JP2003245555A - 炭素に担持されたルテニウム/鉄触媒の製造 - Google Patents
炭素に担持されたルテニウム/鉄触媒の製造Info
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Abstract
良された製造方法、ならびにカルボニル化合物の選択的
液相水素化による対応するアルコールの製造におけるそ
れの使用を提供する。 【解決手段】炭素担体上にルテニウムに加え鉄を含む触
媒の製造方法において、担体上に前記触媒活性成分を同
時に折出させる段階を含むことを特徴とする。製造され
た触媒は、特にシトラールの水素化によるゲラニオール
/ネロールを選択率良く得るのに使用できる。
Description
鉄ドープルテニウム触媒の製造方法、ならびにカルボニ
ル化合物の選択的液相水素化による対応するアルコール
の製造におけるそれの使用、詳細にはシトラールの水素
化によるゲラニオールもしくはネロールの製造またはシ
トロネラールの水素化によるシトロネロールの製造にお
けるそれの使用に関する。
示されている。それらの方法は主として、活性成分につ
いて使用される前段階または炭素担体上への活性成分の
析出において異なる。
らなる水素化触媒、ならびにそれの製造および不飽和カ
ルボニル化合物の選択的水素化における使用が開示され
ている。使用されるRu/Fe/炭素触媒の製造は、塩化ル
テニウム溶液による活性炭粉末の飽和、乾燥およびそれ
に続く酸化鉄との混合によって行われる。触媒は500℃
で水素によって還元される。
から、塩化物の使用は技術上の問題を生じる。従って活
性成分の飽和および乾燥は、高価な耐腐食性装置で行わ
なければならない。還元によってHClが生成され、それ
が還元炉に損傷を与える可能性があり、塩化物が触媒に
残留して、触媒を水素化に使用する場合に製造リアクタ
ーでの腐食が生じる場合がある。
た場合、硝酸塩/炭素混合物が爆発性である場合がある
ことから、安全上の問題が生じる可能性がある。上記方
法のさらに別の欠点は、後に行われるFe2O3によるドー
ピングであり、それによってさらなる工程段階が必要と
なる。
化合物の各種水素化方法も開示されている。しかしなが
ら、上記の方法および使用された触媒では、対応するア
ルコールに対する高い選択率を得るのは困難である。例
えばシトラールの水素化によって、アルデヒド基と同時
にオレフィン系二重結合の水素化が生じる場合や、ある
いはアルデヒド基に共役した二重結合の水素化のみが生
じる場合があることから、不飽和アルコールであるゲラ
ニオールおよびネロールと同時に、シトロネロールまた
はシトロネラールなどの副生成物も生成される場合があ
る。
l., J. Oil Technol. Assoc. India 1974, 6, 88-91)
には、シトラールの選択的水素化のための連続固定床法
が記載されている。銅/クロム/カドミウム触媒が使用
されている。十分なシトラール変換率を得るためには、
反応は170〜250℃という高温で行わなければならない。
225〜235℃でゲラニオール/ネロールの最高収率66.4%
およびシトラールのほぼ完全な変換が得られている。シ
トロネロールの収率は14.8%であった。約44%という低
い変換率においても、目的物でないシトロネロールの収
率はなお7.6%であったことから、シトロネロールの選
択率は約17%であった。パウロスらが報告しているシト
ロネロールの選択率は、シトラールの経済的な水素化方
法としては高すぎる。
に担持されたルテニウム/鉄触媒の改良された製造方
法、詳細にはオレフィン系不飽和カルボニル化合物の選
択的水素化によって、上記の欠点を生じることなく対応
する不飽和アルコールを得る改良された製造方法を提供
することにある。
期安定性を有すべきであり、詳細には、シトラールの水
素化によってゲラニオール/ネロールを得るのに使用し
た場合に、シトラールの高変換率および同時にシトロネ
ロールの低選択率をもたらすものでなければならない。
および硝酸飽和炭素などの爆発性中間体の使用を回避す
るものでなければならない。
