JP2004005777A5 - - Google Patents

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  1. 複数のスタティック型メモリセルを具備するメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて上記メモリアレイの電源電圧を変換する第1回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 請求項1において、
    上記第1回路は、昇圧回路と、降圧回路とを具備し、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源を供給され、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と異なる電圧を上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 請求項1において、
    上記第1回路は降圧回路および昇圧回路の少なくとも一方を具備し、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と上記周辺回路の電源電圧よりも高い電源電圧をもつ電源とを供給され、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と異なる電圧を上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 請求項1において、
    上記第1回路は、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じてしきい値電圧の大きさが変化するpチャネル型トランジスタとnチャネル型トランジスタとを有し、
    上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさと上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさとの差を検出し、
    上記差を、上記周辺回路の電源電圧に加えて上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 請求項1において、
    上記スタティック型メモリセルは、それぞれ2つのpチャネル型MOSトランジスタおよび4つのnチャネル型MOSトランジスタを有するメモリセルであることを特徴とする半導体記憶装置。
  6. 請求項1において、
    上記第1回路は、
    上記しきい値の大きさに基づいた電圧を生成する電圧生成回路と、
    上記メモリアレイに電源電圧を供給する電源電圧供給回路とを具備し、
    上記電圧生成回路は、上記周辺回路より電圧を入力され、
    上記電源電圧供給回路は、
    上記電圧生成回路からの入力を受ける共に、上記周辺回路の電源電圧よりも高い電圧を上記メモリアレイに出力することを特徴とする半導体記憶装置。
  7. 請求項6において、
    上記電圧生成回路は、
    第1の電流源と、第2の電流源と、
    ゲート電極がドレイン電極と接続されたpチャネル型トランジスタと、
    ゲート電極が上記pチャネル型トランジスタのソース電極と接続されたnチャネル型トランジスタとを具備し、
    上記pチャネル型トランジスタのゲート電極が上記周辺回路の電源電圧の電源線と接続され、 上記pチャネル型トランジスタのソース電極上記pチャネル型トランジスタの基板電極および上記第2の電流源と接続され
    上記nチャネル型トランジスタのドレイン電極が上記第1の電流源と接続され
    上記nチャネル型トランジスタのソース電極が上記nチャネル型トランジスタの基板電極および上記第2の電流源と接続され
    上記nチャネル型トランジスタのソース電極の電位が、上記電圧生成回路の出力になることを特徴とする半導体記憶装置。
  8. 請求項7において、
    上記第1の電流源を流れる電流と上記第2の電流源を流れる電流と等しいことを特徴とする半導体記憶装置。
  9. 請求項6において、
    上記電圧生成回路は、
    nチャネル型トランジスタおよびpチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを記憶する回路を有し、
    上記電源電圧供給回路は、
    上記しきい値の大きさを記憶する回路の記憶した情報を用いて上記メモリアレイの電源電圧を出力する回路を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  10. 請求項6において、
    上記電圧生成回路は、
    トランジスタのしきい値電圧の大きさによって出力電位を変化させる回路と、
    しきい値電圧の大きさと比較される参照電位を出力する回路と、
    上記トランジスタのしきい値電圧の大きさの電位と上記参照電位とを比較する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  11. 複数のスタティック型メモリセルを有するメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記メモリアレイに電源を供給する第1電源線と、
    上記周辺回路に電源を供給する第2電源線と、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて上記メモリアレイの電源電圧を変化させる回路とを具備し、
    上記第1電源線と上記第2電源線は分離され、
    上記第1電源線は、
    上記メモリアレイと、上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じてメモリアレイの電源電圧を変化させる回路とに接続されていることを特徴とする半導体記憶装置。
  12. 複数のスタティック型メモリセルからなるメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記スタティック型メモリセルに使用されているトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて、上記メモリアレイの電源電圧と上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧を制御する第2回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  13. 請求項12において、
    上記メモリセルは、
    nチャネル型トランジスタと、pチャネル型トランジスタとを具備し、
    上記第2回路は、上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧および上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを記憶する回路と、
