JP2003501556A - 活性化処理に依存せずに水素を吸着することができる複合材料、及びその製造方法 - Google Patents
活性化処理に依存せずに水素を吸着することができる複合材料、及びその製造方法Info
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Abstract
Description
料、並びにこの処理の結果として水素以外のガス及び活性化処理に依存せずに、
水素を吸着することができる複合材料に関する。また本発明は、そのような材料
を製造する方法にも関する。
しても知られる)によって行われている。このNEGは、ジルコニウム、チタン
、又はこれらの金属に基づいて遷移金属及びアルミニウムから選択される1又は
複数の他の元素を伴う合金のような金属を含んでいる。これらの材料は、減圧の
維持及びガスの純化の分野において一般に使用されている。これらの金属の主な
用途としては、例えば熱容器(保温瓶)、デュアー瓶、北極圏でのオイル輸送の
ためのパイプ、又は海上の採掘プラットフォームと陸地とをつなぐ海底パイプの
内側減圧空間での、断熱のための減圧の維持がある。また特にこれらの金属の用
途としては、石油採掘のために使用する採掘パイプがある。ここでは、石油を通
すパイプを断熱して、このパイプを通る流体が過剰に冷却されることを避ける。
このような過剰な冷却は、流体の重い成分を固化させて全体の粘度を増加させ、
場合によってはパイプを破壊してしまう。NEG材料の他の重要な用途は、水素
、酸素、水、酸化炭素、及び場合によっては窒素のようなガスを、希ガスから除
去することである。この希ガスは、半導体産業又はランプの充填雰囲気で使用す
るものである。
03,901号明細書は、Zr−Al合金、特に重量分率組成がZr84%−A
l16%である合金を開示している。これはこの出願人によって製造され、St
101(商標)という名称で販売されている。米国特許第4,071,335号
明細書は、Zr−Ni合金、特に重量組成がZr75.7%−Ni24.3%で
ある合金を開示している。これはこの出願人によって製造され、St199(商
標)という名称で販売されている。米国特許第4,306,887号明細書は、
Zr−Fe合金、特に重量組成がZr76.6%−Fe23.4%である合金を
開示している。これはこの出願人によって製造され、St198(商標)という
名称で販売されている。米国特許第4,312,669号明細書は、Zr−V−
Fe合金、特に重量分率組成がZr70%−V24.6%−Fe5.4%である
合金を開示している。これはこの出願人によって製造され、St707(商標)
という名称で販売されている。米国特許4,668,424号明細書は、組成が
Zr−Ni−A−Mである合金を開示している(Aは1又は複数の希土類元素を
示し、Mはコバルト、銅、鉄、アルミニウム、スズ、チタン、ケイ素から選択さ
れる1又は複数の元素を示している)。ヨーロッパ特許出願公開第869,19
5号明細書は、組成がZr−Co−Aである合金(Aは、イットリウム、ランタ
ン、希土類、又はそれらの混合物から選択される元素)、特に重量分率組成がZ
r80.8%−Co14.2%−A5%である合金を開示している。これはこの
出願人によって製造され、St787(商標)という名称で販売されている。最
後に、米国特許第4,457,891号明細書は、Ti−Ni合金及びTi−V
−Mn合金を開示している。
ス種の表面化学吸着であり、一般に成分原子の種の分離を伴う。低い温度であっ
ても、水素原子が材料中に広がって、初めの固溶体を作り、水素濃度が増加する
と、ZrH2のような水素化物を作る。従って水素吸着の能力は、低温であって
も高い。これに対して、酸素、炭素、及び窒素のような元素の吸着は異なる様式
で行われる。比較的低い温度(材料のタイプに依存して一般に約300〜500
℃よりも低温)では、表面化学吸着のみが起こり、酸化物、窒化物、又は窒化物
タイプの化合物を含む層が形成される。上述の温度よりも高い温度では、酸素、
窒素、及び炭素原子が材料中に拡散し、それによって清浄でガスを吸着すること
ができる表面が再生される。表面清浄化の効果は、NEG材料を十分に高い温度
に維持することによって、又は低温に維持し、断続的に規則正しい間隔で若しく
は吸着特性の減少が観察されたときに、上述の温度よりも高い温度にして、いわ
ゆる活性化処理をすることによって得ることができる。しかしながら、NEG材
料には、作業温度が室温(又はそれよりも低温)である多くの用途が存在し、ま
た活性が処理が実質的に不可能であることがある。これは例えば、石油採掘若し
くは輸送のためのパイプ又は保温瓶、又は蛍光灯の減圧空間である。この種の他
の重要な用途としては、バッテリーがあり、これにはNi−MHバッテリーのよ
うな再充電可能なもの、及び通常のアルカリバッテリーのような再充電が行えな
いものの両方があり、これはある種の操作条件において水素を放出し、ケース膨
張及び爆発をもたらす危険性がある。
材料の表面に不動態層をもたらし、これは更なるガスの吸着を妨げて、理論量に
対する材料の吸着能力を減少させる。更に、既に説明した水素の吸着を妨げる不
動態層は、室温においてさえもかなりの程度でもたらされる。
熱の用途では、水素は最も伝導性の良いガスであるので、少量でも水素が減圧空
間に存在すると、断熱性をかなり悪化させる。ランプでは、ガス充填混合物中の
このガスの存在は放電条件を変更し、従ってランプ自身の正確な機能を妨げ、一
般にその使用寿命を短くする。更に、水素の存在は、石油抽出のためのパイプに
おいて、更により大きな問題である。この用途では、例えば塩酸、硝酸、フッ化
水素酸、又はそれの混合物を含有する酸溶液を内側パイプに通して、石油を抽出
する岩の分解を促進する。しかしながら、酸はパイプの腐食をもたらし、微細な
穿孔及び同時の大量の水素の発生をもたらす。このように発生した水素は微細な
穿孔を容易に通過して、内側空間に侵入し、断熱性に深刻な問題をもたらす。
号明細書及びSU−A−1,141,920号明細書の課題である。これらの特
許明細書では、パラジウムによるこれらの材料のコーティングを開示している。
これらの明細書では、カソード堆積(「スパッタリング」として比較的良く知ら
れている)によってコーティングを行って、NEG材料の表面に貴金属の連続水
素透過可能フィルムを提供している。これらの条件では、ゲッター材料は、減圧