上に0.1〜10重量%のルテニウムに加えて0.1〜5重量%
の鉄を含む、炭素に担持されたルテニウム/鉄触媒の製
造方法において、 a)担体を水中に懸濁させる段階; b)前記触媒活性成分を、それらの金属塩溶液の形態で
同時に加える段階; c)塩基を加えることで前記担体上に前記触媒活性成分
を同時に析出させる段階; d)前記触媒を前記担体懸濁液の水相から分離する段
階; e)前記触媒を乾燥する段階; f)前記触媒を水素気流中400〜600℃で還元する段階; g)前記触媒を低燃焼性の液体下でコンディショニング
する段階または前記触媒を酸素で不動態化する段階によ
って行うことを特徴とする方法によって、前記目的が達
成されることを見い出した。
(c)は、順次または同時に行うことができる。
ル化合物:
それぞれ独立に、水素あるいは飽和もしくはモノ不飽和
もしくはポリ不飽和の直鎖もしくは分岐の置換もしくは
未置換C1〜C20アルキル基、未置換もしくは置換ア
リール基または未置換もしくは置換複素環基である。]
の選択的液相水素化による下記一般式IIの対応する不飽
和アルコール:
ある。]の製造における、前記本発明の方法によって製
造された前記の炭素に担持されたルテニウム/鉄触媒の
使用を提供する。
飽和またはオレフィン系不飽和のカルボニル化合物であ
ることができる。
の直鎖もしくは分岐のC1〜C20アルキル基は、別段
の断りがない限り、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプテニル、オクチル、ノニル、デシ
ル、1−プロペニル、2−プロペニル、2−メチル−2
−プロペニル、1−ペンテニル、1−メチル−2−ペン
テニル、イソプロペニル、1−ブテニル、ヘキセニル、
ヘプテニル、オクテニル、ノネニルまたはデセニルであ
るか、あるいは以下に挙げる、用いる成分に対応する基
である。
フチルである。
ン、ピリダジン、ピラジン、ピペラジン、イミダゾー
ル、フラン、オキサゾール、イソチアゾール、イソオキ
サゾール、1,2,3−トリアゾールもしくは1,2,
4−トリアゾール、チアゾール、チオフェンまたはイン
ドール環である。
−プロピル、ブチル、t−ブチル、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素、ニトロまたはアミノであることができる。
ば、3,7−ジメチルオクタン−1−アールおよびそれ
の異性体、テトラヒドロゲラニルアセトン、ヘキサヒド
ロファルネシルアセトン、6−メチルヘプタノンまたは
イソバレルアルデヒドである。
化合物は例えば、シトロネラール、H−ゲラニルアセト
ン、H−ネロリドール、メチルビニルケトン、メシチル
オキサイド、プソイドイオノン、ジヒドロファルネシル
アセトン、リスメラール、メチルヘキセノンであること
ができ、特に好ましくはシトロネラールまたは、例えば
アクロレイン、メタアクロレイン、クロトンアルデヒ
ド、プレナール、ファルネサールもしくはシトラールな
どのα,β−不飽和カルボニル化合物であることがで
き、特に好ましくはシトラールである。
焼性の液体は、引火点が80℃より高い、好ましくは100
℃より高い液体であり、例えば水、ゲラニオール、ペン
タンジオール、エチレングリコールもしくはネロールま
たはそれらの混合物、特に好ましくはゲラニオールもし
くはネロールまたはそれらの混合物である。
ムおよび鉄の金属塩の同時析出によって、触媒活性、選
択率および触媒寿命が改善される。水酸化物の形での前
記金属の析出は、先行技術で記載されている腐食または
爆発の危険性の問題を回避するものである。
可能な金属塩には、塩化物、硝酸塩、ニトロシル硝酸
塩、酢酸塩、酸化物、水酸化物およびアセチルアセトネ
ートなどがあり、好ましいのは塩化物および硝酸塩であ
る。
び懸濁触媒のいずれとしても製造することができる。
ーボンブラックまたは活性炭であるが、好ましくは活性
炭、例えばNORIT SX Plus(登録商標)である。触媒を
懸濁触媒として製造するか固定床触媒として製造するか
に応じて、炭素担体材料は、粉末形態または押出物、球
