凸パターンにおける凹部の影響によって磁気ヘッドの浮上特性が損なわれるという問題点の存在が知られている。この問題点を解決可能な手段として、特開平９−９７４１９号公報に開示された磁気ディスクが知られている。この磁気ディスクは、凹凸パターンにおける凹部（ガードバンドスペース）に非磁性材料を充填して形成したガードバンド部材を備えて構成されている。この場合、この磁気ディスクでは、磁気ディスクの表面を研磨することにより、記録磁性部材とガードバンド部材とが段差のない状態、つまり磁気ディスクの表面が平滑化された状態に形成されている。
特開平９−９７４１９号公報（第７頁、第６図）

ところが、従来の磁気ディスクには、以下の問題点がある。すなわち、従来の磁気ディスクでは、その表面が平滑化されている。一方、この種の磁気ディスクを備えた磁気記録装置では、データ記録再生用の磁気ヘッドを磁気ディスクの表面から所定の距離だけ浮上させることによって磁気ヘッドと磁気ディスクとの互いの接触が回避されている。しかしながら、特に、シーク時に磁気ヘッドが半径方向に移動させられたときには、磁気ディスクの表面と磁気ヘッドとの間の気流の変動によって両者が互いに接触することがある。この場合、従来の磁気ディスクの表面が平滑化されているため、この磁気ディスクを備えた磁気記録装置では、磁気ディスクと磁気ヘッドとが面的に接触する結果、磁気ヘッドおよび磁気ディスクの表面が摩耗し易いという問題点がある。また、高度に平滑化された磁気ディスクの表面に磁気ヘッドが接近したときには、磁気ヘッドのヘッド面も平滑化されているため、両者が固着して磁気ヘッドおよび磁気ディスクの表面が破損するおそれがあるという問題点も存在する。この場合、凹凸パターンが形成されていない連続膜タイプの磁気ディスクと同様にして、基材の表面を所定の粗さに形成した後に記録層（磁性層）等を積層することにより、磁性層の表面にテクスチャ（微小凹凸）を形成する方法も考えられる。しかしながら、ディスクリートトラックタイプの磁気ディスクを製造する際には、上記のように磁性層の凹部に非磁性材料を充填して研磨するため、テクスチャも平滑化されることとなる。したがって、この方法を採用したとしても依然として上記のような問題が生じる。

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その表面と磁気ヘッドとの接触に起因する両者の摩耗を低減し、かつ固着に起因する両者の破損の発生率を低減し得る情報記録媒体を提供することを主目的とする。

上記目的を達成すべく本発明に係る情報記録媒体は、基材の少なくとも一面側に所定の凹凸パターンに形成された磁性層の各凹部に非磁性材料が埋め込まれると共に、前記磁性層の各凸部における各上面の少なくとも一部の領域に前記非磁性材料によって非磁性層が形成され、前記非磁性層は、その一部が当該一部を除く他の部分よりも前記凸部の突出方向と同じ方向に突出するように形成されている。

この場合、前記各凸部の前記各上面における全域に前記非磁性層を形成することができる。

また、前記各凸部の前記各上面における縁部を除く領域に前記非磁性層を形成することもできる。

また、前記凸部の中央部に向かうに従って前記突出方向と同じ方向に徐々に突出するように前記非磁性層を形成することもできる。

また、本発明に係る情報記録媒体は、基材の少なくとも一面側に所定の凹凸パターンに形成された磁性層の各凹部に非磁性材料が埋め込まれ、前記磁性層の各凸部における各上面の一部が当該一部を除く他の部分よりも当該凸部の突出方向と同じ方向に突出するように形成されている。

この場合、前記各上面が前記非磁性材料の表面から突出するように前記各凸部を形成することができる。

また、前記各上面の中央部に向かうに従って前記突出方向と同じ方向に徐々に突出するように前記各凸部を形成することもできる。

また、前記基材の前記少なくとも一面側の最上部に保護層を形成することもできる。

本発明に係る情報記録媒体によれば、その一部を他の部分よりも突出するようにして非磁性層を形成したことにより、例えば、シーク時に情報記録媒体の表面と磁気ヘッドとの間の気流が変動したとしても、磁気ヘッドと情報記録媒体の表面とを線的または点的な接触に止めることができるため、表面が平滑化された従来の情報記録媒体と比較して、接触時における両者の接触面積を十分に小さくできる結果、接触に起因する磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の摩耗を十分に低減することができる。また、その一部が突出した非磁性層によって適度な凹凸が形成されるため、情報記録媒体の表面と磁気ヘッドとの固着に起因する磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の破損の発生率を十分に低減することができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、各凸部における各上面全域に非磁性層を形成したことにより、磁気ヘッドと磁性層との直接の接触を回避することができるため、磁気ヘッドの摩耗だけでなく磁性層の摩耗も確実に防止することができる。

