JP2005075723A - 金属酸化物ナノ粒子、その製造方法及び使用方法 - Google Patents
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- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 55
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 29
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 107
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 30
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 17
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 75
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 32
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- -1 Ti (alkoxide) 4 Chemical class 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 10
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- RHOOUTWPJJQGSK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylsulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCSC1=CC=CC=C1 RHOOUTWPJJQGSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical group CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 2
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 2
- OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-] OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 2
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQMCRHGPQTYTHS-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[2,6-dibromo-4-[2-[3,5-dibromo-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propan-2-ol Chemical compound C=1C(Br)=C(OCC2OC2)C(Br)=CC=1C(C)(C)C(C=C1Br)=CC(Br)=C1OCC(O)COC(C(=C1)Br)=C(Br)C=C1C(C)(C)C(C=C1Br)=CC(Br)=C1OCC1CO1 GQMCRHGPQTYTHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYGWHUJQCJNSR-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propan-2-ol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC(O)COC(C=C1)=CC=C1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 DLYGWHUJQCJNSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylperoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCC LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWJHMZONBMHMEI-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylperoxy-3-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(OOC(C)(C)C)=C1 CWJHMZONBMHMEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(C)(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroperoxy-2,5-dimethylhexane Chemical compound OOC(C)(C)CCC(C)(C)OO JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRAAAWYHORFHN-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,6-dibromo-4-[2-[3,5-dibromo-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C=1C(Br)=C(OCC2OC2)C(Br)=CC=1C(C)(C)C(C=C1Br)=CC(Br)=C1OCC1CO1 ZJRAAAWYHORFHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZTPAOAMKBXNSH-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl acetate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(C)=O FZTPAOAMKBXNSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical group CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXDRVAVKSBPSSY-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C.C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOC(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C.C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOC(C)(C)C CXDRVAVKSBPSSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N [2,6-dibromo-4-[2-(3,5-dibromo-4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1 VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWQCUVMNNJGANT-UHFFFAOYSA-N [diphenyl-(2-phenyl-3-trimethylsilylphenyl)silyl]peroxy-diphenyl-(2-phenyl-3-trimethylsilylphenyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC=CC([Si](OO[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=C(C=CC=2)[Si](C)(C)C)C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 XWQCUVMNNJGANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AJTNUOLFTQRAKF-UHFFFAOYSA-N bis[(2-methylpropan-2-yl)oxy] benzene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OOOC(C)(C)C)=C1 AJTNUOLFTQRAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005724 cycloalkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- CYQYCASVINMDFD-UHFFFAOYSA-N n,n-ditert-butyl-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)N(C(C)(C)C)C(C)(C)C CYQYCASVINMDFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- WNSQZYGERSLONG-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene;hydrogen peroxide Chemical compound OO.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 WNSQZYGERSLONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPZJSWWEEJJSIZ-UHFFFAOYSA-N tetrabromobisphenol-F Natural products C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1CC1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 WPZJSWWEEJJSIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-methoxypropyl)silane Chemical compound COCCC[Si](OC)(OC)OC JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPEMYYBBHOILIJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl(trimethylsilylperoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OO[Si](C)(C)C XPEMYYBBHOILIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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Abstract