体、砕片などの形態で用いる。炭素担体は、硝酸、酸
素、過酸化水素、塩酸などによる酸化などによって、ド
ーピング前に前処理することができる。
に説明する。
せることで行い(段階(a))、得られた担体懸濁液
は、それ以上の前処理を行わずに、すなわち特定のpHに
設定せずに、あるいは例えばHNO3などの酸を用いて6よ
り低いpHに設定するか、またはNaOHなどの塩基を用いて
8より高いpHに設定して、以降の工程で用いる。
ムおよび鉄をそれらの金属塩溶液の形態で同時に加え
る。添加は好ましくは、高い懸濁液温度、特に好ましく
は50〜95℃の範囲の温度、より好ましくは70〜90℃の温
度で行う。次に、塩基、例えばNa2CO3、NaHCO3、(NH4)2
CO3、NH3、尿素、NaOH、KOHまたはLiOH、好ましくはNaO
Hをゆっくり加えて、触媒活性成分を担体上に析出さ
せ、pHを上昇させて6〜14の範囲、好ましくは8〜12の
範囲、特に好ましくは9の値とする(段階(c))。塩
基は好ましくは高温で、好ましくは50〜95℃の範囲の温
度、特に好ましくは70〜90℃の温度で加える。塩基はま
た、金属塩の懸濁液と同時に加えて、例えば懸濁液のpH
を一定レベルに、好ましくは8〜14のpHに、より好まし
くは9に維持するようにすることもできる。ルテニウム
および鉄は、析出後は実質的に水酸化物の形で存在する
ことから、塩化物アニオンおよび硝酸アニオンを洗い流
して、析出後における洗浄および水相からの触媒の分離
時(段階(d))において問題のない程度に低い含有量
とする。
活性気体下で乾燥し(e)、400〜600℃で、可能であれ
ば窒素などの不活性気体で希釈した水素気流中で触媒を
還元する(f)。最後に、触媒を、40℃以下の温度まで
冷却した後に、例えば水または低燃焼性の液体下でコン
ディショニングするか、あるいは希酸素気流(窒素など
の不活性気体中約1%の酸素)を用いて不動態化する
(g)。
法として、ヒドラジン、ホウ水素化ナトリウム、ギ酸ナ
トリウム、リン酸水素ナトリウムまたはホルムアルデヒ
ドなどの還元剤を加えることによる触媒の湿式化学還元
を、触媒活性成分の析出(c)後に行うことができる。
湿式化学還元後に触媒を濾去し、洗浄し、湿潤状態で保
存する。
物、球体、砕片などを粉末担体材料に代えて用いる以
外、懸濁触媒について記載の方法と同様に行う。これら
の形状の指標的寸法(直径、長さなど)は通常1mmより
大きい。この場合も、上記のように、湿式還元を気相還
元に代えて行うことが可能である。押出物を水中に分散
させる場合、それが曝露される機械的応力を最小限にし
て、触媒摩滅を最小限にするように注意を払う必要があ
る。触媒合成で使用する前に押出物を水洗して、弱く付
着した微細炭素粒子を除去することが有利である。
活性炭上に通常0.1〜10重量%のルテニウムを含む。
る炭素担体に対応し、約100〜1500、好ましくは約800〜
1200 m2/gの範囲である。ルテニウムの微結晶の粒径は
一般に10nm以下であることから、ルテニウム/炭素触媒
における文献値に一致する。
量%に関しての本明細書に記載のデータは常に、触媒の
乾燥重量基準のものである。
ニル化合物の選択的水素化、好ましくは不飽和カルボニ
ル化合物の選択的水素化、特に好ましくはシトラールの
水素化によるゲラニオールもしくはネロールの製造また
はシトロネラールの水素化によるシトロネロールの製造
において特に重要である。
ど高い選択率でカルボニル化合物のアルデヒド基を水素
化するものである。
式またはバッチ式で行うことができる。連続法が特に有
利である。
マンの著作(Ullmann′s Encyclopedia of Industrial
Chemistry, Sixth Edition, 2000 Electronic Releas
e)に記載のような、通常のリアクターデザインを用い
て行うことができる。
それぞれEP 947 943および米国特許第5939589号に記載
の方法に従って行うことができる。触媒は、バッチ式お
よび連続式の両方の懸濁液法において微細粒の形態で用
