JP2003286013A - ガス状三フッ化窒素の精製法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不純物としてのCF4から三フッ化窒素を吸
着精製するための工業的な方法を提供することと、吸着
剤の化学安定性を高めかつ運転期間を延ばすこと。 【解決手段】 脱水された結晶性の多孔性合成ゼオライ
トによる三フッ化窒素の選択的な吸着工程、四フッ化炭
素の不活性ガスとの置換工程、および精製された三フッ
化窒素の脱着および濃縮工程を含む、CF4を不純物と
して含有するガス状三フッ化窒素の精製法であって、そ
のキャパシティ中に最大および最小直径が5.2Åおよ
び3.5Åである楕円形細孔を有する合成ゼオライト・
エリオナイトを使用する、ガス状三フッ化窒素の精製
法。
着精製するための工業的な方法を提供することと、吸着
剤の化学安定性を高めかつ運転期間を延ばすこと。 【解決手段】 脱水された結晶性の多孔性合成ゼオライ
トによる三フッ化窒素の選択的な吸着工程、四フッ化炭
素の不活性ガスとの置換工程、および精製された三フッ
化窒素の脱着および濃縮工程を含む、CF4を不純物と
して含有するガス状三フッ化窒素の精製法であって、そ
のキャパシティ中に最大および最小直径が5.2Åおよ
び3.5Åである楕円形細孔を有する合成ゼオライト・
エリオナイトを使用する、ガス状三フッ化窒素の精製
法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機化学の分野、
特に四フッ化炭素からのガス状三フッ化窒素の精製法に
関する。
特に四フッ化炭素からのガス状三フッ化窒素の精製法に
関する。
【0002】
【従来の技術】三フッ化窒素は、半導体材料や高エネル
ギーレーザの製造および化学気相成長法において広く使
用されている。フッ素元素とは違って、三フッ化窒素
は、600g/Lまでの充填密度の圧縮された形態で、
110気圧までの圧力の圧縮気体を貯蔵するための容器
を用いて容易に輸送できる(ジャーナル・オブ・フルオ
ライン・ケミストリー(J. Fluor. Chem.)、1991年、第5
6巻、第1〜3号、第37頁)。
ギーレーザの製造および化学気相成長法において広く使
用されている。フッ素元素とは違って、三フッ化窒素
は、600g/Lまでの充填密度の圧縮された形態で、
110気圧までの圧力の圧縮気体を貯蔵するための容器
を用いて容易に輸送できる(ジャーナル・オブ・フルオ
ライン・ケミストリー(J. Fluor. Chem.)、1991年、第5
6巻、第1〜3号、第37頁)。
【0003】現今の電子部品産業は、高純度の半導体材
料の技術に用いられる三フッ化窒素の純度に対して非常
に高い要件を設定している。主要物質の含量が99.9
〜99.999%NF3の場合、不純物の合計含量は、
10〜1000ppmまたは体積部/主要生成物100
万部(volume parts per million parts of the mainpro
duct)を超えてはならない。最も困難な技術的課題は、
不純物としての四フッ化炭素からの三フッ化窒素の精製
である。四フッ化炭素の含量は、少量でも、炭素または
炭化珪素の固体残渣の形成に起因して半導体のエッチン
グプロセスに問題を引き起こす。NF3とCF4の分離
の複雑さは、それらの分子寸法や沸点における取るに足
らない差から生じる。特に後者(沸点の差)は1℃を超
えない(グメリン・ハンドブック(Gmelin Handbook)、1
986年、第4巻、179〜180頁)。
料の技術に用いられる三フッ化窒素の純度に対して非常
に高い要件を設定している。主要物質の含量が99.9
〜99.999%NF3の場合、不純物の合計含量は、
10〜1000ppmまたは体積部/主要生成物100
万部(volume parts per million parts of the mainpro
duct)を超えてはならない。最も困難な技術的課題は、
不純物としての四フッ化炭素からの三フッ化窒素の精製
である。四フッ化炭素の含量は、少量でも、炭素または
炭化珪素の固体残渣の形成に起因して半導体のエッチン
グプロセスに問題を引き起こす。NF3とCF4の分離
の複雑さは、それらの分子寸法や沸点における取るに足
らない差から生じる。特に後者(沸点の差)は1℃を超
えない(グメリン・ハンドブック(Gmelin Handbook)、1
986年、第4巻、179〜180頁)。
【0004】液体の低分子クロロトリフルオロエチレン
ポリマーを5〜30重量%の量で混合した平均細孔直径
22Åのシリカゲルを分離相として用いる、ガスクロマ
トグラフィー技術によるガス状フッ化物の分離方法は、
当該分野で公知である(米国特許第3125425号明細書、1
964年3月17日交付)。前記ポリマーは、0℃で液化し、
分子量200〜1500を有し、そして沸点は水銀圧
0.5mmHgで121〜260℃である。ガスクロマ
トグラフィー分離法は、NF3およびCF4を含有する
ガス混合物から主要物質を90%より高い濃度で含有す
るフッ化物を−80℃〜50℃の温度で得ることができ