を維持しなければならない容器又は純化するガスに、前記フィルムを通してのみ
接触している。しかしながら、これらの明細書で記載されているゲッター系は、
平らな形状でのみ得ることができ、これはゲッター材料の可能な全ての用途にふ
さわしいわけではない。また、これらの系のガス吸着能力(つまり、吸着するこ
とができる最大ガス量)は減少している。これは、この平らな堆積物中の非蒸発
性ゲッター前記の量が少ないためである。最後に、この技術の系は、水素吸着に
対して完全に選択的であり、他のガス種の除去を行うことができない。
ー材料のランプでの使用を開示している。ここで、パラジウムは0.4〜15%
のモル濃度で存在しており、酸素とジルコニウムとのモル比は、0.02〜1で
ある。
料を提供すること、及びそのような材料を製造する方法を提供することである。
銀を含有するパラジウム−銀合金、及びパラジウムとゲッター金属又はゲッター
合金の1若しくは複数の金属との化合物の1又は複数の種でできた堆積物によっ
て、表面の少なくとも10%をコーティングされた非蒸発性ゲッター材料の粉末
でできた複合材料によって達成される。
材料処理の結果として水素以外のガスを吸着することができ、金属パラジウム、
酸化パラジウム、30原子%までの銀を含有するパラジウム−銀合金、及びパラ
ジウムとゲッター金属又はゲッター合金の1若しくは複数の金属との化合物の1
又は複数の種からなる堆積物によって、表面を少なくとも部分的にコーティング
され、コーティングの程度が約10〜90%である、非蒸発性ゲッター材料でで
きている複合材料に関する。
含有するパラジウム−銀合金で行う。これらの堆積物は、存在することがある酸
素によって少なくとも部分的に酸化され、また本発明の材料に行うことがある熱
処理の結果として、金属パラジウム又はパラジウム−銀合金の堆積物は、下側の
ゲッター材料の1又は複数の金属と相互作用し(それぞれ、ゲッター材料が金属
又は合金である場合に)、合金又は金属間化合物を形成し、これはその後、少な
くとも部分的に酸化させることができる。特に示した場合を除いて以降では、こ
れら全ての種をパラジウム又はその化合物として示す。
Ti、Nb、Ta、V、これらの金属の合金、又はこれらとCr、Mn、Fe、
Co、Ni、Al、Y、La、及び希土類から選択される1又は複数の他の元素
との合金のような金属を挙げることができる。例えば、2成分合金Ti−V、Z
r−V、Zr−Al、Zr−Fe及びZr−Ni;3成分合金Ti−V−Mn、
Zr−Mn−Fe、及びZr−V−Fe;多成分合金Zr−Ni−A−M又はZ
r−Co−Aを挙げることができる(Aはイットリウム、ランタン、希土類、又
はそれらの混合物から選択される元素であり、Mはコバルト、銅、鉄、アルミニ
ウム、スズ、チタン、ケイ素、又はそれらの混合物から選択される元素を示す。
)最後に上述の金属及び合金の混合物を使用することが可能である。
りも多い。複合材料が意図している用途において、吸着を保証しなければならな
いガスが水素のみである場合、コーティングの程度は好ましくは100%である
。これに対し、水素以外のガスの除去能力を保証しなければならない場合、コー
ティングの程度は10〜90%であることが有利である。コーティングの程度が
10%よりも少ない場合、NEG材料の露出された表面が不動態化されたときに
、水素吸着速度がかなり減少する。反対に、コーティングの程度が90%よりも
大きい場合、活性化処理をしてNEG材料表面を清浄化したときに、水素以外の
ガスの吸着容量がかなり減少する。好ましくは、この第2の態様では、コーティ
ングの程度は材料表面の約25%〜75%である。
的多量のパラジウム(非常に高価な元素)の使用をもたらし、水素吸着を遅くし
、また薄い厚さの場合と比較して特段の利点を提供しない。
ム又はその化合物の部分的なコーティングを有するNEG材料の粒子である。粉
末の粒度は、好ましくは約500μm未満、より好ましくは約20〜125μm
である。
結させること;又は例えば適当なパンチ(punch)によって圧縮して、上側
が開いた容器に装填すること;又は冷間圧延若しくはスクリーン印刷のような技
術によって、概して平らな支持体に再び堆積させることができる。ペレットの形
成、容器の使用、及び冷間積層は、粉末冶金の分野で既知であり、ゲッター材料
に適用するスクリーン印刷技術の詳細は、本出願人の米国特許第5,882,7
27号明細書に示されている。
化合物の堆積物の場合に、本発明の複合材料は、様々な技術を使用して得ること
ができる。
とができる。この技術では、NEG材料の粉末を、一般的に連続的な撹拌を行い
ながら、約25〜50℃の温度に維持されたパラジウム化合物を含有する溶液に
浸漬する。溶媒は、水、アルコール、又は水アルコール混合物でよい。パラジウ
ム化合物としては、例えば硝酸塩Pd(NO3)2、酢酸塩Pd(OOC−CH3
)2、又はテトラアミノパラジウム錯体の塩[Pd(NH3)4]2+を使用するこ
とができる。その後、溶媒を蒸発させて乾燥させ、得られる乾燥した粉末を、5
〜45分間にわたって減圧下において500℃で処理した。この処理によって、
NEG金属又は合金の粒子の表面に存在するパラジウム塩が、酸化パラジウム(
硝酸塩又は酢酸塩の場合)又は金属パラジウム(テトラアミノ酢体塩の場合)に
転化する。酸化物が得られる場合には、その場でこれを部分的に還元して、酸素
への親和性が強いNEG材料の存在によって金属パラジウムにすることができる
。本発明の複合材料の粒子10は、パラジウム又はその化合物14の堆積物13
によって完全にコーティングされているNEG材料12の粒子11でできている
。これは、図1において断面で示している。図2は、部分的にパラジウムで覆わ
れた本発明の複合材料の粒子20を示している。ここでは粒子は、パラジウム又
はその化合物24の堆積物23が堆積したNEG材料22の粉末の粒子21でで
きている。
して得ることもできる。この技術は、「化学気相堆積」又はCVDとして比較的
よく知られている。この技術は、例えば高温及び/又は低圧で、揮発性又は揮発
可能な堆積させる元素の先駆物質を蒸発させることを含む。この蒸発は、基材(
この場合には、粉末のNEG材料)が存在する容器において行い、この基材上で
先駆物質蒸気を凝縮させる。先駆物質の堆積の後で、熱処理によってこれを分解
し、金属パラジウム、酸化パラジウム、又はNEG開始材料の金属を伴うパラジ
ウム化合物のコーティングを提供する。CVD技術を使用する場合には、有機金
