JP2007314773A - 高屈折率粒子含有樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】高屈折率粒子を含有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含む重合性組成物を重合して得られる、屈折率（ｎ^２３ _ｄ）がＹの高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の含有量Ｘ（質量％）とＹとの間にＹ≧０．００３５Ｘ＋１．５２（式中、２０≦Ｘ≦６０、Ｙ≦２．０）が、成り立つ高屈折率樹脂組成物とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、高屈折率粒子を含有する樹脂組成物に関する。より詳しくはコーティング、レンズなどの光学用途に使用可能な高屈折率の樹脂組成物に関する。

従来、各種レンズにはガラス製レンズが用いられてきたが、比重が大きく、各種用途において要望されている軽量、薄型化に十分対応できないこと、成形性、加工性にも問題があることから、軽量で機械的強度が高く、加工成型が容易な樹脂系レンズが注目されている。しかしながら、樹脂は屈折率が低いためレンズの厚みを薄くすることが困難であった。また、これまで樹脂そのものの屈折率を高めようとする検討がなされてきたが、屈折率（ｎ_Ｄ）が１．６を超えるものを得ることは難しかった。

一方、近年ナノ粒子が着目されている。ナノ粒子とは一般に１次粒子径が１００ｎｍ以下の粒子を言い、それぞれの粒子が１００ｎｍ以下であれば、凝集しても単独に存在していてもナノ粒子である。ナノ粒子には金属元素の種類に応じて多数の種類の酸化物が存在する。これらのナノ粒子の中には屈折率が２．４といった高い値を示すものがあり、高屈折率を有する金属ナノ粒子をベースの樹脂に添加することで、より高屈折率の材料を得ようとする動きが強まっている。

例えば特許文献１には、酸性基と塩基性基の両方でナノ粒子表面が修飾されたナノ粒子と電子供与性を有するポリマーとのナノコンポジットの例示がある。しかし、本願発明者らの検討によれば、この表面修飾粒子は（メタ）アクリルモノマーとの相溶性が低いものであり、分散性が悪く、得られるナノコンポジットの透明性は低いものであった。

また、非特許文献１には、ドデシルベンゼンスルホン酸被覆酸化チタンナノ粒子が紹介されている。しかしながら、屈折率の低いドデシルベンゼンスルホン酸を使用しているため被覆されたナノ粒子全体での屈折率は低く、さらに本願発明者らの検討によれば、（メタ）アクリルモノマーへの相溶性も低いものである。従って、得られるナノコンポジットの透明性は低いものであることが予想された。

金属ナノ粒子をベースの樹脂に添加する手段としては、ナノ粒子を樹脂やモノマーに混合する方法（例えば混練）や、ナノ粒子を樹脂やモノマー中で対応する前駆体から製造する方法（ゾル−ゲル法）のような方法があるが、一般的にはナノ粒子を分散した溶媒とＵＶ硬化性の液体モノマーを均一に混合し、その後に重合反応をおこなって樹脂を得る方法が採用される場合が多い。

特許文献２には、複合金属酸化物とＵＶ硬化性モノマーの混合物が例示されている。ここで使用される複合金属酸化物はナノ粒子の表面が未処理のものである。

実施例中では作製した混合物を使用して２０ミクロンの薄膜を作製し、ヘイズを測定し高透明性をうたっているが、レンズなどの厚膜の作製例は存在しない。実際にはこの混合物で厚膜を作成した場合、濁りが生じる問題がある。またこの混合物は安定性に劣り、経時的に濁りを生じるといった不都合がある。

特許文献３には高透明性のナノコンポジット材料を作成することができる金属酸化物コロイドの例が例示されているが、ここで使用される表面処理剤（分散助剤）としては、低屈折率のものの例示があるだけである。屈折率を上げるためには、樹脂やモノマーより高屈折率であるナノ粒子を大量に添加する必要があり、これによりコンポジットの高粘度化や成形性の容易性が失われる。

また、市販されているシランカップリング剤等の表面処理剤で、ナノ粒子表面を処理すると、被覆されたナノ粒子の屈折率が低いものになってしまうという欠点があった。非特許文献１に記載の被覆されたナノ粒子は屈折率が低いため、樹脂の屈折率を向上させるには大量の添加が必要であるという欠点があった。

特許文献４には、高透明、高屈折率、低複屈折を目的として、２官能（メタ）アクリレート化合物と平均粒径が２０ｎｍの酸化チタンとから成る重合性組成物を硬化させた樹脂成形体が例示されている。本願発明者らの検討によれば、平均粒径が大きいために、透過率（透明性）の低下及びヘイズの増大という問題点があった。また、表面処理剤が屈折率の低いシランカップリング剤であるために、平均粒径が小さいナノ粒子を用いた場合には、特に表面処理剤の必要量が大きく増え、その結果、屈折率が低下するという問題が生じると考えられる。
特開２００３−７３５５８号公報 特開２００４−１７６００６号公報 特表２００２−５２１３０５号公報 特開２００５−３１４６６１号公報 Journal of Nanoparticle Research 4：319−323，2002

本発明は、高屈折率粒子を含有する樹脂組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは上記の課題を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の化学構造を有する表面処理剤を粒子の表面処理に用いると、高い屈折率を維持し、かつ（メタ）アクリルモノマーに対する相溶性に優れた粒子を得ることができ、これを高屈折率モノマーと混合・重合することで高屈折率樹脂組成物を得ることができることを見出し、かかる知見に基づいて本発明に到達した。

即ち、本発明の第一の要旨は、少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含む重合性組成物を重合して得られる、屈折率（ｎ^２３ _ｄ）がＹの高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の含有量Ｘ（質量％）とＹとの関係が、下記（１）式で表されることを特徴とする高屈折率樹脂組成物にある。
Ｙ≧０．００３５Ｘ＋１．５２ （１）
（式中、２０≦Ｘ≦６０、Ｙ≦２．０）

また、本発明の第二の要旨は、少なくとも表面処理剤で被覆された粒子、及び重合性モノマーを含む重合性組成物を重合して得られる、屈折率（ｎ^２３ _ｄ）が１．６６以上の高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の量が組成物全量基準で、２０質量％以上、６０質量％以下である高屈折率樹脂組成物にある。

本発明の第三の要旨は、上記第二の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、上記粒子の平均粒径が１０ｎｍ以下であることを特徴とする。

本発明の第四の要旨は、上記第一〜第三の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、重合性モノマーが（メタ）アクリルモノマーであることを特徴とする。

本発明の第五の要旨は、上記第一〜第四の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、表面処理剤の少なくとも１つが、粒子に対して吸着性及び／又は反応性を有する部分（Ａ）、被覆粒子に重合性モノマーに対する相溶性を付与する部分（Ｂ）、及び高屈折率を有する部分（Ｃ）を含むことを特徴とする。

本発明の第六の要旨は、上記第五の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、部分（Ａ）が、イオン結合性基、上記粒子と反応して共有結合を形成する基、あるいは水素結合性基または配位結合基のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第七の要旨は、上記第六の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、イオン結合性基が、酸性基またはその塩、塩基性基またはその塩のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第八の要旨は、上記第六又は第七の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、粒子と反応して共有結合を形成する基が、−Ｓｉ（ＯＲ^１）_３、−Ｔｉ（ＯＲ^２）_３、イソシアネート基、エポキシ基、エピスルフィド基、水酸基、チオール基、ホスフィンオキサイド、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基のいずれかであることを特徴とする。
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子または炭素数１〜２５の炭化水素基、または芳香族基を表す。）

本発明の第九の要旨は、上記第五〜第八の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、部分（Ｂ）が、（メタ）アクリル基、ポリアルキレングリコール基、芳香族基のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第十の要旨は、上記第五〜第九の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、部分（Ｃ）が、少なくとも一つの硫黄原子と一つの芳香環から構成され、かつ表面処理剤自体の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）が１．５５以上であることを特徴とする。

本発明の第十一の要旨は、上記第一〜第十の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、上記粒子が金属酸化物であることを特徴とする。

本発明の第十二の要旨は、上記第十一の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする。

本発明の第十三の要旨は、上記第一〜第十二の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、重合性モノマーが、少なくとも下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表わされる多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことを特徴とする。

（式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｇ、及びｈはそれぞれ独立して、１〜６の整数を表わす。）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｉ、ｊ、ｋ、及びｌは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示す。）

本発明の第十四の要旨は、上記第一〜第十三の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物において、厚さ２．０ｍｍにおける、７００ｎｍでの光線透過率が８０％以上であることを特徴とする。

本発明の第十五の要旨は、上記第一〜第十四の要旨にかかる本発明の重合性組成物にある。

本発明の第十六の要旨は、上記第一〜第十四の要旨にかかる本発明の高屈折率樹脂組成物からなる光学部材にある。

本発明の第十七の要旨は、撮影用光学部品である上記第十六の要旨にかかる本発明の光学部材にある。

本発明の第十八の要旨は、少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含むことを特徴とする重合性組成物であり、該表面処理剤の少なくとも１つが粒子に対して吸着性及び／又は反応性を有する部分（Ａ）、被覆粒子に重合性モノマーに対する相溶性を付与する部分（Ｂ）、及び高屈折率を有する部分（Ｃ）を含むことを特徴とする重合性組成物にある。

本発明の第十九の要旨は、上記第十八の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、重合性モノマーが（メタ）アクリルモノマーであることを特徴とする。

本発明の第二十の要旨は、上記第十八又は第十九の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、表面処理剤を除いた粒子の含有量が２０質量％以上、６０質量％以下であることを特徴とする。

本発明の第二十一の要旨は、上記第十八〜第二十の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、部分（Ａ）が、イオン結合性基、上記粒子と反応して共有結合を形成する基、あるいは水素結合性基または配位結合基のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第二十二の要旨は、上記第二十一の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、イオン結合性基が、酸性基またはその塩、塩基性基またはその塩のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第二十三の要旨は、上記第二十一又は第二十二の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、上記粒子と反応して共有結合を形成する基が、−Ｓｉ（ＯＲ^１）_３、−Ｔｉ（ＯＲ^２）_３、イソシアネート基、エポキシ基、エピスルフィド基、水酸基、チオール基、ホスフィンオキサイド、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基のいずれかであることを特徴とする。
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子または炭素数１〜２５の炭化水素基、または芳香族基を表す。）

本発明の第二十四の要旨は、上記第十八〜第二十三の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、部分（Ｂ）が、（メタ）アクリル基、ポリアルキレングリコール基、芳香族基のいずれかであることを特徴とする。

本発明の第二十五の要旨は、上記第十八〜第二十四の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、部分（Ｃ）が、少なくとも一つの硫黄原子と一つの芳香環から構成され、かつ表面処理剤自体の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）が１．５５以上であることを特徴とする。