る。この方法は、低い効率、ヘリウムまたは他の不活性
ガスの高い消費量(NF31リットルに対して500リ
ットルまで)、および不純物濃度が1体積%より低いと
きには不適当な高い分離有効性のような不利益をもたら
す。公知の方法で得られる三フッ化窒素の純度は99体
積%を超えない。このことは、前記生成物を電子部品産
業で使用するのには明らかに不充分である。
ポリマーを5〜30重量%の量で混合した平均細孔直径
22Åのシリカゲルを分離相として用いる、ガスクロマ
トグラフィー技術によるガス状フッ化物の分離方法は、
当該分野で公知である(米国特許第3125425号明細書、1
964年3月17日交付)。前記ポリマーは、0℃で液化し、
分子量200〜1500を有し、そして沸点は水銀圧
0.5mmHgで121〜260℃である。ガスクロマ
トグラフィー分離法は、NF3およびCF4を含有する
ガス混合物から主要物質を90%より高い濃度で含有す
るフッ化物を−80℃〜50℃の温度で得ることができ
る。この方法は、低い効率、ヘリウムまたは他の不活性
ガスの高い消費量(NF31リットルに対して500リ
ットルまで)、および不純物濃度が1体積%より低いと
きには不適当な高い分離有効性のような不利益をもたら
す。公知の方法で得られる三フッ化窒素の純度は99体
積%を超えない。このことは、前記生成物を電子部品産
業で使用するのには明らかに不充分である。
【0005】電子部品産業レベルの純度を有するガス状
ハロゲン化物を得るために、ガスクロマトグラフィー法
が提案された。ここでは、分離(吸着)媒体として多孔
性ポリマー、特に「Poropak」を使用する(Z. Analyt.
Chem.、1968年、第235巻、第4号、341〜344頁)。この
方法は、三フッ化窒素とCF4、N2F2、CO2、N
2Oおよびその他の不純物との混合物のガスクロマトグ
ラフィーに広い用途を見出したが、工業用ガス精製法を
提供するためのその適用は、CF4とNF3の産出時間
におけるほんの僅かな差や、分離用不活性ガスの大量消
費の点で全く見込みがない。
ハロゲン化物を得るために、ガスクロマトグラフィー法
が提案された。ここでは、分離(吸着)媒体として多孔
性ポリマー、特に「Poropak」を使用する(Z. Analyt.
Chem.、1968年、第235巻、第4号、341〜344頁)。この
方法は、三フッ化窒素とCF4、N2F2、CO2、N
2Oおよびその他の不純物との混合物のガスクロマトグ
ラフィーに広い用途を見出したが、工業用ガス精製法を
提供するためのその適用は、CF4とNF3の産出時間
におけるほんの僅かな差や、分離用不活性ガスの大量消
費の点で全く見込みがない。
【0006】上記不利益を克服するために、NF3とC
F4の混合物からNF3を、気体−固体クロマトグラフ
ィー法を用いて単離して99.99%程度の高い純度の
成分を得る方法が提案された(米国特許第5069690号明
細書、1991年12月3日交付)。この発明は、NF3から
CF4を分離するために、熱水処理したゼオライト・モ
レキュラーシーブ5Aまたは斜方沸石をクロマトグラフ
ィー用吸着剤として用いる、改良された予備的なガスク
ロマトグラフィー法である。前記方法は、連続的な不活
性キャリアガス流中のNF3とCF4の混合物の不連続
なパルスを、CF 4よりも容易にNF3を動力学的に吸
着する多孔性吸着剤の床に通過させることに存する。前
記吸着剤としては、有効細孔窓が4.4〜4.8Åまで
の熱水で前処理された5Aモレキュラーシーブまたは斜
方沸石を使用する。しかし、静止状態では、前記米国特
許第5069690号に添付の図4、5、6から分かるよう
に、用いられる吸着剤はNF3とCF4を全く同様に吸
着することに注意すべきである。ガスの質量速度は毎時
2.5〜8.6g/cm2である。分離用キャリアガス
の大きな消費量(得られるNF3 1リットル対して少
なくとも100リットル)によって、ヘリウム、窒素お
よびアルゴンと合わせた水素の使用が勧められている。
しかし、これは、H2を含む混合物中のNF3濃度が少
なくとも9.0体積%のときにのみ、前記方法の爆発安
全性の見地から許容できるものである。
F4の混合物からNF3を、気体−固体クロマトグラフ
ィー法を用いて単離して99.99%程度の高い純度の
成分を得る方法が提案された(米国特許第5069690号明
細書、1991年12月3日交付)。この発明は、NF3から
CF4を分離するために、熱水処理したゼオライト・モ
レキュラーシーブ5Aまたは斜方沸石をクロマトグラフ
ィー用吸着剤として用いる、改良された予備的なガスク
ロマトグラフィー法である。前記方法は、連続的な不活
性キャリアガス流中のNF3とCF4の混合物の不連続
なパルスを、CF 4よりも容易にNF3を動力学的に吸
着する多孔性吸着剤の床に通過させることに存する。前
記吸着剤としては、有効細孔窓が4.4〜4.8Åまで
の熱水で前処理された5Aモレキュラーシーブまたは斜
方沸石を使用する。しかし、静止状態では、前記米国特
許第5069690号に添付の図4、5、6から分かるよう
に、用いられる吸着剤はNF3とCF4を全く同様に吸