属パラジウム化合物を一般に使用する。
蒸着又はスパッタリング技術を使用することが可能である。これらの技術では、
試料ホルダー上の薄い粉末層の形で、NEG材料を、減圧に維持された容器の内
側に配置し;パラジウム源として、蒸着の場合には電流によって加熱した金属ワ
イア、又はスパッタリングの場合にはいわゆる「ターゲット」を使用することが
可能である。蒸着させる又はカソード堆積(スパッタリング)するパラジウムは
、ワイアに露出されるNEG材料粒子の一部にのみ堆積する。これらの技術の使
用は図3に示す。ここでは、30は、試料ホルダー31上のNEG材料の粒子を
示し;32はパラジウム源(蒸着の場合にはワイア又はスパッタリングの場合に
はターゲット)を示し、33は、パラジウム源32によって放出されるパラジウ
ム原子であり、また34は、NEG材料粉末に堆積したパラジウムのフィルムを
示している。図4では、これらの技術で得られるような、本発明の複合材料のバ
ラバラの粉末を示している(図3及び4では、同じ参照番号は同じ要素に対応す
る)。コーティングの程度を増加させることが望ましい場合、例えば試料ホルダ
ーの振動によって、粉末を撹拌させ、それによってパラジウム堆積の間にそれら
の方向を変化させることも可能である。
供給源としてこの合金のターゲットを使用することが好ましい。
的なコーティングを得ることは、先駆物質の使用量を制限し、これらの量を理論
的に節約することができ、実験によってもこのことが好ましくは得られる。蒸着
又はスパッタリング技術の代わりに使用する場合、形状的な要素によって部分的
なコーティングを得る。
に、水素を予め満たしてから、パラジウム(又はその先駆物質)の堆積操作を行
うことができる。この操作によってゲッターに吸着された水素は、パラジウム堆
積に続く熱処理の間に放出される。この処理は例えば、含浸又はCVDによる堆
積の技術の様なプロセス、又は蒸着又はスパッタリングの技術の場合の更なるプ
ロセスによって既に行われている処理であってもよい。水素の再放出は、NEG
材料表面の清浄化を行い、NEG材料による水素以外のガスの吸着性能を改良す
る。NEG材料の水素化又は脱水素化の処理に関する詳細は、米国特許第4,8
39,085号、及びヨーロッパ特許第716,772号明細書が言及している
。
明を実施する様式を当業者に教示すること、及び本発明を実施する最も良好な様
式を表すことを意図している。
とSt707(商標)合金との比を2wt%にして、0.43gのPd(NO3
)2塩を含有する水溶液に浸漬する。穏やかなポンプ送出及び回転蒸発器(ロー
タリエバポレーター)を使用する撹拌を行いながらの加熱によって水を蒸発させ
る。減圧しながら500℃で、乾燥残留物に熱処理を行う。このようにして調製
した材料を試料1とする。
barの圧力のCOに5分間にわたって露出させ、次に2.7×10-3mbar
の圧力の水素に露出させた。吸差速度は、1秒間当たり水素約60mlである。
商標)に再び行った。吸着速度は、1秒間当たり水素約20mlである。
G材料でできた本発明の材料の水素吸着速度が、このコーティングを持たない同
じ既知のNEG材料のそれの約3倍であることが分かる。
更に、いくらの従来技術の文献で示されているのと違って、本発明は、水素以外
の気体も吸着することができる材料を得ることを可能にし、ここでは水素の吸着
は他のガスの吸着によって影響を受けない。最後に、本発明は、平らではない又
は本質的に平らではない表面にさえパラジウムを堆積させる可能性を拡げる。こ
れは、全ての特定の用途に適当であり且つ様々な形状の水素吸着デバイス、特に
NEG材料の量が多く、それによって同様な既知のデバイスと比較して水素吸着
能力が大きいデバイスの提供を可能にする。
の断面を示している。
子を示している。
ングする操作を示している。
Claims (19)
- 【請求項1】 活性化処理に依存せずに水素を吸着することができる非蒸発
性ゲッター材料粉末(12;22)でできた複合材料(10;20)であって、
前記ゲッター材料粉末の表面の少なくとも10%が、金属パラジウム、酸化パラ
ジウム、30原子%までの銀を含有するパラジウム−銀合金、及びパラジウムと
前記ゲッター材料の1又は複数の金属との化合物の1又は複数の種でできた堆積
物(13;23)によってコーティングされている、活性化処理に依存せずに水
素を吸着することができる非蒸発性ゲッター材料粉末でできた複合材料。 - 【請求項2】 非蒸発性ゲッター材料粉末でできていて活性化処理の結果と
して水素以外のガスも吸着することができる複合材料であって、前記ゲッター材
料粉末の表面が、金属パラジウム、酸化パラジウム、30原子%までの銀を含有
するパラジウム−銀合金、及びパラジウムと前記ゲッター材料の1又は複数の金
属との化合物の1又は複数の種でできた堆積物によって部分的にコーティングさ
れており、このコーティングの程度が約10〜90%である、非蒸発性ゲッター
材料粉末でできていて活性化処理の結果として水素以外のガスも吸着することが
できる請求項1に記載の複合材料。 - 【請求項3】 前記非蒸発性ゲッター材料が、 Zr、Ti、Nb、Ta、V金属; Zr及び/又はTiと、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Al、Cu、Sn、
Si、Y、La及び希土類から選択される1又は複数の他の元素との合金; 前記金属及び前記合金の混合物; から選択される、請求項1又は2に記載の複合材料。 - 【請求項4】 前記非蒸発性ゲッター材料が、Ti−V、Zr−V、Zr−
Al、Zr−Fe、Zr−Ni、Ti−V−Mn、Zr−Mn−Fe、Zr−V
−Fe、Zr−Ni−A−M、又はZr−Co−A合金から選択される(Aは、
イットリウム、ランタン、希土類、又はそれらの混合物から選択される元素を示
し、またMは、コバルト、銅、鉄、アルミニウム、スズ、チタン、ケイ素、又は
それらの混合物から選択される元素を示す)、請求項3に記載の複合材料。 - 【請求項5】 前記コーティングの程度が、前記非蒸発性ゲッター材料の表
面の約25%〜75%である、請求項2に記載の複合材料。 - 【請求項6】 前記堆積物の厚さが約5μm未満である、請求項1又は2に
記載の複合材料。 - 【請求項7】 前記粉末粒子の大きさが約500μm未満である、請求項1
又は2に記載の複合材料。 - 【請求項8】 前記粉末の粒度が約20〜125μmである、請求項7に記