【課題】 色の増加や他の光学特性を劣化させることなく、ポリマー材料の屈折率を高めるためのポリマー材料用の添加剤として使用することができるナノ粒子の簡単な製造方法の提供。
【課題を解決するための手段】 金属アルコキシドを、アルキルアルコールと水と酸を含有する酸性アルコール溶液で加水分解して、金属酸化物ナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、第一ゾルをオルガノシランで処理して第二ゾルを形成し、第二ゾルを有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して第三ゾルを形成する。こうして処理したナノ粒子は光学製品の製造に有用な高屈折率添加剤である。
【選択図】 なし
【課題を解決するための手段】 金属アルコキシドを、アルキルアルコールと水と酸を含有する酸性アルコール溶液で加水分解して、金属酸化物ナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、第一ゾルをオルガノシランで処理して第二ゾルを形成し、第二ゾルを有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して第三ゾルを形成する。こうして処理したナノ粒子は光学製品の製造に有用な高屈折率添加剤である。
【選択図】 なし
Description
金属酸化物のナノ粒子は、ポリマー材料全体の屈折率を高めるためのポリマー材料添加剤としての用途が知られている。このような添加剤は光を透過又は反射する光学製品の製造に有用である。高屈折率添加剤の添加が有効な物品としては、光学レンズ、調光フィルム、フレネルレンズ、反射防止コーティング、光ディスク、拡散フィルム、ホログラフィ基板などがある。金属酸化物ナノ粒子はポリマー材料の屈折率を上昇させるが、金属酸化物ナノ粒子が透明性、低ヘーズ性及び低着色性のような材料の望ましい光学的又は物理的性質を損なわないのが好ましい。
金属酸化物ナノ粒子を含有するポリマー複合材料の透明性は、ポリマー材料中に分散した金属酸化物粒子の粒度と屈折率に依存する。金属酸化物粒子の平均粒径が大きいと、ポリマー材料の透明性が低下するおそれがある。材料に当たる光が光源方向に反射されたり、側方に逸れたりして、見かけの透明性が低下するからである。極めて小さな金属酸化物粒子の添加によって材料の透明性が低下するのは、粒子がポリマー中で凝集し、光を散乱又は反射しかねない大きな粒子として作用する傾向があるからである。透明複合材料では、小さな金属酸化物粒子をポリマー中に高度に(非凝集状態で)分散させて光散乱を回避するのが好ましい。
米国特許第6261700号
米国特許第6291070号
米国特許第6329058号
米国特許第6432526号
国際公開第98/51747号パンフレット
国際公開第00/06622号パンフレット
金属酸化物のナノ粒子を有機化合物で処理すれば、ポリマー材料中での粒子の凝集を防ぐのに役立つ。有機化合物は金属酸化物粒子の分散を安定化し、凝集を防ぐと考えられる。金属酸化物ナノ粒子を有機化合物で処理する方法は幾つか知られているが、かかるナノ粒子のもっと簡単な製造方法が求められている。また、色の増加や他の光学特性を劣化させることなく、ポリマー材料の屈折率を高めるためのポリマー材料用の添加剤として使用することができるナノ粒子の製造方法に対するニーズが依然として存在する。
本発明の一実施形態に係る金属酸化物ナノ粒子の製造方法は、金属アルコキシドを、アルキルアルコール、水及び酸を含有する酸性アルコール溶液で加水分解して、金属酸化物ナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、第一ゾルをオルガノシランで処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第二ゾルを形成し、第二ゾルを、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第三ゾルを形成することを含む。
本発明の別の実施形態に係る酸化チタンナノ粒子の製造方法は、アルキルアルコールと水/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約5:1となる量の水と酸/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約2:1となる量の酸とを含有する酸性アルコール溶液でチタンテトラアルコキシドを加水分解して、酸化チタンナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、第一ゾルをオルガノシランで処理して、処理酸化チタンナノ粒子を含む第二ゾルを形成し、第二ゾルを、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して、処理酸化チタンナノ粒子を含む第三ゾルを形成することを含む。
本発明の他の実施形態に係る組成物は、重合性化合物と処理酸化チタンナノ粒子とを含むが、処理酸化チタンナノ粒子は、アルキルアルコールと水/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約5:1となる量の水と酸/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約2:1となる量の酸とを含有する酸性アルコール溶液でチタンテトラアルコキシドを加水分解して、第一ゾルを形成し、第一ゾルをオルガノシランで処理して、第二ゾルを形成し、第二ゾルを、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して、処理酸化チタンナノ粒子を含む第三ゾルを形成することによって製造される。
本明細書で用いる用語「ゾル」は、小さな粒子が連続液相に懸濁されたコロイドを意味する。
本明細書で用いる用語「(メタ)アクリレート」は、アクリル官能性及びメタクリル官能性化合物だけでなく、チオエステル(メタ)アクリレート官能性化合物を包含する。
本明細書に記載する範囲はすべて上限と下限とを含み、相互に組合せ可能である。
以下、オルガノシラン処理した金属酸化物ナノ粒子ゾル、特に酸化チタンナノ粒子ゾルを簡単かつ効率的に製造する方法を説明するとともに、ゾルと重合性化合物との混合物を製造して屈折率の向上した重合性組成物を形成する方法についても説明する。重合性組成物及びその組成物を硬化して得られる物品は、ゾルなしで製造した材料よりも高い屈折率、良好な光透過性、低いヘーズなど優れた光学特性を示す。
本明細書では、処理金属酸化物ゾルに有機塩基を添加することによって金属酸化物ゾルを製造する方法についても開示する。有機塩基を含有するゾルは、重合性化合物と組合せると、着色度の低い重合性組成物及び硬化物を与える。
さらに、重合性材料と組合せたときに収縮が少なく、脆さの低減した硬化物を与える処理金属酸化物ゾルの製造方法についても開示する。具体的には、重合性化合物に対する反応性基を含まないオルガノシランで金属酸化物ナノ粒子を処理することによって、処理金属酸化物ゾルを製造する。
金属酸化物ゾルは、一般式M(アルコキシド)vで表される金属アルコキシドから製造し得る。式中、Mはケイ素、チタン、ジルコニウム、セリウム、スズなどであり、vは金属の酸化状態を示す。好ましくは、Mはチタン、ジルコニウム、セリウム又はスズであり、特に好ましくはチタンである。典型的には、金属酸化物ゾルは、金属アルコキシド、例えばTi(アルコキシド)4を加水分解に十分な量の水を含有する酸性アルコール溶液で加水分解することによって製造される。適当なアルコキシドとしては、線状又は枝分れC1−C12アルコキシドがあり、具体的にはエトキシド、1−プロポキシド、イソプロポキシド、1−ブトキシド、2−ブトキシド、tert−ブトキシド、1−ヘキソキシド、2−エチルヘキソキシド、2−メトキシ−1−エトキシドなどがある。好ましいアルコキシドとしては、イソプロポキシド、エトキシド、2−エチルヘキソキシドがある。チタンアルコキシドのアルコキシド部分は同じでも異なってもよい。適当な市販のチタンアルコキシドには、チタンテトライソプロポキシドがある。
金属アルコキシドの加水分解は、酸性アルコール溶液、好ましくは水とアルキルアルコールを含有する酸性アルコール溶液中で実施される。適当なアルコールとしては、線状又は枝分れC1−C12アルキルアルコールがあり、具体的にはメタノール、エタノール、イソプロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−エチルヘキサノールなどがある。