    上記しきい値の大きさを記憶する回路の記憶した情報を用いて上記メモリアレイの電源電圧および上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧を出力する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  14. 請求項12において、
    上記第2回路は、
    上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさと上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを検出する回路と、
    上記検出するしきい値電圧の大きさを用いて上記メモリアレイの電源電圧および上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧を出力する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  15. 請求項12において、
    上記メモリセルは、
    第1と第2のnチャネル型駆動トランジスタと、第1と第2のpチャネル型負荷トランジスタと、第1と第2のnチャネル型転送トランジスタと具備し、
    上記第1と第2のnチャネル型駆動トランジスタと上記第1と第2のnチャネル型転送トランジスタとの基板電位は、同じ信号線により制御されることを特徴とする半導体記憶装置。
  16. 請求項12において、
    上記半導体記憶装置は、nチャネル型トランジスタと、pチャネル型トランジスタと、
    上記nチャネル型トランジスタを流れる電流を検知する回路と、
    上記pチャネル型トランジスタを流れる電流を検知する回路と、
    上記2つの回路によって検知された電流の電流量を参照し、電源電圧およびnチャネル型トランジスタの基板電位およびpチャネル型トランジスタの基板電位を変化させる回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  17. 複数のスタティック型メモリセルを具備するメモリアレイと、
    センスアンプおよびワードドライバの少なくとも一方を含んで成り、上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて上記メモリアレイの電源電圧を変換する第1回路とを具備し、
    上記メモリアレイの電源電圧と上記周辺回路の電源電圧とが互いに異なることを特徴とする半導体記憶装置。
  18. 請求項17において、
    上記スタティック型メモリセルは、それぞれ2つのpチャネル型MOSトランジスタおよび4つのnチャネル型MOSトランジスタを有するメモリセルであることを特徴とする半導体記憶装置。
  19. 複数のスタティック型メモリセルを具備するメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて上記メモリアレイの電源電圧を変換する第1回路とを具備し、
    上記メモリアレイの電源電圧とは異なる他の電源電圧を生成して上記メモリアレイに上記他の電源電圧を供給するために、上記第1回路に上記メモリアレイおよび上記周辺回路のいずれとも異なる他の回路の電源電圧が供給されることを特徴とする半導体記憶装置。
  20. 請求項19において、
    上記周辺回路はセンスアンプおよびワードドライバの少なくとも一方を含んで成ることを特徴とする半導体記憶装置。
  21. 請求項19において、
    上記メモリアレイの電源電圧と上記周辺回路の電源電圧とは互いに異なることを特徴とする半導体記憶装置。
  22. 請求項19において、
    上記他の回路として動作する入出力回路を更に具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  23. 請求項19において、
    上記第1回路は、昇圧回路と、降圧回路とを具備し、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源を供給され、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と異なる電圧を上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  24. 請求項19において、
    上記第1回路は降圧回路および昇圧回路の少なくとも一方を具備し、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と上記周辺回路の電源電圧よりも高い電源電圧をもつ電源とを供給され、
    上記第1回路は、上記周辺回路の電源電圧と異なる電圧を上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  25. 請求項19において、
    上記第1回路は、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じてしきい値電圧の大きさが変化するpチャネル型トランジスタとnチャネル型トランジスタとを有し、
    上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさと上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさとの差を検出し、
    上記差を、上記周辺回路の電源電圧に加えて上記メモリアレイに印加することを特徴とする半導体記憶装置。
  26. 請求項19において、
    上記スタティック型メモリセルは、それぞれ2つのpチャネル型MOSトランジスタおよび4つのnチャネル型MOSトランジスタを有するメモリセルであることを特徴とする半導体記憶装置。
  27. 請求項19において、
    上記第1回路は、
    上記しきい値の大きさに基づいた電圧を生成する電圧生成回路と、
    上記メモリアレイに電源電圧を供給する電源電圧供給回路とを具備し、
    上記電圧生成回路は、上記周辺回路より電圧を入力され、
    上記電源電圧供給回路は、
    上記電圧生成回路からの入力を受けると共に、上記周辺回路の電源電圧よりも高い電圧を上記メモリアレイに出力することを特徴とする半導体記憶装置。
  28. 請求項27において、
    上記電圧生成回路は、
    第1の電流源と、第2の電流源と、
    ゲート電極がドレイン電極と接続されたpチャネル型トランジスタと、
    ゲート電極が上記pチャネル型トランジスタのソース電極と接続されたnチャネル型トランジスタとを具備し、
    上記pチャネル型トランジスタのゲート電極が上記周辺回路の電源電圧の電源線と接続され、 上記pチャネル型トランジスタのソース電極が上記pチャネル型トランジスタの基板電極および上記第2の電流源と接続され、