本発明の第二十六の要旨は、上記第十八〜第二十五の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、上記粒子が金属酸化物であることを特徴とする。

本発明の第二十七の要旨は、上記第二十六の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする。

本発明の第二十八の要旨は、上記第十八〜第二十七の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、重合性モノマーが、少なくとも下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表わされる多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことを特徴とする。

（式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｇ、及びｈはそれぞれ独立して、１〜６の整数を表わす。）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｉ、ｊ、ｋ、及びｌは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示す。）

本発明の第二十九の要旨は、上記第十八〜第二十八の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時に、７００ｎｍでの光線透過率が８０％以上であることを特徴とする。

本発明の第三十の要旨は、上記第十八〜第二十九の要旨にかかる本発明の重合性組成物において、重合開始剤が添加されてなることを特徴とする。

本発明の高屈折率粒子を含有する樹脂組成物は透明で、高屈折率の光学材料に用いることができる。

以下、本発明の実施の形態につき詳細に説明する。

本発明は、少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含む重合性組成物を重合して得られる高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の含有量Ｘ（質量％）と高屈折率樹脂組成物の屈折率Ｙ（ｎ^２３ _ｄ）との関係が、下記（１）式で表されることを特徴とする高屈折率樹脂組成物である。
Ｙ≧０．００３５Ｘ＋１．５２ （１）
（式中、２０≦Ｘ≦６０、Ｙ≦２．０）
Ｙ＜０．００３５Ｘ＋１．５２（２０≦Ｘ≦６０）の領域では、粒子量に対する屈折率が低いために、樹脂に粒子を加えた利点が無く、また、屈折率を上げるためには非常に多くの粒子を添加する必要があり、流動性が悪くなる等取り扱いが困難になることが予想される。

（粒子）
本発明に用いられる粒子の種類としては、酸化チタンや酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムスズ、酸化アンチモン、酸化セレン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、ＣｄＯ、ＰｂＯ、ＨｆＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_５等の酸化物；チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸カルシウムなどのチタン酸塩類；ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＰｄＳ、ＳｂＳｅ等の硫化物、セレン化物、テルル化物；ＧａＮ等の窒化物等が挙げられる。これらを１種類、または２種以上を混合して用いることができる。また、１種類の粒子に他の物質を被覆した、いわゆるコア−シェル型粒子を使用することもできる。これらの粒子の中で、好ましいのは、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸塩類、特に好ましいのは酸化チタン、酸化ジルコニウムである。

本発明に用いる粒子はそれぞれの化合物について種々製造法があるが、たとえば、ＴｉＯ_２の場合、ジャーナル・オブ・ケミカルエンジニアリング・オブ・ジャパン第１巻１号２１〜２８頁（１９９８年）や、ＺｎＳの場合は、ジャーナル・オブ・フィジカルケミストリー第１００巻４６８〜４７１頁（１９９６年）に記載された公知の方法を用いることができる。例えば、これらの方法に従えば、平均粒径５ｎｍの酸化チタンは、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）_４（チタンテトライソプロポキシド）やＴｉＣｌ_４を原料として適当な溶媒中で加水分解させることにより容易に製造することができる。また平均粒径４０ｎｍの硫化亜鉛はＺｎ（ＣＨ_３）_２や過塩素酸亜鉛を原料とし硫化水素あるいは硫化ナトリウムなどで硫化することにより製造することができる。

本発明では、平均粒径が１〜１００ｎｍの粒子を使用することができる。平均粒径を１００ｎｍ以下に抑えることにより、透明性の優れた樹脂組成物を調製することができる。粒子の平均粒径としては１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以下、特に好ましくは７ｎｍ以下である。ここで平均粒径はＸＲＤ（粉末Ｘ線解析）や透過型電子顕微鏡などで測定された値で示す。被覆前の粒子の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は、粒径にもよるが、通常ＴｉＯ_２の場合、２．０〜２．６、酸化ジルコニウムの場合１．８〜２．２である。

（表面処理剤）
本発明に用いられる表面処理剤の種類として、少なくとも一つは、粒子に対して吸着性及び／又は反応性を有する部分（Ａ）、被覆粒子に重合性モノマーに対する相溶性を付与する部分（Ｂ）、および高屈折率を有する部分（Ｃ）を含むものである。
これら３つの部分構造は本発明の効果を損なわない限りは、特に順番を特定されるものではなく、また、性能に影響を及ぼさない範囲内で、別の部分構造（Ｄ）が任意の位置に導入されていてもよい。別の部分構造（Ｄ）としては、例えば炭素数１〜２０程度の炭化水素基、または芳香族基を挙げることができる。

下記は、（Ａ）〜（Ｃ）の順列の例示である。
１）（Ａ）−（Ｂ）−（Ｃ）
２）（Ａ）−（Ｃ）−（Ｂ）
３）（Ｂ）−（Ａ）−（Ｃ）

表面処理剤で被覆された粒子に重合性モノマーに対して相溶性を付与する部分（Ｂ）（以下、相溶性基（Ｂ）と称する場合がある。）と高屈折率部分（Ｃ）は、一つの構造が（Ｂ）と（Ｃ）の二つの機能を併せ持っていても良い。このような構造としては以下に示す構造が例示できる。

より好ましい（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の組み合わせとしては、吸着性または反応性を有する部分（Ａ）が末端にある、上記１）または２）の構造である。

吸着性とは、処理後粒子との共有結合ではなく、イオン結合、キレート結合、あるいは水素結合で結び付けられる基を指す。一方、反応性を有する基とは処理後の粒子と共有結合を形成することのできる基を指す。

吸着性または反応性を有する部分（Ａ）としては、酸性基、塩基性基、反応性基、水酸基、チオール基のいずれも使用することができる。具体的には、カルボン酸、リン酸、リン酸エステル、亜リン酸エステル、ホスホン酸、スルホン酸、スルフィン酸などの酸性基またはその塩；アミンなどの塩基性基またはその塩；−Ｓｉ（ＯＲ^１）_３、−Ｔｉ（ＯＲ^２）_３、イソシアネート基、エポキシ基、エピスルフィド基等の反応性基；水酸基、チオール基、ホスフィンオキサイドのいずれかを用いることができる。（式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子または炭素数１〜２５の炭化水素基、または芳香族基を表す。）吸着性または反応性を有する部分（Ａ）としては、粒子表面が塩基性である場合に酸性基が有効であり、粒子表面が酸性である場合には塩基性基が有効である。

また、重合性モノマーと相溶性のある部分（Ｂ）は、（メタ）アクリル基、ポリアルキレングリコール基、フェニル基のいずれかを用いることができる。具体的にはポリアルキレングリコール基としてはポリエチレングリコール基、ポリプロピレングリコール基を用いることができる。

高屈折率部分（Ｃ）は少なくとも一つの硫黄原子と一つの芳香環から構成され、表面処理剤自体の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）１．５１以上、さらに好ましくは１．５５以上であるものを用いることができる。表面処理剤自体の屈折率としては好ましくは１．５１〜１．８、さらに好ましくは１．５５〜１．８のものが使用される。ここで屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）とはナトリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）の波長で２５℃の温度で測定した数値を指す。

（高屈折率部分の例示）
部分（Ｃ）として以下に示す構造を例示することができる。

例１

（式中、Ｘは、水素または炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を示す。ｍは１〜４の整数である。）

例２

（式中、ｎは０〜４の整数、Ｘは、水素または炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を示す。ｍは１〜４の整数である。）

例３

（式中、ｎ、ｏはそれぞれ独立した０〜４の整数、Ｘは、水素または炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を示す。ｍは１〜４の整数である。）

例４

（式中、Ｘは、水素または炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を示す。ｍは１〜４の整数である。）

例５

（式中、Ｘは、水素または炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を示す。ｍは１〜４の整数である。）

（表面処理剤の例示）
上述した部分（Ａ）〜（Ｃ）を組み合わせた具体的化合物としては、以下に示す化合物を例示することができる。

例１
フェニルチオ酢酸（（Phenylthio）acetic Acid）、S-Phenylthioglycolic Acid）

例２
下記構造式で表される化合物１

（式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表わし、ｇは１〜６の整数を表わす。）

例３
下記構造式で表される化合物２

（式中、ａ、ｂ、ｄはそれぞれ独立して１〜６の整数を表す。）

例４
下記構造式で表される化合物３

（式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表わし、ｇおよびｇ’は、それぞれ独立して１〜６の整数を表わす。）

例５
下記構造式で表される化合物４

（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を表わし、ｈおよびｉは、それぞれ独立して、１〜
６の整数を表わす。）

例６
下記構造式で表される化合物５

（式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表わし、ｈ、ｈ’およびｉは、それぞれ独立して、１〜６の整数を表わす。）

（その他の表面処理剤）
本発明における表面処理剤には、分散性の向上等を目的として、前記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）を有する表面処理剤以外の表面処理剤を併用しても構わない。例えば、硫黄原子を含まない分散剤としては、フェニルホスホン酸等のホスホン酸類、フェニルリン酸等のリン酸類、フェニルスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、安息香酸、フェニルプロピオン酸、ジフェニル酢酸、４−フェニル安息香酸、フタル酸、フェニルコハク酸、フェニルマロン酸等のカルボン酸類、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のシランカップリング剤等が挙げられる。

（粒子の表面処理方法）
表面処理剤の粒子表面への処理方法としては、溶媒混合法が通常用いられる。具体的には、粒子の溶媒分散液と表面処理剤の溶液を用意しておき、それを混合すること、粒子の溶媒分散液に表面処理剤を添加すること等で表面処理された粒子を得ることができる。粒子の分散溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール類；エチレングリコールなどの多価アルコール類およびその誘導体；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルジメチルアセトアミドなどのケトン類；ジメチルエーテル、ＴＨＦ、等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；トルエン、キシレンなどの非極性溶媒；２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートなどのアクリレート類その他一般の有機溶媒が使用できる。分散溶媒の量は通常粒子１００質量部に対して１００〜５０００質量部、好ましくは１００〜２０００質量部である。

また、必要に応じて分散剤として、ポリカルボン酸系の分散剤やシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、変性シリコーンオイル等のシリコーン系分散剤や有機共重合体系の分散剤などの公知のものを併用することも可能である。

ここで得られた粒子は、そのまま使用しても良いし、再沈精製、膜精製等の方法で精製して使用しても良い。
混合時の濃度、ｐＨ、混合時間は通常用いられる範囲で任意に選択することができる。
粒子と表面処理剤の量比は粒子：表面処理剤＝１：０．０１〜１：１０の間で任意に選択することができる。表面処理剤を多く使用すると屈折率が低下するため、通常は１：０．０１〜１：２の範囲程度、好ましくは１：０．０１〜１である。