酸性アルコール溶液中のアルキルアルコールの量は、当業者が容易に決定できるが、酸性アルコール溶液の全重量を基準にして、好ましくは約40〜99重量%、さらに好ましくは約50〜97重量%、さらに一段と好ましくは約60〜95重量%のアルコールである。
酸性アルコール溶液は、好ましくは、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸などの無機酸で酸性化される。理論に束縛されるものではないが、理論的には、溶剤中の酸は得られるゾルを安定化し、また金属酸化物ナノ粒子の表面に正味の正電荷を生じて静電気的に安定化された粒子とすることによって、金属酸化物ナノ粒子が凝集するのを防ぐと考えられる。
酸性アルコール溶液に用いられる酸の量は、当業者が容易に決定できるが、好ましくは金属アルコキシドの量とほぼ等モル量である。酸の量は、酸/金属アルコキシドのモル比が約0.1:1〜約2:1となる量であればよいが、好ましくは酸/金属アルコキシドモル比が約0.3:1〜約1.5:1、さらに好ましくは約0.5:1〜約1:1、さらに一段と好ましくは約0.6:1〜約0.8:1となる量である。
金属酸化物ゾルの製造に用いられる水は無機物を含まないのが好ましく、例えば脱イオン水である。金属アルコキシドを加水分解するための水の量は、当業者が容易に決定できるが、金属アルコキシドの量とほぼ等モル量であるのが好ましい。水の量は、水/金属アルコキシドのモル比が約0.1:1〜約5:1となる量であればよいが、好ましくは水/金属アルコキシドモル比が約0.5:1〜約3:1、さらに好ましくは約0.7:1〜約2:1、さらに一段と好ましくは約0.9:1〜約1.1:1となる量である。
金属アルコキシドの加水分解及びゾルの形成は、金属アルコキシドを酸性アルコール溶液及び水に撹拌しながら添加することによって達成し得る。加水分解は温度約−20℃〜約60℃で実施できるが、好ましくは温度約0℃〜約40℃、さらに好ましくは約10℃〜約25℃である。好ましくは、反応は周囲温度で行われる。溶液はゾルの形成に十分な時間撹拌され、典型的には約1時間〜約2週間、好ましくは約6時間〜約4日、さらに好ましくは約12時間〜約24時間撹拌されるが、安定なゾルが得られさえすれば、これ以外の反応時間を用いてもよい。
ゾル中の金属酸化物粒子の粒度は典型的には約1〜100nmであればよいが、好ましくは約2〜40nm、さらに好ましくは約3〜20nmである。
金属酸化物ゾルが形成されたら、ゾル中のナノ粒子をオルガノシランで処理して処理金属酸化物ナノ粒子ゾルを生成することができる。理論に束縛されるものではないが、オルガノシランは、金属酸化物ナノ粒子を重合性化合物、例えば(メタ)アクリレートと組合せたときに、粒子凝集を防止又は抑制するのに役立つと考えられる。適当なオルガノシランとしては、アルコキシオルガノシラン、アリールオキシオルガノシラン、アリールアルコキシオルガノシラン、アリールアルキルアルコキシオルガノシラン、アルキルアミノオルガノシラン及びこれらの組合せなどがある。適当なオルガノシランには、例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、トリメトキシ(3−メトキシプロピル)シラン、酢酸3−(トリメトキシシリル)プロピルなどがある。オルガノシランは、好ましくは、処理金属酸化物ナノ粒子を含有するポリマー組成物の屈折率の上昇が最大となるように選択される。アルキル含有オルガノシランや臭素置換オルガノシランと比較して、屈折率の高いオルガノシランにはアリール含有オルガノシランがある。
ゾル中の金属酸化物ナノ粒子を処理するのに反応基含有オルガノシランを用いてもよい。かかるオルガノシランは、後述の重合性化合物と反応し得るエポキシ、アクリレート、メタクリレートなどの反応性官能基を1個以上含有する。適当な反応性基含有オルガノシランとしては、例えばメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びグリシドキシプロピルトリエトキシシランがある。
一実施形態では、オルガノシランは好ましくは反応性基官能価を含まない。反応性官能基を含まないオルガノシランで処理した金属酸化物ナノ粒子は、硬化時に収縮が少なく、脆性の少ない重合性化合物含有組成物を与える。処理金属酸化物ナノ粒子に反応性官能基が存在しないことから、架橋密度が低くなるため、硬化物は脆性が低く、収縮が少ない。
オルガノシランによるナノ粒子の処理は約0℃〜約125℃の温度で実施すればよいが、好ましくは温度約25℃〜約100℃、さらに好ましくは約40℃〜約75℃、さらに一段と好ましくは約50℃〜約60℃で実施される。処理時間は約10分〜約24時間であればよいが、好ましくは約1時間〜約12時間、さらに好ましくは約4時間〜約8時間である。
オルガノシランは金属酸化物ナノ粒子に、金属アルコキシド/オルガノシランのモル比が約1:1〜約1:10となる量で添加すればよいが、好ましくは金属アルコキシド/オルガノシランモル比が約1:2〜約1:8、さらに好ましくは約1:4〜約1:6となる量で添加される。
驚くべきことに、処理金属酸化物ゾルに、少量の有機塩基、特に非求核性塩基を添加すると、着色が格段に低減した重合性化合物用の高屈折率添加剤が得られるという知見が得られた。処理金属酸化物ゾルと塩基とを含有する重合性組成物は、塩基を含まないゾルから製造した対応組成物と比較して、着色が低減していることが判明した。さらに、塩基含有ゾルと重合性化合物との混合物から製造した硬化物も着色度が低い。適当な有機塩基としては、線状又は枝分れC1−C12アルキルアミンがあり、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリ−tert−ブチルアミンなどが挙げられる。
処理金属酸化物ゾルへの有機塩基の添加量は、ゾルの調製に用いた酸の量に対して好ましくは等モル量未満である。ゾルに添加する有機塩基の量は、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量であればよいが、好ましくはゾルの調製に用いた酸に対する有機塩基のモル比が約0.3:1〜約0.8:1、さらに好ましくは約0.4:1〜約0.7:1、さらに一段と好ましくは約0.5:1〜約0.6:1となる量である。
処理金属酸化物ナノ粒子を含有する重合性組成物は、1種以上の重合性化合物を処理金属酸化物ゾルと混合し、次いで溶剤を除去することによって製造できる。本発明で用いられる重合性化合物は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、熱重合又は光化学重合の可能な官能基を1個以上有するモノマー又はオリゴマーである。適当な官能基としては、アクリレート、メタクリレート、ビニル、エポキシドなどがある。
適当な重合性化合物には、(メタ)アクリレート類、例えば単官能性及び多官能性(メタ)アクリレート類がある。(メタ)アクリレートの選択は、目標とする屈折率、加工のし易さ、追加の重合性化合物及び/又は重合開始剤との組合せ易さに基づいて行われる。(メタ)アクリレート類の具体例には、以下の一般式(I)のものがある。
式中、R1は置換又は非置換C1−C12アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル又はアルキニル、或いはフェニルを始めとする置換又は非置換C6−C16アリールであり、置換基としては独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1−C6アルキル、C1−C3過ハロゲン化アルキル、C1−C6アルコキシ、ヒドロキシ、C1−C6ケトン、C1−C6エステル、N,N−(C1−C3)アルキル置換アミド又はこれらの置換基の少なくとも1つを含む組合せが挙げられ、上記C6−C16アリール基が置換されている場合、一置換、二置換、三置換、四置換又は五置換のいずれでもよく、
R2は置換又は非置換C1−C12アルキレン、シクロアルキレン、アルケニレン、シクロアルケニレン又はアルキニレン、或いはフェニレンを始めとする置換又は非置換C6−C16アリーレンであり、置換基としては独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1−C6アルキル、C1−C3過ハロゲン化アルキル、C1−C6アルコキシ、ヒドロキシ、C1−C6ケトン、C1−C6エステル、N,N−(C1−C3)アルキル置換アミド又はこれらの置換基の少なくとも1つを含む組合せが挙げられ、上記C6−C16アリール基が置換されている場合、一置換、二置換、三置換又は四置換のいずれでもよく、
R3は水素、メチル又はエチルであり、
X1及びX2は各々独立にO、S又はNR4であり、R4は水素又はR1であり、
X3はO又はSであり、
mは0又は1であり、
nは0、1、2又は3であり、
pは1、2、3又は4である。
R2は置換又は非置換C1−C12アルキレン、シクロアルキレン、アルケニレン、シクロアルケニレン又はアルキニレン、或いはフェニレンを始めとする置換又は非置換C6−C16アリーレンであり、置換基としては独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1−C6アルキル、C1−C3過ハロゲン化アルキル、C1−C6アルコキシ、ヒドロキシ、C1−C6ケトン、C1−C6エステル、N,N−(C1−C3)アルキル置換アミド又はこれらの置換基の少なくとも1つを含む組合せが挙げられ、上記C6−C16アリール基が置換されている場合、一置換、二置換、三置換又は四置換のいずれでもよく、
R3は水素、メチル又はエチルであり、
X1及びX2は各々独立にO、S又はNR4であり、R4は水素又はR1であり、
X3はO又はSであり、
mは0又は1であり、
nは0、1、2又は3であり、
pは1、2、3又は4である。
さらに、適当な重合性化合物としては、式(II)で表される(メタ)アクリレート類がある。