着することに注意すべきである。ガスの質量速度は毎時
2.5〜8.6g/cm2である。分離用キャリアガス
の大きな消費量(得られるNF3 1リットル対して少
なくとも100リットル)によって、ヘリウム、窒素お
よびアルゴンと合わせた水素の使用が勧められている。
しかし、これは、H2を含む混合物中のNF3濃度が少
なくとも9.0体積%のときにのみ、前記方法の爆発安
全性の見地から許容できるものである。
【0007】このNF3単離法の主な不利益は、低効
率、前記キャリアガスの大きな消費量、ゼオライトの例
外的にエネルギー要求の厳しい熱水前処理の必要性(未
処理のゼオライトは、NF3とCF4の混合物を分離で
きず、しかも要求される製品品質を提供できない)、お
よび分離プラントの出口で三フッ化窒素の二次汚染を防
止するための、全ガス流の排出流量の非常に正確な調整
の必要性である。
率、前記キャリアガスの大きな消費量、ゼオライトの例
外的にエネルギー要求の厳しい熱水前処理の必要性(未
処理のゼオライトは、NF3とCF4の混合物を分離で
きず、しかも要求される製品品質を提供できない)、お
よび分離プラントの出口で三フッ化窒素の二次汚染を防
止するための、全ガス流の排出流量の非常に正確な調整
の必要性である。
【0008】これら全てが、前記方法を複雑にし、かつ
産業上での履行を経済的に不利にしている。
産業上での履行を経済的に不利にしている。
【0009】三フッ化窒素、水、一酸化二窒素、二酸化
炭素、ジフルオロジアジンを含有する混合物から水と一
酸化二窒素を除去する方法は当該分野で公知である。前
記混合物は、酸素、四フッ化炭素および六フッ化硫黄ま
たはこれらの混合物を更に含むこともある(特開平10-2
59011号明細書(特許文献1)、1998年9月29日交付)。
炭素、ジフルオロジアジンを含有する混合物から水と一
酸化二窒素を除去する方法は当該分野で公知である。前
記混合物は、酸素、四フッ化炭素および六フッ化硫黄ま
たはこれらの混合物を更に含むこともある(特開平10-2
59011号明細書(特許文献1)、1998年9月29日交付)。
【0010】前記特開平10-259011号では、水と一酸化
二窒素からの三フッ化窒素の精製に関する問題や、NF
3と吸着剤(ゼオライト)との相互作用を防止した結
果、一酸化二窒素によるNF3の二次汚染が生じるとい
う問題が開示されかつ解決されている。
二窒素からの三フッ化窒素の精製に関する問題や、NF
3と吸着剤(ゼオライト)との相互作用を防止した結
果、一酸化二窒素によるNF3の二次汚染が生じるとい
う問題が開示されかつ解決されている。
【0011】前記目的を達成するために、前記特開平10
-259011号には、2段階法が展開されている。前記方法
では、最初に、少なくとも3Åの孔径のゼオライトで、
Si/Al比が3.0を超える(好ましくは4.5の)
ゼオライトとの接触によって水を除去する。クリノプチ
ロライト、モルデン沸石、オフレタイト、エリオナイ
ト、ZSM−5、フェリエライト、L型、ω型、β型ま
たはこれらの混合物から成る群よりゼオライトを選択す
る。
-259011号には、2段階法が展開されている。前記方法
では、最初に、少なくとも3Åの孔径のゼオライトで、
Si/Al比が3.0を超える(好ましくは4.5の)
ゼオライトとの接触によって水を除去する。クリノプチ
ロライト、モルデン沸石、オフレタイト、エリオナイ
ト、ZSM−5、フェリエライト、L型、ω型、β型ま
たはこれらの混合物から成る群よりゼオライトを選択す
る。
【0012】前記特開平10-259011号には、NF3を吸
着するゼオライトは無いと記載されている。
着するゼオライトは無いと記載されている。
【0013】前記特開平10-259011号明細書中の実施例
によれば、三フッ化窒素をN2O不純物から精製するた
めに、ナトリウムモルデン沸石を使用している(実施例
2)。別の実施例1および3〜6では、NF3のゼオラ
イトとの相互作用に起因する、一酸化二窒素によるNF
3の二次汚染を防ぐ可能性が示されている。
によれば、三フッ化窒素をN2O不純物から精製するた
めに、ナトリウムモルデン沸石を使用している(実施例
2)。別の実施例1および3〜6では、NF3のゼオラ
イトとの相互作用に起因する、一酸化二窒素によるNF
3の二次汚染を防ぐ可能性が示されている。
【0014】前記特開平10-259011号明細書から分かる
ように、前記方法は、NF3とCF 4の混合物の分離に
関する問題を解決していない。前記公報の著者は、混合
物中のCF4の受け入れられる存在について述べている
が、NF3とCF4混合物の分離については、実施例に
も明細書中にも示されていない。
ように、前記方法は、NF3とCF 4の混合物の分離に
関する問題を解決していない。前記公報の著者は、混合
物中のCF4の受け入れられる存在について述べている
が、NF3とCF4混合物の分離については、実施例に
も明細書中にも示されていない。
【0015】本発明者が提案した方法のうち、技術的な
本質および達成される結果の点で最も近いのは、CF4
を不純物として含有するガス状三フッ化窒素の精製法で