いられ、その場合粒径は1mmより小さく、好ましくは1
〜100μmの範囲である。
る形態、例えば押出物、砕片、平板または球体の形で触
媒を使用する。代表的な押出物直径は1〜5mmの範囲で
あり、押出物長さは1〜20mmの範囲である。反応は、散
液床法または液相法を用いて行うことができる。
おいて、大気圧あるいは1〜200バールの範囲、好まし
くは10〜100バールの範囲、特に好ましくは20〜50バー
ルの範囲内の圧力で行う。温度は、25〜200℃の範囲、
好ましくは60〜100℃の範囲である。反応は、溶媒を用
いてあるいは溶媒を用いずに行うことができる。好適な
溶媒には、メタノール、エタノールまたはイソプロピル
アルコールなどの低級アルコールが挙げられる。
を必要に応じて用いることができる。
ボニル化合物の水素化は好ましくは、3級アミンの存在
下に行う。
ことから、それが反応相手の官能基と他の形で反応しな
い限り、それの化学的性質は重要ではない。
ン類は好適である。
ボニル化合物の量の1〜5重量%の範囲である。
と混合し、80℃で6時間撹拌した。冷却後、懸濁液を濾
過し、フィルターケーキを蒸留水10リットルで洗浄し
た。
水2.5リットル中に懸濁させ、還流冷却下に80℃まで加
熱した。塩化ルテニウム13.11gおよび塩化鉄5.15gの水
溶液(水375mL)を、撹拌しながら120分間かけて滴下し
た。金属塩溶液添加後の懸濁液のpHは1.4であった。1M
水酸化ナトリウムをゆっくり滴下により添加することで
pHを9まで上昇させた。それにはNaOH約400mLを要し
た。撹拌を1時間続け、その後懸濁液を冷却した。触媒
をガラス製吸引フィルターに移し、計40リットルの水で
洗浄し、真空乾燥棚で80℃にて6時間乾燥させた。乾燥
粉末を、500℃で3時間にわたり、70%H2および30%N2
からなる気流下に回転式球形乾燥機で還元した。還元終
了後、窒素下に冷却を行い、1%酸素/窒素の混合気体
により触媒を不動態化した。得られた触媒は、0.05重量
%より低い塩化物の含有量であった。さらに、Na:2.
8、Ru:5.2、Fe:1.1という含有量(重量%)も測定さ
れた。
ニトロシル硝酸ルテニウムおよび硝酸鉄(III)を用い
た以外、Aに記載の方法に従って工程を行った。得られ
た触媒において、ルテニウム含有量は5.1重量%であ
り、鉄含有量は1.1重量%であり、硝酸塩含有量は<0.0
1重量%であり、Na含有量は2.1重量%であった。
の含有量を相対的に低くした以外、Aに記載の方法に従
って工程を行った。得られた触媒において、ルテニウム
含有量は2.8重量%であり、鉄含有量は0.54重量%であ
り、塩化物含有量は0.02重量%であり、Na含有量は3.8
重量%であった。
gを、前処理を行わずに、水2リットルの入った撹拌フ
ラスコに導入し、懸濁させ、還流下に80℃まで加熱し
た。次に、pHをNaOH水溶液(1mol/L)を加えることで9
まで上昇させた。1時間以内で、ニトロシル硝酸ルテニ
ウムおよび硝酸鉄の溶液300mL(Ru 5.85gおよびFe 1.17
gに相当する濃度)を、同時にNaOH水溶液を加えること
でpHを約9に維持させながら80℃で滴下により添加す
る。撹拌を80℃で1時間続け、混合物を冷却した。冷懸
濁液を濾過し、水40リットルで洗浄し、80℃の真空乾燥
キャビネットで16時間乾燥させ、Aに記載の方法に従っ
て還元および不動態化を行った。触媒のRu含有量は5.0
重量%であり、Fe含有量は1.0重量%であり、Na含有量
は0.036重量%であった。
り、活性炭を塩化ルテニウム溶液で飽和させ、乾燥さ
せ、酸化鉄(III)と混合し、500℃で還元し、水でコン
ディショニングすることで触媒を製造した。
クターで、連続懸濁水素化を行った(EP 947 493に相
当)。
量%のメタノールおよび3容量%のトリメチルアミンの
液体混合物を水素化した。これらの液体および気体を、
それぞれ約120リットル/時の通過量で充填気泡塔(充
填容量:143mL、充填直径:27mm)に通した。圧力、温
度または反応物導入速度を変動させることでシトラール
の変換率を調節した。圧力は20〜40バールで変動させ、