式中、R5は水素又はメチルであり、X4はO、S又はNR7であり、R7は水素又はC1−C6アルキルであり、R6は置換又は非置換C1−C300アルキル、アリール、アルカリール、アリールアルキル又はヘテロアリールであり、bは2、3又は4である。R6の置換基には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1−C6アルキル、C1−C3過ハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、C1−C6ケトン、C1−C6エステル、N,N−(C1−C3)アルキル置換アミド又はこれらの置換基の少なくとも1つを含む組合せがあるが、これらに限定されない。好ましいR6基としては、アルキレン及びヒドロキシアルキレン二置換ビスフェノールA又はビスフェノールFエーテル、特に臭素置換ビスフェノールA又はビスフェノールFのような基がある。適当なR6基には式(III)のものがある。
式中、Qは−C(CH3)2−、−CH2−、−C(O)−、−S(O)−又は−S(O)2−であり、YはC1−C6アルキル又はヒドロキシ置換C1−C6アルキルであり、iは1〜10であり、tは0、1、2、3又は4であり、dは約1〜3である。
式(III)のメタ(アクリレート)類としては、アクリル酸又はメタクリル酸とジエポキシド、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,3−ビス−{4−[1−メチル−1−(4−オキシラニルメトキシ−フェニル)−エチル]−フェノキシ}−プロパン−2−オール、1,3−ビス−{2,6−ジブロモ−4−[1−(3,5−ジブロモ−4−オキシラニルメトキシ−フェニル)−1−メチル−エチル]−フェノキシ}−プロパン−2−オールなど、及びこれらのジエポキシドの少なくとも1つを含む組合せとの反応で生成する化合物が挙げられる。このような化合物の具体例としては、2,2−ビス(4−(2−(メタ)アクリロキシエトキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス((4−(メタ)アクリロキシ)フェニル)プロパン、アクリル酸3−(4−{1−[4−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロポキシ)−3,5−ジブロモ−フェニル]−1−メチル−エチル}−2,6−ジブロモ−フェノキシ)−2−ヒドロキシ−プロピルエステル、アクリル酸3−[4−(1−{4−[3−(4−{1−[4−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロポキシ)−3,5−ジブロモ−フェニル]−1−メチル−エチル}−2,6−ジブロモ−フェノキシ)−2−ヒドロキシ−プロポキシ]−3,5−ジブロモ−フェニル}−1−メチル−エチル)−2,6−ジブロモ−フェノキシ]−2−ヒドロキシ−プロピルエステルなど、及びこれらの多官能価(メタ)アクリレートの少なくとも1つを含む組合せがある。テトラブロモビスフェノールAジエポキシドの反応生成物に基づく適当な多官能価(メタ)アクリレートとしては、RDX51027(UCB Chemicals社製)がある。
その他の適当な重合性化合物には、ウレタン(メタ)アクリレート類があり、当技術分野で周知の方法で製造したもの、例えば多官能性イソシアネートと多官能性アルコール及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとの反応で製造したもの、或いは市販のものがある。
高粘度の重合性化合物を使用する場合には、溶剤又は低粘度の重合性化合物を希釈剤として使用してもよいが、好ましくは低粘度の重合性化合物が使用される。希釈用の好ましい溶剤としては、ゾルに使用したアルキルアルコールがある。
重合性組成物を形成するため重合性化合物と組合せるゾルの量は、重合しているかしていないかに関わりなく、得られる組成物で所望の屈折率及び/又は機械的性質が得られるように選択される。重合性化合物と組合せるゾルの量は、金属酸化物と重合性化合物の合計量を基準にして金属酸化物約1〜約80重量%となる量であればよいが、好ましくは金属酸化物と重合性化合物の全重量を基準にして金属酸化物が約15〜約70重量%、さらに好ましくは約25〜約60重量%、さらに一段と好ましくは約35〜約50重量%となる量である。
処理金属酸化物ナノ粒子と重合性化合物とを含有する重合性組成物はさらに、ラジカル反応を開始して重合材料を与える開始剤を含んでいてもよい。適当な重合開始剤には、紫外線照射時に重合性基の重合を促進する光開始剤がある。特に適当な光開始剤には、ケトン系光開始剤及びホスフィンオキシド光開始剤があり、これらはCiba Specialty Chemicals社からIRGACURE(登録商標)及びDAROCUR(商標)シリーズとして、またBASF社からLUCIRIN(登録商標)シリーズ、ESACURE(登録商標)シリーズの光開始剤として市販されている。ケトン系光開始剤には、例えばヒドロキシアルキルフェニルケトン、アルコキシアルキルフェニルケトン及びチオアルキルフェニルモルフォリノアルキルケトンがある。ベンゾインエーテルも光開始剤として適当である。
重合開始剤には、熱活性化状態で重合を促進するペルオキシ系開始剤もある。有用なペルオキシ開始剤の例には、例えばベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、ラウリルペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、t−ブチルベンゼンヒドロペルオキシド、t−ブチルペルオクトエート、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)−ヘキシン−3、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルペルオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、ジクミルペルオキシド、ジ(t−ブチルペルオキシ)イソフタレート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)オクタン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、ジ(トリメチルシリル)ペルオキシド、トリメチルシリルフェニルトリフェニルシリルペルオキシドなど、さらにこれらの重合開始剤の少なくとも1つを含む組合せがある。
重合開始剤は、重合性組成物の全重量を基準にして約0.01〜約10重量%の量で使用すればよいが、好ましくは重合性組成物の全重量を基準にして約0.1〜約5重量%、さらに好ましくは約0.5〜約3重量%である。本明細書で用いる用語「重合性組成物」とは、処理金属酸化物ゾルと重合性化合物とを含む混合物から溶剤を除去して得られる組成物である。
硬化に先立って、処理金属酸化物ゾルと重合性化合物とを含む混合物に存在する溶剤を好ましくは除去して、重合性組成物を得る。溶剤の除去は、減圧及び/又は加熱下での蒸留又は蒸発によって達成し得る。例えば、流延フィルムの場合、処理金属酸化物ゾルと重合性化合物との混合物をフィルムとして流延し、硬化前に溶剤を飛ばせばよい。一実施形態では、硬化前に、重合性組成物を追加の重合性化合物及び/又は開始剤と組合せる。
処理金属酸化物ナノ粒子と重合性化合物とを含む重合性組成物及びその硬化物は、好ましくは約1.50を超える屈折率、さらに好ましくは約1.55を超える屈折率を有する。一実施形態では、重合性組成物は、重合性化合物と、オルガノシランで処理した酸化チタンゾルから製造される酸化チタンナノ粒子とを含有し、重合性組成物及びその硬化物は好ましくは約1.50を超える屈折率、さらに好ましくは約1.55を超える屈折率を有する。
重合性組成物の硬化には熱又は放射線を使用し得る。放射線硬化には、マイクロ波、紫外線、可視光及び/又は電子線がある。重合性組成物の硬化に用いるUV放射線の波長は約1800Å〜約4000Åの範囲とし得る。このような放射線の発生に用いられるランプ系には、紫外線ランプ及び放電ランプがあり、例えばキセノンランプ、メタルハライドランプ、金属アークランプ、低圧又は高圧水銀蒸気放電灯などがある。硬化とは、非粘着性の材料を形成する重合及び架橋の両方を意味する。
熱硬化を用いる場合、温度は約80〜約130℃の範囲、好ましくは約90℃〜約100℃の範囲から選択し得る。加熱期間は約30秒〜約24時間とすればよく、好ましくは約1分〜約5時間、さらに好ましくは約2分〜約3時間である。かかる硬化は、部分硬化した大抵は不粘着性の組成物を生成する段階と、次に上記の範囲内でさらに長時間又は高温に加熱して完全に硬化させる段階とに分けて行ってもよい。。
一実施形態では、組成物は熱硬化及びUV硬化を共に行ってもよい。
重合性組成物を硬化して製造される物品としては、例えば、光学製品、具体的にはバックライトディスプレイ用の調光フィルム、プロジェクションディスプレイ、光透過装置、交通信号、イルミネーション標識、光学レンズ、フレネルレンズ、光ディスク、拡散フィルム、ホログラフィ基板など、或いは通常のレンズ、プリズム又は鏡と組合せる基板が挙げられる。
バックライトコンピュータディスプレイその他のディスプレイシステムにおいては、光を導くのに光学フィルムが常用される。例えば、バックライトディスプレイでは、調光フィルムはプリズム構造(通常ミクロ構造と呼ばれる。)を使用して光を観察軸(即ち、ディスプレイに略直角な軸)に沿って導く。このように光を導くことによって、ユーザが見るディスプレイの明るさを高め、システムが所望レベルの軸上照明を生じるのに要する消費電力量を下げる。
本明細書で引用した特許、特許出願その他の刊行物の内容はすべて援用によって本発明の内容の一部をなす。
以下の実施例で本発明をさらに具体的に例示するが、これらの実施例は本発明を限定するものではない。
特記しない限り、以下の方法を使用した。
金属酸化物ナノ粒子の粒度は、Malvern社製の高性能パーティクルサイザー(High Performance Particle Sizer)を用いて求めた。
屈折率(RI)は、Baush and Lomb社製のAbbe−3L屈折計を用いて測定波長589.3nmで測定した。