ある。この精製法は、ガス状三フッ化窒素を、孔径が実
質上均一でかつ−50℃〜10℃までの温度における有
効孔径が約4.9Åである結晶性の多孔性合成ゼオライ
トと接触させる工程、次いで、CF4を含むガスを吸着
剤から置換(displacement)する工程、精製された三フッ
化窒素を脱着する工程、および濃縮工程を含む(米国特
許5069887号明細書(特許文献2)、1991年12月3日交
付、基本型)。合成ゼオライトとしてモレキュラーシー
ブ5Aを使用する。これは、実験式Ca6Al12Si
12O48・H20で表され、結晶水1〜10重量%を
含んでいる。ゼオライト5A中の結晶水の含量が1重量
%未満の場合、吸着剤がCF4とNF3の両者を、選択
性をほとんど有さずに、有効に吸着する。含水量が10
%より大きいと、NF3とCF4の吸着が、ほぼ等量で
かつ非常に少量で生じる。吸着温度は、10℃を超える
と、NF3の吸着度が顕著に低下するため、必須要因で
ある。モレキュラーシーブからCF4を置換するため
に、不活性ガス(ヘリウム)を使用する。三フッ化窒素
の脱着は、減圧下で行われる。この方法で得られる三フ
ッ化窒素は、CF4を10ppm未満含有する。このこ
とは、電子部品産業の要件に相当する。
本質および達成される結果の点で最も近いのは、CF4
を不純物として含有するガス状三フッ化窒素の精製法で
ある。この精製法は、ガス状三フッ化窒素を、孔径が実
質上均一でかつ−50℃〜10℃までの温度における有
効孔径が約4.9Åである結晶性の多孔性合成ゼオライ
トと接触させる工程、次いで、CF4を含むガスを吸着
剤から置換(displacement)する工程、精製された三フッ
化窒素を脱着する工程、および濃縮工程を含む(米国特
許5069887号明細書(特許文献2)、1991年12月3日交
付、基本型)。合成ゼオライトとしてモレキュラーシー
ブ5Aを使用する。これは、実験式Ca6Al12Si
12O48・H20で表され、結晶水1〜10重量%を
含んでいる。ゼオライト5A中の結晶水の含量が1重量
%未満の場合、吸着剤がCF4とNF3の両者を、選択
性をほとんど有さずに、有効に吸着する。含水量が10
%より大きいと、NF3とCF4の吸着が、ほぼ等量で
かつ非常に少量で生じる。吸着温度は、10℃を超える
と、NF3の吸着度が顕著に低下するため、必須要因で
ある。モレキュラーシーブからCF4を置換するため
に、不活性ガス(ヘリウム)を使用する。三フッ化窒素
の脱着は、減圧下で行われる。この方法で得られる三フ
ッ化窒素は、CF4を10ppm未満含有する。このこ
とは、電子部品産業の要件に相当する。
【0016】前記米国特許5069887号明細書に記載のよ
うに、モレキュラーシーブまたは別の種類のゼオライト
を用いると、NF3単独の選択的な吸着を行うのは困難
である。孔径約4.9Åのモレキュラーシーブ5Aを使
用する場合にのみ、含水量が1〜10重量%でしかもゼ
オライトが10℃以下の温度で保持される条件で、NF
3の選択的な吸着が達成される。
うに、モレキュラーシーブまたは別の種類のゼオライト
を用いると、NF3単独の選択的な吸着を行うのは困難
である。孔径約4.9Åのモレキュラーシーブ5Aを使
用する場合にのみ、含水量が1〜10重量%でしかもゼ
オライトが10℃以下の温度で保持される条件で、NF
3の選択的な吸着が達成される。
【0017】前記方法は、モレキュラーシーブ5A中の
結晶水の含量が前記範囲内である場合でも、4.5重量
%〜1重量%NF3までの吸着キャパシティのかなりの
低下、およびゼオライトの不十分な運転期間(operating
life)などの不利益をもたらす。吸着領域で−50〜1
0℃の温度を維持することはモレキュラーシーブ5Aの
キャパシティを低下する要因ですらない。しかし、この
要因は、本発明者の意見では、脱着プロセスでの三フッ
化窒素の加水分解反応の進行を最小にし、それに相応じ
て60℃以上での吸着剤再生時に生じる、前記加水分解
生成物によるモレキュラーシーブのフッ素化を最小にす
る必要性によって、非常に重要である。おそらく、NF
3とCF4から成る純粋な2成分混合物をモレキュラー
シーブ5Aにより−50〜10℃の温度で分離する場合
は、前記ゼオライトの循環操作期間が十分に長かったの
であろう。しかし、モレキュラーシーブ5AによってN
F 3と同様に吸着されるCO2、N2O、N2F2およ
びH2Oなどの比較的少量(10〜100ppmまで)
の不純物の存在が、NF3のためのゼオライトキャパシ
ティを実質上低下させ、そして吸着剤を再生する必要性
を導く。
結晶水の含量が前記範囲内である場合でも、4.5重量
%〜1重量%NF3までの吸着キャパシティのかなりの
低下、およびゼオライトの不十分な運転期間(operating
life)などの不利益をもたらす。吸着領域で−50〜1
0℃の温度を維持することはモレキュラーシーブ5Aの
キャパシティを低下する要因ですらない。しかし、この
要因は、本発明者の意見では、脱着プロセスでの三フッ
化窒素の加水分解反応の進行を最小にし、それに相応じ
て60℃以上での吸着剤再生時に生じる、前記加水分解