さらに、本発明に係る情報記録媒体によれば、各凸部の各上面における縁部を除く領域に非磁性層を形成したことにより、各上面の縁部に非磁性材料が存在しない分だけデータの記録再生時における磁気ヘッドと凸部との間の非磁性材料が少量となるため、スペーシング損失を低減させることが可能となり、記録再生特性を向上させることができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、凸部の中央部に向かうに従って突出方向と同じ方向に徐々に突出するように非磁性層を形成したことにより、角部を形成することなく非磁性層を滑らかに形成することができる。したがって、情報記録媒体の表面に接触した際の磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の破損を十分に防止することができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、磁性層の各凸部における各上面の一部をその一部を除く他の部分よりも突出するように形成したことにより、例えば、シーク時に情報記録媒体の表面と磁気ヘッドとの間の気流が変動して磁気ヘッドと情報記録媒体の表面とが接触したとしても、その接触を線的または点的な接触に止めることができるため、表面が平滑化された従来の情報記録媒体と比較して、接触時における両者の接触面積を十分に小さく止めることができる結果、接触に起因する磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の摩耗を十分に低減することができる。また、その一部が突出した凸部によって適度な凹凸が形成されるため、情報記録媒体の表面と磁気ヘッドとの固着に起因する磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の破損の発生率を十分に低減することができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、各凸部の各上面を非磁性材料の表面から突出させたことにより、記録再生において磁性層の各凸部と磁気ヘッドとの間に非磁性材料が存在しないこととなる結果、記録再生特性を十分に向上させることができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、各上面の中央部に向かうに従って突出方向と同じ方向に徐々に突出するように各凸部を形成したことにより、角部を形成することなく各凸部を滑らかに形成することができる。したがって、情報記録媒体の表面に接触した際の磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面の破損を十分に防止することができる。

また、本発明に係る情報記録媒体によれば、その最上部に保護層を形成したことにより、例えば磁気ヘッドの接触による磁性層の摩耗をさらに確実に防止することができる。

以下、本発明に係る情報記録媒体の最良の形態について、添付図面を参照して説明する。

図１に示す磁気記録媒体１は、本発明に係る情報記録媒体の一例としての磁気ディスクであって、図示しないスピンドルモータやヘッドスライダ（磁気ヘッド）などと共に筐体内に配設されて磁気記録装置を構成する。また、磁気記録媒体１は、垂直記録方式でデータを記録可能なディスクリートトラック型の磁気記録媒体（パターンド媒体）であって、一例として、軟磁性層１２、および下地層としての中間層１３がこの順序でガラス基材１１の一面に積層され、さらに中間層１３の上には磁性材料によって所定の凹凸パターンに形成した磁性層１４が積層されて構成されている。また、磁性層１４の凹部２２，２２・・には、非磁性材料が埋め込まれて、磁性層１４における各凸部２１，２１・・の各上面２１ａ，２１ａ・・には、非磁性材料によって非磁性層１５，１５・・が形成されている。この場合、非磁性層１５は、同図に示すように、その中央部（本発明における一部に相当する）が他の部分よりも徐々に上方（本発明における凸部の突出方向に相当する）に突出するようにして形成されている。また、凹部２２に埋め込まれた非磁性材料、および非磁性層１５の上（本発明における一面側の最上部）には、これらを覆うようにして保護層１６が形成されている。さらに、保護層１６の上には、図示しない潤滑剤（一例として、フォンブリン系の潤滑剤）が塗布されている。