載の複合材料。 - 【請求項9】 圧縮及び焼結した前記複合材料の粉末のみからできている、
請求項1又は2に記載の複合材料を含むデバイス。 - 【請求項10】 上側が開いた容器に装填された又は支持体上に堆積した前
記材料の粉末でできている、請求項1又は2に記載の複合材料を含むデバイス。 - 【請求項11】 非蒸発性ゲッター材料粉末をパラジウムの塩又は錯体の溶
液に浸漬し、溶媒を蒸発させ、そして前記粉末に堆積した前記塩又は錯体を熱的
に分解することによって、パラジウム、酸化パラジウム、又はそれらの混合物の
堆積物を得る、請求項1又は2に記載の複合材料の調製方法。 - 【請求項12】 パラジウム化合物の蒸気相からの化学堆積と、それに続く
熱処理による分解によって、パラジウム、酸化パラジウム、又はそれらの混合物
の堆積物を、非蒸発性ゲッター材料の粉末上に提供する、請求項1又は2に記載
の複合材料の調製方法。 - 【請求項13】 パラジウム金属の蒸着によって、パラジウムの堆積物を、
非蒸発性ゲッター材料の粉末上に提供する、請求項2に記載の複合材料の調製方
法。 - 【請求項14】 カソード堆積によって、パラジウムの堆積物を、非蒸発性
ゲッター材料の粉末上に提供する、請求項2に記載の複合材料の調製方法。 - 【請求項15】 カソード堆積によって、パラジウム−銀合金の堆積物を、
非蒸発性ゲッター材料の粉末上に提供する、請求項2に記載の複合材料の調製方
法。 - 【請求項16】 前記非蒸発性ゲッター材料の粉末を水素化した後で、前記
堆積物を提供し、その後の熱処理によって脱水素化する、請求項11〜15のい
ずれかに記載の方法。 - 【請求項17】 減圧空間が請求項1に記載の複合材料を保持している、減
圧空間を有する断熱容器。 - 【請求項18】 減圧空間が請求項1に記載の複合材料を保持している、減
圧空間を有する断熱パイプ。 - 【請求項19】 請求項1に記載の複合材料を保持している、再充電可能又
は再充電不可能のタイプのバッテリー。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008529792A (ja) * | 2005-02-17 | 2008-08-07 | サエス ゲッターズ ソシエタ ペル アチオニ | 弾力性多層ゲッター |
JP2010503992A (ja) * | 2006-09-15 | 2010-02-04 | サエス ゲッターズ ソシエタ ペル アチオニ | 金属ゲッターシステム |
JP2010529607A (ja) * | 2007-06-05 | 2010-08-26 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 有害物質を吸着するための手段を備える再充電可能なリチウム電池 |
JP2012528474A (ja) * | 2009-05-25 | 2012-11-12 | サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア | 多層複合材ゲッター |
US8741457B2 (en) | 2007-06-05 | 2014-06-03 | Saes Getters S.P.A. | Rechargeable lithium batteries comprising means for the sorption of harmful substances in the form of a multilayer polymeric sheet |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1318937B1 (it) | 2000-09-27 | 2003-09-19 | Getters Spa | Metodo per la produzione di dispositivi getter porosi con ridottaperdita di particelle e dispositivi cosi' prodotti |
WO2002087729A1 (en) * | 2001-04-30 | 2002-11-07 | Battelle Memorial Institute | Apparatus and method for separation/purification of fluids utilizing rapidly cycled thermal swing |
EP1386344A2 (en) | 2001-05-01 | 2004-02-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Discharge lamp |
JP3572548B2 (ja) * | 2002-05-24 | 2004-10-06 | 日本酸素株式会社 | ガス精製方法及び装置 |
ITMI20031178A1 (it) * | 2003-06-11 | 2004-12-12 | Getters Spa | Depositi multistrato getter non evaporabili ottenuti per |
US8414718B2 (en) * | 2004-01-14 | 2013-04-09 | Lockheed Martin Corporation | Energetic material composition |
GB0427647D0 (en) | 2004-12-17 | 2005-01-19 | Johnson Matthey Plc | Hydrogen getter |
US7585693B2 (en) * | 2006-03-31 | 2009-09-08 | Intel Corporation | Method of forming a microelectronic package using control of die and substrate differential expansions and microelectronic package formed according to the method |
US7718016B2 (en) | 2006-04-07 | 2010-05-18 | Lockheed Martin Corporation | Methods of making multilayered, hydrogen-containing intermetallic structures |