生成物によるモレキュラーシーブのフッ素化を最小にす
る必要性によって、非常に重要である。おそらく、NF
3とCF4から成る純粋な2成分混合物をモレキュラー
シーブ5Aにより−50〜10℃の温度で分離する場合
は、前記ゼオライトの循環操作期間が十分に長かったの
であろう。しかし、モレキュラーシーブ5AによってN
F 3と同様に吸着されるCO2、N2O、N2F2およ
びH2Oなどの比較的少量(10〜100ppmまで)
の不純物の存在が、NF3のためのゼオライトキャパシ
ティを実質上低下させ、そして吸着剤を再生する必要性
を導く。
【0018】この場合、推奨される吸着剤―含水量1〜
10重量%のモレキュラーシーブ5A―は矛盾を含んで
いる。この矛盾とは、一方が、NF3とCF4の混合物
の選択的な分離を提供するための結晶水の存在の必要性
であり、他方は、NF3の加水分解反応とゼオライトの
フッ素化反応の進行を最大限防止する必要性である。こ
れら全てが、方法の不安定さと、工業上の条件でのその
再現困難性を暗示している。
10重量%のモレキュラーシーブ5A―は矛盾を含んで
いる。この矛盾とは、一方が、NF3とCF4の混合物
の選択的な分離を提供するための結晶水の存在の必要性
であり、他方は、NF3の加水分解反応とゼオライトの
フッ素化反応の進行を最大限防止する必要性である。こ
れら全てが、方法の不安定さと、工業上の条件でのその
再現困難性を暗示している。
【0019】フッ素化に対する化学安定性とそれに必要
なモレキュラーシーブの細孔(窓)サイズの安定性の要
因は、前記方法の工業的履行に使用される大量の吸着剤
およびその高いコストを考慮すれば、十分に重みのある
ものであることに注意すべきである。
なモレキュラーシーブの細孔(窓)サイズの安定性の要
因は、前記方法の工業的履行に使用される大量の吸着剤
およびその高いコストを考慮すれば、十分に重みのある
ものであることに注意すべきである。
【0020】
【特許文献1】特開平10-259011号明細書
【特許文献2】米国特許5069887号明細書
【0021】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、不純
物としてのCF4から三フッ化窒素を吸着精製するため
の工業的な方法を提供すること、および吸着剤の化学安
定性を高めかつ運転期間を延ばすことである。
物としてのCF4から三フッ化窒素を吸着精製するため
の工業的な方法を提供すること、および吸着剤の化学安
定性を高めかつ運転期間を延ばすことである。
【0022】
【課題を解決するための手段】前記目的は、実験式(N
a,K)9Al9Si27O72・27H2Oで表される
エリオナイトタイプのモレキュラーシーブであって、最
小および最大窓(細孔)直径3.5Åおよび5.2Åを
有し、含水量1.0重量%未満に予備脱水されたモレキ
ュラーシーブを吸着剤として使用することにより達成さ
れる。本発明で提案される前記三フッ化窒素精製法は、
以下の工程を含む。―多孔性の合成ゼオライトによる、
−30℃〜30℃の温度でのNF3の選択的な吸着工
程、―ゼオライト表面から、不活性ガスで四フッ化炭素
を置換する工程、―精製された三フッ化窒素の脱着およ
び濃縮工程。
a,K)9Al9Si27O72・27H2Oで表される
エリオナイトタイプのモレキュラーシーブであって、最
小および最大窓(細孔)直径3.5Åおよび5.2Åを
有し、含水量1.0重量%未満に予備脱水されたモレキ
ュラーシーブを吸着剤として使用することにより達成さ
れる。本発明で提案される前記三フッ化窒素精製法は、
以下の工程を含む。―多孔性の合成ゼオライトによる、
−30℃〜30℃の温度でのNF3の選択的な吸着工
程、―ゼオライト表面から、不活性ガスで四フッ化炭素
を置換する工程、―精製された三フッ化窒素の脱着およ
び濃縮工程。
【0023】
【発明の実施の形態】ゼオライトのモレキュラーシーブ
効率の選択性は、一般に、分子寸法と細孔直径を比較す
ることによって評価できる。ゼオライトの構造、その活
性および種々の要因の間に相互関係が存在することは公
知であるが、ゼオライトの個々の特徴は、キャビティ(c
avities)とチャネル(channels)の組織で形成される規則
正しい結晶構造である。エリオナイトの吸着キャビティ
は、直径6.3〜6.6Åおよび長さ15.1Åの円筒
形を表す。吸着された分子は、8員酸素環で形成された
6個の楕円形の窓からエリオナイトのキャビティへ浸透
し得る。楕円形の窓の最小および最大寸法は、3.5お
よび5.2Åである。楕円形の窓は違って、5Aゼオラ
イト中の窓はほぼ円形であることに注意すべきである。
5Aゼオライトの多孔性構造は、大きな球形のキャビテ
ィの立体的なネットワークで形成されており、キャビテ
ィの直径は11.4Åである。分子は、自由直径(free
diameter)4.2〜4.9Åの6個の窓からキャビティ
に浸透し得る(ジュール・エイ・ラボ(編)、ゼオライ
ト・ケミストリー・アンド・カタリシス(ロシア語
版)、モスクワ:ミール、1980年、第1巻、474〜4
75頁、480〜481頁参照)。
効率の選択性は、一般に、分子寸法と細孔直径を比較す