一方、図２に示す磁気記録媒体製造装置（以下、「製造装置」ともいう）１０１は、スパッタ装置１０２、塗布装置１０３、描画装置１０４、現像装置１０５およびエッチング装置１０６を備えて磁気記録媒体１を製造可能に構成されている。スパッタ装置１０２は、磁気記録媒体１の製造に際して、ガラス基材１１の上にスパッタリング法によって軟磁性層１２、中間層１３および磁性層１４をこの順で形成することにより、図３に示す記録媒体製造用中間体（以下、「中間体」ともいう）１０を作製する。また、スパッタ装置１０２は、図１０に示すように、後述する凹凸パターンＰ３に形成された磁性層１４（図９参照）の上にスパッタリング法によって非磁性材料を被覆する。塗布装置１０３は、図６に示すように、スパッタ装置１０２によって製作された中間体１０における磁性層１４の上にスピンコート法によって電子線レジスト（ＥＢレジスト）を塗布してマスク形成用機能層１７を形成する。

描画装置１０４は、図７に示すように、塗布装置１０３によって形成されたマスク形成用機能層１７に電子ビームＥＢを照射することにより、マスク形成用機能層１７に露光パターンＰ１を描画する。現像装置１０５は、描画装置１０４による露光パターンＰ１の描画が完了したマスク形成用機能層１７に対して現像処理を実行することにより、図８に示すように、マスク形成用機能層１７における電子ビームＥＢの照射部位を除去して凹凸パターンＰ２（マスクＭ１）を形成する。エッチング装置１０６は、現像装置１０５によって形成されたマスクＭ１を用いて磁性層１４に対してイオンビームエッチングを行うことにより、図９に示すように、磁性層１４を凹凸パターンＰ３に形成する。また、エッチング装置１０６は、図１１，１２に示すように、スパッタ装置１０２によって磁性層１４の上に被覆された非磁性材料の一部を除去する。

次に、製造装置１０１を用いて磁気記録媒体１を製造する製造方法について、図面を参照して説明する。

最初に、磁気記録媒体１を形成するための中間体１０を製作する。具体的には、磁気記録媒体製造装置１０１のスパッタ装置１０２が、図４に示すように、例えば、表面粗さＲａが０．２〜０．３ｎｍで直径が０．８５インチのガラス基材１１の上にＤＣマグネトロンスパッタ法によってＣｏＺｒＮｂをスパッタリングすることにより、厚みが２００ｎｍ程度の軟磁性層１２を形成する。次に、スパッタ装置１０２は、図５に示すように、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタ法によって軟磁性層１２の上に中間層形成用材料をスパッタリングすることにより、中間層１３を形成する。次いで、スパッタ装置１０２は、図３に示すように、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタ法によって中間層１３の上にＳｉＯ_２とＣｏＰｔ結晶粒子との混合物をスパッタリングすることにより、厚みが１５ｎｍ程度の磁性層１４を形成する。これにより、磁気記録媒体１を製造するための中間体１０が完成する。

続いて、塗布装置１０３が、図６に示すように、中間体１０の磁性層１４を覆うようにしてポジ型の電子線レジストをスピンコート法によって塗布することにより、厚みが１３０ｎｍ程度のマスク形成用機能層１７を形成する。次に、描画装置１０４が、図７に示すように、マスク形成用機能層１７に電子ビームＥＢを照射してマスク形成用機能層１７に露光パターンＰ１を描画する。次いで、現像装置１０５が、露光パターンＰ１の描画が完了したマスク形成用機能層１７に対して現像処理を実行することにより、図８に示すように、描画装置１０４によって電子ビームＥＢが照射された部位を除去する。これにより、同図に示すように、磁性層１４の上に凹凸パターンＰ２を有するマスクＭ１が形成される。この場合、一例として、マスクＭ１（凹凸パターンＰ２）における凸部の幅および凹部の幅は、それぞれ５０ｎｍおよび３０ｎｍにそれぞれ規定されている。つまり凸部（凹部）のピッチは、８０ｎｍに規定されている。なお、マスクＭ１の形成方法については、描画装置１０４による露光パターンＰ１の描画および現像装置１０５による現像処理による方法に限定されず、例えば、凹凸パターンＰ２と相補的形状（凹凸が逆に形成された形状）のモールド（スタンパー）をマスク形成用機能層１７に押し付けてモールドの凹凸パターンをマスク形成用機能層１７に転写してマスクＭ１を形成するインプリント法を採用することもできる。