    上記nチャネル型トランジスタのドレイン電極が上記第1の電流源と接続され、
    上記nチャネル型トランジスタのソース電極が上記nチャネル型トランジスタの基板電極および上記第2の電流源と接続され、
    上記nチャネル型トランジスタのソース電極の電位が、上記電圧生成回路の出力になることを特徴とする半導体記憶装置。
  29. 請求項28において、
    上記第1の電流源を流れる電流と上記第2の電流源を流れる電流とが等しいことを特徴とする半導体記憶装置。
  30. 請求項27において、
    上記電圧生成回路は、
    nチャネル型トランジスタおよびpチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを記憶する回路を有し、
    上記電源電圧供給回路は、
    上記しきい値の大きさを記憶する回路の記憶した情報を用いて上記メモリアレイの電源電圧を出力する回路を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  31. 請求項27において、
    上記電圧生成回路は、
    トランジスタのしきい値電圧の大きさによって出力電位を変化させる回路と、
    しきい値電圧の大きさと比較される参照電位を出力する回路と、
    上記トランジスタのしきい値電圧の大きさの電位と上記参照電位とを比較する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  32. 複数のスタティック型メモリセルを有するメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記メモリアレイに電源を供給する第1電源線と、
    上記周辺回路に電源を供給する第2電源線と、
    上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて上記メモリアレイの電源電圧を変化させる回路とを具備し、
    上記メモリアレイの電源電圧とは異なる他の電源電圧を生成して上記メモリアレイに上記他の電源電圧を供給するために、上記第1回路に上記メモリアレイおよび上記周辺回路のいずれとも異なる他の回路の電源電圧が供給されることを特徴とする半導体記憶装置。
  33. 請求項32において、
    上記第1電源線と上記第2電源線とは分離され、
    上記第1電源線は、
    上記メモリアレイと、上記スタティック型メモリセル内のトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じてメモリアレイの電源電圧を変化させる回路とに接続されていることを特徴とする半導体記憶装置。
  34. 複数のスタティック型メモリセルからなるメモリアレイと、
    上記メモリアレイを制御する周辺回路と、
    上記スタティック型メモリセルに使用されているトランジスタのしきい値電圧の大きさに応じて、上記メモリアレイの電源電圧と上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧とを制御する第2回路とを具備し、
    上記メモリアレイの電源電圧とは異なる他の電源電圧を生成して上記メモリアレイに上記他の電源電圧を供給するために、上記第1回路に上記メモリアレイおよび上記周辺回路のいずれとも異なる他の回路の電源電圧が供給されることを特徴とする半導体記憶装置。
  35. 請求項34において、
    上記メモリセルは、
    nチャネル型トランジスタと、pチャネル型トランジスタとを具備し、
    上記第2回路は、上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧および上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを記憶する回路と、
    上記しきい値の大きさを記憶する回路の記憶した情報を用いて上記メモリアレイの電源電圧および上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧を出力する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  36. 請求項34において、
    上記第2回路は、
    上記nチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさと上記pチャネル型トランジスタのしきい値電圧の大きさを検出する回路と、
    上記検出するしきい値電圧の大きさを用いて上記メモリアレイの電源電圧および上記メモリアレイを構成するトランジスタの基板電圧を出力する回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  37. 請求項34において、
    上記メモリセルは、
    第1と第2のnチャネル型駆動トランジスタと、第1と第2のpチャネル型負荷トランジスタと、第1と第2のnチャネル型転送トランジスタと具備し、
    上記第1と第2のnチャネル型駆動トランジスタと上記第1と第2のnチャネル型転送トランジスタとの基板電位は、同じ信号線により制御されることを特徴とする半導体記憶装置。
  38. 請求項34において、
    上記半導体記憶装置は、nチャネル型トランジスタと、pチャネル型トランジスタと、
    上記nチャネル型トランジスタを流れる電流を検知する回路と、
    上記pチャネル型トランジスタを流れる電流を検知する回路と、
    上記2つの回路によって検知された電流の電流量を参照し、電源電圧およびnチャネル型トランジスタの基板電位およびpチャネル型トランジスタの基板電位を変化させる回路とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4162076B2 (ja) * 2002-05-30 2008-10-08 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
WO2004021353A1 (en) * 2002-09-02 2004-03-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device writing to a plurality of rows in a memory matrix simultaneously
JP4290457B2 (ja) * 2003-03-31 2009-07-08 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
US7654956B2 (en) * 2004-07-13 2010-02-02 Dexcom, Inc. Transcutaneous analyte sensor