ることによって評価できる。ゼオライトの構造、その活
性および種々の要因の間に相互関係が存在することは公
知であるが、ゼオライトの個々の特徴は、キャビティ(c
avities)とチャネル(channels)の組織で形成される規則
正しい結晶構造である。エリオナイトの吸着キャビティ
は、直径6.3〜6.6Åおよび長さ15.1Åの円筒
形を表す。吸着された分子は、8員酸素環で形成された
6個の楕円形の窓からエリオナイトのキャビティへ浸透
し得る。楕円形の窓の最小および最大寸法は、3.5お
よび5.2Åである。楕円形の窓は違って、5Aゼオラ
イト中の窓はほぼ円形であることに注意すべきである。
5Aゼオライトの多孔性構造は、大きな球形のキャビテ
ィの立体的なネットワークで形成されており、キャビテ
ィの直径は11.4Åである。分子は、自由直径(free
diameter)4.2〜4.9Åの6個の窓からキャビティ
に浸透し得る(ジュール・エイ・ラボ(編)、ゼオライ
ト・ケミストリー・アンド・カタリシス(ロシア語
版)、モスクワ:ミール、1980年、第1巻、474〜4
75頁、480〜481頁参照)。
【0024】エリオナイトモレキュラーシーブ構造の特
殊な特徴がおそらく、見出された条件下でのCF4に対
するNF3吸着選択のプロセスを実行可能にすると思わ
れる。どのような濃度のCF4不純物を含む混合物も精
製に付すことはできるが、不純物としてのCF4の量が
1.0重量%より少ないNF3とCF4の混合物を精製
するのは特に困難である。
殊な特徴がおそらく、見出された条件下でのCF4に対
するNF3吸着選択のプロセスを実行可能にすると思わ
れる。どのような濃度のCF4不純物を含む混合物も精
製に付すことはできるが、不純物としてのCF4の量が
1.0重量%より少ないNF3とCF4の混合物を精製
するのは特に困難である。
【0025】5Aモレキュラーシーブとエリオナイトの
化学組成を比較すると、エリオナイトの場合、SiO2
/Al2O3とSiO2/MenOの比が1.5倍高い
ことに注意すべきである。このファクターは、モレキュ
ラーシーブの耐酸性を決定するのに重要であり、その結
果、吸着剤の運転期間の決め手となる。ガス状NF3お
よびCF4の混合物を分離する場合、本発明では、KN
aEクラスの汎用のゼオライト(エリオナイト)を使用
した。
化学組成を比較すると、エリオナイトの場合、SiO2
/Al2O3とSiO2/MenOの比が1.5倍高い
ことに注意すべきである。このファクターは、モレキュ
ラーシーブの耐酸性を決定するのに重要であり、その結
果、吸着剤の運転期間の決め手となる。ガス状NF3お
よびCF4の混合物を分離する場合、本発明では、KN
aEクラスの汎用のゼオライト(エリオナイト)を使用
した。
【0026】エリオナイト中の含水量は1.0重量%を
超えてはいけない。ゼオライト中の含水量の増加は、ゼ
オライトのキャパシティを低下させ、そして加水分解プ
ロセスの生じる可能性にも関与する。そのため、吸着を
開始する前に、吸着剤を、300℃に加熱された空気流
または窒素流を用いた予備脱水に付する。吸着は、−3
0〜30℃までの温度、主に周囲温度で行われる。温度
低下は、経済的に不適当であると同様に、30℃よりも
高い温度では、エリオナイトのキャパシティが低下し、
その結果、精製法の効率が低下する。
超えてはいけない。ゼオライト中の含水量の増加は、ゼ
オライトのキャパシティを低下させ、そして加水分解プ
ロセスの生じる可能性にも関与する。そのため、吸着を
開始する前に、吸着剤を、300℃に加熱された空気流
または窒素流を用いた予備脱水に付する。吸着は、−3
0〜30℃までの温度、主に周囲温度で行われる。温度
低下は、経済的に不適当であると同様に、30℃よりも
高い温度では、エリオナイトのキャパシティが低下し、
その結果、精製法の効率が低下する。
【0027】NF3吸着プロセスが完了した時点で、2
0℃を超えない温度のガス状窒素を、リリーフガス(rel
ief gases)の分析で確かめながら、CF4含有ガスの完
全置換に十分な時間、吸着剤に通過させる。
0℃を超えない温度のガス状窒素を、リリーフガス(rel
ief gases)の分析で確かめながら、CF4含有ガスの完
全置換に十分な時間、吸着剤に通過させる。
【0028】ゼオライトからの精製三フッ化窒素の脱着
は、20〜60℃に予熱した窒素ガスを用いて行う。脱
着プロセスは、排気中のNF3濃度が0.5体積%まで
低下したら停止する。
は、20〜60℃に予熱した窒素ガスを用いて行う。脱
着プロセスは、排気中のNF3濃度が0.5体積%まで
低下したら停止する。
【0029】前記脱着工程で形成された三フッ化窒素
を、窒素との混合物中で、150〜190℃の温度で濃
縮する。
を、窒素との混合物中で、150〜190℃の温度で濃
縮する。
【0030】窒素を含むガス状混合物からの三フッ化窒
素の濃縮は、窒素の部分凝結を導く。液体NF3からの
窒素の除去は、公知の方法で行われる。精製の結果とし
て、99.99%純度のNF3が得られる。
素の濃縮は、窒素の部分凝結を導く。液体NF3からの