組成物及びその硬化フィルムの黄色度(YI)は、ASTM D1925に準拠して、Gretag Macbeth社製Color−Eye7000A測色計を用いて測定した。重合性組成物のYIを分析する場合、組成物のサンプルを光路長1mmのキュベット中で測定した。
重合性組成物の粘度は、CPE40又はCPE51スピンドルを装着したブルックフィールドLVDV−IIコーン/プレート粘度計を用いて、トルク域を特定のコーン装着に関する装置最大値の15%〜90%の範囲に維持して、0.5mLの重合性組成物試料体積にて、25℃で測定した。粘度測定値はセンチポアズ(cP)単位で表す。
硬化フィルムは、特注の積層ユニット及びFusion EPIC 6000UV硬化システムを用いて製造した。積層ユニットは2本のゴムロール、すなわち下部の可変速度ドライブロールと上部の空気圧駆動ニップロールからなる。このシステムを用いて、ロール間を通過する積層スタックを互いにプレスする。積層スタックは、上向きの5×7インチ(12.7×17.8cm)高度磨きクロムメッキ鋼平板、該平板上に塗布された重合性組成物、及び重合性組成物の上面に配置されたフィルム基板を含む。連続ライン上で上記平板の前方つまり先端に重合性組成物約0.5mLを乗せた。次に、厚さ0.005インチ(0.127cm)のポリカーボネートフィルム基板を重合性組成物の上に重ね、こうして得られたスタックを積層ユニットに通してプレスして重合性組成物をプレートとフィルム基板の間に均一に分布させた。高粘度処方物では、比較的高い圧力と比較的低い速度を用い、プレートを加熱して所望の厚さを得た。スタック内の重合性組成物の光重合は、高電力及び焦点長さ2.1インチ(5.3cm)を用い、600WのHバルブの下方にスタックを10フィート/分(0.051m/s)の速度で2度通過させ、フィルム基板上層を通して硬化することによって行った。
硬化フィルムの色は、Gretag Macbeth社製Color−Eye7000A測色計を使用して、L*a*b*表色系、D65光源及び正反射光込みの10°視野角を用いてL*、a*、b*を測定することによって求めた。
硬化フィルムのヘーズ(%)及び光透過率(%)は、BYK−Gardner社製Haze−guard Plus Hazemeterを用いてASTM D1003に準拠して測定した。
例1〜9
酸化チタンゾルの製造及びオルガノシラン官能化
酸化チタンゾルを次のようにして製造した。表1に示す処方に従って、イソプロパノール(IPA)と濃塩酸(37重量%HCl)と脱イオン水の溶液に、激しく攪拌しながら、チタンテトライソプロポキシド(TiOPr)(Aldrich Chemical社製)をゆっくりと添加した(例1〜9)。得られた混合物を室温で約24時間撹拌して、ゾルを形成した。例1〜6の混合物は、溶液へのTiOPr添加時に透明であったが、例8の混合物は乳白色の外観を呈し、例7及び9の混合物はゲル化した。安定なゾルを形成するには、凝集しない酸化チタン粒子が形成されるように酸と水の量を適切に選択する必要があるとの結論を得た。例7及び9で水分量に対して酸の使用量が不十分であると、ゾルではなくゲルが生じた。ゾル中の酸化チタンナノ粒子の粒度を例1〜6及び8について測定し、結果を表1にナノメータ(nm)単位で示す。
酸化チタンゾルの製造及びオルガノシラン官能化
酸化チタンゾルを次のようにして製造した。表1に示す処方に従って、イソプロパノール(IPA)と濃塩酸(37重量%HCl)と脱イオン水の溶液に、激しく攪拌しながら、チタンテトライソプロポキシド(TiOPr)(Aldrich Chemical社製)をゆっくりと添加した(例1〜9)。得られた混合物を室温で約24時間撹拌して、ゾルを形成した。例1〜6の混合物は、溶液へのTiOPr添加時に透明であったが、例8の混合物は乳白色の外観を呈し、例7及び9の混合物はゲル化した。安定なゾルを形成するには、凝集しない酸化チタン粒子が形成されるように酸と水の量を適切に選択する必要があるとの結論を得た。例7及び9で水分量に対して酸の使用量が不十分であると、ゾルではなくゲルが生じた。ゾル中の酸化チタンナノ粒子の粒度を例1〜6及び8について測定し、結果を表1にナノメータ(nm)単位で示す。
酸化チタンゾルの形成後、例1〜6及び8の各ゾルに20.63gのメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(MAPTMS)(Aldrich Chemical社製)を添加して、50℃で5時間加熱した。加熱中、例8の試料は乳白色外観から透明に変化した。MAPTMSでの処理後、例8の試料は室温では透明のままであったが、冷蔵庫に入れると乳白色に可逆的に変化した。
例10〜16
処理酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物の製造
例1〜6及び8で製造した処理酸化チタンゾルを、表2の処方に従って、アクリレート希釈剤と配合して処理酸化チタンゾル/UV重合性希釈剤組成物を形成した。処理酸化チタンゾルに、激しく攪拌しながら、2−フェノキシエチルアクリレート(PEA)(Sartomer社からSR339として市販)をゆっくりと添加した。40〜50℃の温度及び十分な減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、得られるゾル/PEA混合物から溶剤をストリッピングし、重合性組成物を得た。例10〜16の屈折率(RI)及び黄色度(YI)の結果を表2に示す。比較のために、PEAのRIは1.5181で、YIは0.96である。
処理酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物の製造
例1〜6及び8で製造した処理酸化チタンゾルを、表2の処方に従って、アクリレート希釈剤と配合して処理酸化チタンゾル/UV重合性希釈剤組成物を形成した。処理酸化チタンゾルに、激しく攪拌しながら、2−フェノキシエチルアクリレート(PEA)(Sartomer社からSR339として市販)をゆっくりと添加した。40〜50℃の温度及び十分な減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、得られるゾル/PEA混合物から溶剤をストリッピングし、重合性組成物を得た。例10〜16の屈折率(RI)及び黄色度(YI)の結果を表2に示す。比較のために、PEAのRIは1.5181で、YIは0.96である。
表2の結果から明らかなように、例1〜6及び8の処理酸化チタンゾルから得られた処理酸化チタンナノ粒子/PEA重合性組成物は、PEA単独と比較して、良好な屈折率(1.54超)を呈する。
例17〜24
酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物の製造
酸化チタンナノ粒子/PEA組成物(例10〜16)をさらにジアクリレート化合物と配合して、酸化チタンナノ粒子とメタクリレート希釈剤(PEA)と追加の重合性化合物を含有する重合性組成物を生成した。これらの重合性組成物は、例10〜16の処理酸化チタンナノ粒子/PEA組成物を、UCB Chemicals社からRDX51027という商品名で市販されているジアクリレートテトラブロモビスフェノールAジエポキシド及びCiba Specialty Chemicals社から市販のDarocur4265と重量比1:1で配合することによって製造した。混合物は表3に示す処方に従って製造した。上述の積層方法に従ってフィルムを形成し、Hバルブで硬化した。得られた硬化フィルムをヘーズ、透過率及び黄色度について試験した。結果を表3に示す。PEA:RDX51027の比が1:1である硬化フィルムのヘーズ(%)は0.31であり、透過率(%)は92.3であり、YIは0.9であった。
酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物の製造
酸化チタンナノ粒子/PEA組成物(例10〜16)をさらにジアクリレート化合物と配合して、酸化チタンナノ粒子とメタクリレート希釈剤(PEA)と追加の重合性化合物を含有する重合性組成物を生成した。これらの重合性組成物は、例10〜16の処理酸化チタンナノ粒子/PEA組成物を、UCB Chemicals社からRDX51027という商品名で市販されているジアクリレートテトラブロモビスフェノールAジエポキシド及びCiba Specialty Chemicals社から市販のDarocur4265と重量比1:1で配合することによって製造した。混合物は表3に示す処方に従って製造した。上述の積層方法に従ってフィルムを形成し、Hバルブで硬化した。得られた硬化フィルムをヘーズ、透過率及び黄色度について試験した。結果を表3に示す。PEA:RDX51027の比が1:1である硬化フィルムのヘーズ(%)は0.31であり、透過率(%)は92.3であり、YIは0.9であった。
処理酸化チタンナノ粒子/PEA−RDX51027混合物から製造した硬化フィルムは、ヘーズが低く、光透過率が高かった(例17〜22)。例23の製造に用いた組成物は、他の例よりも粘稠で、厚い硬化フィルムを生じ、YIが高くなる。理論的には、例8のゾルの製造に使用した酸の量が十分でなく、そのため一部の酸化チタン粒子が凝集して粘度の高い重合性組成物を生じ、その硬化フィルムはヘーズが高くなり、光透過率が下がると説明できる。
例25〜28
酸化チタンナノ粒子をオルガノシランで処理する際の反応時間の影響
以下の手順に従って酸化チタンゾルのバッチを製造した。1000gのIPAと49.1gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.25gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105gのTiOPrをゆっくりと添加した。混合物を約72時間撹拌した。次に、激しく攪拌した溶液に、ラジカルスカベンジャーの4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシ(4−OH TEMPO)(Aldrich Cehmical社製)の33重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液0.26gと13.75gのMAPTMSを添加した。溶液の一部(200g)をフラスコから採取し(試料a)、残部をホットプレートを用いて室温から50℃に加熱した。約47分後に温度が50℃に達したら、溶液の一部(200g)をフラスコから採取し(試料b)、溶液の残部をホットプレート上に戻した。加熱開始から2時間後に、200gの試料をフラスコから採取し(試料c)、残部をホットプレート上に戻した。3.5時間の加熱後、4番目の200gアリコートを溶液から採取した(試料d)。50℃で8時間加熱後、溶液は沈殿を形成した。