本発明の高屈折率粒子は重合性モノマー、好ましくは高屈折率モノマーと混合し、ＵＶ等の光硬化、熱硬化により成型品へとし、高屈折率樹脂組成物として使用する。

（重合性モノマー）
本発明の重合性モノマーには特に制限はなく、粒子が分散可能なものであれば特に制限はない。具体的には光硬化性モノマー又はオリゴマーあるいはこれらの複合物、熱硬化性モノマー又はオリゴマーあるいはこれらの複合物が挙げられる。光硬化性モノマーとしては、（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。本発明において（メタ）アクリレートとは、メタクリレートのみならず、アクリレートも含まれる。

（重合モノマーの例示）
（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、分子内に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。

単官能メタクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェニルグリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリロイルフォスフェート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ベンジルチオエチル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサメチレンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０^２，６]デカン＝ジ（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。

また、（メタ）アクリルモノマー以外のモノマーを、相溶性を損なわない範囲で混合しても良い。混合可能なモノマーとしては、スチレン系化合物、（メタ）アクリル酸誘導体、（メタ）アクリル酸、Ｎ−ビニルアミド化合物を挙げることができる。

スチレン系化合物としては、スチレン、クロルスチレン、ビニルトルエン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。

（メタ）アクリル酸誘導体としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。

Ｎ−ビニルアミド化合物としては、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミドを挙げることができる。

重合性モノマーの中でも好ましいのは、高屈折率モノマーである。

（高屈折率モノマー）
高屈折率モノマーとは、通常屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）１．５５以上、好ましくは１．５７以上のモノマーを示す。高屈折率（メタ）アクリルモノマーとしては、下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表わされる分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物を例示することができる。

（式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｇ、ｈはそれぞれ独立して１〜６の整数を表わす。）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｉ、ｊ、ｋ、及びｌは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示す。）
を例示することができる。

また、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（以下、ＭＰＳＭＡ）等も高屈折率モノマーとして例示される。融点が６４℃と室温で固体であることから、室温で液体である重合性モノマーに溶解して用いることが好ましい。

本発明の重合性組成物には物性を調整する目的で、これら重合性モノマーを適宜併用しても構わない。

（重合性組成物の製造方法）
表面処理粒子含有重合性組成物の製造方法としては、重合性モノマーに表面処理された粒子を混合することによって得られる。例えば、重合性モノマーが溶解した溶液に粒子の溶液を混合した後、溶媒を除去する方法、粒子を分散した溶液に重合性モノマーを加えた後に、溶媒を除去する方法、粒子分散液に前記表面処理剤を添加する際同時に重合性モノマーを添加し、溶媒を除去する方法等が挙げられる。溶媒の除去にはエバポレーションが好適に用いられる。この際、粒子に凝集がある場合は、適時分散処理をかけても良い。

分散処理としては例えば、超音波分散機による分散処理や、ビーズミル、ペイントシェーカー等による分散方法など、いずれの方法も用いることができる。また混合の際、溶媒を用いずに無溶媒で粒子と重合性モノマーを混合し、直接分散にかける方法もある。いずれの方法も溶媒の有り・無、溶媒除去のタイミングは適宜選択することができる。粒子と重合性モノマーの混合方法としてはこの方法に限らずいずれの方法も有効である。

また、組成物中の粒子の量は「表面処理剤を除いた粒子の量として」２０質量％〜６０質量％、特に好ましくは３０質量％〜５０質量％である。粒子の量が少なすぎると屈折率の上がり幅が小さいため、高屈折率の樹脂組成物を得ることが難しい。また、添加量が多すぎると重合性組成物の流動性が低くなり、成型することが困難になる。表面処理剤を除いた粒子の量は、仕込み比から計算するか、若しくは得られた重合性組成物をＴＧ−ＤＴＡなどの方法で有機分を除去すること（熱重量分析）や元素分析により得ることができる。

本発明において、重合性組成物中の重合性モノマーの量としては、通常２０〜８０質量％、特に好ましくは３０〜７０質量％であり、重合性モノマーが少なすぎると、得られる樹脂組成物が脆くなるといった問題があり、重合性モノマーの量が多すぎると、屈折率の高い樹脂組成物が得られない。

本発明の重合性組成物は透明性が優れており、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した場合、７００ｎｍでの光線透過率が、通常８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。低すぎると、得られる樹脂組成物の透過率が低くなり、光学部材として用いることが困難となる。

重合性組成物の粘度は通常、３０℃で１００ｍＰａ．ｓ〜３００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１００〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは１００〜５０，０００ｍＰａ・ｓである。粘度が高いと、成型時に型に流し込むことが困難になる。また粘度が低すぎると、型のすき間へ組成物が入り込み、以降の工程に支障をきたす可能性があるため低すぎることも問題となる。

＜樹脂組成物の製造方法＞
（開始剤）
樹脂組成物は、通常、重合性組成物に重合開始剤を含有させ硬化させることによって得られる。

重合開始剤としては、紫外線、可視光線などの活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する光重合開始剤、加熱によりラジカルを発生する熱重合開始剤が挙げられる。通常は光重合開始剤又は光重合開始剤と熱重合開始剤を併用する。

光重合開始剤としては、この用途に用い得ることが知られている公知の化合物を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドが好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

光重合開始剤は、重合性樹脂組成物中のラジカル重合可能な化合物の合計を１００質量部としたとき、通常０．００１質量部以上、好ましくは０．０２質量部以上、更に好ましくは０．０５質量部以上である。その上限は、通常５質量部以下、好ましくは３質量部以下、更に好ましくは１質量部以下である。光重合開始剤の添加量が多すぎると、重合が急激に進行し、硬化体の複屈折を大きくするだけでなく色相も悪化するおそれがある。一方、少なすぎると組成物が十分に重合しないおそれがある。

熱重合開始剤としては、この用途に用い得ることが知られている公知の化合物を用いることができる。例えば、ハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等の一方の水素原子が炭化水素基で置換されているハイドロパーオキサイド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。

なかでも、ジクミルパーオキサイド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルハイドロパーキサイドなどが挙げられる。これらの重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

熱重合開始剤は、重合性樹脂組成物中のラジカル重合可能な化合物の合計を１００質量部としたとき、通常０．１質量部以上、好ましくは０．５質量部以上、更に好ましくは０．８質量部以上である。その上限は、通常１０質量部以下、好ましくは５質量部、更に好ましくは２質量部以下である。熱重合開始剤が多すぎると、成形型内で重合性組成物を光重合させた後、脱型して熱重合させるに際し重合が急激に進行し、得られる樹脂成形体の複屈折を大きくするだけでなく色相も悪化するおそれがある。一方、少なすぎると熱重合が充分に進行しないおそれがある。

光重合開始剤と熱重合開始剤を併用する場合、その質量比は、通常１：１〜１００、好ましくは１：２〜２０である。熱重合開始剤が少なすぎると重合が不十分であり、多すぎると着色のおそれがある。

本発明に用いる重合性組成物には、得られる樹脂成形体の物性を損なわない範囲で、上記以外の成分を含んでもよい。このような成分としては、重合性樹脂組成物中のラジカル重合可能な化合物、連鎖移動剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、染顔料、充填剤、離型剤などが挙げられる。また、残溶媒や水を若干含んでいる場合もある。

（成型方法）
本発明における粒子を使用した高屈折率樹脂組成物を用いて光学材料を得ることができる。具体的には、例えば、該高屈折率樹脂組成物をＵＶ等の光硬化、熱硬化等の手法により成形する方法が挙げられる。

（光硬化）
本発明に係る樹脂組成物は、上述の重合性組成物を少なくとも一面が光を透過しうる材料で構成された成形型内に注入し、光照射して硬化させた後、脱型することにより得ることができる。光を透過しうる材料としては、透明性のよい樹脂を用いることもできるが、通常は光の照射を受けても劣化したり、変形したりしないようにガラスを用いるのが好ましい。成形型のキャビティの深さ（＝生成する樹脂成形体の厚さ）は通常１０ｍｍ以下、好ましくは５ｍｍ以下であり、通常５０μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上である。薄すぎると機械的強度が小さく、本発明の方法によっても成形するのが難しい。厚すぎると成形時に歪みが発生するため、等方的な成形体が得られない。
照射する光の波長としては、光重合開始剤の吸収波長等にもよるが、１００〜８００ｎｍ、好ましくは２００〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００〜５００ｎｍである。波長が短すぎると樹脂の劣化を促進する場合があり、長すぎると光重合開始剤が吸収しない場合がある。

照射する光の照射量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範囲であれば任意であるが、紫外線の照射量が少なすぎると重合が不十分で得られる樹脂組成物の耐熱性、機械特性が十分に発現されず、一方、多すぎると得られる樹脂組成物が黄変するなど光による劣化を生じるので、照度１０〜５０００ｍＷ／ｃｍ^２、時間０．１秒〜３０分間、照射量０．０１〜１０，０００Ｊ／ｃｍ^２で照射するのが好ましい。紫外線の照射を複数回に分割して行うと、複屈折が小さい樹脂成形体を得ることができる。紫外線源としては、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ、無電極水銀ランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。重合をすみやかに完了させる目的で、光重合と熱重合を同時に行ってもよい。

光照射により得られた樹脂組成物は、更に加熱してもよい。これにより重合反応の完結及び重合時に発生した内部歪みを低減することが可能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度に合わせて適宜選択されるが、通常、ガラス転移温度付近かそれ以下の温度で行われ、好ましくは５０℃〜２５０℃である。また、加熱時間は、１分〜１週間、好ましくは３０分〜３日、さらに好ましくは、１時間〜１日である。加熱温度が高すぎたり、加熱時間が長すぎると得られる樹脂成形体に色相悪化をもたらすおそれがある。加熱時の雰囲気は、空気中、窒素やアルゴン等の不活性ガス中、真空中等で行なうことが出来る。加熱は好ましくは脱型後に行う。

このようにして得られる本発明に係る樹脂組成物は、無機粒子が均一に分散し、光学的な配向性をもたない。

また、樹脂組成物の屈折率（ｎ^２３ _ｄ）は、１．６６以上、好ましくは１．７以上、特に好ましくは１．７５以上である。屈折率の上限は特に限定されないが、通常２．０以下程度である。ここで、樹脂組成物の屈折率（ｎ^２３ _ｄ）は、ｄ線（５８７．６ｎｍ）の波長で２３℃の温度で測定した数値を指す。