US7829157B2 (en) | 2006-04-07 | 2010-11-09 | Lockheed Martin Corporation | Methods of making multilayered, hydrogen-containing thermite structures |
US7886668B2 (en) | 2006-06-06 | 2011-02-15 | Lockheed Martin Corporation | Metal matrix composite energetic structures |
US8250985B2 (en) * | 2006-06-06 | 2012-08-28 | Lockheed Martin Corporation | Structural metallic binders for reactive fragmentation weapons |
DE102006042226A1 (de) * | 2006-09-06 | 2008-03-27 | Günther & Co. GmbH | Beschichteter Spiralbohrer |
JP2009117093A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Panasonic Corp | プラズマディスプレイパネル |
WO2012141761A1 (en) * | 2011-02-16 | 2012-10-18 | Han Nee | Methods of making and using palladium alloys |
CN102810440B (zh) * | 2012-08-02 | 2014-12-03 | 中国航天科工集团第二研究院二〇三所 | 一种制备氢原子频标的吸气片工艺方法 |
CN105617976A (zh) * | 2014-09-25 | 2016-06-01 | 张红 | 真空绝热板用吸气剂及真空绝热板 |
US10421059B2 (en) | 2014-10-24 | 2019-09-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas-adsorbing material and vacuum insulation material including the same |
WO2018097325A1 (ja) * | 2016-11-28 | 2018-05-31 | 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構 | 非蒸発型ゲッタコーティング部品、容器、製法、装置 |
CN107983296A (zh) * | 2017-12-09 | 2018-05-04 | 芜湖瑞德机械科技有限公司 | 绝热气瓶用氧化钯复合物以及制备方法 |
CN110918045B (zh) * | 2019-12-10 | 2022-08-05 | 西华大学 | 一种常温吸气复合材料及其制品 |
CN112323015A (zh) * | 2020-11-05 | 2021-02-05 | 昆山联德电子科技有限公司 | 一种吸气薄膜及其制备方法和应用 |
EP4318927A1 (en) | 2021-05-31 | 2024-02-07 | Saginomiya Seisakusho, Inc. | Electret device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6227301A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-05 | Nippon Yakin Kogyo Co Ltd | 水素吸蔵合金 |
JPH0924234A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-28 | Ngk Insulators Ltd | 気体分離体、気体分離部材およびその製造方法 |
JPH1073556A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Fuji Electric Co Ltd | ガスセンサ用触媒及びその製造方法 |
Family Cites Families (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US35725A (en) * | 1862-06-24 | Improvement in g ig sav | ||
DD25282A (ja) † | ||||
GB467001A (en) † | 1935-09-19 | 1937-06-09 | British Thomson Houston Co Ltd | Improvements in and relating to methods of wetting or coating one metal with another |
DE1149962B (de) † | 1956-04-10 | 1963-06-06 | Sherritt Gordon Mines Ltd | Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Metallueberzuegen auf Metallpulvern |
US3203901A (en) | 1962-02-15 | 1965-08-31 | Porta Paolo Della | Method of manufacturing zirconiumaluminum alloy getters |
US3350846A (en) † | 1964-12-29 | 1967-11-07 | Tyco Laboratories Inc | Separation of hydrogen by permeation |
BE755337A (fr) * | 1969-08-27 | 1971-02-26 | Union Carbide Corp | Matiere absorbant l'hydrogene pour les cellules electrochimiques |
DE2212740A1 (de) * | 1971-07-01 | 1973-01-25 | Hughes Aircraft Co | Einen evakuierten behaelter umfassende anordnung |