酸化チタンナノ粒子をオルガノシランで処理する際の反応時間の影響
以下の手順に従って酸化チタンゾルのバッチを製造した。1000gのIPAと49.1gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.25gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105gのTiOPrをゆっくりと添加した。混合物を約72時間撹拌した。次に、激しく攪拌した溶液に、ラジカルスカベンジャーの4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシ(4−OH TEMPO)(Aldrich Cehmical社製)の33重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液0.26gと13.75gのMAPTMSを添加した。溶液の一部(200g)をフラスコから採取し(試料a)、残部をホットプレートを用いて室温から50℃に加熱した。約47分後に温度が50℃に達したら、溶液の一部(200g)をフラスコから採取し(試料b)、溶液の残部をホットプレート上に戻した。加熱開始から2時間後に、200gの試料をフラスコから採取し(試料c)、残部をホットプレート上に戻した。3.5時間の加熱後、4番目の200gアリコートを溶液から採取した(試料d)。50℃で8時間加熱後、溶液は沈殿を形成した。
例25〜28の製造は次のように行った、4つの試料a〜dを各々六官能価芳香族ウレタンアクリレートオリゴマーEBECRYL220(以下、EB220と略す。)(UCB Chemical社製)と配合した。4つの試料a〜dの各200gに、激しく攪拌しながら、EB220:IPAの1:10溶液198gを添加した。次に減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃で各溶液から溶剤をストリッピングした。Darocur4265を1−メトキシ−2−プロパノールに溶解した50%溶液約1重量%を添加することによって、溶剤除去溶液からUV重合性コーティングを調製した。溶液を70℃に加熱して粘度を下げてから、スピンコートすることによって、コーティングを4×4インチ(10.16×10.16cm)ポリカーボネートシートに塗布した。ランプ−コーティング距離2.1インチ、ベルト速度16フィート/分にてHバルブ下方に試料を3回通過させることによってUV硬化を行った。各硬化コーティングについてヘーズを測定し、表4に示す。
表4の例25〜28のヘーズ測定結果から、ゾル中のチタンナノ粒子の処理時間と処理ナノ粒子から調製した硬化フィルムのヘーズの低下との相関関係が明らかである。これらの結果は、アクリレート中での凝集傾向の低減した安定なナノ粒子が形成されることを示唆している。オルガノシラン処理プロセスについては50℃で約5時間の最適加熱時間が存在する。表4の結果から、酸化チタンナノ粒子をオルガノシランで処理する工程で反応時間が重要であることが分かる。時間が十分でないと、安定性の低いナノ粒子となり、時間が長すぎると、酸化チタンが沈殿する(50℃で8時間加熱すると沈殿を生じた)。処理プロセスの温度も重要であり、高すぎると、酸化チタンがIPA溶液から沈殿する。
例29〜34
様々な量のオルガノシランを用いた処理酸化チタンゾルの調製
1000gのIPAと49.1gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.25gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105gのTiOPrをゆっくりと添加することによって処理酸化チタンゾル(溶液A)を製造した。混合物を約72時間撹拌した。次に、溶液を6つの150g試料に分割し、その各々に種々異なる量のMAPTMSを添加し、溶液を50℃に加熱し、攪拌しながら50℃に5時間維持した。各試料に添加したMAPTMSの量を表5に示す。次に、PEA又はフェニルチオエチルアクリレート(PTEA)(Bimax社からBX−PTEAという商品名で市販)を各混合物に表5に示す量添加した。添加は、激しく攪拌しながら酸化チタンゾルにアクリレートをゆっくりと注ぐことによって行った。次に、減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃で各溶液から溶剤をストリッピングし、処理酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物を得た。各組成物について屈折率及び粘度を測定し、その値を表5に示す。純粋なPEA及びPTEAの屈折率はそれぞれ1.52及び1.562と、また純粋なPEA及びPTEAの粘度はそれぞれ10cP及び9cPと測定された。
様々な量のオルガノシランを用いた処理酸化チタンゾルの調製
1000gのIPAと49.1gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.25gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105gのTiOPrをゆっくりと添加することによって処理酸化チタンゾル(溶液A)を製造した。混合物を約72時間撹拌した。次に、溶液を6つの150g試料に分割し、その各々に種々異なる量のMAPTMSを添加し、溶液を50℃に加熱し、攪拌しながら50℃に5時間維持した。各試料に添加したMAPTMSの量を表5に示す。次に、PEA又はフェニルチオエチルアクリレート(PTEA)(Bimax社からBX−PTEAという商品名で市販)を各混合物に表5に示す量添加した。添加は、激しく攪拌しながら酸化チタンゾルにアクリレートをゆっくりと注ぐことによって行った。次に、減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃で各溶液から溶剤をストリッピングし、処理酸化チタンナノ粒子/UV重合性組成物を得た。各組成物について屈折率及び粘度を測定し、その値を表5に示す。純粋なPEA及びPTEAの屈折率はそれぞれ1.52及び1.562と、また純粋なPEA及びPTEAの粘度はそれぞれ10cP及び9cPと測定された。
表5の結果から、処理酸化チタンゾルを含有する重合性組成物は、重合性材料単独よりも優れたRIを示すことが分かる。粘度の測定結果から、酸化チタンナノ粒子のMAPTMSでの官能化量が、得られる硬化性組成物の粘度に有意な影響をもつことが分かる。MAPTMSの量を増やすと、粘度が下がる。理論的には、多量のオルガノシランから得られる処理酸化チタンナノ粒子は安定性が高まり、互いに相互作用し難い、つまり重合性化合物を含有する混合物中で凝集し難いと説明される。
例35〜37
処理酸化チタンゾルから製造した硬化フィルム
1002.6gのIPAと49.02gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.32gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.14gのTiOPrをゆっくりと添加することによって酸化チタンゾルを製造した。混合物を約24時間撹拌した後、13.86gのMAPTMSを添加した。混合物を攪拌しながら50℃に5時間加熱した。溶液を室温まで放冷し、激しく攪拌しながら、564.4gの冷却溶液に56.7gのPEAをゆっくりと添加した。減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃でPEA含有溶液から溶剤をストリッピングした(溶剤除去の視認し得る兆候がなくなるまで)。最終溶液(溶液B)の屈折率及び粘度は、剪断速度7.5 l/秒及び温度25℃で1.5811及び158.2cPであった。
処理酸化チタンゾルから製造した硬化フィルム
1002.6gのIPAと49.02gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.32gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.14gのTiOPrをゆっくりと添加することによって酸化チタンゾルを製造した。混合物を約24時間撹拌した後、13.86gのMAPTMSを添加した。混合物を攪拌しながら50℃に5時間加熱した。溶液を室温まで放冷し、激しく攪拌しながら、564.4gの冷却溶液に56.7gのPEAをゆっくりと添加した。減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃でPEA含有溶液から溶剤をストリッピングした(溶剤除去の視認し得る兆候がなくなるまで)。最終溶液(溶液B)の屈折率及び粘度は、剪断速度7.5 l/秒及び温度25℃で1.5811及び158.2cPであった。
0.059gのIrgacure819(Ciba Specialty Chemicals社製)を10.03gの溶液Bに溶解して塗布溶液を調製し、表6の条件で塗布することによって硬化フィルム(例35〜37)を製造した。表6には、硬化フィルムの色測定値及び光透過率も示す。
例38
表6の例38は、2.06gの溶液Bと0.03gのDarocur4265との混合物をシリコンウェーハに速度800rpm及びスピン時間20秒にてスピンコートすることによって製造した。ランプ−コーティング距離2.1インチ、ベルト速度16フィート/分にてHバルブを用い、窒素雰囲気内でランプ下方に試料を2回通過させることによって、コーティングを硬化した。硬化フィルムの屈折率を表6に示す。