樹脂組成物中の粒子の量は、前記の重合性組成物と同様に「表面処理剤を除いた粒子の量として」２０質量％〜６０質量％、特に好ましくは３０質量％〜５０質量％である。粒子の量が少なすぎると屈折率の上がり幅が小さいため、高屈折率の樹脂組成物を得ることが難しい。また、添加量が多すぎると硬化前の重合性組成物の流動性が低くなり、成型することが困難になる。表面処理剤を除いた粒子の量は、仕込み比から計算するか、若しくは得られた樹脂組成物をＴＧ−ＤＴＡなどの方法で有機分を除去すること（熱重量分析）や元素分析により得ることができる。

厚さ１．０ｍｍの樹脂組成物の全光線透過率は、７０％以上、特に７５％以上であり、無機粒子を含有するにもかかわらず、光線透過率が大きい。また、厚さ２．０ｍｍにおける、７００ｎｍでの光線透過率が８０％以上である。好ましくは、８３％以上、さらに好ましくは８５％以上である。低すぎると、透明性が低いために、光学部材として用いることが困難という問題点がある。

樹脂組成物のオーク社製複屈折測定装置にて２５℃で測定した複屈折は、通常１０ｎｍ以下、特に５ｎｍ以下と複屈折が小さく、光学的に均質である。樹脂組成物の鉛筆硬度は通常２Ｂ〜４Ｈ、好ましくはＢ〜４Ｈである。樹脂組成物のＴｇ（ガラス転移温度）は通常７０℃以上、好ましくは１００℃以上である。

（光学部材）
本発明の樹脂組成物は、光学用コーティング剤、ハードコート剤、光学部材として使用することが可能であるが、なかでも光学部材が好ましい。光学部材とは、光学レンズ、光学フィルム、光学フィルター、光学シート、光学薄膜、導光板、光導波路、撮像用光学部品等が挙げられる。なかでも撮像用光学部品が好ましい。

撮像用光学部品の一例として光学レンズについて述べると、本発明の樹脂組成物は高屈折特性ゆえ、光学系の全長を短縮、すなわち小型化できるというメリットを持つことは容易に理解できる。また、本発明の樹脂組成物は注型成形可能であるため、型を作製すれば球面、非球面を問わず成形が可能である。また、前記光学レンズ形状も両凸、両凹、メニスカス等の形状制約を受けない。前記光学レンズはスティルカメラやデジタルカメラ、光ピックアップ装置、携帯情報端末ビデオカメラ等の撮像部分や、投影装置、各種計測装置、信号装置等に広く使用可能である。

次に合成例、実施例、比較例により本発明を更に説明する。
（表面処理剤・重合性組成物の屈折率の測定法）
各表面処理剤・重合性組成物の屈折率は、２５℃となるように恒温槽の水を循環させたアタゴ社製アッベ屈折率計ＤＲ−Ｍ２を用いて、ナトリウムＤ線の波長（波長５８９ｎｍ）光の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）を測定した。

（樹脂組成物の透明性判別方法）
得られた樹脂組成物（２ｍｍ厚さ）を目視で判断し、濁りの無いものを相溶性が良好であると判断した。

（重合性組成物・樹脂組成物の透過率スペクトルの測定法）
重合性組成物・樹脂組成物の透過率スペクトルは、ヒューレット・パッカード（現社名：アジレント・テクノロジー）社製８４５３型紫外可視分光光度計にて室温で測定した。重合性組成物は光路長２．０ｍｍの石英製セルに入れ、空気をブランクとして測定した。樹脂組成物は２．０ｍｍ厚の板を空気をブランクとして測定した。

（硬化物の屈折率の測定方法）
２３℃となるように恒温槽の水を循環させたカルニュー社製精密屈折計ＫＰＲ−２を用いて、波長５８７．６ｎｍ（ｄ線）光の屈折率（ｎ^２３ _ｄ）を測定した。

（熱重量分析（ＴＧ）による粒子量の測定法）
セイコー電子工業（株）（現社名：エスアイアイ・ナノテクノロジー（株））社製ＴＧ−ＤＴＡ３２０を用い、２００ｍＬ／分の空気気流下、アルミニウム製皿上で測定を行った。加熱条件は、昇温速度を１０℃／分と設定し、室温から６００℃（サンプル直下の実測温度は５９５℃前後）まで昇温するという条件で行った。初期の量から、減量分を引いた量を粒子の量とし、重合性組成物や樹脂組成物中の粒子の質量％を算出した。
また、粒子と表面処理剤の比を求める際には、昇温速度を１０℃／分と設定し、室温から設定温度１４０℃（サンプル直下の実測温度は１３０℃程度）まで昇温後３０分間保持し、次いで設定温度６００℃（サンプル直下の実測温度は５９５℃前後）まで昇温するという条件で行った。１３０℃以下での減量は溶媒等の飛散による減量と考え、１３０℃から６００℃での減量を粒子中の有機物（主に表面処理剤）の量とした。また、６００℃で有機分の除去が不完全の場合は、白金製の皿を用い、設定温度７００℃まで昇温した。

（粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ）パターンの測定・粒径（結晶子サイズ）の算出）
粉末Ｘ線回折パターンは、オランダＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ（旧Ｐｈｉｌｉｐｓ）社製ＰＷ１７００を用いて測定した。測定条件は、Ｘ線出力（ＣｕＫα）：４０ｋＶ，３０ｍＡ、走査軸：θ／２θ、走査範囲（２θ）：５．０−８０．０°、測定モード：Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ、読込幅：０．０５°、走査速度：３．０°／ｍｉｎ、スリット ＤＳ：１°、ＳＳ：１°、ＲＳ：０．２ｍｍとした。

結晶子サイズ（Ｄ）は式（１）で表されるＳｃｈｅｒｒｅｒ式に基づき算出した。なお、Ｓｃｈｅｒｒｅｒ定数（Ｋ）＝０．９、Ｘ線（ＣｕＫα１）波長（λ）＝１．５４０５６Åとし、ＣｕＫα１線由来のブラッグ角（θ）及びＣｕＫα１線由来の半価幅（β０）はＭＤＩ社製のＪＡＤＥ５．０＋を用いてプロファイルフィッティング法（Ｐｅａｓｏｎ−VII関数）により算出した。また、計算に用いた試料由来のＣｕＫα１線由来の半価幅（β）はあらかじめ標準Ｓｉにより求めておいたＣｕＫα１線由来の回折角（２θ）とＣｕＫα１線由来の装置由来半価幅の回帰曲線からβｉを算出し、式（２）を用いて補正した。
Ｓｃｈｅｒｒｅｒ式
Ｄ＝Ｋ・λ／β・ｃｏｓθ 式（１）
半価幅補正式
β＝（β０^２−βｉ^２）^１／２ 式（２）

＜合成例１＞
（酸化チタン粒子の合成）
３００ｍｌの３つ口フラスコ内部を濃塩酸で３回洗浄した。次いで、１００ｍｌの脱塩水をフラスコに加える。窒素で系中を脱気した。４ｍｌの濃塩酸を加え、氷浴につけて、温度を１０℃以下に維持した。そこに４ｍｌのＴｉＣｌ_４を、シリンジを用いて、２ｍｌ／分の速度で滴下した。得られた溶液を１０℃以下で１０分間攪拌後、オイルバスに移し６０℃で１時間攪拌した。得られた酸化チタン粒子溶液を、真空ポンプを用いて真空下で水を留去した。得られた白色粉末にＴＨＦ／ＥｔＯＨ（１：１混合）溶液を加えて、超音波洗浄機で超音波を照射し、透明な１０質量％酸化チタン粒子溶液Ａを得た。酸化チタンの粒径を、ＸＲＤ（粉末Ｘ線解析）を用いて測定したところ３ｎｍであった。

＜合成例２＞
（表面処理剤１の合成）
攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた１リットルの四ツ口フラスコに、４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン(１００ｇ)、メタクリル酸メチル(東京化成(株)：２７０g)、ハイドロキノンモノメチルエーテル(東京化成(株)：０．１３７ｇ)及びトルエン(関東化学(株)：２００ｇ)を仕込み、攪拌しながら８０℃まで昇温したところへ、テトラブチルチタネート(東京化成(株)：２．８ｇ)を加えた。その後更に昇温し、１００〜１２０℃で８時間、メタノールを留去させながら反応を行った。反応後、過剰のメタクリル酸メチルを除去し、その後、反応溶液を室温まで冷却した。この溶液にトルエン１００ｇを加え、５％塩酸水溶液１５０ｇ、続いて５％水酸化ナトリウム水溶液１５０ｇで洗浄し、更に中性になるまで１５０ｇで３回水洗浄した。この溶液にハイドロキノンモノメチルエーテル０．１３５ｇを加え、減圧下でトルエンを留去し、粗生成物を得た。粗生成物をn−ヘキサン−酢酸エチル系のシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、次式で示される表面処理剤１（３２．４ｇ）を得た。表面処理剤１の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６４であった。
表面処理剤１

＜合成例３＞
（表面処理剤２の合成）
表面処理剤１(３２．４ｇ)をフラスコ内に入れ、アセトン(関東化学(株)：３０ｇ)に溶けた無水コハク酸(東京化成(株)：７．７５ｇ)、トリエチルアミン(関東化学(株)：０．７４６ｇ)を加えて混合し、６０℃で３時間撹拌した。その後、５％塩酸水溶液１５０ｇ１回、水１５０ｇで３回洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧乾燥を行い、次式で表される表面処理剤２(２７.５ｇ)を得た。表面処理剤２の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６０であった。
表面処理剤２

＜合成例４＞
（表面処理剤３の合成）
合成例２における４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン（１００ｇ）の代わりに２，２‘−[パラ−フェニレンビス(メチレンチオ)]ジエタノール（２３６．３ｇ）を用いる以外は合成例２と同様に行い、次式で表される表面処理剤３（１８．９ｇ）を得た。表面処理剤３の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５８であった。
表面処理剤３

＜合成例５＞
（表面処理剤４の合成）
合成例３における表面処理剤１（３２．４ｇ）の代わりに表面処理剤３（１８．９ｇ）を用いる以外は合成例３と同様に行い、次式で表される表面処理剤４（１６．５ｇ）を得た。表面処理剤４の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５４であった。
表面処理剤４

＜合成例６＞
（表面処理剤５の合成）
合成例２における４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン（１００ｇ）の代わりにベンジルクロライド（東京化成(株)：５００ｇ）を用いる以外は合成例２と同様に行い、次式で表される表面処理剤５（６４０ｇ）を得た。表面処理剤５の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５７であった。
表面処理剤５

＜合成例７＞
（表面処理剤６の合成）
合成例３における表面処理剤１（３２．４ｇ）の代わりに表面処理剤５（１００ｇ）を用いる以外は合成例３と同様に行い、次式で表される表面処理剤６（７０ｇ）を得た。表面処理剤６の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５４であった。
表面処理剤６