FR2877143A1 (fr) * 2004-10-25 2006-04-28 St Microelectronics Sa Cellule de memoire volatile preenregistree
US7085175B2 (en) * 2004-11-18 2006-08-01 Freescale Semiconductor, Inc. Word line driver circuit for a static random access memory and method therefor
US7394708B1 (en) * 2005-03-18 2008-07-01 Xilinx, Inc. Adjustable global tap voltage to improve memory cell yield
US7099230B1 (en) * 2005-04-15 2006-08-29 Texas Instruments Incorporated Virtual ground circuit for reducing SRAM standby power
US20060259840A1 (en) * 2005-05-12 2006-11-16 International Business Machines Corporation Self-test circuitry to determine minimum operating voltage
JP4917767B2 (ja) * 2005-07-01 2012-04-18 パナソニック株式会社 半導体記憶装置
US7872927B2 (en) * 2005-09-27 2011-01-18 Nec Corporation Semiconductor memory device and method of controlling power source
JP4822791B2 (ja) * 2005-10-04 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
FR2895556A1 (fr) * 2005-12-26 2007-06-29 St Microelectronics Sa Dispositif de stockage d'informations a memoires sram et procede de mise en oeuvre
JP4865360B2 (ja) * 2006-03-01 2012-02-01 パナソニック株式会社 半導体記憶装置
JP2007328900A (ja) * 2006-05-09 2007-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd スタティック型半導体記憶装置
US7512908B2 (en) * 2006-06-09 2009-03-31 International Business Machines Corporation Method and apparatus for improving SRAM cell stability by using boosted word lines
US20070286745A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Maynard Chance Integrated mixing pump
US7292485B1 (en) 2006-07-31 2007-11-06 Freescale Semiconductor, Inc. SRAM having variable power supply and method therefor
US7679947B2 (en) * 2006-08-02 2010-03-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor devices with source and bulk coupled to separate voltage supplies
JP2008103028A (ja) * 2006-10-19 2008-05-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JP5057757B2 (ja) 2006-11-30 2012-10-24 株式会社東芝 半導体集積回路
JP5057430B2 (ja) 2006-12-18 2012-10-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路とその製造方法
EP1953762B1 (en) * 2007-01-25 2013-09-18 Imec Memory device with reduced standby power consumption and method for operating same
US8705300B1 (en) * 2007-02-27 2014-04-22 Altera Corporation Memory array circuitry with stability enhancement features
US7616509B2 (en) * 2007-07-13 2009-11-10 Freescale Semiconductor, Inc. Dynamic voltage adjustment for memory
US8099688B2 (en) * 2007-11-19 2012-01-17 International Business Machines Corporation Circuit design
US7864600B2 (en) * 2008-06-19 2011-01-04 Texas Instruments Incorporated Memory cell employing reduced voltage
US8315117B2 (en) * 2009-03-31 2012-11-20 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit memory having assisted access and method therefor
US8379466B2 (en) 2009-03-31 2013-02-19 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit having an embedded memory and method for testing the memory
US8634263B2 (en) * 2009-04-30 2014-01-21 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit having memory repair information storage and method therefor