窒素の除去は、公知の方法で行われる。精製の結果とし
て、99.99%純度のNF3が得られる。
【0031】精製前後のガス状NF3の組成は、クロマ
トグラフィー分析で求める。CF4からの三フッ化窒素
精製中、CO2、N2O、N2F2などの高沸点不純物
がゼオライト内に徐々に堆積し、それによって吸着キャ
パシティが低下することがある。
トグラフィー分析で求める。CF4からの三フッ化窒素
精製中、CO2、N2O、N2F2などの高沸点不純物
がゼオライト内に徐々に堆積し、それによって吸着キャ
パシティが低下することがある。
【0032】本発明では、吸着精製を50サイクル行っ
た後、吸着キャパシティが開始時の10%まで低下する
ことが分かった。これに関しては、20〜100℃の不
活性ガスでパージすることによってエリオナイトの再生
を周期的に行うことが好ましい。低い含水量のエリオナ
イトを用いた本発明の提案する吸着方法では、加水分解
プロセスが防止される。その結果、脱着とゼオライト再
生が高温で可能となるが、これがゼオライトのフッ素化
を導かない。これによって、吸着剤の耐用年数が延び、
プロセス安定性が高まる。例えば、吸着精製を1200
回行い、かつエリオナイト再生を40回行った後でも、
最終製品の品質は変化せず、しかもゼオライト中の不揮
発性フッ化物の含量は0.01重量%(F)を超えなか
った。CF4不純物からのNF3の改良された吸着精製
方法は、周囲温度で、長い運転期間の吸着剤を使用する
ことで、実行可能となる。この方法は、技術的に有効で
あり、経済的に得策であって、工業上の条件下で容易に
実行できる。
た後、吸着キャパシティが開始時の10%まで低下する
ことが分かった。これに関しては、20〜100℃の不
活性ガスでパージすることによってエリオナイトの再生
を周期的に行うことが好ましい。低い含水量のエリオナ
イトを用いた本発明の提案する吸着方法では、加水分解
プロセスが防止される。その結果、脱着とゼオライト再
生が高温で可能となるが、これがゼオライトのフッ素化
を導かない。これによって、吸着剤の耐用年数が延び、
プロセス安定性が高まる。例えば、吸着精製を1200
回行い、かつエリオナイト再生を40回行った後でも、
最終製品の品質は変化せず、しかもゼオライト中の不揮
発性フッ化物の含量は0.01重量%(F)を超えなか
った。CF4不純物からのNF3の改良された吸着精製
方法は、周囲温度で、長い運転期間の吸着剤を使用する
ことで、実行可能となる。この方法は、技術的に有効で
あり、経済的に得策であって、工業上の条件下で容易に
実行できる。
【0033】以下の実施例は、本発明の例示であるが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
【0034】
【実施例】実施例1
CF4からの三フッ化窒素の精製は、長さ3.2mおよ
び内径0.15mのスチール製カラム内で行う。カラム
には、脱水して粉砕された、含水率約0.8重量%のモ
レキュラーシーブKNaE(エリオナイト)25kgが
充填されている。吸着カラムには、入口と出口で気体温
度を測定するためのセンサー、圧力センサー、および粉
塵様のゼオライト粒子の付随的な浮遊を防止するための
フィルターが装備されている。
び内径0.15mのスチール製カラム内で行う。カラム
には、脱水して粉砕された、含水率約0.8重量%のモ
レキュラーシーブKNaE(エリオナイト)25kgが
充填されている。吸着カラムには、入口と出口で気体温
度を測定するためのセンサー、圧力センサー、および粉
塵様のゼオライト粒子の付随的な浮遊を防止するための
フィルターが装備されている。
【0035】組成:N2,8.5体積%、CF4,0.8
体積%、NF3,90.6体積%、CO2,50ppm、
N2O,50ppm、N2F2,20ppmを有する三フ
ッ化窒素434リットルを、脱気した吸着カラムに、カ
ラム内での圧力増加が1分当たり0.05気圧を超えな
いような速度で供給する。
体積%、NF3,90.6体積%、CO2,50ppm、
N2O,50ppm、N2F2,20ppmを有する三フ
ッ化窒素434リットルを、脱気した吸着カラムに、カ
ラム内での圧力増加が1分当たり0.05気圧を超えな
いような速度で供給する。
【0036】三フッ化窒素の吸着は、20±1℃の温度
で24時間行う。この間、クロマトログラフィー分析が
示すように、NF3と高沸点不純物はリリーフガス中で
は検出されず、そしてCF4濃度は6.7体積%であ
る。
で24時間行う。この間、クロマトログラフィー分析が
示すように、NF3と高沸点不純物はリリーフガス中で
は検出されず、そしてCF4濃度は6.7体積%であ
る。
【0037】吸着プロセスの完了時に、CF4を含む排
気をカラムから置換するために、窒素を20℃で15分
間カラムに通過させる。クロマトグラフィー分析で確認
して、排気中にCF4が無くなれば、窒素フッ化物の脱
着を開始する。このために、60℃に予熱した窒素をカ
ラムに供給し、そして吸着カラムに再循環する窒素と−
190℃に冷却したコンデンサーを用いて三フッ化窒素
の脱着を行う。脱着プロセスは、約3時間続ける。窒素