＜合成例８＞
（表面処理剤７の合成）
合成例７で合成した表面処理剤６（７．０３ｇ）及びトリフェニルフォスフィン（東京化成（株）：１６．４３ｇ）をフラスコ内に入れ、容器内を窒素で置換した後、窒素気流下、乾燥テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略記、１００ｍＬ）を加えて内容物を完全に溶解した。氷浴上にフラスコを移し、窒素気流下、撹拌しながら四臭化炭素（東京化成（株）：２０．７７ｇ）を少量ずつ加えた後、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた濃縮液を減圧濾過した。濾紙上に残った固体をｎ−ヘキサン（純正化学（株）：５０ｍＬ）で二回洗浄し、濾液と洗液を合わせて減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をｎ−ヘキサン−酢酸エチル系のシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、２−（ベンジルチオ）エチルブロマイド（６．５６ｇ）を得た。

２−（ベンジルチオ）エチルブロマイド（６．５６ｇ）をフラスコ内に入れ、容器内を窒素で置換した後、窒素気流下でトリス（トリメチルシリル）フォスファイト（東京化成（株）：２５．４２ｇ）を加えて混合し、１２０℃で１１時間撹拌した後、撹拌しながら８５℃に冷却し、減圧下にて過剰のトリス（トリメチルシリル）フォスファイトを除去し、反応混合物量の減少が見られなくなったところで室温に冷却した。容器内を窒素で常圧に戻した後、ＴＨＦ／水＝１００／１（体積比）（２０．２ｍＬ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、エタノールを加えて溶解し、再度減圧濃縮した。残留物にクロロホルムを加えて溶解して得られた溶液をシリカゲルカラムに通し、カラムをクロロホルムで洗浄した。カラムを通した溶液と洗浄液をあわせて減圧濃縮し、室温で真空乾燥させた（３．５ｇ）。表面処理剤７の予想される屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５４である。
表面処理剤７

＜合成例９＞
（フェニルチオ酢酸被覆酸化チタン粒子の製造）
市販のフェニルチオ酢酸（(Phenylthio)acetic acid、S-Phenylthioglycolic acid）東京化成工業（株）製）３ｇを２７ｇのＴＨＦに溶解し、フェニルチオ酢酸１０質量％溶液を得た。この溶液にゆっくりと合成例１で得られた１０質量％酸化チタン粒子溶液Ａ７０ｇを滴下し、透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ａを得た。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１０＞
（表面処理剤１被覆酸化チタン粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤１に変更した以外は、合成例９と同様に行った。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｂが得られた。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１１＞
（表面処理剤２被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤２に変更した以外は、合成例９と同様に行った。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｃが得られた。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１２＞
（表面処理剤３被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤３に変更した以外は、合成例９と同様に行った。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｄが得られた。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１３＞
（表面処理剤４被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤４に変更した以外は、合成例９と同様に行った。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｅが得られた。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１４＞
（表面処理剤５被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤５に変更した以外は、合成例９と同様に行った。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｆが得られた。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％であった。

＜合成例１５＞
（表面処理剤６被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤６に変更した以外は、合成例９と同様に行う。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｇが得られる。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％である。

＜合成例１６＞
（表面処理剤７被覆粒子の製造）
フェニルチオ酢酸を表面処理剤７に変更した以外は、合成例９と同様に行う。透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｈが得られる。被覆酸化チタン粒子中の表面処理剤の量は３０質量％である。

＜比較合成例１＞ シランカップリング剤処理された粒子
市販のシランカップリング剤ＫＢＭ−５０３（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製）３ｇを２７ｇのＴＨＦに溶解し、１０質量％溶液を得た。この溶液にゆっくりと１０質量％酸化チタン粒子溶液Ａ７０ｇを滴下し、８０℃で３時間過加熱して透明な被覆酸化チタン粒子溶液Ｅが得られた。

＜比較合成例２＞ 表面処理されていない粒子
合成例１酸化チタン粒子の合成で合成された１０質量％酸化チタン粒子溶液そのものを用いた。

＜比較合成例３＞
メタノールに分散されたＳｎＯ_２−ＴｉＯ_２−ＺｒＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_５複合金属酸化物（日産化学工業株式会社製の商品名：サンコロイド ＨＩＴ−３０１Ｍ１、複合金属酸化物濃度）：３０質量％、平均粒径：５〜１５ｎｍ）を用いた。分散液は濁っていた。

＜比較合成例４＞
１０質量％酸化チタン粒子溶液Ａ４０ｇに１０質量％ドデシルベンゼンスルホン酸ＴＨＦ溶液１０ｇを加えて、白濁した被覆酸化チタン粒子溶液Ｆを得た。分散液は濁っていた。

実施例１
合成例９の３０質量％被覆粒子溶液１０ｇ（ＴｉＯ_２＝０．７ｇ、表面処理剤＝０．３ｇ）に下記化学式で表されるモノマー１（（メタ）アクリルモノマー１）を１．３３ｇ添加し、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去する。
（メタ）アクリルモノマー１（モノマー１）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２はメチル基を表わし、ｈは２、ｉは１の整数を示す。）

その結果、透明な重合性組成物Ａが得られる。これに、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（チバガイギー社製「ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ」）０．１質量部、ベンゾフェノン（東京化成社製）０．１質量部およびジアルキルパーオキサイド系熱重合開始剤（日本油脂株式会社製「パーミクルＤ」）１．０質量部を６０℃で均一になるまで撹拌し、重合性組成物を得る。得られた重合性組成物を、１．０ｍｍのスペーサーを介した２枚のガラス板からなる成形型内に注入し、ガラス面より距離２０ｃｍで上下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプの間にて５分間紫外線を照射し、重合を行う。脱型後、１６０℃で６０分間加熱して、樹脂組成物を得る。樹脂組成物の予想される硬化後屈折率を表１に示す。

実施例２
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１０の被覆粒子に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例３
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１１の被覆粒子に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例４
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１２の被覆粒子に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例５
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１３の被覆粒子に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例６
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１４の被覆粒子に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例７
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１５の被覆粒子に変更し、ＴｉＯ_２含量が４０質量％になるように仕込み比を変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例８
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１６の被覆粒子に変更し、ＴｉＯ_２含量が４０質量％になるように仕込み比を変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。

実施例９
合成例９の被覆粒子溶液を合成例１３の被覆粒子に変更し、モノマーを下記化学式で表されるモノマー２（（メタ）アクリレートモノマー２）に変更した以外は実施例１と同様にして行い透明な樹脂組成物を得る。
（メタ）アクリルモノマー２（モノマー２）

（式中、Ｒ^１１及びＲ^１２はメチル基を表わし、ｇは２の整数を表わす。）

比較例１〜４
合成例９の被覆粒子溶液を比較合成例１〜４の粒子に変更した以外は、実施例１と同様にして行い、樹脂組成物が得られた。

上記実施例及び比較例の結果を表１にまとめた。
ＴｉＯ_２添加時の屈折率

表１の結果からも明らかなように、本発明にかかる実施例１〜９においては、透明かつ硬化後の屈折率が高い樹脂組成物を得ることが出来ると予測できる。とくに、実施例２、３、４、及び９にかかる樹脂組成物の硬化後の屈折率は、１．７０以上の高い値を示すと予想できる。

これに対し比較例１の樹脂組成物は硬化後の屈折率が１．６０と、低いものであった。また、比較例２，３、及び４にかかる樹脂組成物は、濁りが出て透明と判断されず、硬化後の屈折率の測定は不能であった。

＜合成例１７＞
（酸化チタン粒子の合成２）
ナスフラスコ（５００ｍＬ）にｎ−ブタノール（純正化学（株）製）１５０ｇ及び超純水（脱塩水を超純水装置Ｍｉｌｌｉ−Ｑ Ｌａｂｏ（日本ミリポア（株）製）により精製）４．６４ｇを加えて溶解するまで攪拌した。これにチタン（IV）ｎ−ブトキシド（キシダ化学（株）製「チタン（IV）ｎ−ブトキシド・モノマー」）１１．８５ｇを加えたところ溶液は白濁した。１分間攪拌した後、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．７２３ｇ（和光純薬工業（株）製）をｎ−ブタノール２５ｍＬに溶かした溶液を攪拌しながら加えたところ、溶液は無色透明になった。室温で１時間攪拌した後、水冷式冷却管を装着して１２０℃に保持したオイルバス中で攪拌しながら７時間加熱した後、放冷して無色透明の酸化チタン粒子分散液を得た。得られた分散液をｎ−ブタノールで２５０ｍＬとなるように希釈し、吸収スペクトルを測定したところ、４００ｎｍ付近から立ち上がる酸化チタン特有の吸収スペクトルが確認された。

＜合成例１８＞
（酸化チタン粒子の合成３）
合成例１７と同様にして製造した酸化チタン微粒子分散液７５ｍＬをナスフラスコ（３００ｍＬ）に入れた。ここへｎ−ブタノール４５ｍＬ及び超純水３．２５ｇ加え、溶解するまで攪拌した。ここへチタン（IV）ｎ−ブトキシド（キシダ化学（株）製「チタン（VI）ｎ−ブトキシド・モノマー」）８．３０ｇを加えて、１分間攪拌し、さらに、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．２０６ｇをｎ−ブタノール２５ｍＬに溶かした溶液を攪拌しながら加えた。室温で１時間攪拌した後、水冷式冷却管を装着して１２０℃に保持したオイルバス中で攪拌しながら８時間加熱した後、放冷したところ、やや青白い透明な酸化チタン粒子分散液が得られた。得られた分散液の吸収スペクトルを測定すると、４００ｎｍ付近から立ち上がる酸化チタン特有の吸収スペクトルが得られた。

＜合成例１９＞
（酸化ジルコニウム粒子の合成）
３０分間窒素バブリングした２１００ｇのベンジルアルコール（純正化学（株）製）に、窒素バブリングしたまま７０重量％のジルコニウムプロポキシド １−プロパノール溶液（アルドリッチ製）４９０．１４ｇを加え、３０分間攪拌し、ここにオレイルアミン（東京化成工業（株）製）５６０．５８ｇを添加してさらに３０分攪拌した。調製した溶液をオートクレーブ（金属製の釜）に入れ、３０分間窒素バブリングした後、密閉して、２１０℃に加熱した。２４時間後加熱を止めて放冷し、乳白色スラリー状の溶液を得た。