表6の例38は、2.06gの溶液Bと0.03gのDarocur4265との混合物をシリコンウェーハに速度800rpm及びスピン時間20秒にてスピンコートすることによって製造した。ランプ−コーティング距離2.1インチ、ベルト速度16フィート/分にてHバルブを用い、窒素雰囲気内でランプ下方に試料を2回通過させることによって、コーティングを硬化した。硬化フィルムの屈折率を表6に示す。
表6の結果から、オルガノシラン処理酸化チタンゾルから、光学特性の良好な硬化フィルムが得られることが分かる。
例39〜42
例39〜42は、溶液BとRDX51027との混合物から製造した。例39及び40は、0.97gのRDX51027及び0.0221gのIrgacure819を4.00gの溶液Bに溶解した溶液から製造した。この塗布溶液を積層法にてポリカーボネートフィルムに塗布し、Vバルブで硬化した。積層条件及び得られた硬化フィルムの光学特性を表7の例39及び40の欄に示す。
例39〜42は、溶液BとRDX51027との混合物から製造した。例39及び40は、0.97gのRDX51027及び0.0221gのIrgacure819を4.00gの溶液Bに溶解した溶液から製造した。この塗布溶液を積層法にてポリカーボネートフィルムに塗布し、Vバルブで硬化した。積層条件及び得られた硬化フィルムの光学特性を表7の例39及び40の欄に示す。
例41及び42は、2.00gのRDX51027及び0.03gのIrgacure819を4.00gの溶液Bに溶解した溶液から製造した。例39及び40と同様に、この塗布溶液を積層し、硬化した。積層条件及び硬化フィルムの光学特性を表7の例41及び42の欄に示す。
例43〜49
処理酸化チタンゾル/UV重合性組成物の黄色度を下げるための有機アミンの使用
例43〜49では、1000gのIPAと24.5gの濃塩酸(37重量%HCl)と14.3gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.0gのTiOPrをゆっくりと添加することによって、処理酸化チタンゾル(ゾルC)を製造した。混合物を室温で2週間撹拌した後、20.63gのMAPTMSを添加した。混合物を攪拌しながら50℃に5時間加熱した。ゾル(ゾルC)を室温まで放冷した後、使用した。
処理酸化チタンゾル/UV重合性組成物の黄色度を下げるための有機アミンの使用
例43〜49では、1000gのIPAと24.5gの濃塩酸(37重量%HCl)と14.3gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.0gのTiOPrをゆっくりと添加することによって、処理酸化チタンゾル(ゾルC)を製造した。混合物を室温で2週間撹拌した後、20.63gのMAPTMSを添加した。混合物を攪拌しながら50℃に5時間加熱した。ゾル(ゾルC)を室温まで放冷した後、使用した。
例43の製造では、激しく攪拌しながら、20gのPEAを200gのゾルCに添加した。溶液を丸底フラスコに移し、減圧下で作動する回転エバポレータを用いて、40〜50℃で溶液から溶剤をストリッピングした(溶剤除去の視認し得る兆候がなくなるまで)。得られた材料は、赤橙色、低粘度の透明液体であった。溶液のRI、YI及び色を測定し、表8に示す。
例44〜46の製造では、表8に示す処方に従って、激しく攪拌しながら、トリエチルアミン(TEA)を所定量のゾルCに添加した。次に、激しく攪拌しながら、所定量のPEAをゆっくりと添加した。例43と同様に、溶液から溶剤をストリッピングした。溶液のRI及び色を表8に示す。
驚くべきことに、少量の有機アミンを処理酸化チタンゾルに添加すると、色が著しく低下した処理酸化チタンゾル/UV重合性希釈剤組成物が得られることが分かった。処理酸化チタンゾルへの有機アミンの添加量は、最適な色改善効果が得られるように注意深く選択することができる。
酸化チタンゾルに有機塩基を添加すると色改善効果が得られるが、塩基の量は安定なゾルが得られるように選択しなければならない。例47の製造では、激しく攪拌しながら、例6の処理酸化チタンゾル100gに2.0gのTEAを添加した。TEAの添加後、溶液は乳白色になり、約1分後に沈殿物を含む粘稠な白色のゼラチン状材料を形成した。例48でTEAの量を0.5gに減らすと、沈殿のない透明な溶液となった。攪拌しながら、10gのPEAを第2溶液に添加し、その後減圧及び温度約40℃で溶剤を除去した。得られた処理酸化チタンナノ粒子/PEA混合物は、透明な低粘度の薄黄色の液体であった。
例49〜52
例49〜52の製造では、例43〜46の酸化チタン/UV重合性組成物を重量比1:1のRDX51027及び0.5重量%のDarocur4265と配合した。次に混合物を積層法でポリカーボネートフィルム上に塗布し、Hバルブで硬化した。こららの試料について得たヘーズ及び透過率データを表9に示す。
例49〜52の製造では、例43〜46の酸化チタン/UV重合性組成物を重量比1:1のRDX51027及び0.5重量%のDarocur4265と配合した。次に混合物を積層法でポリカーボネートフィルム上に塗布し、Hバルブで硬化した。こららの試料について得たヘーズ及び透過率データを表9に示す。
表9に示すように、有機塩基を用いて製造した処理酸化チタンゾルから得られるゾル含有アクリレートの硬化フィルムは、着色が少なく、低いヘーズ及び良好な光透過率を示す。少量の有機塩基が、重合性組成物への高屈折率添加剤として優れた安定な処理酸化チタンゾルを与え、結果的に良好な色及び良好な光学特性を有する硬化材料をもたらすという予想外の知見が得られた。
例53〜56
ラジカル重合に非反応性のオルガノシランで処理した処理酸化チタンゾルの製造
ゾルDの製造では、1005gのIPAと49.4gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.3gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.7gのTiOPrをゆっくりと添加した。混合物を室温で4日間攪拌した後、使用した。
ラジカル重合に非反応性のオルガノシランで処理した処理酸化チタンゾルの製造
ゾルDの製造では、1005gのIPAと49.4gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.3gの脱イオン水の混合物に、激しく攪拌しながら、105.7gのTiOPrをゆっくりと添加した。混合物を室温で4日間攪拌した後、使用した。
例53の製造では、3.99gのMAPTMSを333gのゾルDに添加し、得られた溶液を攪拌しながら50℃に5時間加熱した。溶液を室温まで放冷し、激しく攪拌しながら、15gのPEAを150gの冷却溶液にゆっくりと添加した。回転エバポレータを用いて、減圧下40〜50℃で溶剤をストリッピングした。得られた材料は、赤橙色、低粘度の透明な液体であった。得られた色及び屈折率データを表10に示す。
例54の製造では、激しく攪拌しながら、1.30gのヘキサメチルジシラザン(HMDZ)を333gのゾルDにすばやく添加した。HMDZの添加後すぐに沈殿が認められ、減圧濾過で沈殿を溶液から除去した。分析の結果、この沈殿は塩化アンモニウムであると考えられる。激しく攪拌しながら、15gのPEAを150gの濾過溶液にゆっくりと添加した。上述したように溶剤をストリッピングした。溶剤ストリッピング過程で、沈殿が生じ、これを減圧濾過で除去した。分析の結果、この沈殿は塩化アンモニウムであると考えられる。濾過溶液は低粘度の透明な液体であった。この溶液の色及び屈折率を測定し、結果を表10に示す。
ゾルEは、105gのTiOPrと1000gのIPAと49.1gの濃塩酸(37重量%HCl)と5.3gの脱イオン水から製造した。混合物を室温で約12時間撹拌した。
例55は、3.99gのMAPTMSと333gのゾルEから製造し、溶液を50℃に5.5時間加熱した。この混合物150.1gに15.2gのPEAをゆっくりと添加し、上述したように溶剤を除去した。溶液の屈折率を測定したところ、1.5691であった。
例56の製造では、3.19gのフェニルトリメトキシシランを333gの溶液Eに添加し、攪拌しながら50℃に5.5時間加熱した。溶液を室温まで放冷し、激しく攪拌しながら、15.1gのPEAを150.1gの溶液にゆっくりと添加した。得られた溶液から溶剤をストリッピングし、溶液の屈折率を測定したところ、1.5739であった。
ゾルFは、210gのTiOPr、2000gのIPA、98.1gの濃塩酸(37重量%HCl)及び10.5gの脱イオン水から製造した。混合物を室温で約24時間撹拌した。
ゾルGは、6.4gのフェニルトリメトキシシランを400gのゾルFに添加し、50℃に約5時間加熱して製造した。
ゾルHは、7.3gのフェネチルトリメトキシシランを400gのゾルFに添加し、50℃に約5時間加熱して製造した。
例57の製造では、激しく攪拌しながら、12gのPEAを120gのゾルGにゆっくりと添加し、その後溶剤をストリッピングした。溶液の色及び屈折率を表10に示す。
例58の製造では、激しく攪拌しながら、0.4gのTEAを120gのゾルGに添加し、次いで激しく攪拌しながら、12gのPEAをゆっくりと添加した。溶剤をストリッピングした後得られた材料は、薄黄色の低粘度の透明液体であった。色測定の結果を表10に示す。
例59の製造では、激しく攪拌しながら、12gのPEAを120gのゾルHにゆっくりと添加し、その後溶剤を除去した。溶液の色及び屈折率を表10に示す。
表10の結果から分かるように、フェニルトリメトキシシランやフェネチルトリメトキシシランのような高屈折率オルガノシランを用いて酸化チタンゾルを官能化すると、高屈折率の酸化チタンゾル/UV重合性組成物が得られる(例56〜59)。
例57〜59の酸化チタン/アクリレート混合物を重量比1:1のRDX51027及び0.5重量%のDarocur4265と配合した。次に溶液を積層法でポリカーボネートフィルム上に塗布し、速度100%及び圧力30psiにてHバルブ下で硬化した。これらの試料(例60〜62)について得られたヘーズ及び透過率データを表11に示す。