を除去した後、以下の組成を有する、精製された三フッ
化窒素がコンデンサー内に得られた:NF3,99.9
9体積%、N2,0.005体積%、CF4,10ppm
以下、CO2,10ppm以下、N2O,10ppm以
下。最終生成物の重量は1175gであった。精製され
たNF3の収率は94.3%であった。
気をカラムから置換するために、窒素を20℃で15分
間カラムに通過させる。クロマトグラフィー分析で確認
して、排気中にCF4が無くなれば、窒素フッ化物の脱
着を開始する。このために、60℃に予熱した窒素をカ
ラムに供給し、そして吸着カラムに再循環する窒素と−
190℃に冷却したコンデンサーを用いて三フッ化窒素
の脱着を行う。脱着プロセスは、約3時間続ける。窒素
を除去した後、以下の組成を有する、精製された三フッ
化窒素がコンデンサー内に得られた:NF3,99.9
9体積%、N2,0.005体積%、CF4,10ppm
以下、CO2,10ppm以下、N2O,10ppm以
下。最終生成物の重量は1175gであった。精製され
たNF3の収率は94.3%であった。
【0038】以降の実施例2〜4も実施例1と同様にし
て行った。結果を以下の表に示す。
て行った。結果を以下の表に示す。
【0039】CF4不純物からの三フッ化窒素の精製条
件および精製結果
件および精製結果
【表1】
*差し引き残渣:N2、CO2、N2O、N2F2
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(71)出願人 502161324
Zakrytoe Aktsionern
oe Obschestvo Nauch
no−Proizvodstvennoe
Obiedinenie “PiM−I
NVEST"
(72)発明者 セルゲイ・ミハイロビチ・イグムノフ
ロシア103617モスクワ、ゼレノグラド1445
番、クバルティーラ363
(72)発明者 バレリー・パーブロビッチ・ハリトノフ
ロシア614034ペルム、ウーリツァ・パンフ
ィローワ6アー番、クバルティーラ49
Fターム(参考) 4D012 BA02 CA20 CB12 CD01 CD03
CE03 CF04 CG05 CG10 CJ02
4G066 AA61B BA23 BA38 CA27
CA32 DA05
Claims (4)
- 【請求項1】 脱水された結晶性の多孔性合成ゼオライ
トによる三フッ化窒素の選択的な吸着工程、四フッ化炭
素の不活性ガスとの置換工程、および精製された三フッ
化窒素の脱着および濃縮工程を含む、CF4を不純物と
して含有するガス状三フッ化窒素の精製法であって、そ
のキャパシティ中に最大および最小直径が5.2Åおよ
び3.5Åである楕円形細孔を有する合成ゼオライト・
エリオナイトを使用する、ガス状三フッ化窒素の精製
法。 - 【請求項2】 エリオナイト中の結晶水の含量が1.0
重量%を超えない請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 三フッ化窒素の選択的吸着工程が、−3
0〜30℃の温度範囲内で行われる請求項1記載の方
法。 - 【請求項4】 実験式(Na,K)9Al9Si27O
72・27H2Oで表されるエリオナイトを合成ゼオラ
イトとして使用する請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2002105042 | 2002-02-26 | ||
RU2002105042/12A RU2206499C1 (ru) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | Способ очистки газообразного трифторида азота |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003286013A true JP2003286013A (ja) | 2003-10-07 |
Family
ID=27656550
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---|---|---|---|
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Country Status (6)
Country | Link |
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US (1) | US7022160B2 (ja) |
EP (1) | EP1338558A3 (ja) |
JP (1) | JP2003286013A (ja) |
KR (1) | KR20030070836A (ja) |
CN (1) | CN1268412C (ja) |
RU (1) | RU2206499C1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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