温度は80〜100℃の範囲で変動させた。
ッチ式水素化を行った。液体反応物(70容量%のシトラ
ール(E/Z≒1)、27容量%のメタノールおよび3容量
%のトリメチルアミンの混合物250mL)および触媒(2.5
g)をオートクレーブに導入してから、反応を開始し
た。次に、オートクレーブを窒素により常圧でパージし
た。反応室から空気を完全に除去した後、窒素の添加を
停止し、オートクレーブを減圧した。次に、水素をオー
トクレーブ内に導入し、圧力を反応に必要な値とした。
一方、温度を反応に必要な値に調節した。必要な温度お
よび圧力が得られた後、撹拌機をオンにして反応を開始
させた。反応中、上昇管によって反応室からのサンプリ
ングを行った。水素化は、100℃の温度および50バール
の圧力で行った。
較して相当に活性および選択率が高いことを示してい
る。特に高い変換率では、かなり高い比のゲラニオール
/ネロールおよびかなり少ない量のシトロネロールが生
成される。比較例の触媒と比較して、高い変換率を得る
のに、必要な触媒の乾燥重量が相対的に少ないか(実施
例AおよびB)、使用する貴金属の添加量を少なくする
ことができる(実施例C)。さらに、本発明の触媒は、
比較例の触媒より失活が遅い。
明の触媒Aと比較例触媒との活性の比較を示してある。
30分後、本発明の触媒Aではほぼ完全な変換がすでに得
られているが、触媒Eではシトラールの変換は50%に過
ぎない。
を、シトロネラール(3,7−ジメチルオクト−7−エ
ン−1−アール)のシトロネロール(3,7−ジメチル
オクト−7−エン−1−オール)への連続懸濁水素化に
用いた。完全水素化生成物である3,7−ジメチルオク
タン−1−オールの生成は、できるだけ回避しなければ
ならない。この反応は、70%シトロネラール、27%メタ
ノールおよび3%トリメチルアミンの混合物で行った。
反応温度80℃、圧力20バール、反応液供給速度2.2mL/
分、触媒濃度40g/(乾燥)で142時間後に、シトロネラ
ールの変換率94%、シトロネロールの選択率97.3%およ
び3,7−ジメチルオクタン−1−オールへの選択率わ
ずか1.4%という結果が得られた。触媒は、高い活性お
よび長期安定性ならびに高シトロネラール変換率におい
ても高いシトロネロール選択率を有しているという点に
おいて注目に値するものであった。
ン(Supersorbon)SX 30、直径3mm、表面積約1000m2/
g)を、脱イオン水400mLの入った撹拌槽リアクターに導
入し、緩やかな撹拌および還流冷却下に加熱して80℃と
した。塩化ルテニウム8.13gおよび塩化鉄3.19gの溶液を
80℃で60分間かけて滴下した。次に、1M水酸化ナトリウ
ムを加えることでpH値を上昇させて9とし、撹拌を1時
間続けた。触媒をガラス製吸引フィルターに移し、脱イ
オン水10リットルで洗浄し、真空乾燥棚において80℃で
6時間乾燥させた。水素および窒素(50/4)の混合気体
中での還元を、500℃の還元炉で3時間行い、次に冷却
して室温とし、1%酸素/窒素の混合気体で不動態化し
た。
を、バランス制御しながら別個にピストンポンプを用い
てポンプで送り込む。シトラール/メタノール/トリメ
チルアミンの比は、約70:27:3である。質量流量調節
器によって水素供給量を制御する。リアクターは、液相
法によって50〜70℃で運転する。リアクター排出液の80
%を、浮遊体式流量計の制御下にあるピストンポンプに
よって分離器の液相から再循環させる。残った生成物
は、圧力保持弁から排出する。
ットル/時(s.t.p.)の水素により、大気圧下にて120
℃まで加熱することで行う。1時間後、リアクターを冷
却する。次に、シトラールおよびトリメチルアミン/メ
タノールの混合物を別個にリアクターに導入する。各運
転に対してパラメータが設定される。分析は、30m DBWA
X 0.32mm 0.25μmカラム(80℃−3℃/分−230℃−20
分)を用いて行う。
L(41.1g)をリアクターに入れ、前記基本手法に従って
活性化した。水素圧40バール(24リットル/時、s.t.