US8618870B2 (en) * 2009-06-12 2013-12-31 Semiconductor Technology Academic Research Center Voltage characteristic regulating method of latch circuit, voltage characteristic regulating method of semiconductor device, and voltage characteristic regulator of latch circuit
JP2011054255A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Panasonic Corp 半導体集積回路
JP5395009B2 (ja) * 2010-07-30 2014-01-22 株式会社半導体理工学研究センター サブスレッショルドsramのための電源電圧制御回路及び制御方法
US8811068B1 (en) 2011-05-13 2014-08-19 Suvolta, Inc. Integrated circuit devices and methods
US8467233B2 (en) * 2011-06-06 2013-06-18 Texas Instruments Incorporated Asymmetric static random access memory cell with dual stress liner
US8819603B1 (en) 2011-12-15 2014-08-26 Suvolta, Inc. Memory circuits and methods of making and designing the same
US9595307B2 (en) 2014-05-22 2017-03-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Volatile memory device and system-on-chip including the same
KR102275497B1 (ko) 2014-10-20 2021-07-09 삼성전자주식회사 전원 경로 제어기를 포함하는 시스템 온 칩 및 전자 기기
JP2018010707A (ja) * 2016-07-12 2018-01-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP7195133B2 (ja) * 2018-12-19 2022-12-23 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
CN109785884A (zh) * 2019-01-15 2019-05-21 上海华虹宏力半导体制造有限公司 静态随机存取存储器存储单元
JP2020149746A (ja) * 2019-03-14 2020-09-17 キオクシア株式会社 半導体記憶装置
TWI764759B (zh) * 2021-06-11 2022-05-11 円星科技股份有限公司 具備可靠容限設定的電路模組

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5197033A (en) * 1986-07-18 1993-03-23 Hitachi, Ltd. Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
JPS62289994A (ja) 1986-06-06 1987-12-16 Nec Corp 半導体メモリ装置
EP0320556B1 (en) * 1987-12-15 1991-02-27 International Business Machines Corporation Improved reference voltage generator for cmos memories
JPH06103748A (ja) * 1992-09-16 1994-04-15 Mitsubishi Electric Corp Icメモリカードの電源制御回路
JPH06139779A (ja) 1992-10-29 1994-05-20 Toshiba Corp 基板バイアス回路
US5394077A (en) * 1993-04-30 1995-02-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Internal power supply circuit for use in a semiconductor device
US5493231A (en) * 1994-10-07 1996-02-20 University Of North Carolina Method and apparatus for measuring the barrier height distribution in an insulated gate field effect transistor
JP3135859B2 (ja) * 1997-04-11 2001-02-19 株式会社リコー 基板バイアス回路
JP3853513B2 (ja) * 1998-04-09 2006-12-06 エルピーダメモリ株式会社 ダイナミック型ram
JP4587500B2 (ja) * 1998-11-11 2010-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路、メモリモジュール、記憶媒体、及び半導体集積回路の救済方法
JP4392894B2 (ja) 1999-03-12 2010-01-06 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体記憶装置
JP2001093275A (ja) * 1999-09-20 2001-04-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US6683805B2 (en) * 2002-02-05 2004-01-27 Ibm Corporation Suppression of leakage currents in VLSI logic and memory circuits
US6493257B1 (en) * 2002-03-27 2002-12-10 International Business Machines Corporation CMOS state saving latch
JP4162076B2 (ja) * 2002-05-30 2008-10-08 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置

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