US3794610A (en) | 1971-08-09 | 1974-02-26 | Loctite Corp | Plasticized anaerobic composition |
US4046712A (en) * | 1972-11-30 | 1977-09-06 | United Kingdom Atomic Energy Authority | Catalysts sputtered on substantially nonporous low surface area particulate supports |
US3963826A (en) * | 1974-02-15 | 1976-06-15 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Low temperature, low pressure hydrogen gettering |
DE2448738C3 (de) † | 1974-10-12 | 1978-08-03 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau | Metallischer Dünnschicht-Verbundwerkstoff |
IT1037196B (it) | 1975-04-10 | 1979-11-10 | Getters Spa | Elemento di combustibile per reattore nucleare impiegante zr2ni come metallo getterante |
JPS51148193A (en) * | 1975-06-13 | 1976-12-20 | Toshiba Corp | A nuclear fuel element |
JPS52103879A (en) * | 1976-02-25 | 1977-08-31 | Toshiba Corp | Metallic vapor discharge lamp |
IT1110271B (it) | 1979-02-05 | 1985-12-23 | Getters Spa | Lega ternaria getterante non evaporabile e metodo di suo impiego per l'assorbimento di acqua,vapore d'acqua,di altri gas |
US4272349A (en) * | 1979-02-07 | 1981-06-09 | Toyota Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | Catalyst supported oxygen sensor with sensor element having catalyst and protective layers and a method of manufacturing same |
IT1115156B (it) | 1979-04-06 | 1986-02-03 | Getters Spa | Leghe zr-fe per l'assorbimento di idrogeno a basse temperature |
DE3210381C1 (de) | 1982-03-20 | 1983-05-19 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Legierung zum Speichern von Wasserstoff |
DE3234671C1 (de) † | 1982-09-18 | 1983-06-01 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur Beschichtung von Wasserstoff-Speichermaterial mit Palladium |
SU1141920A1 (ru) * | 1983-11-29 | 1985-08-30 | Предприятие П/Я А-1758 | Нераспыл емый газопоглотитель |
JPS61104053A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-22 | Nippon Yakin Kogyo Co Ltd | ジルコニウム系水素吸蔵用合金 |
US4668424A (en) | 1986-03-19 | 1987-05-26 | Ergenics, Inc. | Low temperature reusable hydrogen getter |
NL8601674A (nl) † | 1986-06-26 | 1988-01-18 | Philips Nv | Elektrochemische cel. |
EP0291123B1 (en) * | 1987-05-13 | 1991-09-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electric lamp provided with a getter |
US4839085A (en) | 1987-11-30 | 1989-06-13 | Ergenics, Inc. | Method of manufacturing tough and porous getters by means of hydrogen pulverization and getters produced thereby |
EP0591126A4 (en) † | 1988-08-29 | 1995-09-06 | Marian J Ostolski | Process for making noble metal coated metallic particles, and resulting conductive materials |
JPH0382734A (ja) † | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nippon Yakin Kogyo Co Ltd | 希土類金属系水素吸蔵合金 |
US5656567A (en) * | 1990-07-31 | 1997-08-12 | Pgp Industries, Inc. | Self-gettering catalysts |