続いて、エッチング装置１０６が、マスクＭ１をマスクとして使用して、アルゴン（Ａｒ）ガスを用いたイオンビームエッチングを行う。これにより、図９に示すように、磁性層１４が、凸部２１および凹部２２を有する凹凸パターンＰ３に形成される。次に、スパッタ装置１０２が、例えば、基材に対するバイアス電圧の非印加状態においてアルゴン（Ａｒ）ガスの圧力を０．３Ｐａとした条件で非磁性材料としてのＳｉＯ_２をスパッタリングすることにより、図１０に示すように、磁性層１４（凸部２１および凹部２２）に非磁性材料を例えば５０ｎｍの厚みで被覆する。この場合、基材に対するバイアス電圧の非印加状態でスパッタリングすることで、同図に示すように、被覆した非磁性材料の表面には、磁性層１４における凹凸パターンＰ３の形状を反映する凹凸パターンＰ４が形成される。

次いで、エッチング装置１０６が、例えば、アルゴン（Ａｒ）ガスの圧力を０．４Ｐａに規定すると共にイオンビーム角度を１度に規定したエッチング条件下で、磁性層１４の上に被覆された非磁性材料に対してアルゴン（Ａｒ）ガスを用いたイオンビームエッチングを開始する。この際に、図１１に示すように、凹凸パターンＰ４における各凸部の角部（凹部の縁部）が削り取られるようにして非磁性材料が徐々に除去される。続いて、エッチング装置１０６は、例えば、５分２０秒を経過した時点で、イオンビームエッチングを終了する。この場合、凹凸パターンＰ４が形成された非磁性材料を徐々に除去したことにより、図１２に示すように、磁性層１４の凹部２２，２２・・に埋め込まれた非磁性材料の表面がやや窪んだ状態となる。また、磁性層１４の各凸部２１，２１・・の各上面２１ａ，２１ａ・・には、その中央部が例えば２ｎｍ程度上方に徐々に突出して滑らかな山形に形成された非磁性材料が残留して、非磁性層１５，１５・・が形成される。次いで、スパッタ装置１０２が、スパッタリング法によってカーボンをスパッタリングすることにより、厚みが２ｎｍ程度の保護層（カーボン膜）１６を非磁性材料（非磁性層１５）の上に形成する。続いて、フォンブリン系の潤滑剤を平均厚さが例えば２ｎｍ程度となるように保護層１６の表面に塗布する。これにより、図１に示すように、磁気記録媒体１が完成する。

なお、発明者は、磁気記録媒体１の特性を検証するために、次のような特性実験を行った。この特性実験では、磁気記録媒体１を組み込んだ磁気記録装置を複数作製した。この場合、磁気記録装置における磁気ヘッドとしては、１．２５ｍｍ×１．０ｍｍの小形スライダーを用いた。また、比較対象として、磁性層１４における凸部２１の上面２１ａが露出しかつ凹部２２に埋め込まれた非磁性材料の上面および上面２１ａが面一（表面が平滑）となるように表面を研磨した磁気記録媒体を組み込んだ磁気記録装置を複数作製した。次に、スピンスタンド型シーク試験装置を用いて、シーク試験を行った。具体的には、例えば、０．２気圧に減圧した環境下において各磁気記録装置を作動させて、最内周トラックから最外周トラックに向けて磁気ヘッドを移動させるシーク動作を連続して実行させ、各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュ（破損）するまでの時間を測定した。この結果、磁気記録媒体１を組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間は、比較対象の磁気記録媒体を組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間に対して平均で約３．１倍であった。以上の結果から、磁気記録媒体１を組み込んだ磁気記録装置を通常の使用環境下で使用したときには、磁気記録媒体１の表面と磁気ヘッドとの固着に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１の表面の破損の発生率を十分に低減できることが明らかである。

このように、この磁気記録媒体１によれば、磁性層１４における各凸部２１の上面２１ａに形成した非磁性層１５の一部（中央部）をその一部を除く他の部分（縁部）よりも突出させたことにより、例えば、シーク時に磁気ヘッドが接触したとしても、磁気ヘッドと非磁性層１５における突出部とを線的または点的接触に止めることができるため、表面が平滑に形成された従来の情報記録媒体と比較して、接触時における両者の接触面積を小さくすることができる結果、接触に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１の表面の摩耗を十分に低減することができる。また、その一部が突出した非磁性層１５によって適度な凹凸が形成されるため、固着に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１の表面の破損の発生率を十分に低減することができる。