＜合成例２０＞
（フェニルホスホン酸による酸化チタン粒子の表面処理１）
合成例１７で製造した酸化チタン粒子分散液２５０ｍＬにフェニルホスホン酸（東京化成工業（株）製）１．５ｇをエタノール３７．５ｍＬに溶解した溶液を攪拌しながら加えた。室温で１時間攪拌後、溶液は白濁しており、エタノール１００ｍＬ、脱塩水５００ｍＬを加え、さらに１５分間攪拌した。この溶液を５０ｍＬ遠沈管８本に移し、遠心分離（２５００ｇ×３分）すると白色沈殿が得られ、上澄みをデカンテーションにより除去した。ここへ、再び溶液を加え、遠心分離、デカンテーションにより沈殿を得るという操作をさらに２回繰り返すことで、すべての溶液を遠心分離した。８本の遠沈管それぞれにエタノール２ｍＬ、脱塩水４３ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５００ｇ×３分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。この操作を全部で５回繰り返した。さらに、８本の遠沈管それぞれにエタノール４５ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５００ｇ×５分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。エタノールの量を２５ｍＬとし、もう一度遠心分離、デカンテーションを行った。
得られた白沈の一部を真空乾燥し、得られた固体（２２ｍｇ）のＸＲＤパターンを測定した結果、アナターゼ型酸化チタンであることが確認された。また、１０１ピークについてプロファイルフィッティングを行い、粒径（結晶子サイズ）を計算したところ３２Åであった。また、熱重量分析を行い、１３０〜５９４℃での減量を有機物の燃焼に基づくものとし、残渣を表面処理した酸化チタン粒子中の無機物とし、表面処理した酸化チタン粒子中の有機物：無機物の質量比を求めたところ１７：８３であった。

＜合成例２１＞
（フェニルホスホン酸による酸化チタン粒子の表面処理２）
合成例１８で製造した酸化チタン粒子分散液をｎ−ブタノールで２５０ｍＬに希釈し、そこへフェニルホスホン酸１．５０ｇをエタノール３７．５ｍＬに溶解した溶液を攪拌しながら加えた。室温で１時間攪拌後、溶液は白濁しており、エタノール１００ｍＬ、脱塩水５００ｍＬを加え、さらに１５分間攪拌した。この溶液を５０ｍＬの遠沈管８本に移し、遠心分離（２５００ｇ×３分）すると白色沈殿が得られ、上澄みをデカンテーションにより除去した。ここへ、再び溶液を加え、遠心分離、デカンテーションにより沈殿を得るという操作をさらに２回繰り返すことで、すべての溶液を遠心分離した。８本の遠沈管それぞれにエタノール２ｍＬ、脱塩水４３ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５ｇ×３分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。この操作を全部で５回繰り返した。さらに、８本の遠沈管それぞれにエタノール４５ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５００ｇ×１０分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。得られた白沈の一部を真空乾燥し、得られた固体（５１ｍｇ）のＸＲＤパターンを測定した結果、アナターゼ型酸化チタンであることが確認された。また、１０１ピークについてプロファイルフィッティングを行い、粒径（結晶子サイズ）を計算したところ３９Åであった。また、熱重量分析を行い、１３０〜５９５℃での減量を有機物の燃焼に基づくものとし、残渣を表面処理した酸化チタン粒子中の無機物とし、表面処理した酸化チタン粒子中の有機物：無機物の質量比を求めたところ１１：８９であった。

＜合成例２２＞
（表面処理剤７による酸化チタン粒子の表面処理）
合成例１８と同様にして製造した酸化チタン粒子分散液をｎ−ブタノールで２５０ｍＬに希釈し、そのうち１５０ｍＬに合成例３０で合成した表面処理剤７；０．９０ｇをエタノール２５ｍＬに溶解した溶液を攪拌しながら加えた。溶液はすぐに白濁し、１時間攪拌後、エタノール６０ｍＬ、脱塩水３００ｍＬを加え、さらに３０分間攪拌した。この溶液を５０ｍＬの遠沈管４本に移し、遠心分離（２５００ｇ×３分）すると白色沈殿が得られ、上澄みをデカンテーションにより除去した。ここへ、再び溶液を加え、遠心分離、デカンテーションにより沈殿を得るという操作をさらに２回繰り返すことで、すべての溶液を遠心分離した。４本の遠沈管それぞれにエタノール２ｍＬ、脱塩水４３ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５００ｇ×３分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。この操作を全部で５回繰り返した。さらに、４本の遠沈管それぞれにエタノールを３０ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（１８００ｇ×３０分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。得られた白沈の一部を真空乾燥し（１２ｍｇ）、熱重量分析を行い、１３０〜７０１℃での減量を有機物の燃焼に基づくものとし、残渣を表面処理した酸化チタン粒子中の無機物とし、表面処理した酸化チタン粒子中の無機物とし、酸化チタン微粒子組成物中の有機物：無機物の質量比を求めたところ１９：８１であった。

＜合成例２３＞
（フェニルチオ酢酸による酸化ジルコニウム粒子の表面処理）
合成例１９で合成した酸化ジルコニウム粒子溶液１００ｇにフェニルチオ酢酸１０ｇ加え、室温で６時間攪拌した。その後エタノール４００ｍＬを加え、１時間攪拌した。この溶液を５０ｍＬの遠沈管４本に移し、遠心分離（２５００ｇ×３分）すると白色沈殿が得られ、上澄みをデカンテーションにより除去した。ここへ、再び溶液を加え、遠心分離、デカンテーションにより沈殿を得るという操作をさらに２回繰り返すことで、すべての溶液を遠心分離した。４本の遠沈管それぞれにエタノール４５ｍＬ加え、よく混合した後に遠心分離（２５００ｇ×３分）にかけ、上澄みをデカンテーションにより除去した。この操作を全部で４回繰り返した。得られた白沈を室温で真空乾燥することで、フェニルチオ酢酸で表面処理された酸化ジルコニウム粒子を得た。得られた固体のＸＲＤパターンを測定した結果、主に正方晶（空間群Ｐ４２/ｎｍｃ(空間群Ｎｏ．１３７)に属するＺｒＯ_２由来(ＩＣＣＤより発行されているＰＤＦの番号８９−７７１０を参照)）の酸化ジルコニウムのパターンが得られ、一部単斜晶を含んでいることを示唆するパターンが得られた。また、正方晶系の空間群P42/nmc(空間群No.137)に属するＺｒＯ_２由来の１０１ピークについて、プロファイルフィッティングを行い、結晶子サイズを計算したところ２３Åであった。また、熱重量分析を行い、１３０〜６９７℃での減量を有機物の燃焼に基づくものとし、残渣を表面処理した酸化ジルコニウム粒子中の無機物とし、表面処理した酸化ジルコニウム粒子中の有機物：無機物の質量比を求めたところ２０：８０であった。

＜合成例２４＞
（モノマー１／表面処理剤３混合物の合成）
攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた１０リットルの四ツ口フラスコに、パラ−キシレンジクロライド(東京化成(株)：１２９６ｇ)、水(６３６ｇ)、メタノール(関東化学(株)：１９０８ｇ)を添加し、系内を窒素置換した。次に、メルカプトエタノール(東京化成(株)：１２６６ｇ)を添加し、系内を６０℃まで昇温した。その後、２５％水酸化ナトリウム水溶液２４８４ｇを、系内温度が６０〜６５℃で滴下した。滴下終了後、３０分撹拌した後、水２５４４ｇを投入し、晶析を行った。その後、再結晶を２回行った後、乾燥させて２，２‘−[パラ−フェニレンビス(メチレンチオ)]ジエタノールを得た。次に、攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた１０リットルの四ツ口フラスコに、２，２‘−[パラ−フェニレンビス(メチレンチオ)]ジエタノール（１０３５ｇ）、シクロヘキサン(関東化学(株)：２０５１ｇ)を仕込み、撹拌しながら８０℃で共沸脱水を行った。その後５０℃まで冷却し、メタクリル酸メチル(東京化成(株)：１６１３g)、４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン 1−オキシルベンゾアート，フリーラジカル (東京化成(株)：０．０３１６ｇ)及びテトラブチルチタネート(東京化成(株)：４０．３２ｇ)を加えた。次に、８０〜８５℃まで昇温し、７時間、メタノールを留去させながら反応を行った。反応後、過剰のメタクリル酸メチルを除去した。この溶液にトルエン２７９４ｇ、５％塩酸水溶液１９０７ｇを加え、７０℃で洗浄した。続いて５％水酸化ナトリウム水溶液１７９９ｇで洗浄を2回行い、更に水１８００ｇでの洗浄を中性になるまで行った（３回）。この溶液を減圧下で溶剤留去し、粗生成物を得た。粗生成物をn−ヘキサン−酢酸エチル系のシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、モノマー１／表面処理剤３＝５２／４８（質量比、ＮＭＲより算出）、４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン 1−オキシルベンゾアート，フリーラジカル (東京化成(株)：０．００２質量部)に調整した。

＜合成例２５＞
（モノマー１／表面処理剤３混合物の合成）
合成例２４における、４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン 1−オキシルベンゾアート，フリーラジカルの代わりに、ハイドロキノンモノメチルエーテルを用い、その添加量を０．１質量部とする以外は合成例２４と同様に行い、モノマー１／表面処理剤３＝５２／４８（質量比、ＮＭＲより算出）を得た。

＜合成例２６＞
（モノマー１の合成）
合成例２５において、n−ヘキサン−酢酸エチル系のシリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、純度９５％以上（ＬＣ面積比より算出）のモノマー１を得た。得られたモノマー１の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５５であった。

＜合成例２７＞
（モノマー１／表面処理剤４混合物の合成）
モノマー１／表面処理剤３＝５２／４８（質量比）をフラスコ内に入れ、アセトン(関東化学(株)：３０ｇ)に溶けた無水コハク酸(東京化成(株)：７．７５ｇ)、トリエチルアミン(関東化学(株)：０．７４６ｇ)を加えて混合し、６０℃で３時間撹拌した。その後、５％塩酸水溶液１５０ｇ１回、水１５０ｇで３回洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで水分を除去した後、減圧乾燥を行い、モノマー１／表面処理剤４＝４２／５８（質量比、ＮＭＲより算出）を得た。