表11に示す結果から、有機塩基を処理酸化チタンゾルに添加すると、得られた硬化材料(例61)は、有機塩基で処理されていないゾル(例60)と比較して、着色が少ないことが分かる。
ゾルIは、105gのTiOPr、1000gのIPA、24.53gの濃塩酸(37重量%HCl)及び14.33gの脱イオン水から製造した。混合物を室温で約24時間撹拌した。
ゾルJは、10gのMAPTMSを500gのゾルIに添加し、50℃に約5時間加熱して製造した。
ゾルKは、9.88gのジフェニルジメトキシシランを500gのゾルIに添加し、50℃に約5時間加熱して製造した。
例63の製造では、激しく攪拌しながら、12gのPEAを120gのゾルJにゆっくりと添加した。上述したように、溶剤をストリッピング除去した。溶液の色及び屈折率を表12に示す。
例64の製造では、激しく攪拌しながら、0.4gのTEAを120gのゾルJにゆっくりと添加した。激しく攪拌しながら、12gのPEAをゆっくりと添加した。溶剤をストリッピング除去した。溶液の色及び屈折率を表12に示す。
例65は、例63の方法に準じて12gのPEA及び120gのゾルKから製造した。溶液の色及び屈折率を表12に示す。
例66は、例64の方法に準じて0.65gのTEA、120gのゾルJ及び12gのPEAから製造した。得られた溶液の色及び屈折率を表12に示す。
表12からさらに、少量の有機塩基を処理酸化チタンゾルに添加するのが、得られる酸化チタンゾル/UV重合性組成物の色を減少させるのに有効であることが分かる。いずれもゾルJとTEAを含有する例64及び66は、塩基を含有しない例63と比較して、着色(YI)が格段に少ない。酸化チタンナノ粒子の処理に高屈折率オルガノシランを用いる利点も明らかである。ジフェニルジメトキシシランを含有する例65の材料は、低屈折率オルガノシランであるMAPTMSを含有する例63よりも高い屈折率を有する。
以上、本発明を好ましい実施形態について説明してきたが、本発明の要旨から逸脱することなく、種々の改変が可能であり、また構成要素を均等物で置き換え得ることは当業者に明らかである。さらに、本発明の要旨から逸脱することなく、個々の状況や材料を本発明に適合させる多くの変更が可能である。従って、本発明はその最良の実施形態と思料される上述の好ましい実施形態に限定されず、本発明は特許請求の範囲に属するあらゆる実施形態を包含する。
Claims (10)
- 金属酸化物ナノ粒子の製造方法であって、
金属アルコキシドを、アルキルアルコール、水及び酸を含有する酸性アルコール溶液で加水分解して、金属酸化物ナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、
第一ゾルをオルガノシランで処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第二ゾルを形成し、
第二ゾルを、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第三ゾルを形成する
ことを含んでなる方法。 - 前記金属がチタン、セリウム、ジルコニウム又はスズであり、前記アルコキシドが線状又は枝分れC1−C12アルコキシドである、請求項1記載の方法。
- 前記酸が酸/金属アルコキシドのモル比が約0.1:1〜約2:1となる量で存在し、前記水が水/金属アルコキシドのモル比が約0.1:1〜約5:1となる量で存在する、請求項1記載の方法。
- 前記有機塩基が線状又は枝分れC1−C12アルキルアミンである、請求項1記載の方法。
- さらに、重合性化合物を第三ゾルに配合して混合物を形成し、この混合物から溶剤を除去して重合性組成物を形成することを含む、請求項1記載の方法。
- 前記重合性組成物が、ASTM D1925に準拠して光路長1mmで測定して約30未満の黄色度を呈する、請求項5記載の方法。
- さらに、開始剤を第三ゾルに配合することを含む、請求項5記載の方法。
- 請求項5記載の重合性組成物の硬化によって製造される光学製品又は調光フィルム。
- 酸化チタンナノ粒子の製造方法であって、
アルキルアルコールと水/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約5:1となる量の水と酸/チタンテトラアルコキシドモル比が約0.1:1〜約2:1となる量の酸とを含有する酸性アルコール溶液でチタンテトラアルコキシドを加水分解して、酸化チタンナノ粒子を含む第一ゾルを形成し、
第一ゾルをオルガノシランで処理して、処理酸化チタンナノ粒子を含む第二ゾルを形成し、
第二ゾルを、有機塩基/酸のモル比が約0.1:1〜約0.9:1となる量の有機塩基で処理して、処理酸化チタンナノ粒子を含む第三ゾルを形成する
ことを含んでなる方法。 - さらに、重合性化合物を第三ゾルに配合して混合物を形成し、この混合物から溶剤を除去して重合性組成物を形成することを含む、請求項9記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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JP2005075723A true JP2005075723A (ja) | 2005-03-24 |
Family
ID=34104757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004247896A Withdrawn JP2005075723A (ja) | 2003-08-29 | 2004-08-27 | 金属酸化物ナノ粒子、その製造方法及び使用方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
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US (2) | US7169375B2 (ja) |
EP (1) | EP1510557B1 (ja) |
JP (1) | JP2005075723A (ja) |
KR (1) | KR20050021881A (ja) |
CN (1) | CN100384779C (ja) |
AT (1) | ATE402227T1 (ja) |
DE (1) | DE602004015210D1 (ja) |
TW (1) | TW200526514A (ja) |
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-
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- 2004-08-16 TW TW093124564A patent/TW200526514A/zh unknown
- 2004-08-26 EP EP04255166A patent/EP1510557B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-08-26 DE DE602004015210T patent/DE602004015210D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-26 AT AT04255166T patent/ATE402227T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-08-27 KR KR1020040067780A patent/KR20050021881A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-08-27 JP JP2004247896A patent/JP2005075723A/ja not_active Withdrawn
- 2004-08-30 CN CNB2004100748517A patent/CN100384779C/zh not_active Expired - Fee Related
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KR20210068434A (ko) | 2018-09-27 | 2021-06-09 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 무기산화물입자를 포함하는 아크릴계 코팅 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE602004015210D1 (de) | 2008-09-04 |
ATE402227T1 (de) | 2008-08-15 |
EP1510557B1 (en) | 2008-07-23 |
EP1510557A2 (en) | 2005-03-02 |
TW200526514A (en) | 2005-08-16 |
US20080275170A1 (en) | 2008-11-06 |
CN100384779C (zh) | 2008-04-30 |
KR20050021881A (ko) | 2005-03-07 |
EP1510557A3 (en) | 2006-01-11 |
US20050063898A1 (en) | 2005-03-24 |
US7169375B2 (en) | 2007-01-30 |
CN1597616A (zh) | 2005-03-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070626 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20080131 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090130 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100201 |