また、磁性層１４における各凸部２１の上面２１ａ全域に非磁性層１５を形成したことにより、磁気ヘッドと磁性層１４との直接の接触を確実に回避することができるため、磁性層１４の摩耗を確実に防止することができる。

また、角部を形成することなくその中央部が上方に徐々に突出するように非磁性層１５を滑らかな山形に形成したことにより、磁気記録媒体１の表面に接触した際の磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１の表面の破損を十分に防止することができる。

また、最上部に保護層１６を形成したことにより、例えば磁気ヘッドの接触による磁性層１４の摩耗をさらに確実に防止することができる。

なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、磁性層１４の凸部２１における上面２１ａの全域に非磁性層１５を形成した例について上記したが、図１３に示す磁気記録媒体１Ａ（同図では保護層１６の図示を省略している）のように、上面２１ａにおける一部の領域だけに非磁性層１５を形成することもできる。この磁気記録媒体１Ａの製造に際しては、上記した磁気記録媒体１の製造方法における非磁性材料に対するイオンビームエッチングのエッチング時間を例えば２０秒程度長い時間に設定する。これにより、同図に示すように、磁性層１４の各凸部２１における各上面２１ａの縁部が露出する状態まで非磁性材料が除去されて、上面２１ａの縁部を除く約４０ｎｍ幅の領域（中央部）にその中央部が例えば１ｎｍ程度上方に突出する山形の非磁性層１５が形成される。なお、発明者は、磁気記録媒体１Ａの特性を検証するために、磁気記録媒体１Ａを組み込んだ磁気記録装置を複数作製して、上記と同様の特性実験を行った。この結果、磁気記録媒体１Ａを組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間は、比較対象の磁気記録媒体を組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間に対して平均で約２．２倍であった。この結果から、磁気記録媒体１Ａを組み込んだ磁気記録装置を通常の使用環境下で使用したときにおいても、磁気記録媒体１Ａの表面と磁気ヘッドとの固着に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１Ａの表面の破損の発生率を十分に低減できることが明らかである。また、この磁気記録媒体１Ａによれば、磁性層１４における各凸部２１の上面２１ａに形成した非磁性層１５の一部（非磁性層１５の中央部）をその一部を除く他の部分（非磁性層１５の縁部）よりも突出させたことにより、磁気記録媒体１と同様にして、磁気記録媒体１Ａの表面と磁気ヘッドとの接触に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１Ａの表面の摩耗を十分に低減することができる。また、各凸部２１の各上面２１ａにおける縁部を除く領域に非磁性層１５を形成したことにより、各上面２１ａの縁部に非磁性材料が存在しない分だけデータの記録再生時における磁気ヘッドと凸部２１との間の非磁性材料が少量となるため、スペーシング損失を低減させることが可能となり、分だけ記録再生特性を向上させることができる。

また、図１４に示す磁気記録媒体１Ｂ（同図では保護層１６の図示を省略している）のように、磁性層１４の各凸部における各上面をその一部（中央部）が上方に徐々に突出する山形に形成した構成を採用することもできる。この磁気記録媒体１Ｂの製造に際しては、上記した磁気記録媒体１の製造方法における非磁性材料に対するイオンビームエッチングのエッチング時間を例えば４０秒程度長い時間に設定する。これにより、同図に示すように、磁性層１４の各凸部２１における上面２１ａから非磁性材料が全て除去され、さらに上面２１ａの縁部が削り取られて、中央部が上方に徐々に突出する滑らかな山形に形成される。