JP2977606B2 (ja) * | 1990-11-29 | 1999-11-15 | 日本パイオニクス株式会社 | 希ガスの精製方法 |
IT1244689B (it) * | 1991-01-25 | 1994-08-08 | Getters Spa | Dispositivo per eliminare l'idrogeno da una camera a vuoto, a temperature criogeniche,specialmente in acceleratori di particelle ad alta energia |
US5238469A (en) * | 1992-04-02 | 1993-08-24 | Saes Pure Gas, Inc. | Method and apparatus for removing residual hydrogen from a purified gas |
DE69304701T2 (de) * | 1992-06-08 | 1997-01-30 | Getters Spa | Evakuierter wärmedämmantel, insbesondere ein mantel eines dewargefässes oder einer anderen kryogenvorrichtung |
US5451474A (en) † | 1994-04-04 | 1995-09-19 | Motorola, Inc. | Metal hydride hydrogen storage electrodes |
IT1269978B (it) | 1994-07-01 | 1997-04-16 | Getters Spa | Metodo per la creazione ed il mantenimento di un'atmosfera controllata in un dispositivo ad emissione di campo tramite l'uso di un materiale getter |
TW287117B (ja) * | 1994-12-02 | 1996-10-01 | Getters Spa | |
US6069111A (en) * | 1995-06-02 | 2000-05-30 | Nissan Motor Co., Ltd. | Catalysts for the purification of exhaust gas and method of manufacturing thereof |
US6110807A (en) * | 1995-06-07 | 2000-08-29 | Saes Getters S.P.A. | Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials |
DE69709313T2 (de) * | 1996-02-09 | 2002-07-25 | Saes Getters S.P.A., Lainate | Kombination von materialen für die niedertemperaturanregung der aktivierung von gettermaterialien und damit hergestellte gettervorrichtungen |
AU3967197A (en) * | 1996-07-08 | 1998-02-02 | Oceaneering Space Systems, A Division Of Oceaneering International, Inc. | Insulation panel |
IT1283484B1 (it) | 1996-07-23 | 1998-04-21 | Getters Spa | Metodo per la produzione di strati sottili supportati di materiale getter non-evaporabile e dispositivi getter cosi' prodotti |
US6673400B1 (en) * | 1996-10-15 | 2004-01-06 | Texas Instruments Incorporated | Hydrogen gettering system |
NL1004724C2 (nl) | 1996-12-09 | 1998-06-11 | Hoverdale N V | Doseereenheid. |
FR2760089B1 (fr) * | 1997-02-26 | 1999-04-30 | Org Europeene De Rech | Agencement et procede pour ameliorer le vide dans un systeme a vide tres pousse |
RU2118231C1 (ru) * | 1997-03-28 | 1998-08-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТЕХНОВАК+" | Способ получения неиспаряемого геттера и геттер, полученный этим способом |
IT1290451B1 (it) | 1997-04-03 | 1998-12-03 | Getters Spa | Leghe getter non evaporabili |
US6074973A (en) * | 1998-03-20 | 2000-06-13 | Engelhard Corporation | Catalyzed hydrocarbon trap material and method of making the same |
ITMI981245A1 (it) * | 1998-06-03 | 1999-12-03 | Getters Spa | Processo per la produzione di pannelli in fibre metalliche funzionalizzati con catalizzatori e pannelli cosi' prodotti |