＜合成例２８＞
（モノマー２の合成）
攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた釜に、４，４′−ジクロロジフェニルスルフォン (４７．２ｋｇ)、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(７０．８ｋｇ)、炭酸カリウム(２７．３ｋｇ)を添加し、系内を窒素置換した。次に、メルカプトエタノール(２７．０ｋｇ)を、系内温度が１１０〜１２０℃で滴下した。滴下終了後、１１５〜１２０℃で３０分撹拌した後、水２９０ｋｇを投入し、晶析を行った。その後、再結晶を２回行った後、乾燥させて４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン得た。次に、攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた釜に、４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン(４３ｋｇ)、トルエン(１７０ｋｇ)を仕込み、撹拌しながら８０℃で共沸脱水を行った。その後冷却し、メタクリル酸メチル(１１４ｋg)、ハイドロキノンモノメチルエーテル(５７．４ｇ)、ジエチルヒドロキシルアミン(５７４ｇ)、テトラブチルチタネート(１．１５７ｋｇ)を加えた。その後昇温し、１００〜１２０℃で２８時間、メタノールを留去させながら反応を行った。反応後、過剰のメタクリル酸メチルを除去した。この溶液にトルエン１２３ｋｇ、５％塩酸水溶液５８ｋｇを加え、７０℃で洗浄した。続いて、ヘプタン６３ｋｇを加え、２５％水酸化ナトリウム水溶液５８ｋｇでの洗浄を４回行った。更に中性になるまで水５８ｋｇでの洗浄を３回行った。その後、この溶液にハイドロキノンモノメチルエーテル５７．４ｇ、ジエチルヒドロキシルアミン５７４ｇを加え、濾過した後、濾液を減圧下で留去した。この溶液にアセトン２７ｋｇ、メタノール３２ｋｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル４０ｇを加え、４０℃で１時間撹拌、１５℃で１５分撹拌後、再び濾過した。その濾液を脱溶剤した後、メタノール１７０ｋｇ投入して、冷却して結晶化させた。その白色固体を濾取し、メタノール４２ｋｇで洗浄し、再び濾取して粗生成物を得た。これに、ハイドロキノンモノメチルエーテル(東京化成(株)：０．１質量部)になるように添加調整し、減圧下で溶剤を除いた。得られたモノマー２の純度は９５％以上（ＬＣ面積比より算出）であった。得られたモノマー２の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６１であった。

＜合成例２９＞
（表面処理剤５の合成）
攪拌器、温度計、冷却管及び分離器を備え付けた２リットルの四ツ口フラスコに、ベンジルクロライド（５００ｇ）、メルカプトエタノール（３７０ｇ）、メタノール（１０００ml）に、３０％水酸化ナトリウム水（７０５ｇ）を６０℃で滴下した。滴下後、６０℃で1時間撹拌した後、水（５００ｇ）で中性になるまで洗浄した。その後、減圧下、脱溶剤を行い、表面処理剤５を得た。得られた表面処理剤５の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．５７であった。

＜合成例３０＞
（表面処理剤７の合成）
表面処理剤５（７．０３ｇ）及びトリフェニルフォスフィン（東京化成（株）：１６．４３ｇ）をフラスコ内に入れ、容器内を窒素で置換した後、窒素気流下、乾燥テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略記、１００ｍＬ）を加えて内容物を完全に溶解した。氷浴上にフラスコを移し、窒素気流下、撹拌しながら四臭化炭素（東京化成（株）：２０．７７ｇ）を少量ずつ加えた後、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた濃縮液を減圧濾過した。濾紙上に残った固体をｎ−ヘキサン（純正化学（株）：５０ｍＬ）で二回洗浄し、濾液と洗液を合わせて減圧濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をｎ−ヘキサン−酢酸エチル系のシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、２−（ベンジルチオ）エチルブロマイド（６．５６ｇ）を得た。２−（ベンジルチオ）エチルブロマイド（６．５６ｇ）をフラスコ内に入れ、容器内を窒素で置換した後、窒素気流下でトリス（トリメチルシリル）フォスファイト（東京化成（株）：２５．４２ｇ）を加えて混合し、１２０℃で１１時間撹拌した後、撹拌しながら８５℃に冷却し、減圧下にて過剰のトリス（トリメチルシリル）フォスファイトを除去し、反応混合物量の減少が見られなくなったところで室温に冷却した。容器内を窒素で常圧に戻した後、ＴＨＦ／水＝１００／１（体積比）（２０．２ｍＬ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、エタノールを加えて溶解し、再度減圧濃縮した。残留物にクロロホルムを加えて溶解して得られた溶液をシリカゲルカラムに通し、カラムをクロロホルムで洗浄した。カラムを通した溶液と洗浄液をあわせて減圧濃縮し、室温で真空乾燥させた（３．５ｇ）。

＜合成例３１＞
（モノマー２／表面処理剤１混合物の合成）
合成例２８で合成したモノマー２（８６８ｇ）をトルエン（８７０ｇ）で撹拌して溶解させた。その溶液に、メタノール（２７．４ｇ）に溶解させた水酸化ナトリウム（０．６８ｇ）を常温にて添加し、２時間撹拌した。その後、トルエン（８７０ｇ）を添加し、水（１５００ｇ）で洗浄を行った。続いて、アセトン５０％水溶液（１５００ｇ）で２５回洗浄した。そして、５％水酸化ナトリウム水溶液（１５００ｇ）、水（１５００ｇ）で洗浄した後、ハイドロキノンモノメチルエーテル(東京化成(株)：０．１質量部)になるように添加調整し、減圧下で溶剤を除いた。このモノマーの組成はモノマー２／表面処理剤１＝５８／４２（質量比、ＮＭＲより算出）であった。

＜合成例３２＞
（モノマー２／表面処理剤２混合物の合成）
合成例２７におけるモノマー１／表面処理剤３＝５２／４８（質量比）の代わりに、モノマー２／表面処理剤１＝５８／４２（質量比）を用いる以外は、合成例２７と同様に行い、モノマー２／表面処理剤２＝６０／４０（質量比、ＮＭＲより算出）を得た。

＜合成例３３＞
（表面処理剤６による酸化ジルコニウム粒子の両面処理）
合成例１９と同様にして作製した酸化ジルコニウム粒子溶液１００ｇに合成例７で合成した表面処理剤６を５ｇ加え、室温で３時間攪拌した。その後の操作は合成例２３と同様に行い、表面処理剤６で表面処理された酸化ジルコニウム粒子を得た。また、熱重量分析を行い、１３０〜５９５℃での減量を有機物の燃焼に基づくものとし、残渣を表面処理した酸化ジルコニウム粒子中の無機物とし、表面処理した酸化ジルコニウム粒子中の有機物：無機物の質量比を求めたところ、２２：７８であった。

実施例１０
合成例２０の分析用に取り出した分以外の粒子全量に完全に乾燥しない状態（エタノールで湿った状態）でＴＨＦ（純正化学（株）製：高速液体クロマト用）１５０ｍＬを加えて分散させ、ほぼ透明な分散液を得た。合成例２４で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を５．２ｇ加え、１０分攪拌後、エバポレーションにより３０ｍＬ程度に濃縮し、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液からエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化チタン粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６６であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９０％であった。得られた重合性組成物の７．９ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｋ．Ｋ．製）を７．９ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を６０℃に加温し、２．０ｍｍのスペーサーを介した２枚のガラス板からなる成形型内に注入し、室温まで冷ました後に、照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２（（株）オーク製作所製；紫外線照度計ＵＶ−Ｍ０２、受光器ＵＶ−４２（３３０〜４９０ｎｍ）により測定）となるように距離・位置を調整した拡散板（Ｅｄｍｕｎｄ Ｏｐｔｉｃｓ社製：ホログラフィックディフューザー、厚さ０．７６ｍｍ、拡散角度３０度）を装備したＬＥＤ（ＵＶ ＰＲＯＣＥＳＳ ＳＵＰＰＬＹ，ＩＮＣ製；ＬＥＤ ＣＵＲＥ−ＡＬＬ ４１５ ＳＰＯＴ；ピーク波長４１５ｎｍ）により上下から１０秒間光を照射した。さらに、スペーサーを外し、シャープカットフィルター（シグマ光機（株）製：ＳＣＦ−５０Ｓ−４２Ｌ；限界透過波長４２０ｎｍ）で上下を挟み、光照射機（ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株）製；ＵＶ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＣＥ ＵＬ７５０）により上下から３００秒間光を照射（７０ｍＷ／ｃｍ^２；（株）オーク製作所製；紫外線照度計ＵＶ−Ｍ０２、受光器ＵＶ−４２（３３０〜４９０ｎｍ）により測定）することで、硬化した。脱型後、空気中５０℃で１週間加熱して、透明な酸化チタン粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１１
合成例２０において酸化チタン粒子分散液を１５０ｍＬ、フェニルホスホン酸を０．７５ｇ、その後加えるエタノールを５０ｍＬ、脱塩水を２５０ｍＬとし、沈殿回収に用いる遠沈管の本数を４本とし、その後の洗浄工程は合成例２０と同様にして白沈を得た。得られた白沈全量に完全に乾燥しない状態でＴＨＦ（純正化学（株）製：高速液体クロマト用）１００ｍＬを加えて分散させ、ほぼ透明な分散液を得た。合成例２４で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を４．６５ｇ加え、１０分攪拌後、エバポレーションにより３０ｍＬ程度に濃縮し、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ、取除き、上澄み液からエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化チタン粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６３であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９１％であった。得られた重合性組成物の５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１０と同様にして硬化した。脱型後、空気中５０℃で３日間加熱して、透明な酸化チタン粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１２
合成例２１の分析用に取り出した分以外の粒子全量を完全に乾燥しない状態でＴＨＦ（純正化学（株）製：高速液体クロマト用）２００ｍＬを加えて分散させ、白濁した分散液を得た。合成例２４で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を５．２ｇ加え、１０分攪拌後、エバポレーションにより８０ｍＬ程度に濃縮し、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液から再びエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化チタン含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６７であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９１％であった。得られた重合性組成物の５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１０と同様にして硬化した。脱型後、空気中５０℃で３日間加熱して、透明な酸化チタン粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１３
合成例２２の分析用に取り出した分以外の粒子全量を完全に乾燥しない状態でＴＨＦ（純正化学（株）製：高速液体クロマト用）２００ｍＬを加えて分散させ、やや白濁した分散液を得た。合成例２４で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を３．４７ｇ加え、１０分攪拌後、エバポレーションにより５０ｍＬ程度に濃縮し、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液から再びエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化チタン粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６６であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９０％であった。得られた重合性組成物の４．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を４．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１０と同様にして硬化した。脱型後、空気中８０℃で１時間加熱して、透明な酸化チタン粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１４
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子２．２１ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）５０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例２５で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を２．９５ｇ加え、１５分間超音波照射後、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液からエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６２であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は８９％であった。得られた重合性組成物の４．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を４．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を６０℃に加温し、２．０ｍｍのスペーサーを介した２枚のガラス板からなる成形型内に注入し、室温まで冷ました後に、照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２（（株）オーク製作所製；紫外線照度計ＵＶ−Ｍ０２、受光器ＵＶ−４２（３３０〜３９０ｎｍ）により測定）となるように距離・位置を調整した拡散板を装備したＬＥＤ（４１５ｎｍ；ＵＶＰＲＯＣＥＳＳ社製）により上下から１０秒間光を照射した。さらに、スペーサーを外し、短波長カットフィルター（朝日分光（株）製；ＵＶ３５０ｎｍ；カットオン波長３５０ｎｍ）を光の行路に入れた光照射機（ＵＶ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＣＥ ＵＬ７５０）により上下から３００秒間光を照射（１６０ｍＷ／ｃｍ^２；ウシオ電機（株）製；紫外線積算光量計ＵＩＴ−２５０、受光器ＵＶＤ−Ｓ３６５（３１０〜３９０ｎｍ）により測定）することで、硬化した。脱型後、空気中５５℃で１日加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１５
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子１．９ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）３０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例２５で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を５．１ｇ加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液を孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルターユニット（ＡＤＶＡＮＴＥＣ製：ＤＩＳＭＩＣ−２５ＨＰ０４５ＡＮ）で濾過した後にエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６０であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９２％であった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中８０℃で１時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１６
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子３．６ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）４５ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例２５で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を３．４ｇ加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液を孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルターユニットで濾過した後にエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６５であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９２％であった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中８０℃で１時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１７
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子２．７６ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）４０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例２７で得たモノマー１／表面処理剤４混合物を１．７０ｇ、合成例２８で得たモノマー２を２．５４ｇ加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液を孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルターユニットで濾過した後にエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６４であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９１％であった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中１２０℃で２時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１８
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子３．０２ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）４０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例２６で得たモノマー１、合成例２５で得たモノマー１／表面処理剤３混合物及びＭＰＳＭＡ（住友精化（株）製）を混合し、モノマー１／表面処理剤３／ＭＰＳＭＡ（ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド）を質量比で５５／１５／３０としたもの３．９８ｇを加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×２０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液を孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルターユニットで濾過した後にエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６５であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９０％であった。得られた重合性組成物の５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、真空ポンプで真空引きしながら、１２０℃で２時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例１９
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子２．７６ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）４０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例３１で得たモノマー２／表面処理剤１混合物を２．５４ｇ、合成例２６で得たモノマー１を１．７０ｇ加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×３０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液からエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６５であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は８７％であった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を成形型内に注入後、型ごと６０℃のオーブンに１０分間入れて、その後すぐに光照射した以外は実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中１２０℃で２時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例２０
合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子２．７６ｇをＴＨＦ（純正化学（株）製：特級）４０ｍＬに分散し、ほぼ透明な分散液を得た。ここへ、合成例３２で得たモノマー２／表面処理剤２混合物を２．５４ｇ、合成例２６で得たモノマー１を１．７０ｇ加え、１０分間攪拌後、遠心分離（１０００ｇ×３０分）により不溶物・ゴミ等を沈殿させ取除き、上澄み液からエバポレーションにより、溶媒を留去し、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６４であった。この重合性組成物は室温ではやや白濁していたが、加温することで透明となった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を成形型内に注入後、型ごと８０℃のオーブンに３０分間入れて、その後すぐに光照射した以外は実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中１２０℃で２時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