なお、発明者は、磁気記録媒体１Ｂの特性を検証するために、磁気記録媒体１Ｂを組み込んだ磁気記録装置を複数作製して、上記と同様の特性実験を行った。この結果、磁気記録媒体１Ｂを組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間は、比較対象の磁気記録媒体を組み込んだ各磁気記録装置における磁気ヘッドがクラッシュするまでの時間に対して平均で約１．５倍であった。この結果から、磁気記録媒体１Ｂを組み込んだ磁気記録装置を通常の使用環境下で使用したときにおいても、磁気記録媒体１Ｂの表面と磁気ヘッドとの固着に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１Ｂの表面の破損の発生率を十分に低減できることが明らかである。また、この磁気記録媒体１Ｂによれば、磁性層１４の各凸部２１における各上面２１ａの一部（中央部）をその一部を除く他の部分（上面２１ａの縁部）よりも突出する山形に形成したことにより、例えば、シーク時に磁気ヘッドと磁気記録媒体１Ｂの表面とが接触したとしても、その接触を線的または点的な接触に止めることができるため、接触時における両者の接触面積を十分に小さく止めることができる結果、接触に起因する磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１Ｂの表面の摩耗を十分に低減することができる。また、磁性層１４の各凸部２１における各上面２１ａを非磁性材料の表面から突出（露出）させた構成、つまり上面２１ａに対して非磁性材料が付着していない状態を維持する構成を採用したことにより、記録再生において磁性層１４の各凸部２１と磁気ヘッドとの間に非磁性材料が存在しないこととなる結果、記録再生特性を十分に向上させることができる。また、上面２１ａに角部を形成することなくその中央部が上方に徐々に突出するように磁性層１４の凸部２１を滑らかな山形に形成したことにより、磁気ヘッドが磁気記録媒体１Ｂの表面に接触した際の磁気ヘッドおよび磁気記録媒体１Ｂの表面の破損を十分に防止することができる。

また、垂直記録方式の磁気記録媒体１，１Ａ，１Ｂに本発明を適用した例について上記したが、面内記録方式の磁気記録媒体等の各種情報記録媒体に本発明を適用することができるのは勿論である。

磁気記録媒体１の断面図である。 磁気記録媒体製造装置１０１の構成を示すブロック図である。 中間体１０の断面図である。 ガラス基材１１の上に軟磁性層１２を形成した状態の断面図である。 軟磁性層１２の上に中間層１３を形成した状態の断面図である。 磁性層１４の上にマスク形成用機能層１７を形成した状態の断面図である。 マスク形成用機能層１７に電子ビームＥＢを照射して露光パターンＰ１を描画した状態の断面図である。 凹凸パターンＰ２（マスクＭ１）を形成した状態の断面図である。 磁性層１４に凹凸パターンＰ３を形成した状態の断面図である。 磁性層１４の上に非磁性材料を被覆した状態の断面図である。 非磁性材料に対してイオンビームエッチングを行っている状態の断面図である。 磁性層１４の凸部２１における上面２１ａの上に非磁性層１５を形成した状態の断面図である。 磁気記録媒体１Ａの断面図である。 磁気記録媒体１Ｂの断面図である。

符号の説明

１，１Ａ，１Ｂ 磁気記録媒体
１１ ガラス基材
１４ 磁性層
１５ 非磁性層
１６ 保護層
２１ 凸部
２１ａ 上面
２２ 凹部
Ｐ３ 凹凸パターン

Claims (8)

1. 基材の少なくとも一面側に所定の凹凸パターンに形成された磁性層の各凹部に非磁性材料が埋め込まれると共に、前記磁性層の各凸部における各上面の少なくとも一部の領域に前記非磁性材料によって非磁性層が形成され、
   前記非磁性層は、その一部が当該一部を除く他の部分よりも前記凸部の突出方向と同じ方向に突出するように形成されている情報記録媒体。
2. 前記各凸部の前記各上面における全域に前記非磁性層が形成されている請求項１記載の情報記録媒体。
3. 前記各凸部の前記各上面における縁部を除く領域に前記非磁性層が形成されている請求項１記載の情報記録媒体。
4. 前記非磁性層は、前記凸部の中央部に向かうに従って前記突出方向と同じ方向に徐々に突出するように形成されている請求項１から３のいずれかに記載の情報記録媒体。
5. 基材の少なくとも一面側に所定の凹凸パターンに形成された磁性層の各凹部に非磁性材料が埋め込まれ、
   前記磁性層の各凸部における各上面の一部が当該一部を除く他の部分よりも当該凸部の突出方向と同じ方向に突出するように形成されている情報記録媒体。
6. 前記各凸部は、前記各上面が前記非磁性材料の表面から突出するように形成されている請求項５記載の情報記録媒体。
7. 前記各凸部は、前記各上面の中央部に向かうに従って前記突出方向と同じ方向に徐々に突出するように形成されている請求項５または６記載の情報記録媒体。
8. 前記基材の前記少なくとも一面側の最上部に保護層が形成されている請求項１から７のいずれかに記載の情報記録媒体。

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