US6232264B1 (en) * | 1998-06-18 | 2001-05-15 | Vanderbilt University | Polymetallic precursors and compositions and methods for making supported polymetallic nanocomposites |
IT1317951B1 (it) * | 2000-05-30 | 2003-07-21 | Getters Spa | Leghe getter non evaporabili |
US6514471B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-02-04 | Air Products And Chemicals, Inc. | Removing fluorine from semiconductor processing exhaust gas |
US6423575B1 (en) * | 2001-07-27 | 2002-07-23 | Dean Tran | Hydrogen gettering structure including silver-doped palladium layer to increase hydrogen gettering of module component and semiconductor device module having such structure, and methods of fabrication |
-
2000
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- 2000-06-02 US US09/586,401 patent/US6682817B1/en not_active Expired - Lifetime
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-
2003
- 2003-05-19 US US10/440,960 patent/US20030203105A1/en not_active Abandoned
- 2003-11-07 US US10/704,244 patent/US20040101686A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6227301A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-05 | Nippon Yakin Kogyo Co Ltd | 水素吸蔵合金 |
JPH0924234A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-28 | Ngk Insulators Ltd | 気体分離体、気体分離部材およびその製造方法 |
JPH1073556A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Fuji Electric Co Ltd | ガスセンサ用触媒及びその製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008529792A (ja) * | 2005-02-17 | 2008-08-07 | サエス ゲッターズ ソシエタ ペル アチオニ | 弾力性多層ゲッター |
JP2013063428A (ja) * | 2005-02-17 | 2013-04-11 | Saes Getters Spa | 弾力性多層ゲッター |
JP2010503992A (ja) * | 2006-09-15 | 2010-02-04 | サエス ゲッターズ ソシエタ ペル アチオニ | 金属ゲッターシステム |
JP2010529607A (ja) * | 2007-06-05 | 2010-08-26 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 有害物質を吸着するための手段を備える再充電可能なリチウム電池 |
US8741457B2 (en) | 2007-06-05 | 2014-06-03 | Saes Getters S.P.A. | Rechargeable lithium batteries comprising means for the sorption of harmful substances in the form of a multilayer polymeric sheet |
JP2012528474A (ja) * | 2009-05-25 | 2012-11-12 | サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア | 多層複合材ゲッター |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1101237B2 (en) | 2017-08-16 |
CA2339155A1 (en) | 2000-12-14 |
US20030203105A1 (en) | 2003-10-30 |
AU5102600A (en) | 2000-12-28 |
DE60013228T3 (de) | 2018-02-22 |
JP4662666B2 (ja) | 2011-03-30 |
US6682817B1 (en) | 2004-01-27 |
TW586135B (en) | 2004-05-01 |
EP1101237B1 (en) | 2004-08-25 |
DE60013228T2 (de) | 2005-09-22 |
EP1101237A1 (en) | 2001-05-23 |
DE60013228D1 (de) | 2004-09-30 |
DE20023858U1 (de) | 2007-03-01 |
KR20010072216A (ko) | 2001-07-31 |
CN1149609C (zh) | 2004-05-12 |
KR100702710B1 (ko) | 2007-04-02 |
US20040101686A1 (en) | 2004-05-27 |
WO2000075950A1 (en) | 2000-12-14 |
CA2339155C (en) | 2008-05-27 |
CN1313998A (zh) | 2001-09-19 |
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