実施例２１
実施例１６における、合成例２３と同様の方法で得た酸化ジルコニウム粒子３．６ｇの代わりに、合成例３３で得た酸化ジルコニウム粒子３．９ｇを用いた以外は、実施例１６と同様に行い、酸化ジルコニウム粒子含有重合性組成物を得た。得られた重合性組成物の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）は１．６４であり、光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時の７００ｎｍにおける透過率は９２％であった。得られた重合性組成物の５．５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５．５ｍｇ加えて６０〜６５℃で２時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１４と同様にして、硬化した。脱型後、空気中８０℃で１時間加熱し、さらに空気中１００℃で１時間加熱して、透明な酸化ジルコニウム粒子含有樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の屈折率を表２に示す。

比較例５
超微粒子酸化チタンＴＴＯ−５１Ｎ（石原産業（株）製；平均粒径２０ｎｍ）１．８ｇ、フェニルホスホン酸０．３６ｇにＴＨＦ６０ｍＬを加え、室温で４時間攪拌した。さらに、合成例２４で得たモノマー１／表面処理剤３混合物を３．８４ｇ加え、室温で５時間攪拌した後に、エバポレーションにより溶媒を留去した。得られた重合性組成物は真っ白であった（酸化チタン含有量は仕込みから３０質量％）。この重合性組成物の５ｇにＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を５ｍｇ加えて６０〜６５℃で二時間攪拌し、溶解させた。この重合性組成物を実施例１０と同様にして、硬化した。脱型後、空気中５０℃で１日間加熱して、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物は真っ白であり、光をほとんど透過しなかった。

表２の結果からも明らかなように、本発明にかかる実施例１０〜２１については、透明かつ硬化後の屈折率が高い樹脂組成物を得ることができた。特に実施例１２、１３にかかる樹脂組成物の硬化後の屈折率は１．７０以上の高い値を示した。

以上、現時点において、もっとも、実践的であり、かつ、好ましいと思われる実施例／実施形態に関連して本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示された実施例／実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う高屈折率樹脂組成物もまた、本発明の技術的範囲に包含されるものとして理解されなければならない。

Claims (30)

1. 少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含む重合性組成物を重合して得られる、屈折率（ｎ^２３ _ｄ）がＹの高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の含有量Ｘ（質量％）とＹとの関係が、下記（１）式で表されることを特徴とする高屈折率樹脂組成物。
   Ｙ≧０．００３５Ｘ＋１．５２ （１）
   （式中、２０≦Ｘ≦６０、Ｙ≦２．０）
2. 少なくとも表面処理剤で被覆された粒子、及びモノマーを含む重合性組成物を重合して得られる、屈折率（ｎ^２３ _ｄ）が１．６６以上の高屈折率樹脂組成物であって、表面処理剤を除いた粒子の量が組成物全量基準で、２０質量％以上、６０質量％以下である高屈折率樹脂組成物。
3. 前記粒子の平均粒径が１０ｎｍ以下である請求項２に記載の高屈折率樹脂組成物。
4. 前記重合性モノマーが（メタ）アクリルモノマーである請求項１〜３のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
5. 前記表面処理剤の少なくとも１つが、
   粒子に対して吸着性及び／又は反応性を有する部分（Ａ）、
   被覆粒子に前記重合性モノマーに対する相溶性を付与する部分（Ｂ）、
   及び高屈折率を有する部分（Ｃ）
   を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
6. 前記部分（Ａ）が、イオン結合性基、前記粒子と反応して共有結合を形成する基、あるいは水素結合性基または配位結合基のいずれかであることを特徴とする請求項５に記載の高屈折率樹脂組成物。
7. 前記イオン結合性基が、酸性基またはその塩、塩基性基またはその塩のいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の高屈折率樹脂組成物。
8. 前記粒子と反応して共有結合を形成する基が、−Ｓｉ（ＯＲ^１）_３、−Ｔｉ（ＯＲ^２）_３、イソシアネート基、エポキシ基、エピスルフィド基、水酸基、チオール基、ホスフィンオキサイド、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基のいずれかであることを特徴とする請求項６又は７に記載の高屈折率樹脂組成物。
   （式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子または炭素数１〜２５の炭化水素基、または芳香族基を表す。）
9. 前記部分（Ｂ）が、（メタ）アクリル基、ポリアルキレングリコール基、芳香族基のいずれかであることを特徴とする請求項５〜８のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
10. 前記部分（Ｃ）が、少なくとも一つの硫黄原子と一つの芳香環から構成され、かつ表面処理剤自体の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）が１．５５以上であることを特徴とする請求項５〜９のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
11. 前記粒子が金属酸化物であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
12. 前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１１に記載の高屈折率樹脂組成物。
13. 前記重合性モノマーが、少なくとも下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表わされる多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
    

    

    （式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｇ、及びｈはそれぞれ独立して、１〜６の整数を表わす。）
    

    

    （式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｉ、ｊ、ｋ、及びｌは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示す。）
14. 厚さ２．０ｍｍにおける、７００ｎｍでの光線透過率が８０％以上である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物。
15. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の重合性組成物。
16. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の高屈折率樹脂組成物からなる光学部材。
17. 撮像用光学部品である請求項１６に記載の光学部材。
18. 少なくとも表面処理剤で被覆された平均粒径１０ｎｍ以下の粒子、及び重合性モノマーを含むことを特徴とする重合性組成物であり、該表面処理剤の少なくとも１つが粒子に対して吸着性及び／又は反応性を有する部分（Ａ）、被覆粒子に前記重合性モノマーに対する相溶性を付与する部分（Ｂ）、及び高屈折率を有する部分（Ｃ）を含むことを特徴とする重合性組成物。
19. 前記重合性モノマーが（メタ）アクリルモノマーである請求項１８に記載の重合性組成物。
20. 前記表面処理剤を除いた粒子の含有量が２０質量％以上、６０質量％以下である請求項１８又は１９に記載の重合性組成物。
21. 前記部分（Ａ）が、イオン結合性基、前記粒子と反応して共有結合を形成する基、あるいは水素結合性基または配位結合基のいずれかであることを特徴とする請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の重合性組成物。
22. 前記イオン結合性基が、酸性基またはその塩、塩基性基またはその塩のいずれかであることを特徴とする請求項２１に記載の重合性組成物。
23. 前記粒子と反応して共有結合を形成する基が、−Ｓｉ（ＯＲ^１）_３、−Ｔｉ（ＯＲ^２）_３、イソシアネート基、エポキシ基、エピスルフィド基、水酸基、チオール基、ホスフィンオキサイド、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基のいずれかであることを特徴とする請求項２１又は２２に記載の重合性組成物。
    （式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子または炭素数１〜２５の炭化水素基、または芳香族基を表す。）
24. 前記部分（Ｂ）が、（メタ）アクリル基、ポリアルキレングリコール基、芳香族基のいずれかであることを特徴とする請求項１８〜２３のいずれか１項に記載の重合性組成物。
25. 前記部分（Ｃ）が、少なくとも一つの硫黄原子と一つの芳香環から構成され、かつ表面処理剤自体の屈折率（ｎ^２５ _Ｄ）が１．５５以上であることを特徴とする請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の重合性組成物。
26. 前記粒子が金属酸化物であることを特徴とする請求項１８〜２５のいずれか１項に記載の重合性組成物。
27. 前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項２６に記載の重合性組成物。
28. 前記重合性モノマーが、少なくとも下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表わされる多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことを特徴とする請求項１８〜２７のいずれか１項に記載の重合性組成物。
    

    

    （式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｇ、及びｈはそれぞれ独立して、１〜６の整数を表わす。）
    

    

    （式中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表わし、ｉ、ｊ、ｋ、及びｌは、それぞれ独立して、１〜６の整数を示す。）
29. 光路長２．０ｍｍの石英セルを用いて測定した時に、７００ｎｍでの光線透過率が８０％以上である請求項１８〜２８のいずれか１項に記載の重合性組成物。
30. 重合開始剤が添加されてなる請求項１８〜２９のいずれか１項に記載の重合性組成物。