p.)で、添加速度を、シトラール(2、60g/時、純度9
8%)、メタノール+10%TMA(3、25.5g/時)、還流量
(6、240g/時)と設定した。リアクター温度75℃およ
び変換率95.61%(反応時間:713時間)で、ゲラニオー
ル/ネロールの選択率95.22%が得られた(ゲラニオー
ル/ネロールの比:1.20)。副生成物:シトロネロール
の選択率:1.80%、ネロール異性体の選択率:1.70%。
示す図である。
Claims (14)
- 【請求項1】 炭素担体上に0.1〜10重量%のルテニウ
ムに加えて0.1〜5重量%の鉄を含む、炭素に担持され
たルテニウム/鉄触媒の製造方法において、 a)担体を水中に懸濁させる段階; b)触媒活性成分であるルテニウムおよび鉄をそれらの
金属塩溶液の形態で同時に加える段階; c)塩基を加えることで前記担体上に前記触媒活性成分
を同時に析出させる段階; d)前記触媒を前記担体懸濁液の水相から分離する段
階; e)前記触媒を乾燥する段階; f)前記触媒を水素気流中400〜600℃で還元する段階; g)前記触媒を低燃焼性の液体下でコンディショニング
する段階または前記触媒を希酸素流で不動態化する段階
によって行うことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 炭素担体上に0.1〜10重量%のルテニウ
ムに加えて0.1〜5重量%の鉄を含む、炭素に担持され
たルテニウム/鉄触媒の製造方法において、 a)担体を水中に懸濁させる段階; b)触媒活性成分であるルテニウムおよび鉄をそれらの
金属塩溶液の形態で同時に加える段階; c)塩基を加えることで前記担体上に前記触媒活性成分
を同時に析出させる段階; d)水性還元剤を加えることで前記触媒を還元する段
階; e)前記触媒を前記担体懸濁液の水相から分離する段
階; f)前記触媒を水で洗浄する段階によって行うことを特
徴とする方法。 - 【請求項3】 前記製造される触媒が懸濁触媒である請
求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記製造される触媒が固定床触媒である
請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項5】 段階(b)および(c)を50〜95℃の範
囲の温度で行う請求項1ないし4のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項6】 段階(b)および(c)を、同時または
順次に行う請求項1ないし5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項7】 前記触媒活性成分を、それの塩化物、硝
酸塩、ニトロシル硝酸塩、酢酸塩、酸化物、水酸化物ま
たはアセチルアセトネートの形で使用する請求項1ない
し6のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 前記炭素担体を、HNO3、酸素、過酸化水
素または塩酸を用いる酸化によって前処理する請求項1
ないし7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 前記触媒活性成分を前記担体上に析出さ
せるのに用いられる前記塩基が、Na2CO3、NaHCO3、(N
H4)2CO3、NH3、尿素、NaOH、KOHまたはLiOHである請求
項1ないし8のいずれかに記載の方法。 - 【請求項10】 前記触媒活性成分を析出させるのにNa
OHを用いる請求項1ないし9のいずれかに記載の方法。 - 【請求項11】 下記一般式Iのカルボニル化合物: 【化1】 [式中、R1およびR2は同一もしくは異なっており、
それぞれ独立に、水素あるいは飽和またはモノ不飽和も
しくはポリ不飽和の直鎖もしくは分岐の置換もしくは未
置換のC1〜C20アルキル基、未置換もしくは置換ア
リール基または未置換もしくは置換複素環基である。]
の選択的液相水素化による下記一般式IIの対応する不飽
和アルコール: 【化2】 [式中、R1およびR2はそれぞれ上記で定義の通りで
ある。]の製造における、請求項1ないし10のいずれ
かに記載の方法によって製造された触媒の使用。 - 【請求項12】 前記カルボニル化合物がα,β−不飽
和カルボニル化合物である請求項11に記載の使用。 - 【請求項13】 前記カルボニル化合物がシトラールで
ある請求項11または12に記載の使用。 - 【請求項14】 前記カルボニル化合物がシトロネラー
ルである請求項11ないし13のいずれかに記載の使
用。
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